JP4603131B2 - 半導体製造システムの工程レシピ再設定装置及び工程レシピ再設定方法 - Google Patents

半導体製造システムの工程レシピ再設定装置及び工程レシピ再設定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4603131B2
JP4603131B2 JP2000195216A JP2000195216A JP4603131B2 JP 4603131 B2 JP4603131 B2 JP 4603131B2 JP 2000195216 A JP2000195216 A JP 2000195216A JP 2000195216 A JP2000195216 A JP 2000195216A JP 4603131 B2 JP4603131 B2 JP 4603131B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
process recipe
measurement data
lot
semiconductor wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000195216A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001068392A (ja
Inventor
普 舜 張
吉 容 盧
海 成 金
愚 圭 李
鍾 模 安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SK Hynix Inc
Original Assignee
Hynix Semiconductor Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR10-1999-0024871A external-priority patent/KR100464943B1/ko
Priority claimed from KR10-1999-0024868A external-priority patent/KR100537208B1/ko
Application filed by Hynix Semiconductor Inc filed Critical Hynix Semiconductor Inc
Publication of JP2001068392A publication Critical patent/JP2001068392A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4603131B2 publication Critical patent/JP4603131B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/20Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/41865Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by job scheduling, process planning, material flow
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/31From computer integrated manufacturing till monitoring
    • G05B2219/31288Archive collected data into history file
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Factory Administration (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)

