KR100642057B1 - 승화성 물질의 기화장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기화장치에 관한 것이다. 이 장치는 주로 진공증착설비에 사용된다. 상기 기화장치는 2부분으로 이루어지는 하나의 하우징, 즉 하나의 도가니(3)와 부속된 하나의 뚜껑(8)으로 이루어져 있으며, 상기 뚜껑(8)에는 기화하는 물질의 배출구(16)가 형성되어 있다. 상기 도가니(3) 위쪽에는 다수의 전열체(電熱體)(5)들이 가로질러 설치되어 있고, 그 전열체(5)들은 외부 전원과 접촉되어 있으며, 따라서 상기 전열체(5)들의 복사열이 상기 도가니(3) 속에 들어 있는 기화시킬 물질, 예를 들면 황화아연을 가열하여 기화시키도록 되어있다. 상기 기화장치는 비교적 간단하게 조립할 수 있으며, 간단히 분해하고, 청소하며, 재조립할 수 있고, 만약 다수의 본 발명의 장치들을 나란히 배치할 경우에는 특히 폭이 넓은 포일을 균일하게 피복하기 위하여 사용될 수 있다.
기화장치, 진공증착설비
Description
제1도는 본 발명에 따라 기화장치가 결합되어 있는 피복설비의 개방 상태를 보여주는 도면이다.
제2도는 뚜껑을 분리한 기화장치를 보여주는 도면이다.
제3도는 제1도에 도시한 피복설비의 단면도이다.
※도면의 주요부분에 대한 부호설명※
기화증착실(1) 기화장치(2)
도가니(3) 기화할 물질(4)
전열체(5) 지지환(6)
철형접촉부(凸形接觸部)(7) 고정식 철형접촉부(7a)
가동식 철형접촉부(7b) 뚜껑(8)
도가니 가장자리(9) 측벽(10)
내부구멍(11) 외주홈(12)
측벽(13) 지붕 경사면(14)
박공벽(15) 배출구(16)
가장자리 절개요부(17) 뚜껑판(18)
본 발명은 특허청구범위 제1항의 상위개념에 따른 승화성 물질의 기화장치(昇華性物質氣化裝置)에 관한 것이다.
그와 같은 기화장치가 영국특허 제GB 23 39 800 A호에 기술되어 있다. 이러한 기화장치는 진공증착설비 속에서 예를 들면 황화아연(黃化亞鉛)과 같은 물질을 박판(薄板) 위에 피복하기 위하여 필요로 한다. 그와 같은 진공증착설비는 진공용기(眞空容器)로 이루어져 있으며, 그 용기 속에는 하나의 긴 통로가 설치되어 있으며, 그 긴 통로를 통하여 피복될 포일 내지 포일 두루마리가 각종 롤러들에 의하여 안내된다. 이 통로 안에 기화장치를 설치하여, 상기 기화장치로부터 배출되는 기화증기가 상기 포일 위에 얇은 층으로 침착할 수 있도록 되어있다.
상기 기화장치는 근본적으로 기화될 물질을 담기 위하여 길게 연장된 용기(도가니)와 가열장치로 구성되어 있다. 전술한 영국특허 제GB 23 39 800호의 가열장치는 상기 용기 밑에 방사가열기를 장치하여, 따라서 기화할 물질을 간접적으로 가열/기화시키도록 장치하는 방사가열기로 이루어지도록 되어있다. 다른 방법으로서는 저항가열장치가 도가니와 직접 접촉하도록 하여 대류작용(對流作用)에 의하여 열이 전달되도록 되어 있다.
