KR100611228B1

KR100611228B1 - 슬러리로부터 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정

Info

Publication number: KR100611228B1
Application number: KR1020040006416A
Authority: KR
Inventors: 최제호; 최영교
Original assignee: 주식회사 효성
Priority date: 2004-01-31
Filing date: 2004-01-31
Publication date: 2006-08-10
Also published as: KR20050078684A

Abstract

본 발명은 고상분을 포함하는 슬러리로부터 여과 및 세정에 의해 고상분을 회수하는 공정에 관한 것으로 특히, 2,6-나프탈렌디카르복실산의 수소화 정제공정에서 생성된 고순도의 NDA로부터 나프토산(NA), 메틸나프토산(MNA), 디카르복실테트랄린(DCT) 등의 유기 불순물을 제거하는 여과 및 세정공정에 관한 것이다. 본 공정은 고온고압에 견딜 수 있게 설계되어 있는 여과장치와, 여과된 고상분의 세정을 위하여 재슬러리화 하는 장치를 포함하는 것으로 세정효과가 뛰어나서 보다 순수한 고상분을 얻을 수 있는 효과가 있다.

나프탈렌디카르복실산, 수소화, 세정공정, 여과

Description

슬러리로부터 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정공정{process for filtering and rinsing 2,6-naphthalenedicarboxylic acid from slurry}

도 1은 본 발명의 여과 및 세정공정의 흐름을 나타내는 개략도이다.

도 2는 도 1의 여과장치(C)의 일 예이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

A-----슬러리공급장치 B-----용매가열공급장치

C-----여과장치 D-----고압여과액회수장치

E-----저압여과액회수장치 F-----고압슬러리회수장치

G-----저압슬러리회수장치

1-----교반기 2-----교반기 구동장치

3-----여과기 4-----내부밸브

5-----슬러리실 6-----여과액실

7-----천정부 8-----가열수단

9-----슬러리주입구 10-----용매주입구

11-----슬러리방출라인 12-----여과액방출구

13-----가스주입구 14-----역세척라인

본 발명은 용액 중 고상으로 얻어진 2,6-나프탈렌디카르복실산(NDA)을 순수하게 회수하는 공정에 관한 것이다.

본 발명은 특히 2,6-디메틸나프탈렌의 산화반응에 의해 생성된 NDA를 수소화 공정에 의해 정제한 후 생성된 고순도의 NDA를 여과 ·분리하고 세정하는 공정에 관한 것이다.

2,6-나프탈렌디카복실산은 폴리에스테르의 제조를 위한 단량체로 사용되는 물질로, 특히 2,6-나프탈렌디카복실산과 에틸렌 글리콜과의 반응 결과 얻어지는 폴리에틸렌 2,6-나프탈레이트(PEN)는 기계적, 열적 및 화학적 안정성 등의 물성이 뛰어나기 때문에 장시간 기록이 가능한 대용량 자기 테이프, 내열콘덴서, 음료 용기 등의 용도로 사용가능하여 그 수요가 점차 확대되어 가는 추세이다.

상기 2,6-나프탈렌디카르복실산은 통상 중금속 촉매하에서 2,6-디메틸나프탈렌(DMN)의 산화 반응에 의해 제조된다. 그러나 이러한 산화반응에 의해 생성된 NDA에는, 촉매금속인 코발트, 망간 외에 산화반응의 중간생성물인 포르밀나프토산(FNA)과 메틸나프토산(MNA), 분해생성물인 트리멜리트산(TMLA), 브롬 부가 생성물인 나프탈렌디카르복실산브로마이드(Br-NDA) 그리고 원료인 DMN에 함유되어 있던 불순물로부터 유래된 나프토산(NA) 등의 각종 불순물이 다량 포함되어 있다. 이러한 불순한 NDA를 에틸렌글리콜과 바로 중합시키면 중합생성물인 PEN 의 내열성과 연화점이 저하되고 착색이 발생하는 등 심각한 품질저하가 초래된다. 그러므로 고품질의 PEN을 얻기 위해서는 순도가 99.9%에 가까운 고순도의 NDA가 요구된다.

