KR100544759B1 - 플라스틱 렌즈용 조성물, 플라스틱 렌즈 및 플라스틱렌즈의 제조방법 - Google Patents

플라스틱 렌즈용 조성물, 플라스틱 렌즈 및 플라스틱렌즈의 제조방법 Download PDF

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Abstract

굴절률이 높고 비중이 낮은 경화물을 생성할 수 있는 저점도의 플라스틱 렌즈용 조성물, 이 조성물을 경화시켜 얻어진 플라스틱 렌즈 및 플라스틱 렌즈의 제조 방법 제공. 브롬-함유 (메쓰)알릴 에스테르-기재 화합물을 함유하는 플라스틱 렌즈용 조성물은 종래의 플라스틱 렌즈용 조성물에 비해 점도가 낮으며, 이 조성물의 경화물은 고굴절률 및 낮은 비중을 갖는다.
플라스틱 렌즈, 굴절률, 비중, 브롬-함유 화합물.

Description

플라스틱 렌즈용 조성물, 플라스틱 렌즈 및 플라스틱 렌즈의 제조방법{PLASTIC LENS COMPOSITION, PLASTIC LENS, AND PROCESS FOR PRODUCING THE PLASTIC LENS}
관련 출원의 상호-참조
본 출원은 35 U.S.C.§111(b)에 준하여, 2000년 11월 1일 제출된 가출원 60/244,605호 출원일의 35 U.S.C.§119(e)(1)에 따른 이득을 주장하며, 35 U.S.C.§111(a)에 따라 제출된 출원이다.
본 발명은 플라스틱 렌즈용 조성물, 조성물을 경화시켜 얻은 플라스틱 렌즈 및 플라스틱 렌즈의 제조 방법에 관한 것이다.
보다 구체적으로, 본 발명은 25℃에서의 굴절률이 1.58 이상이고 23℃에서의 비중이 1.4 이하인 플라스틱 렌즈용 조성물; 이 조성물을 경화시켜 얻은 고굴절률의 경량 플라스틱 렌즈; 및 이 플라스틱 렌즈의 제조 방법에 관한 것이다.
유기 글라스는 무기 글라스와 비교하여 경량이므로, 지금까지 CR-39(상표명, PPG사)로 대표되는 디에틸렌 글리콜 비스(알릴 카르보네이트) 또는 메틸 메타크릴레이트 등의 폴리머를 함유하는 유기 글라스를 이용해 왔다. 그러나 이러한 유기 글라스의 굴절률은 1.49 내지 1.50으로서 무기 글라스(화이트 크라운 글라스의 굴 절률 : 1.523)와 비교하여 비교적 낮고, 경량화의 효과를 부여하기에 그 두께가 무기 글라스보다 두꺼우며, 시력 교정용 렌즈로서 이용시 고도 근시가 되면 외관이 나빠지는 결점이 있다.
이에 대처하기 위해, 디알릴 프탈레이트-기재 모노머를 이용한 다양한 유기 글라스가 제안되었다. 그러나, 이들은 깨어지기 쉽거나 투과율에 문제가 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해 단관능 중합성 모노머에 이 모노머를 희석시켜 사용하면 내열성이나 내용매성이 손상되고, 유가 글라스로서의 성능이 불충분해진다.
또한, 말단에 알릴 에스테르기를 가지며, 그 내부에 다가포화 카르복실산과 다가포화 알코올로부터 유래된 다음 구조식을 갖는 알릴 에스테르가 알려져 있다:
CH2=CHCH2O{CORCOOB'O}nCORCOOCH2CH=CH2
식 중에서, R은 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 2가의 유기 잔기이고, B'는 디올에서 유래된 2가의 유기잔사이며, n은 1 내지 20의 수이다.
이 알릴 에스테르는 매우 우수한 내충격성을 갖는 경화물을 제공하나, 이 경우, 내부에 B'의 지방족 탄화수소를 이용하기 때문에, 비록 테레프탈산이나 이소프탈산을 다가 포화 카르복실산으로 이용할지라도, 디알릴 테레프탈레이트 모노머 또는 디알릴 이소프탈레이트 모노머 경화물보다 굴절률이 낮다.
일본 무심사 특허 공개 3-124715(JP-A-3-124715)호에서, 본 발명자들은 할로겐을 포함하는 알릴 에스테르 수지를 제안하였다. 그러나, 이 수지는 그 자체의 점도가 높고 비중이 매우 크므로 광학 재료로서 이용할 수 없다.
일본 무심사 특허 공개 7-33831(JP-A-7-33831)호에서, 본 발명자들은 또한 브롬이 혼합된 알릴 에스테르 수지를 포함하는 조성물 및 이 조성물을 경화시켜 얻은 광학 유기 글라스를 제안하였다. 그러나, 안경 착용시 착용감의 관점에서 보아. 낮은 비중과 높은 굴절률을 갖는 광학 유기 글라스가 요구된다. 게다가, 생산성을 높이기 위해, 조성물의 여과시 우수한 여과성을 가지며 주형으로의 용이한 흐름과 신속한 충진을 가능하게 하는 플라스틱용 조성물이 요구된다. 이러한 요구를 만족시키기 위해 낮은 점도의 플라스틱용 조성물이 요구된다.
점도, 경화물의 굴절률 및 경화물의 비중이라는 세가지 요소의 균형을 고려할 때, JP-A-7-33831호에 기재된 조성물은 최근 시장의 요구에 적합하지 않으며 JP-A-7-33831호의 조성물은 최근 시장의 요구에 대한 최선의 제안이 될 수 없다.
본 발명의 목적은, 시장의 요구에 부응하여, 상기 언급한 문제점을 해결하기 위해 플라스틱 렌즈 재료나 그외 광학용 재료에 사용할 수 있을 만큼 충분히 낮은 점도를 가지면서도 경화물의 굴절률이 높고, 또한 비중이 비교적 낮은 플라스틱 렌즈용 조성물을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 이 조성물을 경화시켜 얻은 플라스틱 렌즈 및 플라스틱 렌즈의 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기-기술한 문제점을 해결하기 위한 광범한 연구 결과, 본 발명자들은 브롬을 함유하는 (메쓰)알릴 에스테르-기재 화합물 사용할 때 경화물의 압베수(Abbe number)가 높고 경화 수축이 비교적 적은 경화물을 제공하는 플라스틱 렌즈용 조성물을 얻을 수 있었다. 이를 기초로 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
보다 구체적으로, 본 발명 (I)은 하기에 표시된 성분 (α)를 필수 성분으로 하는 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이고, 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는다:
성분 (α):
하기 화학식 (1)로 표시되는 작용기를 말단기로서 적어도 하나 이상 갖고 하기 화학식 (2)로 표시되는 작용기를 반복 단위로 갖는 화합물:
Figure 112003008518920-pct00001
식 중, 각 R1은 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기이고, 각 A1은 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타낸다;
Figure 112003008518920-pct00002
식 중, 각 A2는 독립적으로 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타내고, 각 X는 독립적으로 유기 잔기이며 X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물로부터 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 함유하는 1종 이상의 유기 잔기를 나타내고, 단, 에스테르 결합에 의해서라면, X는 말단기로서 화학식 (1)의 작용기와 반복 단위로서 화학식 (2)의 작용기를 갖는 분지된 구조를 가질 수 있다.
본 발명 (II)는 하기에 표시된 성분 (α)와 성분 (β)를 포함하는 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이고, 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는다:
성분 (α):
하기 화학식 (1)로 표시되는 작용기의 적어도 1종 이상을 말단기로서 갖고 화학식 (2)로 표시되는 작용기를 반복 단위로서 갖는, 총 경화성 성분에 대하여 10 내지 60 중량%의 화합물 :
화학식 1
Figure 112003008518920-pct00003
식 중, 각 R1은 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기이고, 각 A1은 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타낸다;
화학식 2
Figure 112003008518920-pct00004
식 중, 각 A2는 독립적으로 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타내고, 각 X는 독립적으로 유기 잔기이며 X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물로부터 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 함유하는 1종 이상의 유기 잔기를 나타내고, 단, 에스테르 결합에 의해서라면 X는 말단기로서 화학식 (1)의 작용기와 반복 단위로서 화학식 (2)의 작용기를 갖는 분지된 구조를 가질 수 있다;
성분 (β):
총 경화성 성분에 대하여 40 내지 90 중량%의, 하기 화학식 (3)과 (4)로 표시되는 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물:
Figure 112003008518920-pct00005
식 중, R2와 R3는 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기를 나타낸다;
Figure 112005042151394-pct00006
삭제
식 중, R4와 R5는 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기를 나타낸다;
본 발명 (III)은 하기에 표시된 성분 (α), 성분 (β) 및 성분 (γ)를 포함하는 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이고, 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는다:
성분 (α):
하기 화학식 (1)로 표시되는 작용기의 적어도 1종 이상을 말단기로서 갖고 화학식 (2)로 표시되는 작용기를 반복 단위로서 갖는, 총 경화성 성분에 대하여 10 내지 60 중량%의 화합물 :
화학식 1
Figure 112003008518920-pct00007
식 중, 각 R1은 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기이고, 각 A1은 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타낸다;
화학식 2
Figure 112003008518920-pct00008
식 중, 각 A2는 독립적으로 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타내고, 각 X는 독립적으로 유기 잔기이며 X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물로부터 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 함유하는 1종 이상의 유기 잔기를 나타내고, 단, 에스테르 결합에 의해서라면 X는 말단기로서 화학식 (1)의 작용기와 반복 단위로서 화학식 (2)의 작용기를 갖는 분지된 구조를 가질 수 있다;
성분 (β):
총 경화성 성분에 대하여 20 내지 90 중량%의, 하기 화학식 (3)과 (4)로 표시되는 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물:
화학식 3
식 중, R2와 R3는 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기를 나타낸다;
화학식 4
Figure 112003008518920-pct00010
식 중, R4와 R5는 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기를 나타낸다;
성분 (γ):
총 경화성 성분에 대하여 0 내지 20 중량%의, 디벤질 말리에이트, 디페닐 말리에이트, 디벤질 푸마레이트, 디페닐 푸마레이트, (메쓰)알릴 2-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 3-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 4-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 α-나프토에이트, (메쓰)알릴 β-나프토에이트, (메쓰)알릴 o-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 m-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 p-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,6-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,4-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 o-브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 m-브로모벤조에이트 및 (메쓰)알릴 p-브로모벤조에이트로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물.
본 발명 (IV)는 플라스틱 렌즈용 조성물 중 총 경화성 성분 100 중량부에 대하여 0.01 내지 2 중량부의 자외선 흡수제 및/또는 광안정제를 추가로 함유하는 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이다.
본 발명 (V)는 플라스틱 렌즈용 조성물 중 총 경화성 성분 100 중량부에 대하여 0.01 내지 5 중량부의 항산화제를 추가로 함유하는 본 발명 (I), (II), (III) 또는 (IV)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이다.
본 발명 (VI)은 플라스틱 렌즈용 조성물 중 총 경화성 성분 100 중량부에 대하여 적어도 1종 이상의 래디칼 중합 개시제를 0.1 내지 10 중량부로 함유하는 본 발명 (I), (II), (III), (IV) 또는 (V)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이다.
본 발명 (VII)은 본 발명의 플라스틱 렌즈용 조성물을 경화시켜 얻어진, 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는 플라스틱 렌즈에 관한 것이다.