상기 기화증착설비를 가능한 한 오랫동안 계속적으로 운전할 수 있기 위하여, 상기 기화장치가 비교적 다량의 기화물질을 수용해야 한다는 것이 일반적인 문 제로 되어있다. 다른 한편으로는, 기화물질이 포일뿐만 아니라, 또한 기화장치와 증착설비의 다른 부분까지도 침착하기 때문에, 정기적으로 세정작업(洗淨作業)을 수행해야 한다. 따라서 기화장치는 비교적 용이하게 분해할 수 있어야 하고, 마찬가지로 세정작업 후에는 쉽게 재조립할 수 있어야 한다. 그밖에 포일의 전체 폭에 걸쳐, 또한 기화장치의 전체 길이에 걸쳐 가능한 한 균일하게 기화증기를 배출하므로 써, 포일이 균일하게 피복될 수 있어야 한다.
전술한 요건들을 충족시키기 위하여, 본 발명은 특허청구범위 제1항의 일반개념에 따라 상기 방사가열기를 발열체(發熱體)들로 형성하여, 도가니 위쪽에 위치시키고, 방사열이 직접 도가니 속에 들어있는 피복물질로 지향시키는 방법을 제공한다.
이와 같은 방법으로 도가니 내에서 온도분포가 온도 변화에 의하여 영향을 받지 않기 때문에 먼저 고도로 균일한 열방사를 달성할 수 있다. 또한 도가니의 위쪽에 놓여있는 물질 조각들이 직접 가열되기 때문에, 도가니 속에 들어있는 물질의 바닥과 하부층을 통과하는 열전도에 의한 열 손실이 일어나지 않는다.
통상적으로 도가니는 뚜껑으로 폐쇄되고, 그 뚜껑은 기화증기를 배출하기 위한 배출구멍을 가지고 있다.
상기 가열장치들은 도가니의 위쪽에, 상기 뚜껑의 아래에 위치하기 때문에, 이 가열장치들은 도가니와 뚜껑에 의하여 형성된 하우징(housing) 내부에 위치하게 된다. 따라서 방사가열기들의 복사열이 뚜껑의 내측면에 작용하므로 써, 상기 물질이 하우징 벽면(壁面)에 다시 승화하는 것을 방지한다.
상기 도가니들은 일반적으로 폭 보다 뚜렷이 길게 형성되어 있으며, 이 경우에는 다수의 발열체들을 도가니의 길이 방향에 대하여 직각으로 설치한다.
또한 상기 발열체들은 양쪽에 고온-세라믹으로 만든 지지환(支持環)에 의하여 지지된다. 이것은 상기 도가니 용기와 뚜껑 자체를 예를 들어 몰리브덴(Mo)과 같은 전도성(電導性) 및 양호한 열전도성(熱傳導性) 물질로 제작하므로 써, 지지환들로 하여금 상기 발열체(전열체)들을 하우징으로부터의 전기적인 절연을 가능케 한다.
조립을 간소화하기 위하여 상기 발열체에 끼워진 지지환들을 도가니 용기의 개구부의 가장자리에 설치한다. 상기 뚜껑 내지 도가니 용기의 측벽(側壁)에는 가장자리로부터 잘라내어 요형(凹形)으로 개방하여 형성된 절개부들을 갖고 있으며, 그 절개부들은 지지연부(支持緣部)를 둘러싸고 있으므로, 상기 하우징은 기화증기의 배출을 위한 배출구까지 완전히 폐쇄되도록 하므로 써 기화증기가 오직 상기 배출구를 통해서만 포일 쪽으로 지향시키는 작용을 한다. 이와 같은 방법으로 양호한 기화증기의 출력효율을 달성할 수 있다.
상기 발열체들의 길이를 도가니 용기의 폭(幅) 보다 길게 형성하여, 이 발열체들이 도가니 양측면으로 돌출하여 외부전원에 접촉시키도록 할 수 있다.
또한 상기 피복설비의 기화증착실(氣化蒸着室)에는 전기접점을 갖고 있는 철형부(凸形部)가 장치되어 있으며, 이때 적어도 한쪽편의 철형부는 횡이동(橫移動) 할 수 있도록 장치하므로 써, 상기 철형부가 기화증착실의 측벽으로부터 기화장치까지의 간격에 걸쳐 뻗을 수 있도록 장치한다.
