KR100529389B1 - 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법 - Google Patents

반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법 Download PDF

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Abstract

1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 반도체 제조를 위한 세정장비의 운용 방법에 관한 것임.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명은, 반도체 제조를 위한 세정장비의 운용방법에서 세정공정을 진행할 카세트를 등록하는 전산작업을 카세트 제공 이후에 실시하므로써 세정공정의 정확한 공정시간을 제공하는 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 제공하고자 함.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은, 세정장비에 카세트를 제공하고, 상기 세정장비에 장비서버가 공정조건을 제공한다. 이어서, 상기 세정장비에서 공정을 진행하고, 전산으로 로트진행 시작을 입력하고, 상기 세정장비에서 공정이 완료된 후, 상기 세정장비로부터 카세트를 회수하는 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
본 발명은 반도체 제조공정의 세정장비의 운용에 이용됨.

Description

반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법{METHOD FOR OPERATING SCRUBBER USED IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR}
본 발명은 반도체 제조를 위한 세정장비의 운용 방법에 관한 것이다.
반도체 제조공정에서는 식각공정, 증착공정등 다양한 공정을 진행하면서 웨이퍼에 다수의 파티클(particle)이 발생하게 된다.
따라서, 이러한 파티클을 제거하기 위한 장비가 공정에서 사용되고 있다.
특히, 세정장비(scrubber)는 순수(順水 : De-ionized water)를 사용하여 파티클(paticle)을 제거하는 장비이다.
물리 기상 증착공정(PVD : Physical Vapor Deposition)을 통하여 산화막을 웨이퍼에 증착시킨 후 10분내에 세정공정을 진행해야 하며, 상기 세정공정이 끝나면 다시 산화막을 입히는 공정을 실시하고, 20분내에 세정공정을 진행해야 한다.
다음으로, 실리사이드(silicide)공정을 진행한 후 30분내에 세정공정을 진행해야하며, 이때에는, 세정장비가 사용되는 다수의 공정에 적용할 다양한 공정조건을 구비해야 한다.
상기한 바와같이, 세정공정을 진행하기 위한 정확한 공정시간을 제공하기 위하여 세정장비에서의 운용방법이 개발되어 사용되고 있다.
첨부된 도 1을 참조하여, 종래의 반도체 제조를 위한 세정장비 운용방법을 수행하기 위한 SECS(Semi Equipment Communications Standard) 메세지 흐름을 간략히 설명하면 다음과 같다.
먼저, 세정장비(100)와 장비서버(110) 상호간에 카세트 제공 요청 메세지(S4F65)와 카세트 제공 요청 응답 메세지(S4F66)를 수수하면, 작업자는 작업자 인터페이스 프로세스를 이용하여 세정공정을 진행할 카세트를 전산 등록한다(112).
다음으로, 작업자는 직접 세정장비에 카세트를 제공하고(114), 이를 확인한다(116).
이어서, 상기 세정장비(100)와 장비서버(110)가 카세트 제공 요청 메세지(S4F65)와 카세트 제공 요청 응답 메세지(S4F66)를 수수하면, 상기 장비서버(110)는 공정조건을 상기 세정장비(100)에 제공한다(118).
이후, 상기 세정장비(100)와 장비서버(110)가 공정 진행 요청 메세지(S2F27)와 공정 진행 요청 응답 메세지(S2F28)를 수수하면, 상기 세정장비(100)에 제공된 카세트가 공정을 진행한다(120).
상기 세정공정이 끝난 후, 상기 세정장비(100)와 장비서버(110)는 카세트 회수 요청 메세지(S4F65)와 카세트 회수 요청 응답 메세지(S4F66)를 수수한다.
그러나, 상기한 바와 같이 일련의 과정을 수행하는 종래의 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법은, 작업자가 전산 작업으로 세정공정을 진행할 카세트를 등록하고, 다시 생산라인으로 투입되어 세정장비에 카세트를 직접 제공하며, 다시 전산 작업으로 공정진행을 요청하게 되므로 상기한 세정공정의 정확한 공정시간을 제공하기가 어려운 문제가 있다.
또한, 세정장비가 사용되는 다수의 공정에 적용할 다양한 공정조건중 해당 공정에 적용되는 공정조건을 찾는데 많은 시간이 소요되는 또 다른 문제가 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명은, 세정공정을 진행할 카세트를 등록하는 전산작업을 카세트 제공 이후에 실시하므로써 세정공정의 정확한 공정시간을 제공하는 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 세정장비에 카세트를 제공하는 제 1단계; 상기 세정장비에 장비서버가 공정조건을 제공하는 제 2단계; 상기 세정장비에서 공정을 진행하고, 전산으로 로트진행 시작을 입력하는 제 3단계; 상기 세정장비로부터 카세트를 회수하는 제 4단계를 포함한다.
삭제