본 발명 (VIII)은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률, 23℃에서 1.40 이하의 비중, 원소 분석에 의한 탄소 농도 50.0 내지 70.0 중량% 및 원소 분석에 의한 브롬 농도 9.0 내지 15.0 중량%를 갖는 플라스틱 렌즈에 관한 것이다.
본 발명 (IX)는 본 발명에 따른 플라스틱 렌즈의 제조 방법에 관한 것이다.
발명을 수행하는 최상의 방법
본 발명 (I), 본 발명 (II) 및 본 발명 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 대해 하기에 기술한다. 본 발명 (I)은 하기에 표시된 성분 (α)를 필수 성분으로 하는 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이고, 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는다:
성분 (α):
상기 화학식 (1)로 표시되는 작용기를 말단기로서 적어도 하나 이상 갖고 상기 화학식 (2)로 표시되는 작용기를 반복 단위로서 갖는 화합물:
본 발명 (II)는 하기에 표시된 성분 (α)와 성분 (β)를 포함하는 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이고, 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는다:
성분 (α):
상기 화학식 (1)로 표시되는 작용기의 적어도 1종 이상을 말단기로서 갖고 상기 화학식 (2)로 표시되는 작용기를 반복 단위로서 갖는, 총 경화성 성분에 대하여 10 내지 60 중량%의 화합물 :
성분 (β):
총 경화성 성분에 대하여 10 내지 90 중량%의, 상기 화학식 (3)과 (4)로 표시되는 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물.
본 발명 (III)은 하기에 표시된 성분 (α), 성분 (β) 및 성분 (γ)를 포함하는 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이고, 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는다:
성분 (α):
상기 화학식 (1)로 표시되는 작용기의 적어도 1종 이상을 말단기로서 갖고 상기 화학식 (2)로 표시되는 작용기를 반복 단위로서 갖는, 총 경화성 성분에 대하여 10 내지 60 중량%의 화합물 :
성분 (β):
총 경화성 성분에 대하여 10 내지 90 중량%의, 상기 화학식 (3)과 (4)로 표시되는 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물;
성분 (γ):
총 경화성 성분에 대하여 0 내지 20 중량%의, 디벤질 말리에이트, 디페닐 말리에이트, 디벤질 푸마레이트, 디페닐 푸마레이트, (메쓰)알릴 2-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 3-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 4-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 α-나프토에이트, (메쓰)알릴 β-나프토에이트, (메쓰)알릴 o-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 m-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 p-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,6-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,4-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 o-브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 m-브로모벤조에이트 및 (메쓰)알릴 p-브로모벤조에이트로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물.
본 발명에서 사용된 "총 경화성 성분"이라는 용어는 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물내에 함유된 중합가능 성분의 총량을 의미한다.
화학식 (1)에서, 각 R1은 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기를 나타낸다. 또한, 화학식 (1)에서 각 A1은 독립적으로 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타낸다. 화학식 (2)에서, 각 A2는 독립적으로 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타낸다. 더욱이, 화학식 (2)에서 각 X는 독립적으로 유기잔사이고, X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물로부터 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 함유하는 1종 이상의 유기 잔기를 나타낸다.
본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분으로서 화학식 (1)로 표시되는 말단기중에 R1으로 표시되는 모든 부분은 알릴기나 메탈릴기에 의해 점유되거나 알릴기에 의해 부분적으로, 그리고 그밖의 부분은 메탈릴기에 의해 점유될 수 있다.
화학식 (1)의 A1과 화학식 (2)의 A2는 각각 디카르복실산 또는 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타낸다. "디카르복실산 또는 카르복실산 무수물"은 다음 화합물들을 포함하나, 물론, 본 발명이 이들 특정예로써 제한되어서는 안된다.
그 구체예로는, 지방성 디카르복실산과 그 무수물, 예컨대 숙신산, 숙신산 무수물, 글루타르산, 글루타르산 무수물, 아디프산, 말론산, 말론산 무수물, 2-메틸숙신산 및 2-메틸숙신산 무수물; 지환식 구조를 갖는 디카르복실산과 그 무수물, 에컨대 1,4-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로헥산디카르복실산, 1,2-시클로헥산디카르복실산, 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물, 4-메틸시클로헥산-1,2-디카르복실산 및 4-메틸시클로헥산-1,2-디카르복실산 무수물; 및 방향족 디카르복실산과 그 무수물, 예컨대 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 프탈산 무수물, 비페닐-2,2'-디카르복실산(하기에, 간혹 "디펜산(diphenic acid)"라 언급함), 비페닐-2,2'-디카르복실산 무수물, 비페닐-3.3'-디카르복실산 및 비페닐-4,4'-디카르복실산이 있다.
이들 중에서도, 화합물의 높은 굴절률을 유지하는 점에서, 방향족 디카르복실산과 그 산 무수물, 예컨대 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 프탈산 무수물, 비페닐-2,2'-디카르복실산, 비페닐-2,2'-디카르복실산 무수물, 비페닐-3,3'-디카르복실산 및 비페닐-4,4'-디카르복실산이 바람직하고, 이소프탈산, 비페닐-2,2'-디카르 복실산 및 비페닐-2,2'-디카르복실산 무수물이 보다 바람직하다.
본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분으로서 성분 (α) 중 화학식 (1)로 표시되는 말단기에서 A1으로 표시되는 부분 또는 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분으로서 성분 (α) 중 화학식 (2)로 표시되는 반복 단위에서 A2로 표시되는 부분 (이하 "A1"과 "A2"를 합쳐서 "A"로 언급함)은, 동일한 구조를 갖는 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기에 의해 모두 점유되거나, 별개의 구조를 갖는 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기에 의해 모두 점유되거나, 동일한 구조를 갖는 디카르복실산에서 유래된 유기 잔기, 그리고 다른 부분은 별개의 구조를 갖는 디카르복실산에서 유래된 유기 잔기에 의해 부분적으로 점유될 수 있다.
보다 구체적으로, 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분으로서 성분 (α)의 한 구체예가 되는 다음 화학식 (5)에서, 그 구조내에 포함되는 k개의 A들은 상호간에 독립적이다:
Figure 112003008518920-pct00011
식 중, 각 A는 독립적으로 디카르복실산에서 유래된 유기 잔기를 나타내고, k는 2 이상의 정수이며, X는 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물로부터 유래된 유기 잔기이다.
화학식 (5)에서, 예를 들어 k개의 A들은 모두 별개 구조를 갖는 디카르복실산이나 디카르복실산 무수물에서 유래된 (즉, 한개의 유기 잔기가 k 종류의 구조를 갖는 각각의 디카르복실산이나 디카르복실산 무수물로부터 유래됨) 유기 잔기이거나, 모두 동일한 구조를 갖는 디카르복실산이나 디카르복실산 무수물에서 유래된 (즉, 한 종류의 구조를 갖는 디카르복실산으로부터 k개의 유기 잔기가 유래됨) 유기 잔기일 수 있다. k개의 A들 중 몇몇은 동일한 구조를 갖는 디카르복실산 또는 디카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기이고 그외 다른 것들은 별개 구조를 갖는 디카르복실산 또는 디카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기인 혼합 구조를 또한 이용할 수 있다.
여기서 이용된 "각 X는 독립적으로 유기 잔기임"이라는 용어는, 화학식 (2)로 표시되는 반복 단위를 포함하는 성분 (α)의 한 구체예인 다음 화학식 (6)에서, 반복 구조에 포함된 m개의 X들이 상호간에 독립적인 유기 잔기임을 의미한다:
Figure 112003008518920-pct00012
식 중, 각 X는 독립적으로 유기 잔기이고 X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물로부터 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 포함하는 적어도 1종 이상의 유기 잔기를 나타내며, m은 0 이거나 1 이상의 정수이고, 각 A는 독립적으로 디카르복실산 또는 디카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타낸다.
예를 들어, 화학식 (6)에서, m개의 X들은 모두 별개의 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기이거나 (즉, m 종류의 개별적인 브롬-함유 화합물로부터 하나씩의 유기 잔기가 유래됨), 모두 동일한 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기 (즉, 한 종류의 브롬-함유 화합물로부터 m개의 유기 잔기가 유래됨)일 수 있다. m개의 X들 중 몇몇은 동일한 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기이고 그외 다른 것들은 별개 종류의 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기인 혼합 구조를 또한 이용할 수 있다. 더욱이, 이러한 혼합 구조에서, 전체는 완전히 임의적이거나 부분의 반복일 수 있다.
여기서 이용된 "2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 포함하는 1종 이상의 유기 잔기"는, 화학식 (2)로 표시되는 반복 단위를 포함하는 성분 (α)의 한 구체예인 화학식 (6)에서, 반복 구조에 포함된 m개의 X들 중 일부 혹은 전부가 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기를 포함하는 것을 의미한다.
예를 들어, 화학식 (6)에서 m개의 X들은 모두 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기 (즉, m개의 유기 잔기가 적어도 1종 이상의 브롬-함유 화합물로부터 유래됨)이거나, m개의 X들 중 몇몇은 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기이고 그외 다른 것들은 또다른 종류의 화합물에서 유래된 유기 잔기인 혼합 구조를 가질 수 있다. 게다가, 혼합 구조에서 전체는 완전히 임의적이거나 부분의 반복일 수 있다.
에스테르 결합에 의해, X는 말단기로서 화학식 (1) 및 반복 단위로서 화학식 (2)를 포함하는 분지된 구조를 가질 수 있다. 보다 구체적으로, 예를 들어, 3가(trihydric) 브롬-함유 알코올의 한 구체예로서 2,4,6-트리브로모-1,3,5-트리(히드록시에틸)벤젠으로부터 유래된 유기 잔기가 X에 존재할 때, 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분인 성분 (α)는 다음 화학식 (7)로 표시되는 부분 구조를 가질 수 있다:
Figure 112003008518920-pct00013
각 X는, 물론, 독립적으로 유기 잔기이고, X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 포함하는 1종 이상의 유기 잔기를 나타낸다. 또한, 각 A는 독립적으로 디카르복실산 또는 디카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기이다.
화학식 (2)에서, 각 X는 독립적으로 유기 잔기이고 X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물로부터 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 포함하는 1종 이상의 유기 잔기를 나타낸다. 여기서 언급한 "2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물"의 구체예는 다음을 포함한다. 그러나 물론, 본 발명은 이들 특정예로써 제한되지 않는다.
Figure 112003008518920-pct00014
또한, 다음 화학식 (9) 또는 (10)으로 표시된, 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물을 이용할 수 있다:
Figure 112003008518920-pct00015
식 중, 각 R6은 독립적으로 하기 화학식 (11), (12) 또는 (13)으로 표시되는 유기 작용기를 나타내고, 각 R7은 독립적으로 하기 화학식 (14) 내지 (16)의 군으로부터 선택되는 작용기이며, a와 b는 각각 독립적으로 0 또는 1 내지 10의 정수이고, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, Z6, Z7 및 Z8은 각각 독립적으로 브롬, 염소 및 수소로 구성된 군으로부터 선택되는 치환기이며, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, Z6, Z7 및 Z8 중 적어도 하나가 브롬이고, Y는 하기 화학식 (17) 또는 (18)로 표시되는 유기 작용기를 나타낸다.
