JP2003520435A - Fdc半導体製造プロセスからトレースデータ報告を要求する方法 - Google Patents

Fdc半導体製造プロセスからトレースデータ報告を要求する方法

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Abstract

(57)【要約】 この発明は、そのさまざまな局面において、故障検出制御を用いて半導体製造プロセスでトレースデータ報告を動的に発生するための方法および装置である。この方法は、トレースデータ報告のための特定されたデータを含み、特定されたデータはトレースデータ報告のための、パラメータ、トリガおよび頻度のうち少なくとも1つを含み、この方法はさらに、故障検出コントローラ(250)から、報告発生器(260)に対するトレースデータ報告の要求を自動的に生成するステップを含み、報告は特定されたデータを含み、この方法はさらに、要求に応答してトレースデータ報告を作成するステップと、要求に基づき報告発生器(260)から作成されたトレースデータ報告を戻すステップとを含む。他の局面でこの発明は、この方法を行なうようプログラムされたコンピュータと、コンピュータによって実行されるとこの方法を行なう命令がコード化された、コンピュータ読取可能なプログラム記憶媒体とを含む。この装置は半導体製造処理システムであって、このシステムは、特定されたデータおよびトレースデータ報告のうち少なくとも1つを与えることができる製造ツール(110)と、故障検出制御を実現する故障検出コントローラ(250)とを含み、故障検出コントローラ(250)はトレースデータ報告への要求を自動的に発生することができ、要求は特定されたデータを含み、このシステムはさらに、特定されたデータおよびトレースデータ報告のうち少なくとも1つを製造ツール(110)から要求することができ、かつ、特定されたデータが製造ツール(110)から要求されると、トレースデータ報告を与えることができる、報告発生器(260)と、トレースデータ報告のために特定されたデータを受取るためのオペレータインターフェイス(230)とを含み、特定されたデータはトレースデータ報告のための、パラメータ、トリガおよび頻度の少なくとも1つを含み、オペレータインタフェースには、報告発生器(260)および製造ツール(110)のうち少なくとも1つからトレースデータ報告が戻され得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【技術分野】
この発明は、半導体デバイスの製造に関し、より特定的には、故障検出システ
ムでトレースデータ報告を発生する方法に関する。
【0002】
【背景技術】
半導体デバイスまたはマイクロチップは、或る基板材料のウェハから製造され
る。製造中に材料の層を加え、取除き、かつ/または処理することにより、デバ
イスを構成する集積電子回路がもたらされる。製造は本質的に、成層、パターニ
ング、ドーピングおよび熱処理として知られる4つの作業を含み、これらは特定
の製造プロセスに依存して何百もの異なるやり方で組合せることができる。たと
えば、ピーター・ヴァン・ザント(Peter Van Zant)の「マイクロチップの製造
−半導体処理への実用的な手引き(Microchip Fabrication A Practical Guide
to Semiconductor Processing)」(マグローヒル・カンパニーズ・インク(Mc
Graw-Hill Companies, Inc.)第3版1997年)(ISBN0−07−067
250−4)を参照。製造プロセスは一般的に、一連の製造ツールによる或る数
のウェハの処理を含む。各製造ツールは、4つの基本的な作業のうち1つ以上を
行なう。4つの基本的な作業を或る全体的なプロセスに従って行ない、最終的に
ウェハを生産しそこから半導体デバイスが得られる。
【0003】 製造プロセスの1つの重要な局面がプロセス制御である。特定的に、満足でき
るプロセスを達成するためには製造ツールおよび製造環境を制御しなければなら
ない。或る動作パラメータを監視し、望ましければツールの動作を変えることで
、プロセスを改良し、より多くのまたはより良いウェハをもたらすことができる
。伝統的なプロセス制御は、統計的工程管理(“SPC”)として知られるもの
であった。SPCは通常、プロセス上の2種類の問題を検出するだけである。1
つまたは2つのSPCデータポイントがSPC制御限界の近くまたはこれの外側
にくると、プロセスの振舞いまたは入来する材料における急激な変化がフラグで
報知される(flagged)。プロセス平均から1シグマを超えて離れた5点のうち
4点、または連続して8点がすべてプロセス平均の片側にあることを探すSPC
規則により、プロセスにおけるずれが検出される。SPCシステムは通常、自己
の規則の各々に関して修正処置を規定している。急激な変化は、問題が存在する
という表示を引出し、手作業による特定および分析を促す。
【0004】 この発明は、上記の問題の1つまたはすべての解決に向けられている。
【0005】
【発明の開示】
この発明は、そのさまざまな局面において、故障検出制御を用いて半導体製造
プロセスでトレースデータ報告を動的に発生するための方法および装置である。
【0006】 この方法はトレースデータ報告のためのデータを特定するステップを含み、特
定されたデータは、トレースデータ報告のための、パラメータ、トリガおよび頻
度のうち少なくとも1つを含み、この方法はさらに、報告発生器に対するトレー
スデータ報告の要求を故障検出コントローラから自動的に発生するステップを含
み、要求は特定されたデータを含み、この方法はさらに、要求に応答してトレー
スデータ報告を作成するステップと、要求に基づき報告発生器から作成されたト
レースデータ報告を戻すステップとを含む。
【0007】 他の局面においてこの発明は、この方法を行なうようプログラムされたコンピ
ュータと、コンピュータにより実行されるとこの方法を行なう命令でコード化さ
れたコンピュータ読取可能なプログラム記憶媒体とを含む。
【0008】 この装置は半導体製造処理システムであって、このシステムは、特定されたデ
ータおよびトレースデータ報告のうち少なくとも1つを与えることができる製造
ツールと、故障検出制御を実現する故障検出コントローラとを含み、この故障検
出コントローラは、トレースデータ報告への要求を自動的に発生することができ
、要求は特定されたデータを含み、このシステムはさらに、製造ツールから特定
されたデータおよびトレースデータ報告のうち少なくとも1つを要求することが
できかつ、特定されたデータが製造ツールから要求されると、トレースデータ報
告を与えることができる、報告発生器と、トレースデータ報告のために特定され
たデータを受取るオペレータインターフェイスとを含み、特定されたデータは、
トレースデータ報告のための、パラメータ、トリガおよび頻度のうち少なくとも
1つを含み、さらにオペレータインターフェイスには、報告発生器および製造ツ
ールのうち少なくとも1つからトレースデータ報告が戻され得る。
【0009】 この発明は、以下の説明および添付の図面を参照することにより理解され得る
。ここで同様の参照番号は同様の要素を表わす。
【0010】 この発明はさまざまな変形および代替形を受入れることができるが、これの具
体的な実施例を図面において例として示し、ここで詳細に説明する。しかしなが
ら、ここにおける具体的な実施例の記述は開示された特定の形へとこの発明を限
定するものと意図してはおらず、逆に、前掲の特許請求の範囲により規定された
この発明の精神および範囲内に属するすべての変形、均等物および代替物を包含
するよう意図している。
【0011】
【発明の実施の形態】
この発明の例示的な実施例を下に述べる。明瞭にするため、実際の実現例のす
べての特徴をこの明細書で記述することはない。当然のことながら、そのような
いかなる実際の実施例の開発においても、実現例ごとに異なるであろうシステム
関連およびビジネス関連の制約に従うことなどの、開発者の具体的な目標を達成
するためには、実現例に特有の数々の判断がなされなければならないことが認識
されるであろう。さらに、このような開発の努力は、複雑で時間のかかるもので
ありながら、この開示の利益を享受する当業者にとっては日常的な作業となるこ
とが認識されるであろう。
【0012】 まず図1および2を参照すると、この発明を特定の一実施例で実現する装置1
00が概念化されたブロック図で例示される。ウェハ105のロットが製造ツー
ル110により処理されているのが示される。4つのウェハ105を示すが、ウ
ェハ105のロット、すなわち「ウェハロット」は1から数千のいかなる実行可
能なウェハ数であってもよい。製造ツール110は、これに常駐するアプリケー
ションプログラム210に従い動作し、当該技術で公知の事実上いかなる種類の