Description

【0001】
【発明が属する技術分野】
本発明は半導体工場自動化システムに関し、特に、トレースファイルを利用して工程レシピを再設定するための半導体製造システムの工程レシピ再設定装置及び工程レシピ再設定方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般に、従来の半導体工場自動化システムは、半導体測定手段及び半導体処理手段を含む装備、ストッカー及びAGV(automatic guide vehicle)を含む。装備は、半導体ウェーハを処理するか、または処理された半導体ウェーハを測定する。半導体処理手段は、少なくとも一つの半導体ウェーハロットを処理し、半導体測定手段は、処理された少なくとも一つの半導体ウェーハロットを測定する。ストッカーは、半導体処理手段で処理されるか、または半導体測定手段で測定された少なくとも一つの半導体ウェーハロットを有する半導体ウェーハカセットを貯蔵する。また、ストッカーは、半導体処理手段で既に処理されるか、または半導体測定手段で既に測定された半導体ウェーハカセットを貯蔵する。
【0003】
前記AGVは、半導体ウェーハカセットを装備から他の装備またはストッカーに搬送する。また、AGVは、処理または測定された半導体ウェーハカセットをストッカーから装備に搬送する。また、AGVは、処理または測定された半導体ウェーハカセットを装備からストッカーに搬送する。
【0004】
従来の半導体工場自動化システムは、オペレーターインターフェースサーバをさらに含む。オペレーターインターフェースサーバは、オペレーターから直接入力された工程レシピを半導体処理手段に伝送し、ここで工程レシピは、半導体ウェーハロットに対応する一連の半導体工程条件を示す。半導体処理手段は、工程レシピに応じて半導体ウェーハロットを処理する。半導体測定手段は、処理された半導体ウェーハロットを測定して半導体測定データを生成する。オペレーターは、半導体測定データを直接作業表(work sheet)に記録する。オペレーターは、工程レシピが適合するかを判断するために作業表に記録された半導体測定データを基準データと比較する。工程レシピが適合しなかったら、オペレーターは、作業表に記録された半導体測定データに基づいて工程レシピを再設定しなければならない。しかし、半導体測定データが増加する場合、オペレーターが半導体測定データを管理することに困難である。また、オペレーターが半導体測定データを管理することが困難であるため、工程レシピが正確に再設定されない問題点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
したがって本発明は、半導体測定手段で測定された半導体ウェーハロットに応する半導体測定データを有するトレースファイルを利用して工程レシピを再設定するための半導体製造システムの工程レシピ再設定装置及び工程レシピ再設定方法を提供することにその目的がある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の半導体製造システムの工程レシピ再設定装置は、半導体生産ベイを1以上備えたセルを、1以上有する半導体製造システムの、工程レシピを再設定するための装置であって、
半導体生産ベイは、
半導体ウェーハカセットに収容され、ロット識別子を有し、所定数の半導体ウェーハからなる半導体ウェーハロットを、一連の半導体工程条件を示す工程レシピに従って処理する半導体処理手段と、処理された半導体ウェーハロットを測定して半導体測定データを生成する半導体測定手段と、を有する装備と、
半導体ウェーハカセットを搬送するAGV及びAGV制御器と、
半導体ウェーハカセットを一時的に貯蔵するストッカーと、を含んで構成され、
(1)装備に接続され、工程レシピ、半導体測定データ、及びロット識別子を保存するトレースファイルに、半導体ウェーハロットに対応する半導体測定データを記録する装備サーバと、
(2)半導体ウェーハロットに対応する工程レシピ及びロット識別子を収集しトレースファイルに記録するデータ収集サーバと、工程レシピ及びロット識別子を半導体処理手段に伝送する通信ブロック、トレースファイルに含まれた半導体測定データと基準データとを検索する検索ブロック、及び半導体測定データと基準データとが適合しなかった場合に、再設定された工程レシピを入力する再設定ブロックを含むオペレーターインターフェースサーバと、セルを管理するセル管理サーバと、を含むセル管理部と、
(3)セル管理部と接続し半導体ウェーハロットに対応するトレースファイルを保存するリアルタイムデータベースと、
(4)ストッカーを制御するストッカー制御サーバと、AGV制御器と、を制御するイントラベイ制御サーバを1以上備える搬送制御部と、
(5)セル管理部に接続する臨時貯蔵部と、
(6)臨時貯蔵部に接続する履歴管理部と、
(7)履歴管理部に接続する履歴データベースと
(8)セル管理部、履歴管理部、イントラベイ制御サーバ、及び装備サーバを接続する共通通信ラインと、
を有することを特徴とする。
【0007】
また、本発明のオペレーターインターフェースサーバは、半導体ウェーハロットを予約するための予約ブロックをさらに含むことが好ましい。
【0008】
また、本発明の検索ブロックは、リアルタイムデータベースに保存されたトレースファイルに保存された半導体測定データを検索することが好ましい。
【0009】
また、本発明の半導体処理手段は、半導体ウェーハロットに露光工程を適用するステッパー(stepper)及び/又はオーバーレイ装備(overley equipment)を含むことができる。
【0010】
また、本発明は、半導体生産ベイを1以上備えたセルを、1以上有する半導体製造システムの、工程レシピを再設定するための方法であって、