Figure 112003008518920-pct00016
식 중, 각 R8은 독립적으로 하기 화학식 (19), (20) 또는 (21)로 표시되는 유기 작용기를 나타내고, 각 R9는 하기 화학식 (22) 내지 (24)의 군으로부터 선택되는 작용기이며, c와 d는 각각 독립적으로 0 또는 1 내지 10의 정수이고, Z9, Z10, Z11, Z12, Z13, Z14, Z15 및 Z16 중 적어도 하나가 브롬이면, Z9, Z10, Z11, Z12, Z13, Z14, Z15 및 Z16은 각각 독립적으로 브롬, 염소 및 수소로 구성된 군으로부터 선택되는 치환기이다.
Figure 112003008518920-pct00017
Figure 112003008518920-pct00018
Figure 112003008518920-pct00019
Figure 112003008518920-pct00020
Figure 112003008518920-pct00021
Figure 112003008518920-pct00022
Figure 112003008518920-pct00023
Figure 112003008518920-pct00024
Figure 112003008518920-pct00025
Figure 112003008518920-pct00026
Figure 112003008518920-pct00027
Figure 112003008518920-pct00028
Figure 112003008518920-pct00029
Figure 112003008518920-pct00030
화학식 (9)에서, b개의 R7은 모두 동일한 구조를 갖는 유기 작용기이거나, 모두 별개 구조를 갖는 유기 작용기이거나, 또는 다른 구조를 갖는 유기 작용기가 존재하는 부분적으로 동일한 구조를 갖는 유기 작용기일 수 있으나, 이 때 R7은 화학식 (14) 내지 (16)로 표시되는 유기 작용기로부터 선택되어야 한다.
화학식 (9)에서, a와 b는 각각 독립적으로 0 또는 1 내지 10의 정수이다. Y는 화학식 (17) 또는 (18)로 표시되는 유기 작용기를 나타낸다.
화학식 (9)로 표시된, 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물의 특정한 구체예로는 2,2-비스[4--(2-히드록시에톡시)-3,5-디브로모페닐]-프로판, 2,2-비스[4-(2-히드록시프로폭시)-3,5-디브로모페닐]프로판, 2,2-비스(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)프로판의 3몰 에틸렌 옥사이드 부가물, 2,2-비스(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)프로판의 4몰 프로필렌 옥사이드 부가물, 비스[4-(2-히드록시에톡시)-3,5-디브로모페닐]메탄, 비스[4-(2-히드록시프로폭시)-3,5-디브로모페닐]메탄, 비스(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)메탄의 3몰 에틸렌 옥사이드 부가물 및 비스(3,5-디브로모-4-히드록시페닐)메탄의 4몰 프로필렌 옥사이드 부가물이 있다. 그러나, 물론, 본 발명을 이들 특정한 구체예로 한정하는 것은 아니다.
이들 브롬-함유 화합물 중에서도 원료를 용이하게 이용할 수 있다는 점에서, 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)-3,5-디브로모페닐]프로판과 2,2-비스[4-(2-히드록시프로폭시)-3,5-디브로모페닐]프로판이 바람직하고, 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)-3,5-디브로모페닐]프로판이 보다 바람직하다.
화학식 (10)에서, c개의 R8은 모두 동일한 구조를 갖는 유기 작용기이거나, 모두 별개 구조를 갖는 유기 작용기이거나, 또는 다른 구조를 갖는 유기 작용기가 존재하는 부분적으로 동일한 구조를 갖는 유기 작용기일 수 있으나, 이 때 R8은 화학식 (19) 내지 (21)로 표시되는 유기 작용기로부터 선택되어야 한다.
화학식 (10)에서, d개의 R9는 모두 동일한 구조를 갖는 유기 작용기이거나, 모두 별개 구조를 갖는 유기 작용기이거나, 또는 다른 구조를 갖는 유기 작용기가 존재하는 부분적으로 동일한 구조를 갖는 유기 작용기일 수 있으나, 이 때 R9는 화학식 (22) 내지 (24)로 표시되는 유기 작용기로부터 선택되어야 한다.
화학식 (10)에서, c와 d는 각각 독립적으로 0 또는 1 내지 10의 정수이다.
화학식 (10)으로 표시된, 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물의 특정한 구체예로는 4,4'-비스(2-히드록시에톡시)-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐, 4,4'-비스(2-히드록시프로폭시)-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐, 4,4'-디히드록시-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐의 3몰 에틸렌 옥사이드 부가물 및 4,4'-디히드록시-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐의 3몰 프로필렌 옥사이드 부가물이 있다. 물론, 그러나, 본 발명이 이들 특정예로써 제한되는 것은 아니다.
이들 브롬-함유 화합물 중에서도, 원료를 용이하게 이용할 수 있다는 점에서 4,4'-비스(2-히드록시에톡시)-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐과 4,4'-비스(2-히드록시프로폭시)-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐이 바람직하고, 4,4'-비스(2-히드록시에톡시)-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐이 보다 바람직하다.
2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물과 함께, 또한 또다른 알코올을 이용할 수 있다. 그 특정한 구체예로는 다음 화합물을 들 수 있으나, 물론 본 발명이 이들 구체예로써 제한되는 것은 아니다.
그 구체예로는 1,4-디(히드로시메틸)벤젠, 1,3-디(히드록시메틸)벤젠, 1,2- 디(히드록시메틸)벤젠, 비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]메탄, 1,1-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]시클로헥산, 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판, 비스[4-(2-히드록시프로폭시)페닐]-메탄, 1,1-비스[4-(2-히드록시프로폭시)페닐]시클로헥산, 2,2-비스[4-(2-히드록시프로폭시)페닐]프로판, 비스페놀 A의 3몰 에틸렌 옥사이드 부가물, 비스페놀 F의 4몰 에틸렌 옥사이드 부가물, 비스페놀 Z의 3몰 에틸렌 옥사이드 부가물, 1,4-비스(2-히드록시에톡시)벤젠, 1,3-비스(2-히드록시에톡시)-벤젠, 1,2-비스(2-히드록시에톡시)벤젠, 4,4'-비스(2-히드록시에톡시)디페닐, 3,3'-비스(2-히드록시에톡시)디페닐 및 2,2'-비스(2-히드록시에톡시)디페닐이 있다.
본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 필수 성분으로서 성분 (α)의 반복 단위인 화학식 (2)로 표시되는 작용기의 반복 횟수는 특히 제한되지 않는다. 또한 다양한 반복 회수를 갖는 물질의 혼합물을 이용할 수 있다. 더욱이, 0의 반복수를 갖는 화합물(즉, 화학식 (25)로 표시되는 화합물)과 반복수가 1 이상의 정수인 화합물을 공동으로 이용할 수 있다.
그러나, 반복수가 0인 화합물만을 이용해서는 본 발명의 목적을 달성하기 어렵다.
본 발명에서, 화학식 (25)로 표시되는 잔존 화합물은 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분인 성분 (α)내에 포함되지 않는다고 정의한다.
보다 구체적으로, 디알릴 이소프탈레이트가 원료로서 성분 (α)의 생산에 이 용되고 디알릴 이소프탈레이트가 잔존하는 경우, 남아있는 디알릴 이소프탈레이트는 본 발명 (II) 또는 (III)의 조성물 중 필수 성분인 성분 (α)에 포함되는 것이 아니라 성분 (β)에 포함된다.
또한, 디알릴 숙시네이트가 원료로서 성분 (α)의 생산에 이용되고 디알릴 숙시네이트가 잔존하는 경우, 남아있는 디알릴 숙시네이트는 성분 (α)나 성분 (β)중 어느 쪽에도 포함되지 않는다.
Figure 112003008518920-pct00031
식 중, A는 디카르복실산이나 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기이고, R12와 R13은 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기를 나타낸다.
화학식 (25)에서, A는 디카르복실산 또는 카르복실산 무수물에서 유래된 유리 잔사를 나타낸다. 여기서 언급한 "디카르복실산 또는 카르복실산 무수물"의 구체예로는 다음 화합물들이 있으나, 물론, 이들 특정예로써 본 발명을 제한하는 것은 아니다.
그 구체예로는, 지방성 디카르복실산과 그 무수물, 예컨대 숙신산, 숙신산 무수물, 글루타르산, 글루타르산 무수물, 아디프산, 말론산, 말론산 무수물, 2-메틸숙신산 및 2-메틸숙신산 무수물; 지환식 구조를 갖는 디카르복실산과 그 무수물, 에컨대 1,4-시클로헥산디카르복실산, 1,3-시클로헥산디카르복실산, 1,2-시클로헥산디카르복실산, 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물, 4-메틸시클로헥산-1,2-디카르복실산 및 4-메틸시클로헥산-1,2-디카르복실산 무수물; 및 방향족 디카르복실산과 그 무수물, 예컨대 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 프탈산 무수물, 비페닐-2,2'-디카르복실산, 비페닐-2,2'-디카르복실산 무수물, 비페닐-3.3'-디카르복실산 및 비페닐-4,4'-디카르복실산이 있다.
이들 중에서도 화합물의 굴절률을 높게 유지하는 점에서, 방향족 디카르복실산과 그 무수물, 예컨대 테레프탈산, 이소프탈산, 프탈산, 프탈산 무수물, 비페닐-2,2'-디카르복실산, 비페닐-2,2'-디카르복실산 무수물, 비페닐-3,3'-디카르복실산 및 비페닐-4,4'-디카르복실산이 바람직하고, 이소프탈산, 비페닐-2,2'-디카르복실산 및 비페닐-2,2'-디카르복실산 무수물이 보다 바람직하다.
본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 필수 성분으로서 성분 (α)의 반복 단위인 화학식 (2)로 표시되는 작용기의 반복수는 일반적으로 1 내지 30의 정수인 것이 바람직하다. 반복수가 30을 초과하는 화합물만을 포함하는 성분 (α)를 플라스틱 렌즈용 조성물에 이용하면, 알릴기의 농도가 감소할 수 있고, 이것은, 경화 시점에 경화를 지체시키거나 화합물의 일부를 미경화된 채로 남겨놓음으로써 경화물의 기계적 특성과 같은 물리적 특성을 감소시키고, 추가로 점도를 급격히 증가시킬 것이다. 성분 (α)에 포함된 모든 화합물에서, 반복수는 바람직하게도 1 내지 30의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 20의 정수, 더욱 바람직하게는 1 내지 10의 정수이다.
본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분인 성분 (α)의 생산에서, 원료인 화학식 (25)의 화합물은 제조 조건에 따라 잔존하는 경우가 있으나, 화학식 (25)의 화합물을 제거하지 않은채 그대로 이 성분을 플라스틱 렌즈용 조성물에 이용할 수 있다. 그러나, 이 성분을 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 이용할 때, 화학식 (25)의 화합물이 총 경화성 성분의 90 중량%를 초과하여 존재하면 브롬 함량이 급격히 감소하고 경화물의 굴절률이 과도하게 작아지게 되므로 불리하다.
본 발명의 플라스틱 렌즈용 조성물내에 혼합된 성분 (α)의 양은 총 경화성 성분을 기초로, 바람직하게는 10 내지 60 중량%, 보다 바람직하게는 15 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게는 20 내지 45 중량%이다.