본 발명은 기화장치에 관한 것으로서, 각종 포일(foil)을 위한 진공증착설비에 사용하기 위하여 기화시킬 물질(4)을 투입할 최소 1개 이상의 도가니(3)와 복사가열기들로 이루어지는 가열장치를 갖고있는 기화장치에 있어서, 상기 복사가열기는 전열체(5)들로서 형성하여 상기 도가니(3) 위쪽에 장치하는 것을 특징으로 한다.
상기 도가니(3) 위쪽에는 기화물질의 배출구가 형성되어 있는 하나의 뚜껑(8)이 설치되고, 이때 상기 전열체(5)는 상기 뚜껑(8)과 도가니(3)에 의하여 형성된 하우징 속에 위치한다. 상기 하우징은 폭 보다 길이가 길게 형성되어 있고, 각 도가니(3)의 길이 방향에 대하여 직각으로 가로질러 다수의 전열체(5)들이 장치된다. 상기 각 전열체(5)는 양단에 각각 고온-세라믹으로 만든 지지환(6) 속에 지지된다. 또한, 상기 지지환(6)은 도가니 가장자리(9) 위에 착설되고, 각각 뚜껑(8) 또는 도가니(3)의 해당 가장자리 절개요부(切開凹部)(17) 속으로 결합된다. 상기 전열체(5)들의 전단면(前端面)들이 상기 하우징의 측면으로부터 돌출되어 있다. 또한, 이 전열체(5)들은 바람직하게는 구형단면(矩形斷面)을 갖는 평탄한 장방형으로 형성되고, 이때 평탄한 면이 도가니(3) 쪽으로 지향된다. 상기 지지환(6)들은 각각 외주면(外周面)을 빙 둘러 외주홈(外周-)(12)이 형성되어 있 고, 그 외주홈(12) 속으로 상기 도가니(3) 내지 뚜껑(8)의 가장자리가 삽입된다.
본 발명을 첨부도면과 실시예를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
제1도에서, 상기 피복설비의 기화증착실(1)은 설비의 전체폭에 걸쳐 샤프트(맨홀 통로/shaft)와 같은 모양으로 형성되어 있다는 것을 알 수 있다. 도면에 도시하지 않은 롤러들을 이용하여 피복할 포일 두루마리가 기화증착실의 개구부를 통하여 안내된다. 상기 기화증착실(1) 속에는 2개의 기다란 장방형(長方形) 도가니(3)들이 이들의 좁은 면을 서로 맞대어 구성한 기화장치(2)가 장치되어 있다. 상기 도가니(3)들 속에는 기화할 물질(4), 전술한 경우에 있어서는 황화아연-입상물질(粒狀物質)이 벌크(bulk) 물질로서 투입된다. 각 도가니(3) 위에는 3개씩의 전열체(電熱體)(5)들이 서로 동일한 간격을 두고 장치되어 있다. 상기 전열체(5)들은 상기 지지환(6)들에 의하여 지지되어 있으며, 이들 전열체(5)들의 양단(兩端)은 도가니(3) 측면을 통하여 돌기(突起)되어 있으며, 이 돌기부위는 기화증착실 벽체로부터 돌출된 철형접촉부(凸形接觸部)(7)와 접촉하도록 되어있다. 상기 도가니(3)들은 뚜껑(8)들로 폐쇄되며, 이때 뚜껑(8)들은 상기 지지환(6)들에 파묻히도록 되어있다. 상기 뚜껑(8)을 덮어 주므로 써, 드디어 하나의 폐쇄된 하우징이 완성되며, 3개의 전열체(5)들이 상기 하우징을 가로질러 장치되고, 하우징의 상부에는 생성된 기화증기의 배출을 위한 배출구(16)가 형성된다.