이러한 순도를 얻기 위해서는 NDA 내의 불순물 제거를 위한 정제가 필수적인 것으로 다양한 방법이 있으나 미국 특허 제5,256,817호는 초산 또는 초산수용액을 용매로, 미국 특허 제6,255,525호는 물을 용매로 하여 조 NDA를 300℃ 전후에서 용해시킨 후 불용성 성분을 여과하여 제거하고 용액 중 불순물은 수소첨가 반응시켜 제거하거나 제거 가능한 형태로 전환시키는 공정을 개시하고 있다. 이러한 수소화 공정 후 용해되어 있는 NDA를 포함하는 반응생성물은 결정화조로 이송되어 냉각되어짐으로써 순수한 NDA가 결정으로 분리되게 되는 것이다.

한편 본 발명자들은 상기 수소화 공정 후 생성된 순수한 NDA를 포함하는 슬러리로부터 NDA를 회수하는 여과 및 세정 공정을 개발하여 특허출원(출원번호 2003-95291) 한 바 있다. 상기 공정은 결정화 된 NDA와 용액 중 불순물을 포함하는 슬러리가 불활성 가스에 의한 가압하에서, 교반기를 갖춘 고온, 고압의 여과장치에 투입되고 여과된 후 동 장치에 세정액을 공급하여 세정·여과하고 회수하는 공정이다.

상기 공정은 여과 및 세정을 하나의 장치에서 행한다는 장점이 있는 한편 세정을 위해 여과 후 남은 NDA 결정을 재슬러리(reslurry)화시키는 작업을 여과장치에서 행함으로써 재슬러리가화가 충분히 이루어지지 않을 수 있다. 이는 여과장치에 부착된 교반기가 앵커 타입(anchor type)이여서 90rpm 이상으로 회전수를 늘릴 수 없고 따라서 충분한 재슬러리화를 위해서는 적절한 시간동안의 교반을 필요로 한다는 것이다.

따라서 본 발명은 상기와 같이 NDA의 정제공정, 바람직하게는 수소화에 의한 정제공정에서 생성된 NDA를 여과 및 회수하는 공정에 있어서, 세정공정을 개선하여 보다 빠른시간안에 NDA를 순도 높게 회수하고자 하는 것이다.

본 발명은 상기 목적 달성을 위하여, 고온, 고압 상태에서 0.5∼2기압의 압력차이로 NDA를 포함하는 슬러리로부터 NDA를 여과하고 세정하여 회수하는 여과 및 세정공정 및 상기 공정에 사용되는 여과 및 세정시스템을 제공한다.

상기 세정공정은 슬러리공급장치(A)로부터 2,6-나프탈렌디카르복실산을 포함하는 슬러리를 불활성 가스에 의한 가압하에서, 여과기(3), 교반기(1) 및 내부밸브(4)를 갖춘 고온, 고압의 여과장치(C)에 투입하면서 여과액방출구(12)를 통하여 고압여과액회수장치(D)로 1차 여과액을 방출하고, 고상분을 여과기에 거르는 단계,

용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 예열된 순수 용매를 여과장치(C)에 투입하고 교반기(1)로 교반하는 단계,

상기의 슬러리를 슬러리방출라인(11)을 통해 고압슬러리회수장치(F)로 이동 시켜 교반에 의해 충분히 재슬러리화시킨 후 재순환라인을 통해 여과장치에 재투입하는 단계,

여과액방출구(12)를 통하여 고압여과액회수장치(D)로 2차 여과액을 방출하고, 고상분을 여과기에 거르는 단계,

용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 예열된 순수 용매를 여과장치(C)에 투입하고 슬러리를 교반한 후 내부 밸브(4)를 열어 슬러리방출라인(11)를 통해 고압슬러리회수장치(F)로 보내는 단계를 포함하며,

이 때 고압여과액회수장치(D)의 압력이 여과장치(C)의 압력보다 0.5∼2기압 낮음을 특징으로 한다.