본 발명의 플라스틱 조성물내에 혼합된 성분 (α)의 양이 총 경화성 성분을 기초로 10 중량% 미만이 되면, 이 플라스틱 렌즈용 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물이 1.58 이상의 굴절률과 30 이상의 압베수를 거의 유지할 수 없고, 이것은 바람직하지 않다. 반면, 본 발명의 플라스틱 렌즈 조성물내에 혼합된 성분 (α)의 양이 총 경화성 성분을 기초로 60 중량%를 초과하면 조성물의 점도가 급격히 증가하는 동시에 경화물의 비중이 아마도 1.40을 초과할 것이며, 이것 또한 바람직하지 않다.
본 발명의 조성물에서, 성분 (β)는 조성물의 점도를 조절하는 동시에 경화물의 굴절률을 1.58 이상으로 유지할 목적으로 바람직하게 이용된다.
화학식 (3) 또는 (4)로 표시되는 화합물의 비율은 사용된 화합물의 종류에 따라 달라지나, 이 화합물은 총 경화성 성분을 기초로 바람직하게는 10 내지 90 중량%, 보다 바람직하게는 40 내지 80 중량%, 더욱 바람직하게는 50 내지 80 중량% 범위이다. 화학식 (3) 또는 (4)로 표시되는 화합물의 비율이 총 경화성 성분을 기초로 10 중량% 미만이 되면, 조성물의 점도가 급격히 증가하므로 바람직하지 않다. 반면, 화학식 (3) 또는 (4) 화합물의 비율이 총 경화성 성분을 기초로 90 중량%를 초과하면, 이 플라스틱 렌즈용 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물이 1.58 이상의 굴절률과 30 이상의 압베수를 거의 유지할 수 없으므로 또한 바람직하지 않다.
본 발명에서 이용된 "압베수(Abbe number)"는 광학 글라스의 분산도를 나타내는 수치이고, 그 상세는 Baifukan에 의해 출판되고, Butsuri Kagaku Jiten Henshu Iinkai에 의해 발행된, Butsurigaku Jiten - Shukusho Ban - (Encyclopedia of Physics-smaller edition-), 1st ed., 3rd imp., Item "Abbe Su(Abbe Number)"에 기술되어 있다 (1989년 11월 30일).
본 발명에서 제시한 압베수 수치는 Atago K.K.에서 제조한 "Abbe Refractometer 1T"로 측정한 것이고, 다음 식으로 표시된다:
압베수 (VD) = (nD-1) / (nF-nC)
식 중, nD, nF 및 nC는, 각각, 25℃에서 프라운호퍼의 d 라인(파장:578.6nm), F 라인(486.1nm) 및 C 라인(656.3nm)에 대한 굴절률을 나타낸다.
본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분인 성분 (α)를, 예를 들어 다음 방법에 의해 제조할 수 있다.
화학식 (25)로 표시되는 화합물을 일정 비율로 하나 이상 이용하여, 이 화합물과 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물을 적어도 1종 이상 함유하는 한개 이상의 브롬-함유 화합물 사이에서 촉매 존재하에 트랜스에스테르화를 수행함으로써 목적 화합물을 얻을 수 있다. 물론, 본 발명을 거기에 제한하는 것은 아니며, 소망한다면, 정제와 같은 단계가 주어질 수 있다.
트랜스에스테르화 단계에 이용되는 촉매는 이것이 일반적으로 트랜스에스테르화에 이용가능한 용매라면 특히 제한되지 않는다. 유기 금속 화합물이 특히 바람직하고, 그 특정한 구체예로는 테트라이소프로폭시 티타늄, 테트라부톡시 티타늄, 디부틸틴 옥사이드, 디옥틸틴 옥사이드, 하프늄 아세틸아세토네이트 및 지르코늄 아세틸아세토네이트가 있으나, 본 발명이 거기에 제한되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 디부틸틴 옥사이드와 디옥틸틴 옥사이드가 바람직하다.
이 단계에서 반응 온도를 구체적으로 제한하지 않으나, 100 내지 230℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 120 내지 200℃이다. 용매를 이용하는 경우, 때때로 반응 온도를 용매의 비등점으로 제한한다.
이 단계에서, 대개는 용매를 이용하지 않으나, 소망한다면 용매를 이용할 수도 있다. 이용가능한 용매는 이것이 트랜스에스테르화를 저해하지 않는다면 구체적으로 제한되지 않는다. 그 특정한 구체예로는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 시클로헥산을 들 수 있으나, 본 발명을 거기에 제한하는 것은 아니다. 이들 중에서도, 벤젠과 톨루엔이 바람직하다. 그러나, 상기 기술한대로, 용매 없이 단계를 수행할 수 있다.
본 발명의 플라스틱 렌즈용 조성물의 필수 성분으로서 성분 (α)를 얻기 위하여, 화학식 (25)로 표시되는 화합물 중 카르복실레이트의 총 수는 2개 이상의 히드록실기를 갖는 하나 이상의 브롬-함유 화합물을 필수 성분으로서 함유하는 1종 이상의 브롬-함유 화합물 중 히드록실기의 총 수보다 커야 한다. 브롬-함유 화합물 중 히드록실기의 총 수에 대한 화학식 (25)로 표시되는 화합물에서 카르복실레이트의 총 수의 비가 1/1에 지나치게 근접하면, 제조 성분 (α)는 매우 큰 수의 평균 분자량을 가지므로 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 이용될 수 없다. 브롬-함유 화합물 중 히드록실기의 총 수에 대한 화학식 (25)로 표시되는 화합물 중 카르복실레이트의 총 수의 비는 바람직하게는 4/3 내지 10/1, 보다 바람직하게는 3/2 내지 8/1, 더욱 바람직하게는 2/1 내지 7/1이다.
주로 조성물의 점도를 조절할 목적으로, 성분 (α) 또는 (β)와 함께 공중합 가능한 한가지 이상의 화합물을, 본 발명의 플라스틱 렌즈용 조성물중에 함유된 총 경화성 성분에 대하여 20 중량%를 초과하지 않는 범위내에서, 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 첨가하는 것이 바람직하다.
이 화합물의 구체예는 (메쓰)아크릴기, 비닐기 또는 (메쓰)알릴기를 갖는 모노머를 포함한다. 그 특정한 구체예로는 메틸 (메쓰)아크릴레이트, 이소보르닐 (메쓰)아크릴레이트, 비닐 아세테이트, 비닐 벤조에이트, 디페닐 말리에이트, 디벤질 말리에이트, 디부틸 말리에이트, 디메톡시에틸 말리에이트, 디페닐 푸마레이트, 디벤질 푸마레이트, 디부틸 푸마레이트 및 디메톡시에틸 푸마레이트가 있다.
본 발명에서 이용된 "(메쓰)아크릴"은 아크릴과 메타크릴을 포함하고 "(메 쓰)아크릴레이트"는 아크릴레이트와 메타크릴레이트를 포함한다.
(메쓰)알릴기를 갖는 모노머의 구체예로는 (메쓰)알릴 α-나프토에이트, (메쓰)알릴 β-나프토에이트, (메쓰)알릴 2-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 3-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 4-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 벤조에이트, (메쓰)알릴 o-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 m-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 p-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,6-디클로로-벤조에이트, (메쓰)알릴 2,4-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,4,6-트리클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 o-브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 m-브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 p-브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 2,6-디브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 2,4-디브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 2,4,6-트리브로모벤조에이트, 디(메쓰)알릴 1,4-시클로헥산디카르복실레이트, 디(메쓰)알릴 1,3-시클로헥산디카르복실레이트, 디(메쓰)알릴 1,2-시클로헥산디카르복실레이트, 디(메쓰)알릴 4-시클로헥산-1,2-디카르복실레이트, 디(메쓰)알릴 1-시클로헥산-1,2-디카르복실레이트, 디(메쓰)알릴 3-메틸-1,2-시클로헥산-디카르복실레이트, 디(메쓰)알릴 4-메틸-1,2-시클로헥산-디카르복실레이트, 디(메쓰)알릴 비시클로[2.2.1]헵토-5-엔-2,3-디카르복실레이트, 디(메쓰)알릴 클로렌데이트 및 디(메쓰)알릴 3,6-메틸렌-1,2-시클로헥산디카르복실레이트가 있다. 추가로, CR-39(상표명, PPG사)로 대표되는 폴리에틸렌글리콜 비스((메쓰)알릴 카르보네이트) 수지를 또한 이용할 수 있다. 물론, 본 발명은 이들 특정예로써 제한하는 것은 아니며 조성물을 경화시켜 얻어지는 플라스틱 렌즈의 물리적 특성을 손상시키지 않는 범위내에서 그밖의 모노머 등을 이용할 수 있다.
성분 (α) 또는 성분 (β)와 중합가능한, 상기-언급한 화합물 중에서도, 경화물의 비중 감소 및 고굴절률의 지속성의 균형을 고려할 때, 디벤질 말리에이트, 디페닐 말리에이트, 디벤질 푸마레이트, 디페닐 푸마레이트, (메쓰)알릴 2-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 3-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 4-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 α-나프토에이트, (메쓰)알릴 β-나프토에이트, (메쓰)알릴 o-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 m-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 p-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,6-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,4-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 o-브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 m-브로모벤조에이트 및 (메쓰)알릴 p-브로몬벤조에이트가 바람직하고, 디벤질 말리에이트, 디페닐 말리에이트, 디벤질 푸마레이트, 디페닐 푸마레이트, (메쓰)알릴 2-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 3-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 4-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 α-나프토에이트 및 (메쓰)알릴 β-나프토에이트가 보다 바람직하다.
본 발명에서 이용된 "(메쓰)알릴"은 알릴과 메탈릴을 포함한다.
본 발명 (I), (II)또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물은, 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물이 25℃에서 1.58 이상, 바람직하게는 1.585 이상의 굴절률(nD)을 가져야 한다는 점이 특징이다. 경화물의 굴절률(nD)이 25℃에서 1.58 미만이 되면, 목적하는 고굴절률의 렌즈를 얻을 수 없다.
본 발명에서 "굴절률"은 매체 중 상의 속도 υ에 대한 진공에서 빛의 속도 c의 비율 c/υ를 의미하고, 그 상세는 Baifukan에 의해 출판되고, Butsuri Kagaku Jiten Henshu Iinkai에 의해 발행된, Butsurigaku Jiten - Shukusho Ban - (Encyclopedia of Physics-smaller edition-), 1st ed., 3rd imp., Item "Kussetsu Ritsu(Refractive Index)"에 기술되어 있다 (1989년 11월 30일).
본 발명의 굴절률 수치는 25℃에서 Atago K.K.가 제조한 "Abbe Refractometer 1T"를 이용하여 측정된 프라운호퍼의 d 라인(파장:587.6nm)에 대한 굴절률을 나타낸다. Atago K.K.가 제조한 "Abbe Refractometer 1T"에서 굴절률의 측정 원리는 모든 반사의 임계각을 측정하는 방법이며, 그 상세는 Baifukan에 의해 출판되고, Butsuri Kagaku Jiten Henshu Iinkai에 의해 발행된, Butsurigaku Jiten - Shukusho Ban - (Encyclopedia of Physics-smaller edition-), 1st ed., 3rd imp., "(1)Zen Hansha-no Rinkai Kaku-wo Sokutei-suru Hoho ((1)Method for Measuring Critical Angles of All Refleactions" of Item "Kussetsu Kei(Refractometer)"에 기술되어 있다 (1989년 11월 30일).