製造ツールであってもよい。さまざまな代替実施例において、たとえば製造ツー
ル110は露光ツールまたは短時間熱処理(“RTP”)ツールであり得る。他
の実施例ではさらに他の種類の製造ツールを用いることができ、この発明は製造
ツール110の種類によって限定されない。
【0013】 製造ツール110は、ライン120を通じてコントローラ130とデータおよ
びコマンドのやりとりを行なう。ライン120は、当該技術で公知のいかなる好
適なバスプロトコルに従って動作してもよい。コントローラ130は、図1で示
す実施例において、デスクトップパーソナルコンピュータである。しかしこれは
この発明の実行に必須ではない。これに代わる実施例では、コントローラ130
を、たとえばワークステーション、ノートブックコンピュータ、またはメインフ
レームコンピュータでも実現することができる。実施例によっては、コントロー
ラ130を製造ツール110に埋込んでもよい。これらの実施例では、コントロ
ーラ130は、マイクロプロセッサまたはデジタルシグナルプロセッサなどのプ
ロセッサか、マイクロコントローラかであり得る。コントローラ130の実現で
の唯一の技術的要件は、これがここで説明する発明を実現するのに十分な計算能
力を有することである。
【0014】 コントローラ130は、この特定の実施例では、オペレータインターフェイス
230、故障検出コントローラ(“FDC”)250および報告発生器260に
よりプログラムされる。オペレータインターフェイス230は、グラフィカルユ
ーザインターフェイス(“GUI”)などのインターフェイスを実現し、これを
介して人間は装置100とインタラクションを行なうことができる。FDCコン
トローラ250は、当該技術で公知のFDCシステムを実現する。しかしながら
、この発明との関連では、FDCコントローラ250はさらに下で説明する追加
的な能力を含む。報告発生器260はアプリケーションプログラムであり、これ
はトレースデータ報告に必要なデータを特定する報告要求を生成し、これをライ
ン120を通じて製造ツール110へと送る。「トレースデータ報告」は、ツー
ルの動作中にパラメータのいくつかを報告し、こうしてプロセスエンジニアは動
作を監視することができる。何らかの所与の実施例に必要な特定のデータはいず
れも実現例に特有である。しかしながら、例示のデータは温度および圧力などの
動作パラメータを含み得る。報告要求はまた、たとえば次の1時間に15秒ごと
に等の、報告頻度および/または報告持続期間を特定してもよく、こうすれば動
作全体を通じて報告を反復的に発生することができる。いくつかの変形例では、
報告要求はさらに「トリガ」、すなわち、たとえば報告の作成をトリガし得る条
件を、特定してもよい。
【0015】 オペレータインターフェイス230、FDCコントローラ250および報告発
生器260はソフトウェアで実現される。従って、これらは各々複数の命令を含
み、これらは何らかの形のプログラム記憶媒体上にコード化され、コントローラ
130により実行されるとそこに記述されたタスクを行なう。命令は、この実施
例では、コントローラ130のハードディスク135上にコード化される。しか
しながら、コンピュータ読取可能ないかなるプログラム記憶媒体を用いてもよい
。媒体は、その性質上磁気媒体でも光学媒体でもよく、この発明は実現のこの局
面により限定されることはない。したがって代替的に、光ディスク140または
フロッピー(R)ディスク145上に命令をコード化してもよい。実際に、報告
発生器は、コントローラ130および製造ツール110が一部をなす製造フレー
ムワークのどこかに常駐していれば、実施例によってはコントローラ130に常
駐していなくてもよい。
【0016】 図1および2で例示した実施例では、コード化されたすべてのものを同じコン
ピュータつまりコンピュータ130、しかも同じプログラム記憶デバイスつまり
ハードディスク135上にあることを示していることに注目されたい。しかしな
がら、この発明はこれに限定されない。これに代わる実施例では、FDCコント
ローラ250および報告発生器260は、追加のコンピュータ間で分散され得る
。このような実施例の1つを下で論じる。或る変形例では、FDCコントローラ
250および/または報告発生器260は製造ツール110自体において、アプ
リケーションプログラム210と同じ記憶デバイス上に、第2の記憶デバイス(
図示せず)上に、または2つの追加の記憶デバイスにわたり、常駐してもよい。
【0017】 図3は、この発明の別の一局面に従い実行された方法300の1つの実施例を
例示する。明瞭にするために、およびこの発明の理解を促進するために、方法3
00を図1および2の装置100との関連で下に説明する。しかしながら、この
発明はこれに限定されず、さらに下で論じる図4および5の装置400などの他
の装置でこの方法を実行してもよい。
【0018】 図3の方法300は、この発明の1つの局面にすぎない。この発明はさらに、
方法300を行なうようプログラムされたコントローラ130か、または単に、
プログラムがコード化されるディスク135、140、145などのプログラム
記憶媒体かを含む。これらの局面のさらに他の変形および変更もまた、冒頭で請
求したこの発明の範囲および精神に含まれる。
【0019】 方法300は、ボックス310で述べるように、トレースデータ報告のための
データを特定することから始まり、特定されたデータは、トレースデータ報告の
ための、パラメータ、トリガおよび頻度のうち少なくとも1つを含む。典型的に
、データは、たとえば「温度が1500℃を一旦超えると、温度を0.5秒ごと
に報告」のように、パラメータ、トリガおよび頻度のすべてを含むことになる。
しかしながら、この開示の利益を享受する当業者が認識するように、報告の中に
、これらデータタイプの1つだけが所望される状況もあるだろう。
【0020】 方法300は次に、ボックス320で述べるように、故障検出コントローラか
ら報告発生器に対するトレースデータ報告の要求を自動的に発生し、ここで要求
は特定されたデータを含む。ここで用いられる「自動的に発生」とは、人手によ
る直接の介入を伴わないことを意味する。従来のやり方では、人間のオペレータ
がトレースデータ報告に含まれるべきデータを特定し、かつ要求を実際に発生お
よび発行しなければならない。こうして従来のやり方では、オペレータが報告を
オンザフライで発生させることができず、またトレースデータ報告に対して命令
の肯定応答を動的に行なうこともできない。
【0021】 次に方法300は、ボックス330で述べるように、要求に応答してトレース
データ報告を作成する。トレースデータ報告は、実現例に依存して、報告発生器
260か、製造ツール110のアプリケーションプログラム210かのいずれか
によって発生され得る。実施例によっては、報告発生器260は特定されたデー
タをアプリケーションプログラム210から要求することができ、特定されたデ
ータを製造ツール110から受取ると、トレースデータ報告を作成する。これに
代わる他の実施例では、報告発生器210は単に、特定されたデータを含むアプ
リケーションプログラム210から、規定されたトレースデータ報告を要求する
だけのこともある。これらの実施例では、トレースデータ報告は製造ツール11
0により発生されることになる。さらに他の実施例では、トレースデータ報告は
、予め定められた基準の適用に依存して、アプリケーションプログラム210か
、報告発生器260のいずれかに発生されてもよい。
【0022】 この特定の実施例において、方法300は最後に、ボックス340で述べるよ
うに、要求に応じかつこれに従い、作成されたトレースデータ報告を報告発生器
から戻す。典型的に、報告はオペレータインターフェイスでオペレータに戻され
るが、この発明はこれに限定されない。たとえば、報告をログで記録(logged)
し、後で検索するために記憶させてもよく、またはこれに代えて、或る離れた場
所(図示せず)で印刷して、オペレータインターフェイス230でデータを特定
したのとは別のオペレータがこれを検索するようにしてもよい。トレースデータ
報告は通常、トレースデータ報告を発生するのが報告発生器260かアプリケー
ションプログラム210かにかかわりなく、報告発生器260から戻されること
になる。
【0023】 この詳細な説明のいくつかの部分は、アルゴリズムと、コンピュータメモリ内
のデータビット上に行なわれる演算の記号表現とによって示される。これらアル
ゴリズム的記述および表現は、データ処理に関する当業者が他の当業者に自分の
仕事の実質を最も効果的に伝えるのに用いる手段である。アルゴリズムは、ここ
において、および一般的に、所望の結果へと導く自己一貫した一連のステップで
あると理解されている。これらのステップは、物理量の物理的操作を必要とする