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 일실시예를 상세히 설명한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 제공하는 시스템은, 작업자의 명령을 입력받아 장비서버와 세정장비로 전송하기 위한 작업자 인터페이스 프로세스(200)와, 상기 작업자 인터페이스 프로세스로부터 명령을 수신하며 세정장비와 메세지를 수수하는 장비서버(210)와, 상기 장비서버와 메세지를 수수하고 상기 작업자 인퍼페이스 프로세스로부터 명령을 수신하는 세정장비(220)로 구성된다.
상기와 같이 구성되어 동작하는 반도체 제조를 위한 세정장비의 운용 방법을 도 3를 참조하여 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조를 위한 세정장비의 운용 방법을 수행하기 위한 처리 흐름도이다.
먼저, 세정장비(220)가 장비서버(210)에 카세트 제공 요청 메세지를 전송하면, 상기 장비서버(210)는 카세트 제공 요청 응답 메세지를 상기 세정장비(220)로 전송한다(S300).
다음으로, 작업자는 상기 세정장비(220)에 카세트를 제공하고, 이를 확인한다.
이어서, 상기 세정장비(220)가 상기 장비서버(210)로 카세트 제공 완료 메세지를 전송하면, 상기 장비서버(210)는 카세트 제공 완료 응답 메세지를 상기 세정장비(220)로 전송한다(S302).
이후, 상기 장비서버(210)는 공정조건을 상기 세정장비(220)에 제공한다(S304).
상기 S304단계 수행후, 상기 장비서버(210)는 공정진행 요청을 상기 세정장비(220)로 전송한다.
다음으로, 상기 장비서버(210)는 장비상태 요청 메세지를 세정장비(220)로 전송하면, 상기 세정장비(220)는 장비상태 보고 메세지를 장비서버(210)로 한다. 상기 장비서버(210)가 메세지를 수신함에 따라 세정장비(220)로 공정진행 메세지를 전송한다.
이어서, 상기 세정장비(220)에 제공된 카세트에 담긴 웨이퍼가 공정을 진행하게 되고, 작업자가 전산상에 로트 진행 시작을 요청한다(S306).
상기 세정장비(220)에서 공정이 완료된 후, 상기 세정장비(220)가 카세트 회수 요청 메세지를 상기 장비서버(210)로 전송하면, 장비서버(210)는 카세트 회수 요청 응답 메세지를 상기 세정장비(220)로 전송한다.
다음으로, 상기 장비서버(210)는 장비상태 요청 메세지를 상기 세정장비(220)로 전송하면, 세정장비(220)는 장비상태 보고 메세지를 상기 장비서버(210)로 전송한다.
마지막으로, 작업자가 상기 세정장비(220)로부터 직접 카세트를 회수한다(S308).
첨부된 도 4는 본 발명에 따른 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 수행하기 위한 메세지 흐름도이다.
그러면, 도 4를 참조하여 본 발명에 따른 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 수행하기 위한 SECS(Semi Equipment Communications Standard) 메세지 흐름을 설명한다.
먼저, 장비서버(210)가 카세트 제공 요청 메세지(S4F65)를 세정장비(220)로 전송하면, 상기 세정장비(220)는 카세트 제공 요청 응답 메세지(S4F66)를 상기 장비서버(210)로 전송한다.
다음으로, 작업자는 상기 세정장비(220)에 카세트를 제공하고(400), 상기 세정장비(220)에 카세트가 제공되었슴을 확인한다(402).
이어서, 상기 장비서버(210)와 세정장비(220)는 카세트 제공 완료 메세지(S4F69) 및 카세트 제공 완료 응답 메세지(S4F70)을 수수한다.
이후, 상기 장비서버(210)는 공정조건을 상기 세정장비(220)에 제공하고(404), 공정진행 요청(S2F27) 및 장비상태 요청 메세지(S1F5)를 전송한다.
상기 장비서버(210)로부터 장비상태 요청 메세지(S1F5)를 수신한 상기 세정장비(220)는 장비상태 보고 메세지(S1F6)를 상기 장비서버(210)에 전송한다.
다음으로, 상기 세정장비(220)는 공정진행 / 전산상에 로트진행 시작을 입력한다(406).
이어서, 상기 장비서버(210)와 세정장비(220)는 카세트 회수 요청 메세지(S4F65) 및 카세트 회수 요청 응답 메세지(S4F66)를 수수한다.
이후, 상기 장비서버(210)와 세정장비(220)는 장비상태 보고 요청 메세지 (S1F5) 및 장비상태 보고 메세지(S1F6)를 수수한다.
마지막으로, 작업자는 상기 세정장비(220)에서 카세트를 회수한다(408).
이상에서 설명한 본 발명은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니다.
상기와 같은 본 발명은, 반도체 제조를 위한 세정장비에서 공정을 진행할 카세트를 전산등록하기 전에 공정을 진행시키므로써 정확한 공정시간을 보장하여 궁극적으로는 전체 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 수행하기 위한 SECS 메세지 흐름도.
도 2는 본 발명이 적용되는 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 제공하는 시스템의 구성을 나타낸 블록 다이어그램.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 수행하기 위한 처리 흐름도.
도 4는 발명에 따른 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법을 수행하기 위한 SECS 메세지 흐름도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
200 : 작업자 인터페이스 프로세스 210 : 장비서버
220 : 세정장비