半導体生産ベイは、
半導体ウェーハカセットに収容され、ロット識別子を有し、所定数の半導体ウェーハからなる半導体ウェーハロットを、一連の半導体工程条件を示す工程レシピに従って処理する半導体処理手段と、処理された半導体ウェーハロットを測定し、半導体測定データを生成する半導体測定手段と、を有する装備と、
半導体ウェーハカセットを搬送するAGV及びAGV制御器と、
半導体ウェーハカセットを一時的に貯蔵するストッカーと、
を含んで構成され、
(1)オペレーターインターフェースサーバの通信ブロックが、予め指定された半導体ウェーハロットに対応するロット識別子と工程レシピとを装備の半導体処理手段に伝送する第1ステップと、
(2)半導体処理手段が、工程レシピに従ってロット識別子を有する半導体ウェーハロットを処理する第2ステップと、
(3)装備の半導体測定手段が、処理された半導体ウェーハロットを測定して半導体測定データを生成する第3ステップと、
(4)装備とカップリングした装備サーバに、半導体測定データを記録する第4ステップと、
(5)リアルタイムデータベースに保存され、工程レシピと半導体測定データとロット識別子とを保存するトレースファイルに、装備サーバが半導体測定データを記録する第5ステップと、
(6)データ収集サーバが、半導体測定データに対応する工程レシピ、及びロット識別子を収集し、トレースファイルに記録する第6ステップと、
(7)リアルタイムデータベースが、半導体測定データに関連するトレースファイルを保存する第7ステップと、
(8)オペレーターインターフェースサーバの検索ブロックにより、トレースファイルに保存された半導体測定データと基準データとを検索する第8ステップと、
(9)半導体測定データと基準データとを比較し、半導体測定データが基準データに適合した場合は工程レシピを変更せず、半導体測定データと基準データとが適合しなかった場合に工程レシピを再設定する第9ステップと、を有することを特徴とする。
【0011】
第1ステップは、予め指定された半導体ウェーハロットを予約する第10ステップをさらに含むことができる。
また、第2ステップは、工程レシピに応じて半導体ウェーハロットに露光工程を適用するステップを含むことができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図面を参照して、本発明にかかる好ましい実施例を詳細に説明する。
図1には本発明にかかるトレースファイルを利用して工程レシピを再設定するための半導体工場自動化システムのブロック図が示されている。図示のように、半導体工場自動化システムは、所定の数(例えば4個)の半導体生産ベイを有する少なくとも一つのセルを含む。
【0013】
半導体生産ベイ400は、セルに含まれる。半導体生産ベイ400は、半導体測定手段及び半導体処理手段を含む装備204、ストッカー216、及びAGV214を含む。
半導体処理手段として装備204は、半導体素子を獲得するために半導体ウェーハを処理する。半導体測定手段として装備204は、処理された半導体ウェーハを測定する。
【0014】
装備204は、エッチング装備、オーバーレイ装備としてフォトリソグラフィ装備、PVD(physical vapor deposition)装備、楕円偏光計装備、ステッパー装備、オーバーレイ装備などを含む。ストッカー216は、多数の半導体ウェーハカセットを一時的に貯蔵する。
【0015】
半導体ウェーハカセットは、所定の数の半導体ウェーハを有するロット(lot)を含む。半導体ウェーハカセットは、AGV214により装備204に搬送される。ストッカー216に貯蔵された半導体ウェーハカセットは、他の半導体生産ベイ400に搬送される。
【0016】
装備サーバ(equipment server)202は、共通通信ライン500、例えば、ゼロックス社により供給されるイーサネットにカップリングされる。AGV制御器212は、AGV214を制御する。
【0017】
また、半導体工場自動化システムは、セル管理部100、セル管理部100にカップリングされたリアルタイムデータベース300、臨時貯蔵部310、臨時貯蔵部310にカップリングされた履歴管理部312、及び履歴管理部312にカップリングされた履歴データベース314を含む。セル管理部100及び履歴管理部312は、各々通信のために共通通信ライン500に連結される。
【0018】
セル管理部100は、セル管理サーバ206、オペレーターインターフェースサーバ(operator interface server)201、及びデータ収集サーバ207を含む。データ収集サーバ207は、ロット関連データをリアルタイムデータベース300に保存する。
【0019】
半導体処理手段として装備204は、以前に設定された工程レシピに応じて少なくとも一つの半導体ウェーハロットを処理し、工程レシピは、半導体ウェーハロットに対応する一連の半導体工程条件を示す。
【0020】
半導体測定手段としての装備204は、処理された半導体ウェーハロットを測定して半導体測定データを生成する。半導体測定手段にカップリングされた装備サーバ202は、トレースファイルに半導体測定データを記録し、ここで、トレースファイルは、半導体ウェーハロットに対応する工程レシピ、半導体測定データ及びロット識別子を含む。オペレーターインターフェースサーバ201は、オペレーターとインターフェースする。
【0021】
図3に示したように、オペレーターインターフェースサーバ201は、通信ブロック1004、予約ブロック1002、検索ブロック1006及び再設定ブロック1008を含む。通信ブロック1004は、オペレーターから入力された工程レシピ及びロット識別子を半導体処理手段に伝送する。