ステップである。これら量は通常、記憶され、転送され、組合され、比較され、
および他の方法で操作され得る電気信号または磁気信号の形を取るが、これに限
られない。これらの信号をビット、値、要素、シンボル、キャラクタ、項または
数などと呼ぶことが、主に慣用であるため、しばしば便利であるとわかっている
【0024】 しかしながら、これらおよび類似の用語のすべては、適当な物理量と関連付け
られるべきであり、これら量に適用された単なる便宜的な標識にすぎないことを
銘記すべきである。別段の記載がなければ、以下の議論から明らかであるように
、この発明全体にわたり「処理」「計算」「算出」「判断」または「表示」など
の用語を利用する議論は、コンピュータシステムのレジスタおよびメモリ内の物
理(電子)量として示されるデータを、同様にコンピュータシステムメモリもし
くはレジスタまたは他の類似の情報記憶、伝送もしくは表示装置内の物理量とし
て示される他のデータへと操作および変形するコンピュータシステムまたは類似
の電子計算装置の、動作および処理のことを指すものであることが理解される。
【0025】 図4−6は、図1−3で示したこの発明の局面を含む、この発明の特定の一実
施例を例示する。装置400は、他の形では示さない高度プロセス制御フレーム
ワーク(Advanced Process Control Framework)(“APCFW”)システムの
一部を構成する。装置400は、この特定の実施例において図6の方法600を
実現するが、この発明はこれに限定されない。たとえば、装置400を用いて方
法600の変形例を実現してもよく、さらに方法600を装置400とは別の装
置で実行してもよい。したがって、明瞭にするために、およびこの発明の理解を
促進するために、方法600を装置400との関連で開示することとし、逆もま
た同じである。
【0026】 APCシステムは、ランツーラン制御と故障の検出/分類とを可能にする、交
換可能な、規格化されたソフトウェアコンポーネントからなる、分散型ソフトウ
ェアシステムを含む。これらコンポーネントはまた、或るアーキテクチャ規格も
実現する。より特定的に、APCシステムはSEMATECHのコンピュータ・
インテグレーテッド・マニュファクチャリング(Computer-Integrated Manufact
uring)(“CIM”)フレームワークのアーキテクチャをモデルとしている。
このアーキテクチャに関する情報は広く公表され利用可能である。たとえば、<
http://mel.nist.gov/cimf/>からダウンロードされる、NIST/SEMAT
ECHコンピュータ・インテグレーテッド・マニュファクチャリング・フレーム
ワークに関する公開ウェブページ(Computer-Integrated Manufacturing Framew
ork Public Webpage)を参照。この特定のアーキテクチャは、オブジェクト指向
プログラミングを利用するソフトウェアに大きく依存し、分散型オブジェクトシ
ステムのためのオブジェクト・マネージメント・グループ(Object Management
Group)(“OMG”)の共通オブジェクト・リクエスト・ブローカ・アーキテ
クチャ(Common Object Request Broker Architecture)(“CORBA”)お
よびCORBA_Services仕様を採用する。OMG CORBAアーキテクチャ
に関する情報および仕様書もまた容易に公に利用可能である。たとえば<http:/
/www.omg.org/>からダウンロードされるOMGウェブページを参照。
【0027】 図4−5はそれぞれ、APCシステムの制御内の装置400の、概念化された
構造ブロック図および機能ブロック図である。一連の処理ステップが製造ツール
410によりウェハ405のロットに対して行なわれる。この実施例で製造ツー
ルは、熱処理動作、特にイオン注入後アニールなどの短時間熱処理(“RTP”
)動作を行ない、半導体製造装置通信スタンダード(Semiconductor Equipment
Communication Standard)(“SECS”)を用いて包括的装置モデル(Genera
l Equipment Model)(“GEM”)報告を発生する。装置400がAPCシス
テムの一部をなすため、ウェハ405はランツーランで処理される。こうして、
ランレベルの測定または平均に基づき、プロセス調整を行なってこれをランの期
間中一定に保つ。「ラン」は、ロット、ロットのバッチ、または個々のウェハ4
05であってもよい。APCシステム内での製造ツール410の全体的な動作は
、APCホストコンピュータ440に常駐のAPCシステムマネージャ540に
より指示(direct)される。
【0028】 次に図4および5の両方を参照すると、APCシステムは、より特定的に、処
理モジュールのネットワークを含む。これら処理モジュールはしばしば「統合コ
ンポーネント」といわれる。統合コンポーネントは、既存の工場システムへのイ
ンターフェイスとなり、APCプランを実行する能力を提供する。「APCプラ
ン」は、下でより詳しく論じるように、何か特定のタスクを行なうために呼出さ
れるアプリケーションプログラムである。たとえばAPCシステムマネージャ5
40、装置インターフェイス510、センサインターフェイス520、マシンイ
ンターフェイス535およびアプリケーションインターフェイス545などの、
統合コンポーネントの各々は、この特定の実施例では、ソフトウェアにより実現
される。これらは、当該技術で公知のオブジェクト指向プログラミング技術を用
いて、C++でプログラムされる。
【0029】 統合コンポーネントは以下のものを含むが、これに必ずしも限定されない。 APCホストコンピュータ440に常駐のAPCシステムマネージャ540
、 APCホストコンピュータ440に常駐のプラン実行マネージャ542、 この実施例において図1−2の実施例のアプリケーションプログラム210
と同じ機能を果たし、かつ報告発生器560を含む、ワークステーション430
に常駐の装置インターフェイス510、 製造ツール410に常駐のセンサインターフェイス515およびアプリケー
ションインターフェイス545、 ワークステーション430に常駐するマシンインターフェイス535および
オペレータインターフェイス530。 さまざまなソフトウェアコンポーネントの配置が図1−2の実施例と異なること
に注目されたい。配置は他の代替実施例でも異なり得る。APCFWの1つの利
点はそのモジュール構造であり、これによりソフトウェアコンポーネントの可搬
性が得られる。したがって、この発明は、個々のソフトウェアコンポーネントが
どのコンピュータに常駐するかによって限定されない。
【0030】 この実施例では、APCシステムマネージャ540は以下のものを提供する。 APCフレームワークのために開発されたすべてのサーバのための管理、構
成、イベントおよび状態に関するサービス、 APCシステムにおけるコンポーネントの定義、グループ化、インストール
および管理、 診断および監視を目的とする、アクティビティとトレース情報とを捕獲する
集中型サービス、 セットアップ値、システム環境設定および従属オブジェクトとイベントチャ
ネルとのリストを含む、コンポーネント構成情報の集中型リポジトリ(この場合
はデータ記憶装置570)。 しかしながら別の実施例において、これらの機能は、たとえばベースマネージャ
、システムマネージャ、ロガーおよびレジストリなどの1つ以上のソフトウェア
コンポーネントへと分割され得る。
【0031】 この特定の実施例において、APCシステムはまたプラン実行マネージャ(Pl
an Execution Manager)(“PEM”、図示せず)542をも含み、これはAP
Cシステム402の動作の「振付け」を主な役目とするコンポーネントである。
これには、APCプランの解釈と、メインスクリプトおよびサブスクリプトの実
行と、イベントの命令によるイベントスクリプトの呼出とが含まれる。さまざま
なプラン、スクリプトおよびサブスクリプトが、さまざまな実現例で用いられ得
る。たとえばこの発明は、以下のプランを含むが、これに限定はされない。
【0032】 データ収集プラン−−PEMによって規定されるセンサインターフェイスお
よびマシンインターフェイスによって専用されるデータ構造であり、どのデータ
を特定の処理装置から収集すべきか、およびそのデータをどのようにPEMへと
報告すべきかを規定する。
【0033】 持続時間プラン−−トリガ条件と、トリガ(すなわち、それに対してアドオ
ンセンサの作用を引き起こす条件、たとえばデータ収集の開始、データ収集の中
止など)が起きた場合の遅延を規定する。
【0034】 報告プラン−−収集されたデータに対して何を行なうべきか、およびデータ