본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물은 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물이 23℃에서 1.40 이하, 바람직하게는 1.39 이하의 비중을 가져야 하는 것이 특징이다. 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물의 비중이 23℃에서 1.40을 초과하면, 목적하는 경량의 플라스틱 렌즈를 얻을 수 없다.
본 발명에서 언급된 "비중"은 물질의 질량과, 그 물질과 동일한 부피를 갖는 표준 물질(4℃, 표준 대기압의 물)과의 질량비이고, 그 상세는 Baifukan에 의해 출판되고, Butsuri Kagaku Jiten Henshu Iinkai에 의해 발행된, Butsurigaku Jiten - Shukusho Ban - (Encyclopedia of Physics-smaller edition-), 1st ed., 3rd imp., Item "Hijyu(Specific Gravity)"에 기술되어 있다 (1989년 11월 30일).
본 발명에서 경화물의 비중 수치는 JIS K 7112에 따라 싱크-앤-플로우트법 (sink-and-float method) (측정 온도 : 23℃)으로 측정한 수치이다.
본 발명 (IV)의 플라스틱 렌즈용 조성물을 하기에 기술한다. 본 발명 (IV)는 추가로 자외선 흡수제 및/또는 광안정제를 플라스틱 렌즈용 조성물 중 총 경화성 성분 100 중량부 당 0.01 내지 2 중량부의 양으로 포함하는, 본 발명 (I), (II) 또는 (III)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이다.
본 발명 (IV)의 플라스틱 렌즈용 조성물에서, 자외선 흡수제나 광안정제는 내후성을 향상시킬 목적으로 사용한다. 자외선 흡수제와 광안정제는, 이것이 조성물내에 혼합되는 한 특별히 제한하지 않으며 그 특정예로는 후술하는 화합물들이 있다. 그러나, 물론 본 발명을 이들 특정예로써 한정하는 것은 아니다.
본 발명에서 이용된 "자외선 흡수제"는 일광이나 형광의 빛 에너지를 흡수하여 그것을 열 에너지 등으로 전환시키는 물질을 의미한다. 본 발명에서 이용된 "광안정제"는 광산화 열화로 인해 발생된 래디칼을 가두는 물질을 의미한다.
자외선 흡수제의 특정예로는 다음 화학식 (26)으로 표시되는 벤조트리아졸 구조 유닛을 갖는 화합물이 있다:
Figure 112003008518920-pct00032
상기 언급한 구조 유닛을 갖는 화합물의 특정예는 다음 화학식 (27) 내지 (42)로 표시되는 화합물을 포함한다:
Figure 112003008518920-pct00033
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Figure 112003008518920-pct00035
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벤조페논-기재 자외선 흡수제의 특정한 구체예로는 화학식 (43) 내지 (47)로 표시되는 화합물이 있다:
Figure 112003008518920-pct00049
Figure 112003008518920-pct00050
Figure 112003008518920-pct00051
Figure 112003008518920-pct00052
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추가로, 다음 화학식 (48)의 트리아진-기재 자외선 흡수제 및 다음 화학식 (49)의 옥사닐리드-기재 자외선 흡수제를 또한 이용할 수 있다.
Figure 112003008518920-pct00054
Figure 112003008518920-pct00055
광안정제의 특정예로는 다음 화학식 (50) 내지 (56), (58), (60) 및 (62) 내지 (65)로 표시되는 방해된 아민-기재 광안정제(이후 단순히 "HALS"라 언급함)가 있다.
Figure 112003008518920-pct00056
Figure 112003008518920-pct00057
Figure 112003008518920-pct00058
Figure 112003008518920-pct00059
Figure 112003008518920-pct00060
Figure 112003008518920-pct00061
Figure 112003008518920-pct00062
식 중, R14, R15, R16 및 R17은 각각 -H 또는
Figure 112003008518920-pct00063
이고, R14, R15, R16 및 R17 모두가 수소인 경우는 제외된다.
Figure 112003008518920-pct00064
식 중, R은 다음 화학식 (59)로 표시되는 유기 잔기이다.
Figure 112003008518920-pct00065
Figure 112003008518920-pct00066
식 중, R은 화학식 (61)로 표시되는 유기 잔기이다.
Figure 112003008518920-pct00067
Figure 112003008518920-pct00068
Figure 112003008518920-pct00069
Figure 112003008518920-pct00070
Figure 112003008518920-pct00071
자외선 흡수제나 광안정제 첨가시, 비-첨가계와 비교하여 확실히 우수한 경화에 이를 수 있으나, 화합물에 따라 경화 도중 착색이 일어난다.
이들 자외선 흡수제와 광안정제 중에서도, 경화물의 내후성을 개선시키는 효과 및 본 발명 (V)의 플라스틱 렌즈용 조성물을 경화시키는 시점의 착색 정도를 고려할 때, 벤조트리아졸-기재 자외선 흡수제가 바람직하다.
특히, 화학식 (28) 내지 (32), (34), (38), (41) 및 (41)과 같이 분자내에 방해된 페놀 구조를 갖는 것들과, 화학식 (42)와 같이 중합가능한 불포화기를 갖는 것들이 보다 바람직하다.
자외선 흡수제 또는 광안정제를 개별적으로나 공동으로 이용할 수 있고, 또는 한가지 이상의 자외선 흡수제와 광안정제를 하나 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
자외선 흡수제나 광안정제는 총 경화성 성분울 기초로, 0.001 내지 2 중량%, 보다 바람직하게는 0.05 내지 1.5 중량%의 양으로 사용하는 것이 바람직하다. 첨가량이 0.05 중량% 이하가 되면, 열화 억제 효과가 충분히 발휘되지 않을 것이고, 또한 2 중량%를 초과하여 사용하는 것은 경화 도중 착색이나 수익성의 관점에서 바람직하지 않다.
본 발명 (V)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 대해 후술한다. 본 발명 (V)는, 플라스틱 렌즈용 조성물의 총 경화성 성분 100 중량부 당 0.01 내지 5 중량부의 항산화제를 추가로 포함하는, 본 발명 (I), (II), (III) 또는 (IV)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이다.
사용가능한 항산화제의 구체예로는 페놀-기재 항산화제, 포스파이트-기재 항산화제 및 티오에테르-기재 항산화제가 있다. 별개의 시스템에서 이들 항산화제를 개별적으로 이용하거나, 동일한 시스템에서 둘 이상의 항산화제를 혼합하여 이용하거나, 별개의 시스템에서 둘 이상의 항산화제를 혼합하여 이용할 수 있다.
페놀-기재 항산화제의 특정예로는 다음 화합물들이 있다:
Figure 112003008518920-pct00072
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Figure 112003008518920-pct00081
포스파이트-기재 항산화제의 특정예로는 다음 화합물들이 있다.
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Figure 112003008518920-pct00083
Figure 112003008518920-pct00084
Figure 112003008518920-pct00085
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Figure 112003008518920-pct00087
Figure 112003008518920-pct00088
Figure 112003008518920-pct00089
Figure 112003008518920-pct00090
Figure 112003008518920-pct00091
Figure 112003008518920-pct00092
식 중, R은 C12 내지 C15의 알킬기이다.
Figure 112003008518920-pct00093
티오에테르-기재 항산화제의 특정예로는 다음 화합물들이 있다.
Figure 112003008518920-pct00094
식 중, R은 C12 내지 C15의 알킬기이다.
Figure 112003008518920-pct00095
식 중, R은 C12 내지 C15의 알킬기이다.
Figure 112003008518920-pct00096
Figure 112003008518920-pct00097
Figure 112003008518920-pct00098
Figure 112003008518920-pct00099
이들 항산화제 중에서도, 항산화제가 착색 및 경화 억제를 초래하지 않는 것이 바람직하다는 점을 고려할 때, 포스파이트-기재 항산화제가 바람직하고, 예컨대 화학식 (79) 내지 (84), (86) 및 (87)과 같이, 아릴옥시기 및 알콕시기나 알케닐옥시기 양자 모두가 동일한 인 원자에 결합되어 있는 포스파이트-기재 항산화제가 보다 바람직하다.
항산화제를 자외선 흡수제 또는 광안정제와 함께 사용할 수 있다.
항산화제의 사용량은 총 경화성 성분을 기초로 0.01 내지 5 중량%, 0.1 내지 3 중량%인 것이 바람직하다. 첨가량이 0.01 중량% 미만이 되면, 열화를 억제하는 효과가 충분히 발휘되지 않고, 또한 항산화제의 사용량이 5 중량%를 초과하면 수익성의 관점에서 불리할 수 있다.
본 발명의 플라스틱 렌즈용 조성물은 2,5-비스[5-tert-부틸벤즈옥사졸릴(2)]과 같은 형광성 발광제를 함유할 수 있다.
본 발명 (VI)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 대해 후술한다. 본 발명 (VI)는 플라스틱 렌즈용 조성물 중 총 경화성 성분 100 중량부 당 0.1 내지 10 중량부의 양으로 적어도 1종 이상의 래디칼 중합 개시제를 추가로 포함하는, 본 발명 (I), (II), (III), (IV) 또는 (V)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 관한 것이다.
본 발명 (V)의 플라스틱 렌즈용 조성물은 경화제로서 래디칼 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명 (VI)의 플라스틱 렌즈용 조성물에 첨가될 수 있는 래디칼 중합 개시제는 구체적으로 제한되지 않으며 조성물을 경화시켜 얻어진 플라스틱 렌즈의 광학 특성과 같은 물리적 수치에 역효과를 주지 않는 한 공지의 래디칼 중합 개시제를 이용할 수 있다.
본 발명에서 사용된 래디칼 중합 개시제는, 그러나, 경화되는 조성물중에 존재하는 그밖의 성분에 가용성인 동시에, 30 내지 120℃에서 자유 래디칼을 발생시키는 것이 바람직하다. 첨가가능한 래디칼 중합 개시제의 특정예로는 디이소프로필퍼옥시 디카르보네이트, 디시클로헥실퍼옥시 디카르보네이트, 디-n-프로필퍼옥시 디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시 디카르보네이트, 및 tert-부틸 퍼벤조에이트가 있으나, 본 발명을 거기에 제한하는 것은 아니다. 경화성의 관점에서, 다음 화학식 (94)로 표시되는 구조를 갖는 래디칼 중합 개시제가 바람직하다.
Figure 112003008518920-pct00100
식 중, R10과 R11은 각각 독립적으로 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 알킬기, 치환된 알킬기, 페닐기 및 치환된 페닐기로 구성된 군으로부터 선택되는 작용기이다.
화학식 (94)로 표시되는 래디칼 중합 개시제의 특정예로는 디-n-프로필퍼옥시 디카르보네이트, 디이소프로필퍼옥시 디카르보네이트, 비스(4-tert-부틸시클로헥실)퍼옥시 디카르보네이트, 디-2-에톡시-에틸퍼옥시 디카르보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시 디카르보네이트, 디-3-메톡시부틸퍼옥시 디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시 디카르보네이트 및 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시 디카르보네이트가 있다.
이 중에서도, 디-n-프로필퍼옥시 디카르보네이트, 디이소프로필퍼옥시 디카르보네이트, 디-2-에톡시-에틸퍼옥시 디카르보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시 디카르보네이트 및 디(3-메틸-3-메톡시부틸)퍼옥시 디카르보네이트가 바람직하고, 디이소프로필퍼옥시 디카르보네이트가 보다 바람직하다.
래디칼 중합 개시제의 첨가량은 본 발명 (I), (II), (III), (IV) 또는 (V)의 플라스틱 렌즈용 조성물중에 함유된 총 경화성 성분 100 중량부 당 0.1 내지 10 중량부, 바람직하게는 1 내지 5 중량부이다. 첨가량이 0.1 중량부 미만이면 조성물의 경화가 충분히 진행되지 않을 수 있다. 또한, 10 중량부를 초과하여 첨가하는 것은 수익성의 점에서 바람직하지 않다.
조성물의 여과성(즉, 여과 속도)과 주형의 작업성(즉, 주형으로의 유동성 및 충진속도)을 고려할 때, 25℃에서 본 발명 (I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 플라스틱 렌즈용 조성물의 점도는 대개 500 mPa·s 이하, 바람직하게는 400 mPa·s 이하, 더욱 바람직하게는 300 mPa·s 이하가 될 것이다.
여기서 이용된 "점도"는 회전식 점도계에 의해 측정된 수치이고, 회전식 점도계에 대한 상세는 Iwanami Rikagaku Jiten, Dai 3-Pan (Encyclopedia of Physics and Chemistry, 3rd Ed.), 3rd ed., 8th imp.(1977년 6월 1일)에 기술되어 있다.
본 발명 (I), (II), (III), (IV), (V) 또는 (VI)의 플라스틱 렌즈용 조성물은 보통, 착색제(예컨대, 염료, 안료) 및 이형제와 같이, 플라스틱 렌즈의 성능을 향상시키는데 이용되는 첨가제를 함유할 수 있다.
착색제의 구체예는 안트라퀴논형, 아조형, 카르보늄형, 퀴놀린형, 퀴논이민형, 인디고이드형 및 프탈로시아닌형과 같은 유기 안료; 아조 염료 및 황 염료와 같은 유기 염료; 및 티타늄 옐로, 옐로 철 옥사이드, 아연 옐로, 크롬 오렌지, 몰리브덴 레드, 코발트 바이올렛, 코발트 블루, 코발트 그린, 크롬 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 아연 술파이드 및 카본 블랙과 같은 무기 안료를 포함한다.
이형제의 구체예로는 스테아르산, 부틸 스테아레이트, 아연 스테아레이트, 스테아르산 아미드, 불소-함유 화합물 및 실리콘 화합물이 있다 .
착색제(예컨대, 염료, 안료) 및 이형제와 같은, 첨가되는 첨가제의 총량은 본 발명의 플라스틱 렌즈용 수지 조성물중에 함유된 총 경화성 성분을 기초로 1 중량% 이하인 것이 바람직하다.
본 발명 (VII)에 대해 후술한다. 본 발명 (VII)은 본 발명 (I) 내지 (VI) 중 어느 하나에 따른 플라스틱 렌즈용 조성물을 경화시켜 얻어진 플라스틱 렌즈에 관한 것이다.
본 발명 (VII)의 플라스틱 렌즈는 25℃에서 1.58 이상, 바람직하게는 1.585 이상의 굴절률(nD)를 가져야 한다. 25℃에서 경화물의 굴절률(nD)이 1.58 미만이 되면, 목적하는 고굴절률의 렌즈를 얻을 수 없다.
추가로, 본 발명 (VII)의 플라스틱 렌즈는 23℃에서 1.40 이하, 바람직하게는 1.39 이하의 비중을 가져야 한다. 이 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물의 비중이 23℃에서 1.40을 초과하면 목적하는 경량의 플라스틱 렌즈를 얻을 수 없다.
본 발명 (VIII)을 후술한다. 본 발명 (VIII)은 25℃에서 굴절률이 1.58 이상이고, 23℃에서 비중이 1.40 이하이며, 원소 분석에 의한 탄소 농도가 50.0 내지 70.0 중량%이고 원소 분석에 의한 브롬 농도가 9.0 내지 15.0 중량%인 플라스틱 렌즈에 관한 것이다.
25℃에서 본 발명 (VIII)의 플라스틱 렌즈의 굴절률(nD)은 본 발명 (VII)의 플라스틱 렌즈와 유사하게, 1.58 이상, 바람직하게는 1.585 이상이어야 한다. 25℃ 에서 경화물의 굴절률(nD)이 1.58 미만이 되면, 목적하는 고굴절률의 렌즈를 얻을 수 없다.
추가로, 본 발명 (VII)의 플라스틱 렌즈와 유사하게, 23℃에서 본 발명 (VIII)의 플라스틱 렌즈의 비중은 1.40 이하, 바람직하게는 1.39 이하가 되어야 한다. 만약 23℃에서 경화물의 비중이 1.40을 초과하면, 목적하는 경량의 플라스틱 렌즈를 얻을 수 없다.
게다가, 본 발명 (VIII)의 플라스틱 렌즈를 구성하는 경화물은 원소 분석에 의한 탄소 농도가 50.0 내지 70.0 중량% 범위이고 원소분석에 의한 브롬 농도가 9.0 내지 15.0 중량% 범위이다.
원소 분석에 의한 탄소 농도가 50.0 중량% 미만이 되면, 경화물의 비중을 증가시키는 브롬 등의 다른 원소의 비율이 상대적으로 증가하므로 경화물의 비중이 높아지게 된다. 원소 분석에 의한 탄소 농도가 70.0 중량% 이상이 되면, 경화물의 굴절률이 낮아지거나 경화물의 압베수가 지나치게 낮아진다. 바람직하게는, 원소 분석에 의한 탄소 농도는 52.0 내지 68.0 중량%이고, 특히 55.0 내지 65.0 중량%이다.
원소 분석에 의한 브롬 농도가 9.0 중량% 미만이면, 경화물의 굴절률이 낮아지거나 경화물의 압베수가 지나치게 낮아지게 된다. 원소 분석에 의한 브롬 농도가 15.0 중량% 이상이면, 경화물의 비중이 높아진다. 바람직하게는, 원소 분석에 의한 브롬 농도는 10.0 내지 14.0 중량%이고, 특히 10.5 내지 13.5 중량%이다.
원소 분석에 의한 탄소 농도와 브롬 농도는 각각, 50.0 내지 70.0 중량% 및 9.0 내지 15.0 중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 52.0 내지 68.0 중량% 및 10.0 내지 14.0 중량%, 특히 55.0 내지 65.0 중량% 및 10.5 내지 13.5 중량%이다.
본 발명 (IX)에 대해 후술한다. 본 발명 (IX)는, 본 발명 (I) 내지 (VI) 중 어느 하나에 따른 플라스틱 렌즈용 조성물을 경화시키는 것으로 이루어지는 플라스틱 렌즈의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에서, 플라스틱 렌즈용 조성물의 형성-가공은 주형 형성에 의해 적절히 수행된다. 보다 구체적으로, 조성물에 래디칼 중합 개시제를 첨가하고, 엘라스토머 개스켓 또는 스페이서로 고정된 주형으로 라인을 통해 조성물을 채운 다음 오븐 중에서 열-경화시키는 것을 포함하는 주형 방법을 이용할 수 있다.
여기서 주형으로서 사용된 재질은 금속 또는 유리이다. 일반적으로 플라스틱 렌즈용 주형은 주형-형성 이후 세정되어야 하며, 이러한 세정은 통상 강염기 또는 강산을 이용하여 수행된다. 금속과 달리 유리는 세정에 의한 변질이 거의 없고 용이하게 연마할 수 있어서 표면의 거침이 극히 감소하므로, 바람직하게 이용된다.
본 발명 (I) 내지 (VI) 중 어느 하나에 따른 플라스틱 렌즈용 조성물의 주형시 경화 온도는 약 30 내지 120℃, 바람직하게는 40 내지 100℃이다. 경화시의 수축이나 왜곡을 고려하여, 승온시키면서 점차로 경화를 진행하는 방법으로 경화 온도를 조절하는 것이 바람직하다. 경화 시간은 보통 0.5 내지 100 시간, 바람직하게는 3 내지 50 시간, 보다 바람직하게는 10 내지 30 시간일 것이다.
본 발명의 플라스틱 렌즈를 통상의 플라스틱 렌즈와 유사하게 염색하는 것이 가능하다. 본 발명의 플라스틱 렌즈를 염색하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 공지의 플라스틱 렌즈의 염색법이라면 어떠한 방법도 이용할 수 있다. 이 중에서도, 종래부터 일반적인 방법으로 알려진 침지 염색법이 바람직하다.
여기서 이용된 "침지 염색법"은, 분산 염료를 계면활성제와 함께 물에 분산시켜 염색액을 제조하고, 가열하에 이 염색액에 플라스틱 렌즈를 침지시켜 플라스틱 렌즈를 염색하는 방법을 의미한다.
플라스틱 렌즈의 염색법은 침지 염색법에 한정되지 않으며 다른 공지의 방법, 예를 들어 유기 안료를 승화시킴에 의해 플라스틱 렌즈를 염색하는 방법 (일본 심사 특허 공개 35-1384호 (JP-B-35-1384))이나 승화성 염료를 승화시켜 플라스틱 렌즈를 염색하는 방법 (일본 심사 특허 공개 56-159376호 (JP-B-56-159376) 및 1-277614 (JP-B-1-277614))을 이용할 수 있다. 조작이 간단하다는 점에서 침지 염색법이 가장 바람직하다.
도 1은 제조예 1에서 생산된 알릴 에스테르 화합물의 400MHz 1H-NMR 스펙트럼 챠트이다.
도 2는 제조예 1에서 생산된 알릴 에스테르 화합물의 FT-IR 스펙트럼 챠트이다.
이하 본 발명을 실시예에 의해 보다 상세히 설명하나, 본 발명이 거기에 제한되는 것으로 해석되어서는 안된다.
다양한 물리적 특성을 다음과 같이 측정하였다.
1. 굴절률(nD)과 압베수(υD)
9mm x 16mm x 4mm의 실험판을 제작하고, Atago K.K.에서 제조한 "Abbe Refractometer 1T"를 이용하여 25℃에서 굴절률(nD)과 압베수(υD)를 측정하였다. α-브로모나프탈렌을 접촉액으로 사용하였다.
2. 점도
비교예 2에서, 5.2㎖의 시료를 지정된 부착 용기에 담고, Tokyo Keiki Co., Ltd.에서 제조한 B-형 점도계(모델 B8U)에 의해, HH-1 로터를 이용하여 50rpm의 회전수로, 25℃에서 점도를 측정하였다.
실시예 1 내지 9 및 비교예 1에서, 300g의 시료를 300-㎖ 톨 비커(tall beaker)에 담고, Tokyo Keiki Co., Ltd.에서 제조한 B-형 점도계(모델 BH)에 의해, 1호 로터를 이용하여 20rpm의 회전수로, 25℃에서 점도를 측정하였다. 측정 온도는 25℃였다.
3. 바콜(Barcol) 경도
모델 934-1을 이용하여 JIS K 6911에 따라 바콜 경도를 측정하였다.
4. 경화물의 비중 측정
경화 후 JIS K 7112의 싱크-플로우트법(23℃)에 의해 경화물의 비중을 측정 하였다.
5. 경화물의 색채 평가
훈터의 균등지각색 공간(훈터의 랩(Lab)-공간)에서 Suga Shikenki K.K.에서 제조한 SM 컬러 컴퓨터(모델 SM-4)를 이용하여 두께 4mm인 경화물의 L 수치, a 수치 및 b 수치를 측정하였다. 여기서, L은 명도 지수이고 a와 b는 각각 지각색도 지수이다.
훈터의 균등지각색 공간에 대한 상세는, Tokyo University Shuppan Kai에 의해 출판된 Shin-Hen Shikisai Kagaku Handbook (Newly Compiled Handbook of Color Science), Item "Hunter no Kinto Chikaku Iro-Kukan (Uniform Sensory Color Space of Hunter)", 2nd imp., 137쪽에 기재되어 있다 (1980년 7월 31일).
제조예 1
증류장치가 달린 3 리터 3-목 플라스크에 1,477.6g(6.0mol)의 디알릴 이소프탈레이트, 632.0g(1.0mol)의 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)-3,5-디브로모-페닐]프로판 및 1.4776g(디알릴 이소프탈레이트의 0.1 중량%)의 디부틸틴 옥사이드를 채웠다. 이 시스템을 질소 기류하 180℃까지 가열시켜 생성되는 알릴 알코올을 증류시켰다. 약 81g의 알릴 알코올이 증류되었을 때, 반응계내 압력을 1.33kPa까지 감소시켜 알릴 알코올의 증류를 가속시켰다. 알릴 알코올의 이론량(116.2g)을 증류시킨 후, 추가로 1시간 동안 계를 가열한 다음 190℃, 0.13kPa에서 한시간 동안 유지시켰다. 이후, 반응기를 냉각시킨 결과, 1,993g의 알릴 에스테르 화합물을 얻었다 (이후 "샘플 A"라 언급함). 샘플 A의 400MHz 1H-NMR 스펙트럼(용매:CDCl3) 및 FT-IR 스펨트럼을 각각 도 1과 도 2에 표시한다.
기체 크로마토그래피(Shimadzu Kagaku Co., Ltd.사의 GC-14B, 수소염(炎) 이온화 검출기 사용 칼럼: OV-17 0.5m, 온도 조건: 160℃ 일정)에 의해 샘플 A를 분석한 결과, 55 중량%의 디알릴 이소프탈레이트를 함유하는 것을 발견하였다.
제조예 2
1,477.6g의 디알릴 이소프탈레이트 대신 1,477.6g의 디알릴 테레프탈레이트를 사용한 것 외에는 제조예 1과 동일한 방법에 따라, 1,993g의 알릴 에스테르 화합물을 얻었다 (이후 "샘플 B"라 언급함).
기체 크로마토그래피(Shimadzu Kagaku Co., Ltd.사의 GC-14B, 수소염(炎) 이온화 검출기 사용 칼럼: OV-17 0.5m, 온도 조건: 160℃ 일정)에 의해 샘플 B를 분석한 결과, 55 중량%의 디알릴 테레프탈레이트를 함유하는 것을 발견하였다.
제조예 3
증류장치가 달린 2 리터 3-목 플라스크에 738.8g(3.0mol)의 디알릴 이소프탈레이트, 632.0g(1.0mol)의 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)-3,5-디브로모-페닐]프로판 및 0.7388g(디알릴 이소프탈레이트의 0.1 중량%)의 디부틸틴 옥사이드를 채웠다. 이 시스템을 질소 기류하 180℃까지 가열시켜 생성되는 알릴 알코올을 증류시켰다. 약 81g의 알릴 알코올이 증류되었을 때, 반응계내 압력을 1.33kPa까지 감소시켜 알릴 알코올의 증류를 가속시켰다. 알릴 알코올의 이론량(116.2g)을 증류시킨 후, 추가로 1시간 동안 계를 가열한 다음 190℃, 0.13kPa에서 한시간 동안 유지시켰다. 이후, 반응기를 냉각시킨 결과, 1,254.6g의 알릴 에스테르 화합물을 얻었다 (이후 "샘플 C"라 언급함).
기체 크로마토그래피(Shimadzu Kagaku Co., Ltd.사의 GC-14B, 수소염(炎) 이온화 검출기 사용 칼럼: OV-17 0.5m, 온도 조건: 160℃ 일정)에 의해 샘플 C를 분석한 결과, 25 중량%의 디알릴 이소프탈레이트를 함유하는 것을 발견하였다.
제조예 4
증류장치가 달린 2 리터 3-목 플라스크에 1,477.6g(6.0mol)의 디알릴 이소프탈레이트, 589.9g(1.0mol)의 4,4'-비스(2-히드록시에톡시)-3,3',5,5'-테트라브로모디페닐 및 0.7388g(디알릴 이소프탈레이트의 0.05 중량%)의 디부틸틴 옥사이드를 채웠다. 이 시스템을 질소 기류하 180℃까지 가열시켜 생성되는 알릴 알코올을 증류시켰다. 약 81g의 알릴 알코올이 증류되었을 때, 반응계내 압력을 1.33kPa까지 감소시켜 알릴 알코올의 증류를 가속시켰다. 알릴 알코올의 이론량(116.2g)을 증류시킨 후, 추가로 1시간 동안 계를 가열한 다음 190℃, 0.13kPa에서 한시간 동안 유지시켰다. 이후, 반응기를 냉각시킨 결과, 1,951g의 알릴 에스테르 화합물을 얻었다 (이후 "샘플 D"라 언급함).
기체 크로마토그래피(Shimadzu Kagaku Co., Ltd.사의 GC-14B, 수소염(炎) 이온화 검출기 사용 칼럼: OV-17 0.5m, 온도 조건: 160℃ 일정)에 의해 샘플 D를 분석한 결과, 55 중량%의 디알릴 이소프탈레이트를 함유하는 것을 발견하였다.
제조예 5
증류장치가 달린 1 리터 3-목 플라스크에 1709.3g(6.94mol)의 디알릴 이소프탈레이트, 632.0g(1.0mol)의 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)-3,5-디브로모-페닐]프로판 및 1.4776g(디알릴 이소프탈레이트의 0.08644 중량%)의 디부틸틴 옥사이드를 채웠다. 이 시스템을 질소 기류하 160℃까지 가열시켜 생성되는 알릴 알코올을 증류시켰다. 약 81g의 알릴 알코올이 증류되었을 때, 반응계내 압력을 1.33kPa까지 감소시켜 알릴 알코올의 증류를 가속시켰다. 알릴 알코올의 이론량(116.2g)을 증류시킨 후, 추가로 1시간 동안 계를 가열한 다음 160℃, 0.13kPa에서 한시간 동안 유지시켰다. 이후, 반응기를 냉각시킨 결과, 2,225g의 알릴 에스테르 화합물을 얻었다 (이후 "샘플 E"라 언급함).
기체 크로마토그래피(Shimadzu Kagaku Co., Ltd.사의 GC-14B, 수소염(炎) 이온화 검출기 사용 칼럼: OV-17 0.5m, 온도 조건: 160℃ 일정)에 의해 샘플 E를 분석한 결과, 58 중량%의 디알릴 이소프탈레이트를 함유하는 것을 발견하였다.
제조예 6
증류장치가 달린 1 리터 3-목 플라스크에 492.5g(2.0mol)의 디알릴 테레프탈레이트, 632.0g(1.0mol)의 2,2-비스[4-(2-히드록시에톡시)-3,5-디브로모-페닐]프로판 및 0.7388g(디알릴 테레프탈레이트의 0.15 중량%)의 디부틸틴 옥사이드를 채웠다. 이 시스템을 질소 기류하 180℃까지 가열시켜 생성되는 알릴 알코올을 증류시켰다. 약 81g의 알릴 알코올이 증류되었을 때, 반응계내 압력을 1.33kPa까지 감소시켜 알릴 알코올의 증류를 가속시켰다. 알릴 알코올의 이론량(116.2g)을 증류시킨 후, 추가로 1시간 동안 계를 가열한 다음 190℃, 0.13kPa에서 한시간 동안 유지시켰다. 이후, 반응기를 냉각시킨 결과, 1,008g의 알릴 에스테르 화합물을 얻었다 (이후 "샘플 F"라 언급함).
기체 크로마토그래피(Shimadzu Kagaku Co., Ltd.사의 GC-14B, 수소염(炎) 이온화 검출기 사용 칼럼: OV-17 0.5m, 온도 조건: 160℃ 일정)에 의해 샘플 F를 분석한 결과, 16 중량%의 디알릴 테레프탈레이트를 함유하는 것을 발견하였다.
제조예 7
492.5g의 디알릴 테레프탈레이트 대신 492.5g의 디알릴 이소프탈레이트를 사용한 것 외에는 제조예 5와 동일한 방법에 따라, 1,008g의 알릴 에스테르 화합물을 얻었다 (이후 "샘플 G"라 언급함).
기체 크로마토그래피(Shimadzu Kagaku Co., Ltd.사의 GC-14B, 수소염(炎) 이온화 검출기 사용 칼럼: OV-17 0.5m, 온도 조건: 160℃ 일정)에 의해 샘플 G를 분석한 결과, 13 중량%의 디알릴 이소프탈레이트를 함유하는 것을 발견하였다.
실시예 1
표 1에서 볼 수 있듯이, 샘플 A로서 80.0 중량부의 알릴 에스테르 화합물, 16.0 중량부의 디알릴 이소프탈레이트, 4 중량부의 CR-39(PPG사) 및 3 중량부의 디이소프로필퍼옥시 디카르보네이트(IPP)를 섞고 교반과 함께 혼합시켜 완전히 균질한 용액 조성물을 제조하였다. 이 시점의 점도를 측정하였다. 그 후에, 감압가능한 데시케이터에 이 용액이 함유된 용기를 놓고 진공 펌프에 의해 약 15분간 감압시킴으로써 용액중의 기체를 탈기시켰다. 생성된 용액 조성물을 안경 플라스틱 렌즈용 글라스-제 주형 및 수지성 캐스켓으로 제작된 주형으로 기체가 섞이지 않도록 조심스럽게 주사기로 주입시킨 후, 오븐에서 40℃로 7시간 동안, 40 내지 60℃에서 10시간 동안, 60 내지 80℃에서 3시간 동안, 80℃에서 1시간 동안 및 85℃에서 2시간 동안의 승온 가열 프로그램에 따라 경화시켰다.
얻어진 렌즈의 굴절률, 압베수, 바콜 경도 및 23℃에서 비중을 측정하였다. 그 결과를 표 1에 표시하였다.
실시예 2 내지 6 및 비교에 1과 2
표 1에 표시된 배합에 따라 조성물을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 점도를 측정한 다음 경화시켰다. 얻어진 렌즈의 굴절률, 압베수, 바콜 경도 및 23℃에서 비중을 측정하였다. 그 결과를 표 1에 표시하였다. 비교에 1과 2는, 각각 JP-A-7-33831의 실시예 1과 2에 상응한다.
Figure 112003008518920-pct00101
실시예 7
표 2에서 볼 수 있듯이, 샘플 A로서 80.0 중량부의 알릴 에스테르 화합물, 16.0 중량부의 디알릴 이소프탈레이트, 4 중량부의 CR-39(PPG사) 및 0.08 중량부의 화학식 (38)의 자외선 흡수제, 0.08 중량부의 화학식 (48)의 자외선 흡수제 및 3 중량부의 디이소프로필퍼옥시 디카르보네이트(IPP)를 섞고 교반과 함께 혼합시켜 완전히 균질한 용액 조성물을 제조하였다. 이 시점의 점도를 측정하였다. 그 후에, 감압가능한 데시케이터에 이 용액이 함유된 용기를 놓고 진공 펌프에 의해 약 15분간 감압시킴으로써 용액중의 기체를 탈기시켰다. 생성된 용액 조성물을 안경 플라스틱 렌즈용 글라스-제 주형 및 수지성 캐스켓으로 제작된 주형으로 기체가 섞이지 않도록 조심스럽게 주사기로 주입시킨 후, 오븐에서 40℃로 7시간 동안, 40 내지 60℃에서 10시간 동안, 60 내지 80℃에서 3시간 동안, 80℃에서 1시간 동안 및 85℃에서 2시간 동안의 승온 가열 프로그램에 따라 경화시켰다.
얻어진 렌즈의 굴절률, 압베수, 바콜 경도, 23℃에서의 비중 및 훈터의 균등지각색 공간(훈터 랩-공간)에 관한 L 수치, a 수치 및 b 수치를 측정하였다. 그 결과를 표 2에 표시하였다.
실시예 8 내지 10
표 2에 표시된 배합에 따라 조성물을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 점도를 측정한 다음 경화시켰다. 얻어진 렌즈의 굴절률, 압베수, 바콜 경도 및 23℃에서 비중을 측정하였다. 그 결과를 표 2에 표시하였다.
Figure 112003008518920-pct00102
표 1과 2의 결과로부터 명백하듯이, 본 발명에 따라 알릴 에스테르를 함유하는 저-점도 조성물을 제공할 수 있고 이 조성물을 경화시켜 고굴절률 및 낮은 비중을 갖는 플라스틱 렌즈를 제조할 수 있다.
본 발명의 플라스틱 렌즈용 조성물은 종래의 (메쓰)알릴-기재 플라스틱 렌즈용 조성물과 비교하여 점도가 낮고, 이 조성물로부터 높은 굴절률과 낮은 비중을 갖는 경화물을 제조할 수 있다.
따라서, 종래의 폴리에틸렌 글리콜 비스(알릴 카르보네이트)수지와 동일한 경화 방법에 의해, 고굴절률을 갖고 비중이 낮은 플라스틱 렌즈를 생산하는 것이 가능하다.

Claims (15)

  1. 삭제
  2. 하기에 표시된 성분 (α)와 성분 (β)를 포함하는 조성물로서, 상기 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는 플라스틱 렌즈용 조성물:
    성분 (α): 다음 화학식 (1)로 표시되는 적어도 1종 이상의 작용기를 말단기로서 갖고 다음 화학식 (2)로 표시되는 작용기를 반복 단위로서 갖는, 총 경화성 성분을 기초로 10 내지 60 중량%의 화합물:
    화학식 1
    Figure 112005042151394-pct00105
    식 중, 각 R1은 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기이고, 각 A1은 독립적으로 디카르복실산 또는 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타내며,
    화학식 2
    Figure 112005042151394-pct00106
    식 중, 각 A2는 독립적으로 디카르복실산 또는 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기이고, 각 X는 독립적으로 유기 잔기이며, X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 함유하는 1종 이상의 유기 잔기를 나타내고, 단 X는, 에스테르 결합에 의해, 말단기로서 화학식 (1)의 작용기 및 반복 단위로서 화학식 (2)의 작용기를 갖는 분지된 구조를 가질 수 있다;
    성분 (β): 총 경화성 성분을 기초로 40 내지 90 중량%의, 다음 화학식 (3)과 (4)로 표시되는 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물:
    화학식 3
    Figure 112005042151394-pct00107
    식 중, R2와 R3은 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기이고,
    화학식 4
    Figure 112005042151394-pct00108
    식 중, R4와 R5는 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기를 나타낸다.
  3. 하기에 표시된 성분 (α), 성분 (β) 및 성분 (γ)를 포함하는 조성물로서, 상기 조성물을 경화시켜 얻어진 경화물은 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는 플라스틱 렌즈용 조성물:
    성분 (α): 총 경화성 성분을 기초로 10 내지 60 중량%의, 다음 화학식 (1)로 표시되는 적어도 1종 이상의 작용기를 말단기로서 갖고 다음 화학식 (2)로 표시되는 작용기를 반복 단위로서 갖는 화합물:
    화학식 1
    Figure 112005042151394-pct00109
    식 중, 각 R1은 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기이고, 각 A1은 독립적으로 디카르복실산 또는 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기를 나타내며,
    화학식 2
    Figure 112005042151394-pct00110
    식 중, 각 A2는 독립적으로 디카르복실산 또는 카르복실산 무수물에서 유래된 유기 잔기이고, 각 X는 독립적으로 유기 잔기이며, X들은 2개 이상의 히드록실기를 갖는 브롬-함유 화합물에서 유래된 유기 잔기를 필수 성분으로 함유하는 1종 이상의 유기 잔기를 나타내고, 단 X는, 에스테르 결합에 의해, 말단기로서 화학식 (1)의 작용기 및 반복 단위로서 화학식 (2)의 작용기를 갖는 분지된 구조를 가질 수 있다;
    성분 (β): 총 경화성 성분을 기초로 20 내지 90 중량%의, 다음 화학식 (3)과 (4)로 표시되는 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물:
    화학식 3
    Figure 112005042151394-pct00111
    식 중, R2와 R3은 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기이고,
    화학식 4
    Figure 112005042151394-pct00112
    식 중, R4와 R5는 각각 독립적으로 알릴기 또는 메탈릴기를 나타낸다;
    성분 (γ): 총 경화성 성분을 기초로 0 내지 20 중량%의, 디벤질 말리에이트, 디페닐 말리에이트, 디벤질 푸마레이트, 디페닐 푸마레이트, (메쓰)알릴 2-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 3-페닐벤조에이트, (메쓰)알릴 4-페닐벤조에이트, (메쓰) 알릴 α-나프토에이트, (메쓰)알릴 β-나프토에이트, (메쓰)알릴 o-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 m-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 p-클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,6-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 2,4-디클로로벤조에이트, (메쓰)알릴 o-브로모벤조에이트, (메쓰)알릴 m-브로모벤조에이트 및 (메쓰)알릴 p-브로모벤조에이트로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물임.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 브롬-함유 화합물은 다음 화학식 (9)와 (10)으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인 플라스틱 렌즈용 조성물:
    화학식 9
    Figure 112005042151394-pct00113
    식 중, 각 R6은 독립적으로 하기 화학식 (11), (12) 또는 (13)으로 표시되는 유기 작용기를 나타내고, 각 R7은 독립적으로 하기 화학식 (14) 내지 (16)의 군으로부터 선택되는 작용기이며, a와 b는 각각 독립적으로 0 또는 1 내지 10의 정수이고, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, Z6, Z7 및 Z8 중 적어도 하나가 브롬이면 Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, Z6, Z7 및 Z8은 각각 독립적으로 브롬, 염소 및 수소로 구성된 군으로부터 선택되는 치환기이며, Y는 하기 화학식 (17) 또는 (18)로 표시되는 유기 작용기를 나타낸다:
    화학식 10
    Figure 112005042151394-pct00114
    식 중, 각 R8은 독립적으로 하기 화학식 (19), (20) 또는 (21)로 표시되는 유기 작용기를 나타내고, 각 R9는 하기 화학식 (22) 내지 (24)의 군으로부터 선택되는 작용기이며, c와 d는 각각 독립적으로 0 또는 1 내지 10의 정수이고, Z9, Z10, Z11, Z12, Z13, Z14, Z15 및 Z16 중 적어도 하나가 브롬이면, Z9, Z10, Z11, Z12, Z13, Z14, Z15 및 Z16은 각각 독립적으로 브롬, 염소 및 수소로 구성된 군으로부터 선택되는 치환기이다:
    화학식 11
    Figure 112005042151394-pct00115
    화학식 12
    Figure 112005042151394-pct00116
    화학식 13
    Figure 112005042151394-pct00117
    화학식 14
    Figure 112005042151394-pct00118
    화학식 15
    Figure 112005042151394-pct00119
    화학식 16
    Figure 112005042151394-pct00120
    화학식 17
    Figure 112005042151394-pct00121
    화학식 18
    Figure 112005042151394-pct00122
    화학식 19
    Figure 112005042151394-pct00123
    화학식 20
    Figure 112005042151394-pct00124
    화학식 21
    Figure 112005042151394-pct00125
    화학식 22
    Figure 112005042151394-pct00126
    화학식 23
    Figure 112005042151394-pct00127
    화학식 24
    Figure 112005042151394-pct00128
  5. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 25℃에서 점도가 400mPa·s 미만인 플라스틱 렌즈용 조성물.
  6. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 플라스틱 렌즈용 조성물중의 총 경화성 성분 100 중량부에 대하여 0.01 내지 2 중량부의 양으로 1종 이상의 자외선 흡수제 및/또는 1종 이상의 광안정제를 추가로 함유하는 플라스틱 렌즈용 조성물.
  7. 제 6 항에 있어서, 1종 이상의 자외선 흡수제는 분자내에 다음 화학식 (26)으로 표시되는 부분을 갖는 화합물인 플라스틱 렌즈용 조성물:
    화학식 26
    Figure 112003008518920-pct00129
  8. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 플라스틱 렌즈용 조성물중의 총 경화성 성분 100 중량부에 대하여 0.01 내지 5 중량부의 양으로 1종 이상의 항산화제를 추가로 함유하는 플라스틱 렌즈용 조성물.
  9. 제 8 항에 있어서, 1종 이상의 항산화제는 포스파이트-기재 항산화제인 플라스틱 렌즈용 조성물.
  10. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 플라스틱 렌즈용 조성물중의 총 경화성 성분 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부의 양으로 1종 이상의 래디칼 중합 개시제를 추가로 함유하는 플라스틱 렌즈용 조성물.
  11. 제 10 항에 있어서, 1종 이상의 래디칼 중합 개시제는 다음 화학식 (94)로 표시되는 구조를 갖는 화합물인 플라스틱 렌즈용 조성물:
    화학식 94
    Figure 112003008518920-pct00130
    식 중, R10과 R11은 각각 독립적으로 탄소 원자 1 내지 10개의 알킬기, 치환된 알킬기, 페닐기 및 치환된 페닐기로 구성된 군으로부터 선택되는 작용기임.
  12. 제 2 항 또는 제 3 항에 따른 플라스틱 렌즈용 조성물을 경화시켜 얻어지는, 25℃에서 1.58 이상의 굴절률과 23℃에서 1.40 이하의 비중을 갖는 플라스틱 렌즈.
  13. 제 12 항에 있어서, 원소 분석에 의한 탄소 농도 50.0 내지 70.0 중량% 및 원소 분석에 의한 브롬 농도 9.0 내지 15.0 중량%를 갖는 플라스틱 렌즈.
  14. 제 2 항 또는 제 3 항에 따른 플라스틱 렌즈용 조성물을 경화시키는 것으로 이루어지는, 플라스틱 렌즈의 제조 방법.
  15. 제 14 항에 있어서, 플라스틱 렌즈용 조성물을 30 내지 120℃의 중합 온도에서 0.5 내지 100시간의 중합 시간 동안 주형 중합에 의해 경화시키는 방법.
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