検索ブロック1006は、オペレーターから入力された検索命令に応答してトレースファイルに含まれた半導体測定データを検索する。
【0022】
再設定ブロック1008は、工程レシピが適合しなかったら、オペレーターから入力された再設定命令に応答して工程レシピを再設定し、ここでオペレーターは、工程レシピが適合するかを判断するために検索された半導体測定データと基準データとを比較する。予約ブロック1002は、オペレーターから入力された予約命令に応答して半導体ウェーハロットを予約する。
【0023】
データ収集サーバ207は、トレースファイルを収集する。リアルタイムデータベース300は、収集されたトレースファイルを保存する。半導体処理手段は、半導体ウェーハロットに露光工程を適用するステッパー(stepper)を含む。半導体測定手段は、オーバーレイ装備を含む。
【0024】
図2には、図1に示された搬送制御部のブロック図が示されている。図示のように、搬送制御部116は、共通通信ライン500にカップリングされたイントラベイ制御サーバ(intrabay control server)210、及びストッカー制御サーバ(stocker control server)218を含む。
【0025】
イントラベイ制御サーバ210は、各々搬送メッセージを搬送命令に変換する。ストッカー制御サーバ218は、搬送命令に応答してストッカー216を制御するためにストッカー制御信号を生成する。AGV制御器212は、搬送命令に応答してAGV214を制御するためにAGV制御信号を生成する。
【0026】
図4及び図5には、本発明にかかるトレースファイルを利用して工程レシピを再設定するための方法のフローチャートが示されている。
【0027】
図4を参照して、ステップS402で、図3に示されたオペレーターインターフェースサーバ201の予約ブロック1002は、オペレーターから入力された予約命令に応答して半導体ウェーハロットを予約する。
【0028】
ステップS404で、図3に示されたオペレーターインターフェースサーバ201の通信ブロック1004は、図1に示された装備サーバ202を介して装備204に以前に設定された工程レシピ及びロット識別子を伝送する。工程レシピは、半導体ウェーハロットに対応する一連の半導体工程条件を示す。
【0029】
ステップS406で、半導体処理手段は、工程レシピに応じて半導体ウェーハロットを処理する。
【0030】
ステップS408で、半導体測定手段は、処理された半導体ウェーハロットを測定して半導体測定データを生成する。
【0031】
ステップS410で、半導体測定手段は、半導体測定手段にカップリングされた装備サーバ(EQS202に半導体測定データを伝送する。
【0032】
ステップS412で、半導体測定手段にカップリングされた装備サーバ202は、トレースファイルに半導体測定データを記録する。
【0033】
図5を参照して、ステップS414で、図1に示されたデータ収集サーバ207は、半導体測定データを有するトレースファイルを収集する。
【0034】
ステップS416で、図1に示されたリアルタイムデータベース300は、リアルタイム的に収集されたトレースファイルを保存する。
【0035】
ステップS418で、図3に示されたオペレーターインターフェースサーバ201の検索ブロック1006は、オペレーターから入力された検索命令に応答してリアルタイムデータベース300に保存されたトレースファイルから半導体測定データを検索する。
【0036】
ステップS420で、オペレーターは、検索された半導体測定データと基準データとを比較する。
【0037】
ステップS422で、オペレーターは、工程レシピが再設定すべきであるかを判断する。
【0038】
ステップS424で、工程レシピが再設定されるべきであれば、図3に示されたオペレーターインターフェースサーバ201の再設定ブロック1008は、オペレーターから入力された再設定命令に応答して工程レシピを再設定する。
【0039】
以上、説明した本発明は、前述した実施例及び添付した図面によって限定されず、本発明の技術的思想を超えない範囲内で種々の置換、変形及び変更が可能であることは本発明が属する技術分野で通常の知識を有する当業者においては明白である。
【0040】
【発明の効果】
上記説明のように本発明においては、半導体測定データを有するトレースファイルを利用することによって、效果的に工程レシピを再設定できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るトレースファイルを利用して工程レシピを再設定するための半導体工場自動化システムのブロック図である。
【図2】図1に示されたセル管理サーバのブロック図である。
【図3】図1に示されたオペレーターインターフェースサーバのブロック図である。
【図4】本発明に係るトレースファイルを利用して工程レシピを再設定するための方法の一実施例フローチャート。
【図5】本発明に係るトレースファイルを利用して工程レシピを再設定するための方法の一実施例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
100 セル管理部
116 搬送制御部
201 オペレーターインターフェースサーバ
202 装備サーバ
204 装備
206 セル管理サーバ
207 データ収集サーバ
210 イントラベイ制御サーバ
212 AGV制御器
214 AGV(automatic guide vehicle)
216 ストッカー
218 ストッカー制御サーバ
300 リアルタイムデータベース
310 臨時貯蔵部
312 履歴管理部
314 履歴データベース
400 半導体生産ベイ
500 共通通信ライン
1002 予約ブロック
1004 通信ブロック
1006 検索ブロック
1008 再設定ブロック