が利用可能であるという信号をいつ送るべきかを規定する。
【0035】 サンプリングプラン−−外部センサでデータを収集すべき頻度を規定する。
しかしながら、さまざまなプラン、スクリプトおよびサブスクリプトの数および
機能は、実現例に特有である。
【0036】 PEMは、ツール410などの所与の製造ツールに関して、ユーザ定義プロセ
ス制御プランの実行をすべての統合コンポーネント間で調和させる。PEMは、
命令されると、1つのプランとこれの関連スクリプトとを検索する。また、サブ
スクリプトに予備的処理を行ない、ルーチンをメインスクリプトおよびイベント
スクリプトに与える。さらに、プランで特定される、プランを実行するのに必要
な能力のリストを得、必要な能力を提供する適切な統合コンポーネントへと接続
する。
【0037】 次にPEMは、プランを実行する役割をプランエグゼキュータ(Plan Executo
r)(“PE”、図示せず)に委ねる。PEはプランを逐次に実行し、プランの
完了、またはプランの実行における誤りを、PEMに報告する。したがって、P
EMは実行されるすべてのプランの全体的な管理を役割とし、一方でPEは1つ
のプランのみを実行する役割を有する。PEはPEMによって作り出され、プラ
ンの寿命の間存在し、プランが完了または中止されたことを報告した後にPEM
によって破壊される。各PEはメインスクリプトおよび0以上のイベントスクリ
プトを実行する。PEMは、多数のプランエグゼキュータを介して、多数のプラ
ンを並行して開始させることができる。
【0038】 マシンインターフェイス535は、たとえばAPCシステムマネージャ540
などのAPCフレームワークと、装置インターフェイス510との間の隙間を埋
める。こうして、マシンインターフェイス535は、製造ツール410とAPC
フレームワークとの間でインターフェイスを取り、マシンセットアップ、起動、
監視およびデータ収集をサポートする。この特定の実施例では、マシンインター
フェイス535は主に、装置インターフェイス510の特定の通信とAPCフレ
ームワークのCORBA通信(下でさらに論じる)との間でデータ変換を行なう
。より特定的に、マシンインターフェイス535はコマンド、状態イベントおよ
び収集されたデータを、装置インターフェイス510から受取り、他のAPCコ
ンポーネントおよびイベントチャネルへと必要に応じて送る。次に、APCコン
ポーネントからの応答がマシンインターフェイス535により受取られ、装置イ
ンターフェイス510へとルーティングされる。マシンインターフェイス535
はまた、必要に応じメッセージおよびデータを再フォーマットおよび再構築する
。マシンインターフェイス535は、APCシステムマネージャ540内でのス
タートアップ/シャットダウン手順をサポートする。それはまたAPCデータコ
レクタとなり、装置インターフェイス510により収集されたデータをバッファ
リングし、かつ適当なデータ収集イベントを送り出す。
【0039】 センサインターフェイス515およびアプリケーションインターフェイス54
5は、製造ツール410の動作を監視するセンサ(図示せず)によって発生され
るデータを収集する。センサインターフェイス515は、適当なインターフェイ
ス環境を提供して、LabVIEW(R)または他のセンサ、バスベースのデータ獲得
ソフトウェアなどの、外部センサと通信を行なう。アプリケーションインターフ
ェイス545は、LabVIEW、Mathematica、ModelWare、MatLab、Simca4000、
およびExcelなどの制御プラグインアプリケーションを実行するのに適当なイン
ターフェイス環境を提供する。より特定的に、センサは相手先商標製造業者(“
OEM”)によって製造ツール410とともに供給されてもよいし、またはOE
Mからの購入後にインストールされる「アドオン」センサであってもよい。セン
サインターフェイス515は、アドオンセンサにより発生されたデータを収集し
、アプリケーションインターフェイス545は、OEMセンサにより発生された
データを収集する。これらセンサは、たとえば動作条件の圧力および温度に関す
るデータを発生し得る。プラグインアプリケーションは、センサからのデータを
収集し、これをアプリケーションインターフェイス545へ送る。マシンインタ
ーフェイス535、アプリケーションインターフェイス545およびセンサイン
ターフェイス515は、用いられるべきデータを収集するために一連の共通の機
能を用いる。装置インターフェイス510は、アプリケーションインターフェイ
ス545およびセンサインターフェイス515によって収集されたそれぞれのデ
ータを集める。次に装置インターフェイス510は、ライン420を通じて、ワ
ークステーション430に常駐のマシンインターフェイス535に、集められた
データを送る。
【0040】 オペレータインターフェイス530は、グラフィカルユーザインターフェイス
(“GUI”)を介して、ウェハ製造技術者(“WFT”)とAPCシステムと
の間の通信を容易にする。GUI(図示せず)は、Windows(R)またはLinuxベ
ースの動作システムであり得る。しかしこれはこの発明の実行に必須ではない。
実際、別の実施例によっては、GUIを用いないことすらあり、ディスクオペレ
ーティングシステム(“DOS”)ベースのオペレーティングシステムによって
通信を行なってもよい。オペレータインターフェイス530は、ダイアログボッ
クスを表示することにより、情報を提供し、ガイダンスを要求し、かつ追加のデ
ータを収集する。CORBAインターフェイスを介して、オペレータインターフ
ェイス530コンポーネントにより、WFTはさまざまなポップアップダイアロ
グをどんな数のディスプレイグループ上にも同時に表示することができる。オペ
レータインターフェイス530はまた一群のディスプレイを維持し、ここにポッ
プアップが現われ得る。オペレータインターフェイス530はまた告知(announ
cement)動作、すなわちメッセージと「OK」ボタンとの単純なポップアップを
表示する一方向メッセージをも提供し得る。
【0041】 協働するソフトウェアコンポーネントは、プロセス制御プラン/ストラテジー
を管理し、処理装置、計測ツールおよびアドオンセンサからデータを収集し、こ
の情報でさまざまなプロセス制御アプリケーション/アルゴリズムを呼出し、か
つ適宜プロセスモデルを更新しレシピパラメータを修正/ダウンロードする。コ
ンポーネントは、CORBAインターフェイス定義言語(Interface Definition
Language)(“IDL”)インターフェイスを用いて互いに通信を行ない、そ
のインタラクションをサポートするのに一組の共通のサービスに依存する。一連
の標準的な分散オブジェクトサービスがオブジェクト・マネージメント・グルー
プ(“OMG”)によって規定されている。これらのサービスには以下のものが
ある。
【0042】 CORBA−−すべての直接のコンポーネント間のインタラクションに用い
られる規格ベースの通信。標準インターフェイスはオブジェクト指向の、遠隔呼
出通信モデルに従い規定され得る。これらのインターフェイスおよびすべてのA
PC通信はIDLを用いて規定される。コンポーネントは、互いのインターフェ
イスで動作を呼出すことにより通信する。データは、動作パラメータおよび戻り
値として、コンポーネント間でやり取りされる。
【0043】 OMGイベントサービス(Event Service)−−コンポーネント間の非同期
通信をサポートする。APCオブジェクトの多くは、状態を変える際にイベント
を送り出す。これらのイベントは関心を持ったイベント加入者により受信される
。APCシステム内のイベント使用例には、通信コンポーネント状態(誤り状態
を含む)、故障検出および分類ソフトウェアにより検出された故障アラームの通
知、およびマシン状態と収集されたデータとの報告が含まれるが、これに限定は
されない。
【0044】 OMGトレーディングサービス(Trading Services)は、1つのコンポーネ
ントが、インタラクションを行なうべき別のコンポーネントを見つけることを可
能にする。1つのコンポーネントがインストールされると、これのサービスの記
述(サービスオファー)がトレーディングサービスへとエクスポートされる。別
のコンポーネントは後で、或る基準を満たすサービスプロバイダのリストを要求
することができる。トレーディングサービスは要求されたサービスを提供するこ
とができる別のコンポーネントのリストを供給する。この能力をコンポーネント
のスタートアップ時に用いることにより、1つのコンポーネントがともにインタ
ラクションを行なわなければならない別のコンポーネントを見つけることを可能
にする。これはまた、1つのプラン実行コンポーネントがプランで特定された要