또한 본 발명은 여과장치(C), 상기 여과장치에 연속적으로 2,6-나프탈렌디카르복실산(NDA)을 포함하는 슬러리를 공급할 수 있는 슬러리공급장치(A), 슬러리의 여과 후 생성된 고상분을 재슬러리화 하고 세정하기 위한 용매의 공급장치로 가열수단을 구비한 용매가열공급장치(B), 상기 여과장치로부터 여과되어 나온 여과액 또는 세정액을 회수하기 위한 장치로써 불활성 가스 공급에 의해 일정압력으로 유지되는 고압여과액회수장치(D), 상기 고압여과액회수장치로부터 회수된 여과액이 투입된 후 상압으로 감압되고 최종적으로 방출되는 저압여과액회수장치(E), 여과장치에서 여과액 또는 세정액이 회수되고 남은 고상분을 슬러리 형태로 회수하며 재슬러리화가 보다 효과적으로 이루어질 수 있도록 교반기를 구비하고 불활성 가스에 의해 일정압력으로 유지되는 고압슬러리회수장치(F) 및 상기 고압슬러리회수장치로부터 회수된 슬러리가 투입되고 상압으로 감압되며 필요한 경우 용매를 제거하고 최종 NDA를 얻는 저압슬러리회수장치(G)를 포함하며, 이 때 고압여과액회수장치(D)의 압력이 여과장치(C)의 압력보다 0.5∼2기압 낮음을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산(NDA)의 여과 및 세정시스템에 관한 것이다.

상기와 같은 본 발명의 공정은 특히 수소화에 의한 NDA의 연속정제공정에 이은 연속공정으로 수행될 수 있음을 특징으로 한다.

이하 도 1 및 도 2를 일예로 본 발명 여과 및 세정공정과 여과 및 세정시스템을 상세히 설명한다.

슬러리공급장치(A)로부터 NDA를 포함하는 슬러리 용액을 여과장치(C)로 투입한다. 상기 여과장치(C)에는 슬러리용액의 온도를 유지시켜주기 위한 가열수단이 구비되어 있어 통상 NDA의 수소화 정제 후 결정화조의 온도와 동일한 온도 즉, 150∼250℃로 유지한다. 또한 가스주입구가 연결되어 있어 불활성 가스의 주입에 의해 상기 여과장치의 압력은 15∼28기압으로 유지되며, 여과를 위해 스테인레스강 재질이며 체눈크기가 5∼100㎛인 여과기가 구비되어 있다.

가압조건을 위한 불활성 가스는 NDA와 반응하지 않으면 어떠한 기체여도 상관없으나 바람직하게는 질소가스이다.

상기 여과장치(C)는 여과액방출구(12)를 통하여 고압여과액회수장치(D)와 연결되어 있어 상기 고압여과액회수장치(D)로 여과액을 방출하고, 고상분을 여과기에 거른다. 방출된 1차 여과액은 저압여과액회수장치(E)로 이송된 후 압력을 상압까지 강하시킨 후 폐수처리하게 된다. 이 때 고압여과액회수장치(D) 또한 장치 일측으로 공급되는 불활성 가스에 의해 여과장치의 압력보다 0.5 기압에서 2 기압 낮은 압력으로 일정하게 유지한다. 즉, 본 발명의 여과는 여과장치와 여과액회수장치 사이의 0.5 내지 2 기압의 압력 차이에 의해 이루어지는 것으로 상기 압력차이가 0.5기압보다 작으면 원활한 여과가 이루어지지 않는다. 압력차이가 2기압보다 크면 고상분이 여과기에 지나치게 압착되어 이후 세정 및 회수단계에서 충분한 분리 및 회수가 이루어지지 않아 NDA의 손실을 가져오게 되며, 또한 여과기에 파울링이 발생하여 계속적인 여과공정을 수행할 수 없게 된다.

다음으로 여과되어 남은 NDA가 세정단계를 거쳐 순수 용매에 의한 슬러리로 회수되어진다. 세정을 위해 NDA는 세정용매에 의해 재슬러리화 되는데 이를 위해 용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 미리 예열된 순수 용매가 여과장치(C)에 투입되고 교반된다. 상기 교반기로는 70∼90rpm으로 설정한 앵커형 교반기(1)가 바람직하다. 세정을 위한 재슬러리화는 상기 교반기가 구비된 여과장치에서만 행해질 수도 있으나 이 경우 여과장치에 설치된 교반기의 교반속도의 한계 등으로 인하여 충분한 재슬러리화가 진행되지 못할 수 있다. 본 발명에서 사용되는 순수 용매란 물을 포함하는 NDA의 정제에 사용되는 통상의 용매를 의미한다.

따라서 본 발명은 상기 NDA를 포함하는 슬러리를 고압슬러리회수장치로 이송하여 동 장치에서 충분히 재슬러리화 시킨 후 재순환라인을 통해 여과 장치로 재이송하여 여과하는 것이다. 이를 위하여 고압슬러리회수장치에는 교반기가 구비되어 있는데, 교반기로는 통상의 슬러리 제조용 교반기면 모두 가능하나 특히, 패들형(paddle type)으로 회전수가 500 내지 700rpm인 것이 바람직하다. 한편 상기 고압슬러리회수장치(F) 장치는 일측으로 공급되는 불활성 가스에 의해 여과장치의 압력과 동압 또는 0.5 내지 2 기압 낮은 압력으로 일정하게 유지한다. 필요 한 경우 고압슬러리회수장치에서의 재슬러화에 의한 세정단계를 동일하게 1∼2회 더 반복할 수 있으며 또한 여과장치에서 재슬러리화하고 세정하는 단계를 수행한 후 고압슬러리회수장치에서 재슬러리화하고 세정하는 단계를 수행할 수도 있다.

세정·여과 후 남은 순수한 NDA는 용매가열공급장치(B)로부터 공급되는 200℃ 이상의 순수 용매에 의해 역시 재슬러리화 되고 슬러리방출라인(11)를 통해 고압슬러리회수장치(F)로 보내진다. 상기 슬러리는 고압슬러리회수장치(F)로부터 저압슬러리회수장치(E)로 이송된 후 압력을 상압까지 강하시키고 용매를 제거하면 순수한 NDA가 회수되는 것이다.

끝으로 새로운 여과 및 세정공정을 위하여 여과장치를 세정한다. 이를 위해 여과장치의 원추형 하부에는 역세척라인(14)이 연결되어 있다. 상기 역세척라인은 여과장치의 일측 또는 2 이상의 위치와 연결되어 있을 수 있으며 여과장치 내부에 설치된 분사노즐에 의해 효율적인 세정을 수행 할 수 있다.

이하 실시예로 본 발명의 세정공정을 상세하게 설명하고자 하나, 하기의 실시예는 설명의 목적을 위한 것으로, 본 발명을 제한하기 위한 것은 아니다.

[실시예 1]

여과기, 교반기, 내부밸브를 갖춘 400L의 스테인레스강 여과장치(C)에 질소 가스로 압력을 유지하면서 슬러리공급장치(A)로부터 고상분 36 kg을 포함한 슬러리 용액 336 kg을 2시간 동안 투입하면서, 여과액방출구을 통하여 고압여과액회수장치(D)로 여과액을 방출하고, 고상분을 여과기에 걸렀다. 방출된 1차 여과액은 저압여과액회수장치(E)로 이송된 후 압력을 상압까지 강하시킨 후 폐수처리하였다.

이때 여과장치(C)의 내부온도는 225℃로, 여과기의 체눈크기는 20 ㎛로 하였다. 여과장치의 압력은 질소가스를 이용하여 26 kg/cm²로 유지하는 한편, 고압여과액회수장치(D) 또한 장치 일측으로 공급되는 질소가스에 의해 여과장치의 압력보다 0.5 내지 2 기압 낮은 압력으로 일정하게 유지하였다.

다음으로 용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 미리 예열된 순수 용매로 증류수 300 kg 이상을 여과장치(C)에 투입하고, 80rpm으로 설정한 앵커형 교반기로 교반하면서 바로 고압슬러리회수장치(F)로 고상분 및 용매를 이동시켰다. 고압슬러리회수장치(F)에서 500rpm으로 설정한 패들형 교반기로 15분 동안 재슬러리화 시키고 재순환 라인을 통하여 다시 여과장치(C)로 슬러리를 투입하였으며, 10분 동안 여과막을 통해 고압여과액회수장치(D)로 2차 여과액을 방출하였다. 위의 세정단계를 동일하게 1회 더 수행하였다.

용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상의 증류수 100 kg을 여과장치(C)에 투입하고 교반하여 NDA 함유 슬러리를 만들고 이를 슬러리방출라인을 통해 고압슬러리회수장치(F)로 보내었다. 고압슬러리회수장치(F)는 일측으로 공급되는 질소에 의해 여과장치와 동일한 압력으로 일정하게 유지하였다. 고압슬러리회수장치(F)로 이송된 슬러리를 다시 저압슬러리회수장치(G)로 이송한 후 상압까지 감압하고 용매를 제거한 후 순수 NDA를 회수하였다. 이때 생성된 고상분의 조성을 표 1에 나타내었다.

[실시예 2]

실시예 1과 동일한 조건에서 실험하였으며, 고압슬러리회수장치(F)에서 교반기의 회전수를 700rpm으로 변경하였다. 그 결과를 표 1에 나타내었다.

[비교예 1]

슬러리공급장치(A)로부터 여과장치로 이송되어 여과되고 남은 고상분의 재슬화를 고압슬러리회수장치(F)가 아닌 여과장치(C)에서 행한다는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다. 즉, 용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 미리 예열된 증류수 300 kg 이상을 여과장치(C)에 투입하고, 80rpm으로 설정한 앵커형 교반기(1)로 30분 동안 교반한 후 고압여과액회수장치(D)로 2차 여과액을 방출하는 세정단계를 수행하였으며, 마찬가지로 위의 세정단계를 동일하게 1회 더 수행하였다. 이때 생성된 고상분의 조성을 표 1에 나타내었다.

[표 1]

유기물	실시예 1		실시예 2		비교예 1
유기물	생성량(kg)	조성비(%)	생성량(kg)	조성비(%)	생성량(kg)	조성비(%)
NDA	32.349	99.852	31.959	99.887	33.585	99.818
NA	0.012	0.037	0.008	0.025	0.014	0.042
MNA	0.027	0.083	0.021	0.066	0.029	0.086
DCT	0.001	0.003	0.001	0.003	0.001	0.003
기타	0.008	0.025	0.006	0.019	0.017	0.051

표 1을 보면 실시예 1 및 2의 경우가 비교예 1에 비해 NDA의 회수량이 적은 것을 알 수 있는데 이는 슬러리의 이송에 의한 손실로 보여진다. 그러나 얻어진 NDA의 순도가 훨씬 좋아진 것을 알 수 있다. 즉 본 발명의 여과 후 재슬러리화가 불순물의 용해 및 세정에 매우 효과적이며 특히 교반기의 회전수가 높을 수록 생산 물의 순도가 좋아진다는 것을 확인할 수 있다.

본 발명은 2,6-나프탈렌디카르복실산을 포함하는 슬러리를 150∼250℃, 15∼28 기압에서 0.5∼2 기압의 압력 차이를 이용하여 여과시키고 세정함으로써 간편하게 그리고 단시간 내에 NA, MNA, DCT 등의 유기 불순물을 제거할 수 있는 장점이 있다. 또한 세정을 위한 NDA의 재슬러리화를 고압슬러리회수장치에서 수행하여 슬러리를 충분히 교반하여 줌으로써 짧은 시간 동안 불순물의 용해량을 증가시켜 주어 세정 작용이 효과적으로 이루어진다는 장점이 있다.

Claims

(a) 슬러리공급장치(A)로부터 2,6-나프탈렌디카르복실산(NDA)을 포함하는 슬러리를 불활성 가스에 의한 가압하에서, 여과기(3), 교반기(1) 및 내부밸브(4)를 갖춘 고온, 고압의 여과장치(C)에 투입하면서 여과액방출구(12)를 통하여 고압여과액회수장치(D)로 1차 여과액을 방출하고, 고상분을 여과기에 거르는 단계,

(b) 용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 예열된 순수 용매를 여과장치(C)에 투입하고 교반기(1)로 교반하는 단계,

(c) 단게 (b)의 슬러리를 슬러리방출라인(11)을 통해 고압슬러리회수장치(F)로 이동시켜 교반에 의해 충분히 재슬러리화시킨 후 재순환라인을 통해 여과장치에 재투입하는 단계,

(d) 여과액방출구(12)를 통하여 고압여과액회수장치(D)로 2차 여과액을 방출하고, 고상분을 여과기에 거르는 단계,

(e) 용매가열공급장치(B)로부터 200℃ 이상으로 예열된 순수 용매를 여과장치(C)에 투입하고 슬러리를 교반한 후 내부밸브(4)를 열어 슬러리방출라인(11)를 통해 고압슬러리회수장치(F)로 보내는 단계를 포함하며,

이 때 고압여과액회수장치(D)의 압력이 여과장치(C)의 압력보다 0.5∼2기압 낮음을 특징으로 하는 2,6-나프틸렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 여과장치(C)는 내부온도 150∼250℃, 압력 15∼28기압으로 유지되며, 고압슬러리회수장치(F)는 여과장치(C)의 압력과 같거나, 0.5 내지 2 기압 낮은 압력으로 유지됨을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 단계 (c)전에

(b-1) 단계 (b)의 세정액을 여과액방출구(12)를 통하여 고압여과액회수장치로 방출하고 남은 고상분에 200℃ 이상으로 예열된 순수 용매를 여과장치(C)에 투입하고 교반기(1)로 교반하는 단계,

를 더 포함함을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 상기 고압여과액회수장치로부터 회수된 여과액이 저압여과액회수장치(E)로 투입된 후 상압으로 감압되고 최종적으로 방출되는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 단계 (e) 이 후 상기 고압슬러리회수장치(F)로부터 회수된 슬러리가 저압슬러리회수장치(G)로 투입된 후 상압으로 감압되며 필요한 경우 용매를 제거하고 최종 NDA를 얻는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 상기 공정은 수소화에 의한 2,6-나프탈렌디카르복실산의 연속정제공정에 이은 연속공정으로 사용되는 것을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 단계 (b) 및 (c)를 2회 이상 행함을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 단계(e)의 용매는 여과장치의 원추형 하부에 연결된 역세척라인을 통하여 공급됨을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 여과장치(C)의 여과기(3)로 스테인레스강 재질의 5∼100㎛ 메쉬 스크린을 사용하는 것을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
제1항에 있어서, 상기 불활성 가스는 질소임을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정방법.
여과장치(C), 상기 여과장치에 연속적으로 2,6-나프탈렌디카르복실산(NDA)을 포함하는 슬러리를 공급할 수 있는 슬러리공급장치(A), 슬러리의 여과 후 생성된 고상분을 재슬러리화 하고 세정하기 위한 용매의 공급장치로 가열수단을 구비한 용 매가열공급장치(B), 상기 여과장치로부터 여과되어 나온 여과액 또는 세정액을 회수하기 위한 장치로써 불활성 가스 공급에 의해 일정압력으로 유지되는 고압여과액회수장치(D), 상기 고압여과액회수장치로부터 회수된 여과액이 투입된 후 상압으로 감압되고 최종적으로 방출되는 저압여과액회수장치(E), 여과장치에서 여과액 또는 세정액이 회수되고 남은 고상분을 슬러리 형태로 회수하며 재슬러리화가 보다 효과적으로 이루어질 수 있도록 교반기를 구비하고 불활성 가스에 의해 일정압력으로 유지되는 고압슬러리회수장치(F) 및 상기 고압슬러리회수장치로부터 회수된 슬러리가 투입되고 상압으로 감압되며 필요한 경우 용매를 제거하고 최종 NDA를 얻는 저압슬러리회수장치(G)를 포함하며, 이 때 고압여과액회수장치(D)의 압력이 여과장치(C)의 압력보다 0.5∼2기압 낮음을 특징으로 하는 2,6-나프탈렌디카르복실산의 여과 및 세정시스템.