Claims (8)

  1. 半導体生産ベイ(400)を1以上備えたセルを、1以上有する半導体製造システムの、工程レシピを再設定するための装置であって、
    前記半導体生産ベイ(400)は、
    半導体ウェーハカセットに収容され、ロット識別子を有し、所定数の半導体ウェーハからなる半導体ウェーハロットを、一連の半導体工程条件を示す前記工程レシピに従って処理する半導体処理手段と、処理された前記半導体ウェーハロットを測定して半導体測定データを生成する半導体測定手段と、を有する装備(204)と、
    前記半導体ウェーハカセットを搬送するAGV(automatic guide vehicle、214)及びAGV制御器(212)と、
    前記半導体ウェーハカセットを一時的に貯蔵するストッカー(216)と、を含んで構成され、
    (1)前記装備(204)に接続され、前記工程レシピ、前記半導体測定データ、及び前記ロット識別子を保存するトレースファイルに、前記半導体ウェーハロットに対応する半導体測定データを記録する装備サーバ(202)と、
    (2)前記半導体ウェーハロットに対応する工程レシピ及びロット識別子を収集し前記トレースファイルに記録するデータ収集サーバ(207)と、前記工程レシピ及びロット識別子を、前記半導体処理手段に伝送する通信ブロック(1004)、前記トレースファイルに含まれた前記半導体測定データと基準データとを検索する検索ブロック(1006)、及び前記半導体測定データと前記基準データとが適合しなかった場合に、再設定された工程レシピを入力するための再設定ブロック(1008)を含むオペレーターインターフェースサーバ(201)と、前記セルを管理するセル管理サーバ(206)と、を含むセル管理部(100)と、
    (3)前記セル管理部(100)と接続し前記半導体ウェーハロットに対応するトレースファイルを保存するリアルタイムデータベース(300)と、
    (4)前記ストッカー(216)を制御するストッカー制御サーバ(218)と、前記AGV制御器(212)と、を制御するイントラベイ制御サーバ(210)を1以上備える搬送制御部(116)と、
    (5)前記セル管理部(100)に接続する臨時貯蔵部(310)と、
    (6)前記臨時貯蔵部(310)に接続する履歴管理部(312)と、
    (7)前記履歴管理部(312)に接続する履歴データベース(314)と、
    (8)前記セル管理部(100)、前記履歴管理部(312)、前記イントラベイ制御サーバ(210)、及び前記装備サーバ(202)を接続する共通通信ライン(500)と、
    を有することを特徴とする半導体製造システムの工程レシピ再設定装置。
  2. 記オペレーターインターフェースサーバ(201)、前記半導体ウェーハロットを予約するための予約ブロック(1002)をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の半導体製造システムの工程レシピ再設定装置。
  3. 記検索ブロック(1006)は、前記リアルタイムデータベース(300)に保存された記トレースファイルに保存された前記半導体測定データを検索することを特徴とする請求項記載の半導体製造システムの工程レシピ再設定装置。
  4. 前記半導体処理手段は、前記半導体ウェーハロットに露光工程を適用するステッパー(stepper)を含むことを特徴とする請求項記載の半導体製造システムの工程レシピ再設定装置。
  5. 記半導体測定手段は、オーバーレイ装備(overley equipment)を含むことを特徴とする請求項記載の半導体製造システムの工程レシピ再設定装置。
  6. 半導体生産ベイ(400)を1以上備えたセルを、1以上有する半導体製造システムの、工程レシピを再設定するための方法であって、
    前記半導体生産ベイ(400)は、
    半導体ウェーハカセットに収容され、ロット識別子を有し、所定数の半導体ウェーハからなる半導体ウェーハロットを、一連の半導体工程条件を示す前記工程レシピに従って処理する半導体処理手段と、処理された前記半導体ウェーハロットを測定し、半導体測定データを生成する半導体測定手段と、を有する装備(204)と、
    前記半導体ウェーハカセットを搬送するAGV及びAGV制御器(212)と、
    前記半導体ウェーハカセットを一時的に貯蔵するストッカー(216)と、を含んで構成され、
    (1)オペレーターインターフェースサーバ(201)の通信ブロック(1004)が、予め指定された半導体ウェーハロットに対応するロット識別子と工程レシピとを前記装備(204)の前記半導体処理手段に伝送する第1ステップと、
    (2)前記半導体処理手段が、前記工程レシピに従って前記ロット識別子を有する半導体ウェーハロットを処理する第2ステップと、
    (3)前記装備(204)の前記半導体測定手段が、処理された半導体ウェーハロットを測定して半導体測定データを生成する第3ステップと、
    (4)前記装備(204)とカップリングした装備サーバ(202)に、前記半導体測定データを記録する第4ステップと、
    (5)リアルタイムデータベース(300)に保存され、工程レシピと半導体測定データとロット識別子とを保存するトレースファイルに、前記装備サーバ(202)が前記半導体測定データを記録する第5ステップと、
    (6)データ収集サーバ(207)が、前記半導体測定データに対応する前記工程レシピ、及び前記ロット識別子を収集し、前記トレースファイルに記録する第6ステップと、
    (7)前記リアルタイムデータベース(300)が、前記半導体測定データに関連するトレースファイルを保存する第7ステップと、
    (8)前記オペレーターインターフェースサーバ(201)の検索ブロック(1006)により、前記トレースファイルに保存された前記半導体測定データと基準データとを検索する第8ステップと、
    (9)前記半導体測定データと前記基準データとを比較し、前記半導体測定データが前記基準データに適合した場合は前記工程レシピを変更せず、前記半導体測定データと前記基準データとが適合しなかった場合に前記工程レシピを再設定する第9ステップと、
    を有することを特徴とする半導体製造システムの工程レシピ再設定方法。
  7. 記第1ステップは、予め指定された前記半導体ウェーハロットを予約する第10ステップをさらに含むことを特徴とする請求項記載の半導体製造システムの工程レシピ再設定方法
  8. 記第2ステップは、記工程レシピに応じて前記半導体ウェーハロットに露光工程を適用するステップを含むことを特徴とする請求項記載の半導体製造システムの工程レシピ再設定方法
JP2000195216A 1999-06-28 2000-06-28 半導体製造システムの工程レシピ再設定装置及び工程レシピ再設定方法 Expired - Fee Related JP4603131B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-1999-0024871A KR100464943B1 (ko) 1999-06-28 1999-06-28 웨이퍼 식각공정에서 샘플 데이타를 수집하기 위한 방법
KR1999/P24871 1999-06-28
KR1999/P24868 1999-06-28
KR10-1999-0024868A KR100537208B1 (ko) 1999-06-28 1999-06-28 포토 노광공정에서 트래이스 데이타파일을 관리하기 위한 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001068392A JP2001068392A (ja) 2001-03-16
JP4603131B2 true JP4603131B2 (ja) 2010-12-22