Claims (5)

  1. 세정장비에 카세트를 제공하는 제 1단계;
    상기 제 1단계 수행 후, 장비서버를 통하여 상기 세정장비에 공정조건을 제공하는 제 2단계;
    상기 제 2단계 수행 후, 상기 세정장비에서 공정을 진행하고, 전산으로 로트진행 시작을 입력하는 제 3단계;
    상기 제 3단계 수행 후, 상기 세정장비로부터 카세트를 회수하는 제 4단계
    를 포함하는 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1단계는,
    상기 세정장비가 장비서버에 카세트 제공 요청 메세지를 전송하는 제 5단계;
    상기 제 5단계 수행후, 상기 장비서버가 카세트 제공 요청 응답 메세지를 상기 세정장비로 전송하는 제 6단계;
    상기 제 6단계 수행후, 작업자가 상기 세정장비에 카세트를 제공하는 제 7단계;
    상기 제 7단계 수행후, 상기 세정장비가 상기 장비서버로 카세트 제공 완료 메세지를 전송하는 제 8단계; 및
    상기 제 8단계 수행후, 상기 장비서버가 카세트 제공 완료 응답 메세지를 상기 세정장비로 전송하는 제 9단계를 포함하는 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 제 3단계는,
    상기 장비서버가 공정진행 요청을 상기 세정장비로 전송하는 제 10단계;
    상기 제 10단계 수행후, 상기 장비서버가 장비상태 요청 메세지를 상기 세정장비로 전송하는 제 11단계;
    상기 제 11단계 수행후, 상기 세정장비가 장비상태 보고 메세지를 상기 장비서버로 전송하는 제 12단계;
    상기 제 12단계 수행후, 상기 세정장비가 상기 장비서버로 공정진행 메세지를 전송하는 제 13단계; 및
    상기 세정장비에서 제공된 카세트에 담긴 웨이퍼가 공정을 진행하고, 작업자가 전산상에 로트 진행 시작을 요청하는 제 14단계를 포함하는 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 제 4단계는,
    상기 세정장비가 카세트 회수 요청 메세지를 상기 장비서버로 전송하는 제 15단계;
    상기 제 15단계 수행후, 상기 장비서버가 카세트 회수 요청 응답 메세지를 상기 세정장비로 전송하는 제 16단계;
    상기 제 16단계 수행후, 상기 장비서버가 장비상태 요청 메세지를 상기 세정장비로 전송하는 제 17단계;
    상기 제 17단계 수행후, 상기 세정장비가 장비상태 보고 메세지를 상기 장비서버로 전송하는 제 18단계; 및
    작업자가 상기 세정장비로부터 직접 카세트를 회수하는 제 19단계를 포함하는 반도체 제조를 위한 세정장비 운용 방법.
  5. 삭제
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