이러한 구조를 다시 한 번 명확히 설명하기 위하여 제3도는 기화장치(2)의 단면도를 보여주고 있다. 하나의 도가니(3)와 하나의 뚜껑(8)으로 형성되는 하우징의 외형(윤곽선)의 모양은 단면(斷面)에서 직각을 이루고, 그의 짧은 면에는 삼각 형을 이루고 있다. 구형(矩形) 하우징 부분의 상부(上部) 3분의 1 부분에는 전열체(5)들이 관통하고, 그 전열체(5)들은 평탄한 넓은 면이 아래쪽으로 향하고 있다. 제3도에서 상기 하우징의 좌측면에는 하우징으로부터 돌출되어 있는 전열체(5)의 한쪽 단부와 접촉하기 위하여 장치되어 있는 고정식(固定式) 철형접촉부(7a)가 도시되어 있다. 다른 쪽의 우측면에는 상기 하우징으로부터 돌출되어 있는 전열체(5)의 다른 쪽 단부와 접촉하는 가동식(可動式) 철형접촉부(7b)가 도시되어 있다. 상기 철형접촉부(7a, 7b)를 통하여 전열체(5)가 전원에 접속되어 있다. 상기 전열체는 그와 같이 통전(通電)되는 전류에 의하여 가열되며, 이때 열에너지는 복사(輻射) 에너지의 형태로 특히 도가니(3) 속에 들어있는 물질에 조사되어, 그 물질을 기화시킨다.
상기 뚜껑의 박공 안에는 구멍이 뚫려있는 뚜껑판(18)이 장치되어 있으며, 이 뚜껑판(18)은 기화증기의 통과를 허용하지만, 그러나 기화증착실(1) 내에서 재료 덩어리가 생성되는 것을 방지하여 준다.
본 발명에 따른 장치는 비교적 간단하게 조립할 수 있으며, 간단히 분해하고, 청소하며, 재조립할 수 있고, 만약 다수의 본 발명의 장치들을 나란히 배치할 경우에는 특히 폭이 넓은 포일을 균일하게 피복하기 위하여 사용될 수 있어 진공증착설비 등에 널리 사용될 수 있다.
Claims (8)
- 각종 포일(foil)을 위한 진공증착설비에 사용하기 위하여 기화시킬 물질(4)을 투입할 최소 1개 이상의 도가니(3)와 복사가열기들로 이루어지는 가열장치를 갖고 있는 기화장치에 있어서,상기 복사가열기는 전열체(5)들로서 형성하여 상기 도가니(3) 위쪽에 장치하고,상기 도가니(3) 위쪽에는 기화물질의 배출구가 형성되어 있는 하나의 뚜껑(8)이 설치되고, 이때 상기 전열체(5)는 상기 뚜껑(8)과 도가니(3)에 의하여 형성된 하우징 속에 위치하고,상기 하우징은 폭 보다 길이가 길게 형성되어 있고, 각 도가니(3)의 길이 방향에 대하여 직각으로 가로질러 다수의 전열체(5)들이 장치되어 있으며,구멍이 뚫려있는 뚜껑판(18)이 뚜껑(8) 위에 장치되어 있는 것을 특징으로 하는 기화장치.
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- 제1항에 있어서, 각 전열체(5)는 양단에 각각 고온-세라믹으로 만든 지지환(6) 속에 지지되는 것을 특징으로 하는 기화장치.
- 제4항에 있어서, 상기 지지환(6)은 도가니 가장자리(9) 위에 착설되고, 각각 뚜껑(8) 또는 도가니(3)의 해당 가장자리 절개요부(切開凹部)(17) 속으로 결합되는 것을 특징으로 하는 기화장치.
- 제5항에 있어서, 상기 지지환(6)들은 각각 외주면(外周面)을 빙 둘러 외주홈(外周-)(12)이 형성되어 있고, 그 외주홈(12) 속으로 상기 도가니(3) 내지 뚜껑(8)의 가장자리가 삽입되는 것을 특징으로 하는 기화장치.
- 제1항 또는 제6항에 있어서, 상기 전열체(5)들의 전단면(前端面)들이 상기 하우징의 측면으로부터 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 기화장치.