Family

ID=26635596

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000195216A Expired - Fee Related JP4603131B2 (ja) 1999-06-28 2000-06-28 半導体製造システムの工程レシピ再設定装置及び工程レシピ再設定方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6438441B1 (ja)
JP (1) JP4603131B2 (ja)
CN (1) CN1279425A (ja)
DE (1) DE10031481B4 (ja)
GB (1) GB2352532B (ja)
TW (1) TW511120B (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3917777B2 (ja) * 1999-04-12 2007-05-23 村田機械株式会社 光データ伝送装置
KR100510065B1 (ko) * 1999-06-22 2005-08-26 주식회사 하이닉스반도체 반도체 제조를 위한 오버레이 장비 자동화 방법
US6834370B1 (en) * 1999-07-08 2004-12-21 Osi Software, Inc. Method for creating master recipes
US6871112B1 (en) * 2000-01-07 2005-03-22 Advanced Micro Devices, Inc. Method for requesting trace data reports from FDC semiconductor fabrication processes
ATE491174T1 (de) * 2002-08-20 2010-12-15 Tokyo Electron Ltd Verfahren zum verarbeiten von daten auf der basis des datenkontexts
US7877161B2 (en) * 2003-03-17 2011-01-25 Tokyo Electron Limited Method and system for performing a chemical oxide removal process
US6766214B1 (en) * 2003-04-03 2004-07-20 Advanced Micro Devices, Inc. Adjusting a sampling rate based on state estimation results
US7076326B2 (en) * 2003-10-06 2006-07-11 Intel Corporation Proactive staging for distributed material handling
JP4141934B2 (ja) * 2003-10-21 2008-08-27 セイコーエプソン株式会社 チップデータ提供システム、チップデータ提供サーバ及びチップ選別システム
JP4664630B2 (ja) * 2004-07-22 2011-04-06 株式会社東芝 半導体装置の製造装置に対する自動レシピ作成装置及び作成方法
US7676295B2 (en) * 2005-02-18 2010-03-09 Lam Research Corporation Processing information management in a plasma processing tool
KR100596506B1 (ko) 2005-06-03 2006-07-04 삼성전자주식회사 배치 타입의 반도체 설비 제어 방법
US7515982B2 (en) * 2006-06-30 2009-04-07 Intel Corporation Combining automated and manual information in a centralized system for semiconductor process control
JP2011054619A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
US8239056B2 (en) * 2009-11-11 2012-08-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Advanced process control for new tapeout product
US9778941B2 (en) * 2014-07-28 2017-10-03 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing system, storage medium and method of registering new device
CN114270489A (zh) * 2019-08-26 2022-04-01 东京毅力科创株式会社 信息处理装置以及基板处理方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10312259A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置のプロセスデータ表示制御装置