求された能力を提供する能力プロバイダ(Capability Provider)を見つける必
要がある際に、プランスタートアップ時に用いられる。 これらのサービスは当該技術で公知である。OMGのCORBA/IIOP仕様
書およびCORBAサービス仕様書は、当業者の間に広く普及しており、より詳
細な説明を提供している。
【0045】 要約すると、例示した特定の実施例でAPCシステムは工場規模のソフトウェ
アシステムであるが、これはこの発明の実行に必須ではない。この発明の教示す
る制御ストラテジーは、工場フロアにある事実上いかなる半導体製造ツールにも
適用され得る。実際、この発明を同じ工場または同じ製造プロセスにおける多数
の製造ツールに対して同時に用いてもよい。APCフレームワークは、遠隔アク
セスとプロセス性能の監視とを可能にする。さらに、APCフレームワークを利
用することにより、データ記憶をローカルドライブよりも便利で柔軟かつ安価に
することができる。しかしながら、別の実施例によっては、この発明をローカル
ドライブで用いてもよい。
【0046】 次に図6に移ると、図4−5の装置400で実現された図3の方法300の特
定の一実施例が例示される。方法600では、製造ツール410が初期化されて
おり、かつウェハ405を処理しているものと仮定する。
【0047】 この変形例では、APCシステムマネージャ540は第1のディレクティブを
発行して、製造ツール410に常駐のデータ収集ルーチン(図示せず)をセット
アップする。ディレクティブは、収集パラメータおよび報告パラメータを含み、
報告パラメータは、センサインターフェイス515でデータ収集ルーチンにより
保持される。APCシステムマネージャ540は、データ収集パラメータを含む
第2のディレクティブを、動的リンクライブラリ(Dynamically Linked Library
)(“DLL”)へと発行する。データ収集ルーチンは、DLLに周期的に照会
して第2のディレクティブの存在を判断し、かつデータ収集パラメータを検索す
る。第2のディレクティブを検出すると、データ収集ルーチンは第1および第2
のディレクティブにあるデータ収集パラメータに従い自己を構成する。次にデー
タは製造ツール410により収集され、DLLに渡されてセンサインターフェイ
ス515に伝えられる。次にデータはセンサインターフェイス515からAPC
システムマネージャ540へと報告される。
【0048】 装置400は、図1−2の装置100と同じく、故障検出および分類(“FD
C”)プロセス制御ストラテジーを採用する。しかしながら、APCプロセスで
のFDCプロセス制御ストラテジーでは、処理パラメータおよび材料パラメータ
を用いてプロセス上の問題を検出および報告する。FDCプロセス制御ストラテ
ジーでは、伝統的な統計的工程管理(“SPC”)のアプローチに従ってもよい
し、または、主成分分析(“PCA”)などのより高度な技術を用いてもよい。
SPCアプローチでは単一のパラメータにおける不都合なデータ傾向を特定し、
PCAでは相関するパラメータに基づき故障を特定する。SPCおよびPCAは
ともに当業者には周知である。バッチ故障検出およびリアルタイム故障検出がと
もに実行可能である。
【0049】 FDC制御では、公知のプロセス上のずれ(スパッタターゲットの減少、ポリ
シングパッドの磨耗など)を引起すプロセス上の要因は、理想化された数学モデ
ルに組込まれ、動的に調整された処理パラメータによって対処される。プロセス
測定値は下流のAPCモデルにフィードフォワードされ、こうして後のプロセス
で調整を行ない、目標を外れた材料を補償することができる。典型的な使用のシ
ナリオでは、データをツール410から収集し、理想化された数学的プロセスモ
デルを用いて分析する。この分析の結果を用いて、装置の故障がいつ発生したか
、またはいつ起こりそうかを検出することができる。故障分類プロセスまたはス
キームとともに用いれば、FDCプロセス制御ストラテジーは、故障を検出し、
ありそうな故障原因を示して素早い分析を支援することができる。
【0050】 したがってAPCシステムのFDC分析は、伝統的なSPCシステムに対して
いくつかの利点を有する。SPCアプローチを採用するFDC分析も、これらの
利点を有する。SPCでは通常、2種類のプロセス上の問題のみを検出する。1
つまたは2つのSPCデータポイントがSPC制御限界の近くまたはこれの外側
に来ると、プロセスの振舞いまたは入来する材料における急激な変化がフラグで
報知される。プロセス平均から1シグマを超えて離れた5点のうち4点、または
連続して8点がすべてプロセス平均の片側にあることを探すSPC規則により、
プロセスにおけるずれが検出される。SPCシステムは通常、自己の規則の各々
に関して修正処置を規定している。急激な変化は、問題が存在するという表示を
引出し、手作業による特定および分析を促す。
【0051】 他方、FDCを採用するAPCシステムでは、プロセスエンジニアはこれら修
正処置を即座のフィードバックまたはフィードフォワード応答に組込むことがで
きる。公知のプロセス上のずれ(スパッタターゲットの減少、ポリシングパッド
の磨耗など)を引起すプロセス上の要因は、APCモデルに組込まれ、動的に調
整された処理パラメータによって対処される。プロセス測定値は下流のAPCモ
デルへと送り込まれ、続くプロセスで調整を行ない目標を外れた材料を補償する
ことができる。APCは、SPCにとって代わるように設計されてはいない。む
しろ、SPCを解放してこれが本当に例外的な事象および原因の特定できないプ
ロセス上のずれに集中できるようにし、その一方でAPCは、これのプロセスモ
デルで規定された原因特定可能な振舞いに対して修正を行なう。そしてSPCは
、プロセスまたは材料の振舞いがいつAPCモデルにより制御される範囲を外れ
始めるかを特定する助けとなる。
【0052】 図6に戻ると、オペレータは、ワークステーション430にあるオペレータイ
ンターフェイス530(図5に示す)を通じて、トレースデータ報告のためのデ
ータを特定する、610。この特定の実施例では、オペレータは、データ記憶装
置570から故障検出コントローラ550を通じて、利用可能なパラメータのリ
ストを得ることができる、635。データ記憶装置570には、装置インターフ
ェイス510により、利用可能なパラメータが取込まれる(populated)645
。この取込は、下に記載のとおり、データ収集プランの実行を受けて発生し得る
【0053】 特定されたデータは故障検出コントローラ550へと送信される。故障検出コ
ントローラ550は、特定されたデータを組込む報告定義を送信することによっ
て、報告発生器560への要求を発生する、620。この文脈において「報告」
という用語は、方法300におけるように日常語的な意味で、およびこの特定の
実施例のSECS/GEM実現例によりその意味が与えられている技術用語とし
て、用いられる。次に報告発生器560は、利用可能なパラメータおよび/また
は定義された報告を製造ツール410から要求する、625。
【0054】 データ収集のためにプランエグゼキュータ(“PE”)542は、データ収集
前にデータ収集プラン(“DCプラン”)をセンサインタフェース520または
アプリケーションインターフェイス545に送る。センサインターフェイス52
0およびアプリケーションインターフェイス545は、DCプラン内の情報を解
析し、特定されたデータをそれぞれのセンサ(図示せず)に送る。特定されたデ
ータは、持続時間プラン、サンプリングプラン、可観測量(observables)、ト
リガおよび限界(すなわち設定ポイント、またはトリガを規定する値)を含み得
る。この時点で、利用可能なパラメータがわかり、装置インターフェイス510
はこれに従ってデータ記憶装置570での取込を行なうことができる。これに加
え、センサインターフェイス520およびアプリケーションインターフェイス5
45はまた、予め定められたフォーマットおよび予め定められた時間間隔で、プ
ロセス装置から獲得されるべき特定のデータをPE542へ送り返す役割を有す
る。要件はすべてDCプランに特定されている。たとえばPE542は、製造ツ
ール410から温度データを得ようと望むこともある。PE542は、ディレク
ティブをセンサインターフェイス520に対して発行し、これはPE542によ
り特定されたレートでデータを収集するように自己を構成し、PE542はセン
サインターフェイス520に対して、特定された報告レートでデータをPE54
2へと報告するよう命令することになる。
【0055】 実現例によっては、製造ツール410はここで、パラメータか作成されたトレ
ースデータ報告かのいずれかを報告発生器560へと戻す、625。報告発生器
560は次に、故障検出コントローラ550を通じてワークステーション430
にいるオペレータへと作成されたトレースデータ報告を戻す、610。