- 제1항 또는 제6항에 있어서, 상기 전열체(5)들은 구형단면(矩形斷面)을 갖는 평탄한 장방형으로 형성되고, 이때 평탄한 면이 도가니(3) 쪽으로 지향되는 것을 특징으로 하는 기화장치.
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CN108330444A (zh) * | 2018-02-11 | 2018-07-27 | 常德金德新材料科技股份有限公司 | 一种制备硫化锌膜的方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0559538A (ja) * | 1991-02-14 | 1993-03-09 | Vier P Verpackungen Ronsberg Gmbh | 列形蒸発器 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3041493A (en) * | 1950-08-30 | 1962-06-26 | Sylvania Electric Prod | Electron discharge device |
US3027150A (en) * | 1958-03-10 | 1962-03-27 | Hoerder Huettenunion Ag | Apparatus for treating steel melts |
JPS5048855U (ko) * | 1973-09-04 | 1975-05-14 | ||
JPS5224050U (ko) * | 1975-08-08 | 1977-02-19 | ||
US4045638A (en) * | 1976-03-09 | 1977-08-30 | Bing Chiang | Continuous flow heat treating apparatus using microwaves |
DE2723581C2 (de) * | 1977-03-08 | 1984-11-29 | Techtransfer GmbH, 7000 Stuttgart | Verfahren zum aeroben Verrotten von tierischen Exkrementen oder Klärschlamm sowie Anlage zur Durchführung des Verfahrens |
JPS5943872A (ja) * | 1982-09-04 | 1984-03-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 蒸発材料収容器 |
JPH0269961U (ko) * | 1988-11-17 | 1990-05-28 | ||
JPH0762239B2 (ja) * | 1990-09-28 | 1995-07-05 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置 |
JP2583159B2 (ja) * | 1991-02-08 | 1997-02-19 | 株式会社小松製作所 | 流体加熱器 |
JPH04308076A (ja) * | 1991-04-03 | 1992-10-30 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 昇華性物質真空蒸着装置 |
FR2693480B1 (fr) * | 1992-07-08 | 1994-08-19 | Icbt Roanne | Dispositif de chauffage d'un fil en mouvement. |
JPH11246963A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-14 | Nikon Corp | 蒸着用ボートとそれを用いて成膜した光学薄膜 |
JP2000248358A (ja) * | 1999-03-01 | 2000-09-12 | Casio Comput Co Ltd | 蒸着装置および蒸着方法 |
US20050034847A1 (en) * | 2003-08-11 | 2005-02-17 | Robert Graham | Monolithic tube sheet and method of manufacture |
-
2004
- 2004-01-14 DE DE102004001884A patent/DE102004001884A1/de not_active Ceased
- 2004-03-03 EP EP04004928A patent/EP1555334B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-03 DE DE502004007046T patent/DE502004007046D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-03-03 PL PL04004928T patent/PL1555334T3/pl unknown
- 2004-03-03 AT AT04004928T patent/ATE394520T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-03-08 TW TW093106035A patent/TWI269816B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-04-02 CN CNB2004100323466A patent/CN1333104C/zh not_active Withdrawn - After Issue
- 2004-04-21 KR KR1020040027333A patent/KR100642057B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-12-01 US US11/001,528 patent/US20050150975A1/en not_active Abandoned
- 2004-12-22 RU RU2004137526/02A patent/RU2307877C2/ru active
-
2005
- 2005-01-13 JP JP2005006628A patent/JP2005200767A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0559538A (ja) * | 1991-02-14 | 1993-03-09 | Vier P Verpackungen Ronsberg Gmbh | 列形蒸発器 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
05059538 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1333104C (zh) | 2007-08-22 |
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EP1555334B1 (de) | 2008-05-07 |
RU2307877C2 (ru) | 2007-10-10 |
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KR20050074882A (ko) | 2005-07-19 |
RU2004137526A (ru) | 2006-06-10 |
TWI269816B (en) | 2007-01-01 |
PL1555334T3 (pl) | 2008-10-31 |
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