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4571685A (en) 1982-06-23 1986-02-18 Nec Corporation Production system for manufacturing semiconductor devices
JPH0616475B2 (ja) 1987-04-03 1994-03-02 三菱電機株式会社 物品の製造システム及び物品の製造方法
JP2780814B2 (ja) 1989-06-22 1998-07-30 株式会社日立製作所 生産管理システム
JPH0425349A (ja) 1990-05-21 1992-01-29 Mitsubishi Electric Corp 混成ロット編成方法及び装置
US5495417A (en) 1990-08-14 1996-02-27 Kabushiki Kaisha Toshiba System for automatically producing different semiconductor products in different quantities through a plurality of processes along a production line
US5579231A (en) 1991-03-19 1996-11-26 Fujitsu Limited Management system for manufacture
JP2828526B2 (ja) 1991-06-20 1998-11-25 三菱電機株式会社 生産ラインの制御情報自動生成方式
JP2985505B2 (ja) 1991-07-08 1999-12-06 株式会社日立製作所 品質情報収集診断システム及びその方法
JP2880876B2 (ja) 1993-04-15 1999-04-12 山口日本電気株式会社 搬送制御システム
JP3446256B2 (ja) 1993-09-03 2003-09-16 株式会社日立製作所 Faシステムの制御方法及び装置
IT1272036B (it) 1993-11-05 1997-06-11 Marelli Autronica Sistema di registraziome per una linea di produzione.
JP2616413B2 (ja) 1993-11-22 1997-06-04 日本電気株式会社 リペアデータの編集装置およびリペアデータの編集方法
US5461570A (en) 1994-06-10 1995-10-24 Johnson & Johnson Vision Products, Inc. Computer system for quality control correlations
US5541846A (en) * 1994-10-24 1996-07-30 Secrest; Edgar A. Self-improving work instruction system
US5591299A (en) * 1995-04-28 1997-01-07 Advanced Micro Devices, Inc. System for providing integrated monitoring, control and diagnostics functions for semiconductor spray process tools
JPH10106917A (ja) * 1996-10-02 1998-04-24 Toshiba Corp 半導体装置製造用生産システム
US5859964A (en) * 1996-10-25 1999-01-12 Advanced Micro Devices, Inc. System and method for performing real time data acquisition, process modeling and fault detection of wafer fabrication processes
US5886896A (en) * 1996-11-19 1999-03-23 Advanced Micro Devices, Inc. Method and apparatus for integrated control of a sensor in a manufacturing processing station
JP2867982B2 (ja) * 1996-11-29 1999-03-10 日本電気株式会社 半導体装置の製造装置
US5943230A (en) * 1996-12-19 1999-08-24 Applied Materials, Inc. Computer-implemented inter-chamber synchronization in a multiple chamber substrate processing system
US6035293A (en) * 1997-10-20 2000-03-07 Advanced Micro Devices, Inc. Validating process data in manufacturing process management
US6092000A (en) * 1997-10-28 2000-07-18 Vanguard International Semiconductor Corporation Method for maximizing the throughput of a multiple-step workstation in a plant
US6054374A (en) * 1997-11-26 2000-04-25 Advanced Micro Devices Method of scaling dielectric thickness in a semiconductor process with ion implantation
US6041270A (en) * 1997-12-05 2000-03-21 Advanced Micro Devices, Inc. Automatic recipe adjust and download based on process control window
EP0932194A1 (en) 1997-12-30 1999-07-28 International Business Machines Corporation Method and system for semiconductor wafer fabrication process real-time in-situ interactive supervision
TW394977B (en) * 1998-04-21 2000-06-21 United Microelectronics Corp A recycle method for the monitor control chip
US6197604B1 (en) * 1998-10-01 2001-03-06 Advanced Micro Devices, Inc. Method for providing cooperative run-to-run control for multi-product and multi-process semiconductor fabrication
WO2000036479A1 (en) * 1998-12-16 2000-06-22 Speedfam-Ipec Corporation An equipment virtual controller