【0056】 上で開示した特定の実施例は単に例示的であり、ここにおける教示の利益を享
受する当業者に明らかな、異なるが等価の態様によって、この発明を変形および
実行することができる。さらに、前掲の特許請求の範囲に記載のものを除き、こ
こに示した構造および設計の詳細へと限定は加えられない。したがって、上に開
示した特定の実施例は変更および変形され得、このようなすべての変形はこの発
明の範囲および精神内にあるものと考えられる。したがって、ここで求められる
保護は前掲の特許請求の範囲で述べたとおりである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施例における特定の装置の、いくつかの局面を例
示する概念的なブロック図である。
【図2】 この発明の一実施例における特定の装置の、いくつかの局面を例
示する概念的なブロック図である。
【図3】 この発明の一局面に従う方法の特定の一実施例を例示する図であ
る。
【図4】 図1−3で例示したこの発明の選択された局面の特定の一実施例
を例示する図である。
【図5】 図1−3で例示したこの発明の選択された局面の特定の一実施例
を例示する図である。
【図6】 図1−3で例示したこの発明の選択された局面の特定の一実施例
を例示する図である。
【手続補正書】
【提出日】平成14年9月5日(2002.9.5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0029】 統合コンポーネントは以下のものを含むが、これに必ずしも限定されない。 APCホストコンピュータ440に常駐のAPCシステムマネージャ540
、 APCホストコンピュータ440に常駐のプラン実行マネージャ542、 この実施例において図1−2の実施例のアプリケーションプログラム210
と同じ機能を果たし、かつ報告発生器560を含む、ワークステーション430
に常駐の装置インターフェイス510、 製造ツール410に常駐のセンサインターフェイス520およびアプリケー
ションインターフェイス545、 ワークステーション430に常駐するマシンインターフェイス535および
オペレータインターフェイス530。 さまざまなソフトウェアコンポーネントの配置が図1−2の実施例と異なること
に注目されたい。配置は他の代替実施例でも異なり得る。APCFWの1つの利
点はそのモジュール構造であり、これによりソフトウェアコンポーネントの可搬
性が得られる。したがって、この発明は、個々のソフトウェアコンポーネントが
どのコンピュータに常駐するかによって限定されない。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0039
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0039】 センサインターフェイス520およびアプリケーションインターフェイス54
5は、製造ツール410の動作を監視するセンサ(図示せず)によって発生され
るデータを収集する。センサインターフェイス520は、適当なインターフェイ
ス環境を提供して、LabVIEW(R)または他のセンサ、バスベースのデータ獲得
ソフトウェアなどの、外部センサと通信を行なう。アプリケーションインターフ
ェイス545は、LabVIEW、Mathematica、ModelWare、MatLab、Simca4000、
およびExcelなどの制御プラグインアプリケーションを実行するのに適当なイン
ターフェイス環境を提供する。より特定的に、センサは相手先商標製造業者(“
OEM”)によって製造ツール410とともに供給されてもよいし、またはOE
Mからの購入後にインストールされる「アドオン」センサであってもよい。セン
サインターフェイス520は、アドオンセンサにより発生されたデータを収集し
、アプリケーションインターフェイス545は、OEMセンサにより発生された
データを収集する。これらセンサは、たとえば動作条件の圧力および温度に関す
るデータを発生し得る。プラグインアプリケーションは、センサからのデータを
収集し、これをアプリケーションインターフェイス545へ送る。マシンインタ
ーフェイス535、アプリケーションインターフェイス545およびセンサイン
ターフェイス520は、用いられるべきデータを収集するために一連の共通の機
能を用いる。装置インターフェイス510は、アプリケーションインターフェイ
ス545およびセンサインターフェイス520によって収集されたそれぞれのデ
ータを集める。次に装置インターフェイス510は、ライン420を通じて、ワ
ークステーション430に常駐のマシンインターフェイス535に、集められた
データを送る。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0047
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0047】 この変形例では、APCシステムマネージャ540は第1のディレクティブを
発行して、製造ツール410に常駐のデータ収集ルーチン(図示せず)をセット
アップする。ディレクティブは、収集パラメータおよび報告パラメータを含み、
報告パラメータは、センサインターフェイス520でデータ収集ルーチンにより
保持される。APCシステムマネージャ540は、データ収集パラメータを含む
第2のディレクティブを、動的リンクライブラリ(Dynamically Linked Library
)(“DLL”)へと発行する。データ収集ルーチンは、DLLに周期的に照会
して第2のディレクティブの存在を判断し、かつデータ収集パラメータを検索す
る。第2のディレクティブを検出すると、データ収集ルーチンは第1および第2
のディレクティブにあるデータ収集パラメータに従い自己を構成する。次にデー
タは製造ツール410により収集され、DLLに渡されてセンサインターフェイ
ス520に伝えられる。次にデータはセンサインターフェイス520からAPC
システムマネージャ540へと報告される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コンボイ,マイケル・アール アメリカ合衆国、78748 テキサス州、オ ースティン、サンランド・ドライブ、3102 (72)発明者 ヘンドリクス,ブライス・エイ アメリカ合衆国、78749 テキサス州、オ ースティン、モントレイ・オークス、 4201、ナンバー・2404 【要約の続き】 与えることができる製造ツール(110)と、故障検出 制御を実現する故障検出コントローラ(250)とを含 み、故障検出コントローラ(250)はトレースデータ 報告への要求を自動的に発生することができ、要求は特 定されたデータを含み、このシステムはさらに、特定さ れたデータおよびトレースデータ報告のうち少なくとも 1つを製造ツール(110)から要求することができ、 かつ、特定されたデータが製造ツール(110)から要 求されると、トレースデータ報告を与えることができ る、報告発生器(260)と、トレースデータ報告のた めに特定されたデータを受取るためのオペレータインタ ーフェイス(230)とを含み、特定されたデータはト レースデータ報告のための、パラメータ、トリガおよび 頻度の少なくとも1つを含み、オペレータインタフェー スには、報告発生器(260)および製造ツール(11 0)のうち少なくとも1つからトレースデータ報告が戻 され得る。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 故障検出制御を用いて半導体製造プロセスにおいてトレース
    データ報告を動的に発生する方法であって、 トレースデータ報告のための特定されたデータを受取るステップを含み、前記
    特定されたデータは前記トレースデータ報告のための、パラメータ、トリガおよ
    び頻度のうち少なくとも1つを含み、前記方法はさらに 故障検出コントローラ(250)から、前記トレースデータ報告のための報告
    発生器(260)に対する要求を自動的に発生するステップを含み、前記要求は
    前記特定されたデータを含み、前記方法はさらに 前記要求に応答して前記トレースデータ報告を作成するステップと、 前記要求に基づき前記報告発生器(260)から前記作成されたトレースデー
    タ報告を戻すステップとを含む、方法。
  2. 【請求項2】 前記トレースデータ報告を要求する前記ステップは、利用可
    能なパラメータのデータ記憶装置(570)を調べるステップを含む、請求項1
    に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記報告発生器(260)は前記利用可能なパラメータを前
    記データ記憶装置(570)に取込む、請求項2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記要求に応答して前記トレースデータ報告を作成する前記
    ステップは、製造ツール(110)からの特定されたデータを集めるステップを
    含む、請求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】 半導体製造処理システムであって、前記システムは 特定されたデータおよびトレースデータ報告のうち少なくとも1つを与えるこ
    とができる製造ツール(110)と、 故障検出制御を実現する故障検出コントローラ(250)とを含み、前記故障
    検出コントローラ(250)は前記トレースデータ報告への要求を自動的に発生
    することができ、前記要求は前記特定されたデータを含み、前記システムはさら
    に、 前記製造ツール(110)から、前記特定されたデータおよび前記トレースデ
    ータ報告のうち少なくとも1つを要求することができ、かつ、前記特定されたデ
    ータが前記製造ツール(110)から要求されると、前記トレースデータ報告を
    与えることができる、報告発生器(260)と、 前記トレースデータ報告のための特定されたデータを受取るためのオペレータ
    インターフェイス(230)とを含み、前記特定されたデータは前記トレースデ
    ータ報告のための、パラメータ、トリガおよび頻度のうち少なくとも1つを含み
    、前記オペレータインターフェイスには、前記報告発生器(260)および前記
    製造ツール(110)のうち少なくとも1つから前記トレースデータ報告が戻さ
    れ得る、システム。
  6. 【請求項6】 前記特定されたデータとして受取られ得る利用可能なパラメ
    ータのデータ記憶装置(570)をさらに含む、請求項5に記載の半導体製造処
    理システム。
  7. 【請求項7】 前記故障検出コントローラ(250)および前記報告発生器
    (260)は異なるコンピュータに常駐する、請求項5に記載の半導体製造処理
    システム。
  8. 【請求項8】 高度プロセス制御、半導体製造処理システムであって、 ウェハ(105)を製造するための手段(110)を含み、前記製造手段(1
    10)は特定されたデータおよびトレースデータ報告のうち少なくとも1つを与
    えることができ、前記システムはさらに 故障検出制御(250)を実現するための手段を含み、前記故障検出制御手段
    は、前記トレースデータ報告への要求を自動的に発生することができ、前記要求
    は前記特定されたデータを含み、前記システムはさらに 報告を発生するための手段(260)を含み、前記報告発生手段は、前記特定
    されたデータおよび前記トレースデータ報告のうち少なくとも1つを前記製造手
    段(110)から要求することができ、かつ、前記特定されたデータが前記製造
    手段(110)から要求されると、前記トレースデータ報告を与えることができ
    、前記システムはさらに オペレータがトレースデータ報告のための前記データを特定し得る、オペレー
    タとインターフェイスする手段(230)を含み、前記特定されたデータは前記
    トレースデータ報告のための、パラメータ、トリガおよび頻度のうち少なくとも
    1つを含み、前記インターフェイス手段には、前記報告発生手段(260)およ
    び前記製造手段(110)のうち少なくとも1つから前記トレースデータ報告が
    戻され得る、システム。
  9. 【請求項9】 特定され得る利用可能なパラメータの識別を記憶するための
    手段(570)をさらに含む、請求項8に記載の半導体製造処理システム。
  10. 【請求項10】 前記故障検出コントローラ(250)および前記報告発生
    器(260)は異なるコンピュータに常駐する、請求項8に記載の半導体製造処
    理システム。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014007081A1 (ja) * 2012-07-04 2016-06-02 株式会社日立国際電気 基板処理システム、基板処理装置及びデータ処理方法並びに記憶媒体

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9785140B2 (en) 2000-02-01 2017-10-10 Peer Intellectual Property Inc. Multi-protocol multi-client equipment server
AU2001239997A1 (en) * 2000-03-02 2001-09-12 Mmc Webreporter Systems.Com, Inc. System and method for creating a book of reports over a computer network
US7200671B1 (en) * 2000-08-23 2007-04-03 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for monitoring host to tool communications
JP3957475B2 (ja) * 2001-05-18 2007-08-15 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
US8180587B2 (en) 2002-03-08 2012-05-15 Globalfoundries Inc. System for brokering fault detection data
US8359494B2 (en) 2002-12-18 2013-01-22 Globalfoundries Inc. Parallel fault detection
US7213478B2 (en) * 2003-02-18 2007-05-08 Tokyo Electron Limited Method for automatic configuration of processing system
US20050021037A1 (en) * 2003-05-29 2005-01-27 Mccombs Daniel L. Image-guided navigated precision reamers
US7256055B2 (en) 2003-08-25 2007-08-14 Tau-Metrix, Inc. System and apparatus for using test structures inside of a chip during the fabrication of the chip
US7110918B2 (en) 2003-11-05 2006-09-19 Shoplogix Inc. Self-contained system and method for remotely monitoring machines
EP1695272A4 (en) * 2003-11-05 2009-05-06 Shoplogix Inc AUTONOMOUS SYSTEM AND METHOD OF TESTING MACHINES
US8112400B2 (en) * 2003-12-23 2012-02-07 Texas Instruments Incorporated Method for collecting data from semiconductor equipment
US7146237B2 (en) * 2004-04-07 2006-12-05 Mks Instruments, Inc. Controller and method to mediate data collection from smart sensors for fab applications
US7680556B2 (en) 2004-11-15 2010-03-16 Tech Semiconductor Singapore Pte. Ltd. Method for data collection during manufacturing processes
US7787477B2 (en) * 2005-07-11 2010-08-31 Mks Instruments, Inc. Address-transparent device and method
KR100702843B1 (ko) * 2005-08-12 2007-04-03 삼성전자주식회사 로트가변 배치처리가 가능한 반도체 제조설비 및 그로트가변 배치처리방법
JP5177958B2 (ja) * 2006-03-31 2013-04-10 Hoya株式会社 処理データ管理システム、磁気ディスク製造装置用の処理システム、および、磁気ディスク製造装置のデータ管理方法
US20070240122A1 (en) * 2006-04-05 2007-10-11 Chiahong Chen Method, system and program storage device for providing request trace data in a user mode device interface
JP2008077286A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 産業プロセス評価装置、産業プロセス評価方法及び産業プロセス評価プログラム
US20080228863A1 (en) * 2007-03-12 2008-09-18 Timothy Mackey Systems and Methods for End-User Experience Monitoring Using A Script
US8572160B2 (en) 2007-03-12 2013-10-29 Citrix Systems, Inc. Systems and methods for script injection
US9021140B2 (en) * 2007-03-12 2015-04-28 Citrix Systems, Inc. Systems and methods for error detection
CA2786004C (en) 2007-05-07 2015-06-30 Vorne Industries, Inc. Method and system for extending the capabilities of embedded devices through network clients
KR20230162280A (ko) 2022-05-20 2023-11-28 (주)미소정보기술 전 과정을 모듈화하여 연결한 워크플로우가 구비된 fdc 시스템 및 그 처리방법

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5413883A (en) 1977-07-04 1979-02-01 Hitachi Ltd Abnormalness detector of automatic controller
JPS6248850A (ja) 1985-08-28 1987-03-03 Hitachi Eng Co Ltd 公衆回線結合リモ−ト障害デ−タ収集装置
US4861419A (en) * 1987-08-04 1989-08-29 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method for production process diagnosis using dynamic time warping
JPH0322064A (ja) 1989-06-19 1991-01-30 Nec Corp 計算機通信システム
US5121335A (en) * 1990-02-09 1992-06-09 Hughes Aircraft Company Method and apparatus for verifying microcircuit fabrication procedure
DE4113556C3 (de) * 1990-04-26 2000-02-24 Mazda Motor Produktionseinrichtung zum Steuern von Produktionsvorgängen und Produktionssteuerverfahren für Produktionsvorgänge
US5196997A (en) * 1991-01-22 1993-03-23 International Business Machines Corporation Method and apparatus for quality measure driven process control
JPH0793233A (ja) 1993-09-20 1995-04-07 Fujitsu Ltd ファームウェア・トレースデータ取得方式
US5625816A (en) 1994-04-05 1997-04-29 Advanced Micro Devices, Inc. Method and system for generating product performance history
US5576629A (en) * 1994-10-24 1996-11-19 Fourth State Technology, Inc. Plasma monitoring and control method and system
US5751581A (en) 1995-11-13 1998-05-12 Advanced Micro Devices Material movement server
KR100207468B1 (ko) 1996-03-07 1999-07-15 윤종용 웨이퍼의 결함분석 시스템
JP3699776B2 (ja) * 1996-04-02 2005-09-28 株式会社日立製作所 電子部品の製造方法
TWI249760B (en) * 1996-07-31 2006-02-21 Canon Kk Remote maintenance system
US5859964A (en) * 1996-10-25 1999-01-12 Advanced Micro Devices, Inc. System and method for performing real time data acquisition, process modeling and fault detection of wafer fabrication processes
JPH11119992A (ja) 1997-10-09 1999-04-30 Nec Eng Ltd ファームウェアのトレース制御装置
EP0932195A1 (en) 1997-12-30 1999-07-28 International Business Machines Corporation Method and system for semiconductor wafer fabrication process real-time in-situ supervision
US6438441B1 (en) * 1999-06-28 2002-08-20 Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. Semiconductor factory automation system and method for resetting process recipe by employing trace file
US6577323B1 (en) * 1999-07-01 2003-06-10 Honeywell Inc. Multivariable process trend display and methods regarding same
US6697691B1 (en) * 2000-01-03 2004-02-24 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for fault model analysis in manufacturing tools
US6465263B1 (en) * 2000-01-04 2002-10-15 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for implementing corrected species by monitoring specific state parameters

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014007081A1 (ja) * 2012-07-04 2016-06-02 株式会社日立国際電気 基板処理システム、基板処理装置及びデータ処理方法並びに記憶媒体

Also Published As

Publication number Publication date
US6871112B1 (en) 2005-03-22
KR100734531B1 (ko) 2007-07-04
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EP1245042A2 (en) 2002-10-02
KR20020063270A (ko) 2002-08-01

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