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10312259A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置のプロセスデータ表示制御装置

Also Published As

Publication number Publication date
US6438441B1 (en) 2002-08-20
DE10031481A1 (de) 2001-07-12
GB0015839D0 (en) 2000-08-23
GB2352532A (en) 2001-01-31
GB2352532B (en) 2003-09-10
CN1279425A (zh) 2001-01-10
DE10031481B4 (de) 2011-01-27
TW511120B (en) 2002-11-21
JP2001068392A (ja) 2001-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4603131B2 (ja) 半導体製造システムの工程レシピ再設定装置及び工程レシピ再設定方法
US6728588B2 (en) Apparatus and method for automatically controlling semiconductor manufacturing process in semiconductor factory automation system
TW579542B (en) Method and apparatus for controlling photolithography overlay registration incorporating feedforward overlay information
JP4357805B2 (ja) レシピ配布管理データベースを備えた半導体ウェハ製造実行システム
JP3309478B2 (ja) チップ管理システムおよびその入力処理方法とロット処理方法およびチップ管理システムによるチップ製造方法
GB2351362A (en) Semiconductor factory automation system and method for controlling automatic guide vehicle
US20060095153A1 (en) Wafer carrier transport management method and system thereof
GB2352058A (en) Automatically managing and recording semiconductor production
US6108585A (en) Probabilistic dispatching method and arrangement
US6909933B2 (en) Method, device, computer-readable memory and computer program element for the computer-aided monitoring and controlling of a manufacturing process
US20020168806A1 (en) Automated processing method and system for product wafer and non product wafer, and recording medium in which the method is recorded
JP4618850B2 (ja) 半導体工場自動化システム及び自動化方法
US20030204528A1 (en) Semiconductor wafer manufacturing execution system with special engineer requirement database
JP2008198842A (ja) 非製品ウェハのサイクル運用システム、サイクル運用方法及びコンピュータプログラム
US6678566B2 (en) Backup control system (BCS) for optimizing utilization of multiple fabrication facilities
JP2001076982A (ja) 半導体ウェーハを測定する測定装備を制御するための半導体工場自動化システム及び自動化方法
US6694210B1 (en) Process recipe modification in an integrated circuit fabrication apparatus
JPH0786112A (ja) 生産管理方法
US6757578B1 (en) Semiconductor factory automation system and method for processing lot of semiconductor wafers at full-automation mode or semi-automation mode
JP2606112B2 (ja) 半導体装置の製造システム
JP2001068391A (ja) 半導体工場自動化装置及び自動化システム並びに自動化方法と記録媒体
KR100597595B1 (ko) 반도체 제조를 위한 사진공정에서의 샘플 웨이퍼 처리 방법
JPH0594931A (ja) 半導体製造装置の処理システム
KR20010003304A (ko) 반도체 제조공정에서 발생하는 데이터의 자동 기록 장치 및 방법
JP2000306823A (ja) 露光装置システム、露光装置、半導体製造装置および半導体製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20051102

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060314

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091222

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100323

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100518

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100811

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100907

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101001

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131008

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees