JP2008198842A - 非製品ウェハのサイクル運用システム、サイクル運用方法及びコンピュータプログラム - Google Patents
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Abstract
【課題】非製品ウェハが処理されるルートを適切に設定して測定データの信頼性を向上し、ウェハ割れ等を防止すると共に非製品ウェハの在庫量を調整する事ができる非製品ウェハのサイクル運用システム、サイクル運用方法及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】プロセス装置と再生処理装置と記憶手段と制御手段とを含み、制御手段は、プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する非製品ウェハを選択し、選択された非製品ウェハをプロセス装置にプロセス処理させ、記憶手段に記憶されている非製品ウェハの再生回数と熱処理回数とをそれぞれ再生限度回数と熱処理限度回数と比較することによって再生処理を行なうか否かを決定し、再生処理を行なわない場合には適宜膜種情報を更新し、再生処理を行なう場合には非製品ウェハを再生処理装置に再生処理させるとともに再生処理の種類に応じて非製品ウェハの再生回数と熱処理回数と膜種情報とを適宜更新する。
【選択図】図1
【解決手段】プロセス装置と再生処理装置と記憶手段と制御手段とを含み、制御手段は、プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する非製品ウェハを選択し、選択された非製品ウェハをプロセス装置にプロセス処理させ、記憶手段に記憶されている非製品ウェハの再生回数と熱処理回数とをそれぞれ再生限度回数と熱処理限度回数と比較することによって再生処理を行なうか否かを決定し、再生処理を行なわない場合には適宜膜種情報を更新し、再生処理を行なう場合には非製品ウェハを再生処理装置に再生処理させるとともに再生処理の種類に応じて非製品ウェハの再生回数と熱処理回数と膜種情報とを適宜更新する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体製造工程におけるプロセス装置の状態を把握するための非製品ウェハを管理する技術に関する。
半導体製造工場においては、各種プロセス装置が複数使用されて製品ウェハに対し多様なプロセス処理が行われ、製品が製造されている。
また、製品とはならない非製品ウェハ(以下、NPW;Non Product Waferと称す)が、製品ウェハのプロセス処理の合間の必要な時期に各プロセス装置に投入され、実際にNPWに対してプロセス処理を行い、処理されたNPWの各種測定データを得る事でプロセス装置の状態やプロセス処理条件の確認を行っている(装置パイロット)。さらに、NPWはプロセス処理を安定化させるためにダミーウェハとしてもプロセス装置に投入される(装置ダミー)。
また、製品とはならない非製品ウェハ(以下、NPW;Non Product Waferと称す)が、製品ウェハのプロセス処理の合間の必要な時期に各プロセス装置に投入され、実際にNPWに対してプロセス処理を行い、処理されたNPWの各種測定データを得る事でプロセス装置の状態やプロセス処理条件の確認を行っている(装置パイロット)。さらに、NPWはプロセス処理を安定化させるためにダミーウェハとしてもプロセス装置に投入される(装置ダミー)。
ここで、安定して装置パイロットなどを行なうためには、新品のウェハを用いてNPWとする事が最も適している。しかし、このNPWは、半導体製造工場のラインの維持には必要不可欠であるが製品の生産高には寄与しないため、出来る限りコストの低いウェハを用いると共に、NPWをリサイクルして効率的に再利用する事が求められる。そこで、NPWは、プロセス処理によって表面に付着した生成物やゴミ等を除去する再生処理が行われた上で再利用される。
この再生処理は自社内の再生処理装置を用いて行う事ができるが、限られた設備で行える処理は簡単に行える処理に限定される。一方、社外の再生処理施設を利用すると、自社内設備では再生できないものも再生可能である。ただし、新品ウェハは最もコストが高く、社外で再生処理されたウェハは次にコストが高く、社内で再生処理されたウェハは最もコストが低い。
また、装置パイロットにはゴミや傷が少なく、蓄積された熱ダメージも少ないNPWが必要とされる一方、装置ダミーにはそれほど状態の良いものは必要とされない。従って、例えば装置パイロットには使用不可能となったNPWを装置ダミーに使用するという様に、リサイクルして利用すると効率が良い。
この様なNPWをリサイクルして効率よく再利用する方法は、NPWサイクル運用と称される。NPWは、目的に合致した適切な膜種(ウェハに形成された膜の種類)を有し、必要な時にすぐに使用できる事が要求される。また、経済効率を考慮するとNPW在庫量を少なくする事が望まれる。
この様なNPWをリサイクルして効率よく再利用する方法は、NPWサイクル運用と称される。NPWは、目的に合致した適切な膜種(ウェハに形成された膜の種類)を有し、必要な時にすぐに使用できる事が要求される。また、経済効率を考慮するとNPW在庫量を少なくする事が望まれる。
従来、このNPWサイクル運用は、コンピュータのディスプレイに表示された指示に従って人が処理する事によって行われている。その様な従来技術として、例えば特許文献1に記載された技術がある。
特開平5−74675号公報
しかしながら、半導体製造プロセスの微細化、複雑化に伴い、要求される膜種の数や装置状態を確認するためのNPW品名の数などが膨大となっているので、従来技術に係る管理方法によれば、NPWを処理するルートの間違い(例えば、再生処理されたNPWの膜種の人による設定誤りなど)によるNPWの膜種の不安定性を招き、NPW測定データの信頼性が低下するという問題がある。
また、NPWの再生処理は、洗浄装置やCMP(Chemical Mechanical Polishing)装置を用いて表面に付着した生成物等を除去して行われるため、何度も再生処理が施された場合にはNPWにダメージが蓄積され、ウェハ割れが発生する。また、拡散炉などの高温で処理される工程を経たNPWは熱ダメージを受け、この熱ダメージはNPWに蓄積されるので、しきい値を超えるとウェハ割れが発生してプロセス装置の稼動に影響する。更に、再生処理を繰り返すと、通常の再生処理によっては除去する事が不可能な生成物等がNPWに次第に付着していき、ウェハ汚染が発生する。従来技術による管理方法では、再生回数や熱ダメージ等の履歴情報を把握する事はできないという問題がある。
更に、特定のNPWが頻繁に使用される一方、再生処理を行っても全く使用されないNPWが発生するので無駄が生じるという問題がある。これは、即ち、過剰な在庫を有する事になる。また、膜種毎のNPWの在庫数や、再生フローと膜種の関係が人の管理可能な程度にまとめられた情報として扱われているため、NPWの無駄が多くなり、在庫量が適切に調整されず増加するという問題もある。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、その目的は、NPWが処理されるルートを適切に設定してNPW測定データの信頼性を向上し、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止すると共に、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる非製品ウェハのサイクル運用システム、サイクル運用方法及びコンピュータプログラムを提供する事である。
本発明は上記の課題を解決するためになされたもので、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用システムは、プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムであって、前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を含んで構成され、前記制御手段は、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択し、該選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させ、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数とをそれぞれ前記記憶手段に記憶された再生限度回数と熱処理限度回数と比較することによって再生処理を行なうか否かを決定し、再生処理を行なわない場合には適宜膜種情報を更新し、再生処理を行なうことを決定した場合には当該非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるとともに当該再生処理の種類に応じて前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数と膜種情報とを適宜更新することを特徴とすることを特徴とする。
本発明によれば、制御手段(ホストコンピュータ)が、非製品ウェハ毎に対応付けられて記憶されている膜種、再生回数、熱履歴回数等の固有情報に基づいて、所望のプロセス処理毎に予め設定されている条件に該当する適切なNPWを選択するので、信頼性が高いNPW測定データを得る事ができる。また、ホストコンピュータはNPWに再生処理が行われる度に再生処理の内容に応じて再生回数や熱履歴回数を加算するので、再生回数や熱履歴回数を各々再生限度回数、熱履歴限度回数と比較する事によって、NPWが処理されるルートを適切に設定できる。従って、NPW測定データの信頼性を向上し、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止すると共に、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用システムは、プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムであって、前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を含んで構成され、前記制御手段は、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択し、該選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させ、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの前記再生回数と前記再生限度回数とを比較すると共に当該非製品ウェハの前記熱履歴回数と前記熱履歴限度回数とを比較し、該再生回数が該再生限度回数未満でありかつ該熱履歴回数が該熱履歴限度回数未満である場合に該非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させ、該再生処理が熱処理を伴う場合には該再生回数及び該熱履歴回数の両方に1回加算すると共に前記膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶し、該再生処理が熱処理を伴わない場合には該再生回数に1回加算すると共に前記膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶し、該再生回数が該再生限度回数以上である場合または前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数以上である場合の何れかの場合に前記限度回数を超えた場合の処理を行うことを特徴とする。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用システムは、前記記憶手段が、前記プロセス処理毎に該プロセス処理後の膜種情報を更に記憶し、前記限度回数を超えた場合の処理は、前記非製品ウェハの膜種情報を前記プロセス処理後の膜種情報に変更して前記記憶手段に記憶する処理、または、該非製品ウェハを社外再生する処理、または、該非製品ウェハを廃棄する処理の何れかである事を特徴とする。
本発明によれば、再生限度回数や熱履歴回数を超えたNPWが処理されるルートを適切に設定できるので、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止する事ができる。
本発明によれば、再生限度回数や熱履歴回数を超えたNPWが処理されるルートを適切に設定できるので、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止する事ができる。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用システムは、前記記憶手段が、前記非製品ウェハ毎に社外再生回数を更に記憶すると共に、前記プロセス処理毎に社外再生限度回数と該社外再生限度回数を超えた場合の処理を更に記憶し、前記制御手段は、前記非製品ウェハが社外再生された後に前記社外再生回数を1回加算し、該社外再生回数が前記社外再生限度回数以上である場合、該社外再生限度回数を超えた場合の処理を行う事を特徴とする。
本発明によれば、社外再生処理されたNPWが処理されるルートを適切に設定できるので、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止する事ができる。
本発明によれば、社外再生処理されたNPWが処理されるルートを適切に設定できるので、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止する事ができる。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用システムは、前記社外再生限度回数を超えた場合の処理が、前記非製品ウェハの膜種情報を前記プロセス処理後の膜種に変更して該記憶手段に記憶する処理、または、該非製品ウェハを廃棄する処理の何れかである事を特徴とする。
本発明によれば、社外再生処理されたNPWが処理されるルートを適切に設定できるので、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止する事ができる。
本発明によれば、社外再生処理されたNPWが処理されるルートを適切に設定できるので、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止する事ができる。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用システムは、前記非製品ウェハが、前記プロセス処理に利用可能な膜種から優先順位に基づいて選択される事を特徴とする。
本発明によれば、優先順位に基づいてNPWを使用できるので、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる。
本発明によれば、優先順位に基づいてNPWを使用できるので、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用システムは、前記優先順位が、前記非製品ウェハのコストと在庫数とに応じたものである事を特徴とする。
本発明によれば、コストが高いNPWや、在庫数が多いNPWから使用されるので、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる。
本発明によれば、コストが高いNPWや、在庫数が多いNPWから使用されるので、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用システムは、前記記憶手段が、前記膜種毎に前記非製品ウェハの在庫数を更に記憶し、前記制御手段は、所定の膜種の在庫数が基準以下となった場合に他の膜種の非製品ウェハを前記再生処理装置で再生処理して該所定の膜種を得る事を特徴とする。
本発明によれば、頻繁に使用されて不足している膜種のNPWを補充できるので、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる。
本発明によれば、頻繁に使用されて不足している膜種のNPWを補充できるので、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用方法は、非製品ウェハをプロセス処理するプロセス装置と、前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を含んで構成され、前記プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される前記非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムを用いた非製品ウェハのサイクル運用方法であって、前記制御手段が、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択するステップと、前記制御手段が、該選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させるステップと、前記制御手段が、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数とをそれぞれ前記記憶手段に記憶された再生限度回数と熱処理限度回数と比較することによって再生処理を行なうか否かを決定するステップと、前記制御手段が、再生処理を行なわない場合には適宜膜種情報を更新するステップと、前記制御手段が、再生処理を行なうことを決定した場合には当該非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるとともに当該再生処理の種類に応じて前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数と膜種情報とを適宜更新するステップと、を含むことを特徴とする。
また、本発明に係る非製品ウェハのサイクル運用方法は、非製品ウェハをプロセス処理するプロセス装置と、前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を含んで構成され、前記プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される前記非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムを用いた非製品ウェハのサイクル運用方法であって、前記制御手段が、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択するステップと、前記制御手段が、前記選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させるステップと、前記制御手段が、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの前記再生回数と前記再生限度回数とを比較すると共に当該非製品ウェハの前記熱履歴回数と前記熱履歴限度回数とを比較するステップと、前記制御手段が、前記再生回数が前記再生限度回数未満でありかつ前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数未満である場合に前記非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるステップと、前記制御手段が、前記再生処理が熱処理を伴う場合には前記再生回数及び前記熱履歴回数の両方に1回加算すると共に前記膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して前記記憶手段に記憶し、該再生処理が熱処理を伴わない場合には該再生回数に1回加算すると共に該膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶するステップと、前記制御手段が、前記再生回数が前記再生限度回数以上である場合または前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数以上である場合の何れかの場合に前記限度回数を超えた場合の処理を行うステップと、を含むことを特徴とする。
また、本発明に係るコンピュータプログラムは、非製品ウェハをプロセス処理するプロセス装置と、前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を含んで構成され、前記プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される前記非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムを制御するコンピュータプログラムであって、前記制御手段が、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択するステップと、前記制御手段が、該選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させるステップと、前記制御手段が、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数とをそれぞれ前記記憶手段に記憶された再生限度回数と熱処理限度回数と比較することによって再生処理を行なうか否かを決定するステップと、前記制御手段が、再生処理を行なわない場合には適宜膜種情報を更新するステップと、前記制御手段が、再生処理を行なうことを決定した場合には当該非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるとともに当該再生処理の種類に応じて前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数と膜種情報とを適宜更新するステップと、をコンピュータに実行させるものである。
また、本発明に係るコンピュータプログラムは、非製品ウェハをプロセス処理するプロセス装置と、前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を含んで構成され、前記プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される前記非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムを制御するコンピュータプログラムであって、前記制御手段が、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択するステップと、前記制御手段が、前記選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させるステップと、前記制御手段が、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの前記再生回数と前記再生限度回数とを比較すると共に当該非製品ウェハの前記熱履歴回数と前記熱履歴限度回数とを比較するステップと、前記制御手段が、前記再生回数が前記再生限度回数未満でありかつ前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数未満である場合に前記非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるステップと、前記制御手段が、前記再生処理が熱処理を伴う場合には前記再生回数及び前記熱履歴回数の両方に1回加算すると共に前記膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して前記記憶手段に記憶し、該再生処理が熱処理を伴わない場合には該再生回数に1回加算すると共に該膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶するステップと、前記制御手段が、前記再生回数が前記再生限度回数以上である場合または前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数以上である場合の何れかの場合に前記限度回数を超えた場合の処理を行うステップと、をコンピュータに実行させるものである。
本発明によれば、ホストコンピュータが、非製品ウェハ毎に対応付けられて記憶されている膜種、再生回数、熱履歴回数等の固有情報に基づいて、所望のプロセス処理毎に予め設定されている条件に該当する適切なNPWを選択するので、信頼性が高いNPW測定データを得る事ができる。また、ホストコンピュータはNPWに再生処理が行われる度に再生処理の内容に応じて再生回数や熱履歴回数を加算するので、再生回数や熱履歴回数を各々再生限度回数、熱履歴限度回数と比較する事によって、NPWが処理されるルートを適切に設定できる。従って、NPW測定データの信頼性を向上し、ウェハ割れ、ウェハ汚染を有効に防止すると共に、NPWの在庫量を適切に調整する事ができる非製品ウェハのサイクル運用システム、サイクル運用方法及びコンピュータプログラムを提供出来る。
以下に、図面を参照して本発明の一実施形態について説明する。
図1は、本発明の実施形態に係るNPWのサイクル運用システムの構成図である。
このサイクル運用システムは、ホストコンピュータ1、記憶手段2、搬送手段3、保管手段4、ID検出手段5、NPW立替手段6、制御端末7、マスタ情報登録端末8、プロセス装置10,11、再生処理装置12,13を含んで構成される。
同図において、破線はデータの経路を表し、実線はNPWの経路を表す。
図1は、本発明の実施形態に係るNPWのサイクル運用システムの構成図である。
このサイクル運用システムは、ホストコンピュータ1、記憶手段2、搬送手段3、保管手段4、ID検出手段5、NPW立替手段6、制御端末7、マスタ情報登録端末8、プロセス装置10,11、再生処理装置12,13を含んで構成される。
同図において、破線はデータの経路を表し、実線はNPWの経路を表す。
ホストコンピュータ1は制御手段として機能し、記憶手段2に記憶されている各種情報に基づいて、記憶手段2、搬送手段3、ID検出手段5、NPW立替手段6を制御するものである。
また、記憶手段2は、各NPW固有のウェハID毎のNPW区分、NPW品名、膜種、再生回数(リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数)、熱履歴回数、膜種毎の在庫数、ロットID毎の当該ロットに属するウェハIDと優先順位、NPW区分が「リファレンス・ダミー品」であるNPWのNPW品名毎の工程手順、再生限度回数(リサイクル限度回数、社内再生限度回数、社外再生限度回数)と熱履歴限度回数、NPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWの利用可能な膜種と優先順位、再生限度回数や熱履歴限度回数を超えた場合の処理、プロセス処理後の膜種、NPW区分が「社外再生・下地作成品」であるNPWのNPW品名毎の工程手順、再生処理後の膜種などを記憶するものである。なお、NPW区分が「リファレンス・ダミー品」のNPWは、後述する様に各プロセス処理に用いられるものである。つまり、記憶手段2はプロセス処理毎の再生限度回数と熱履歴限度回数等を記憶している。
次に、上記の各情報について、ウェハID毎の情報から順に説明する。ウェハID毎のNPW区分は、NPWを管理するための区分であり、各NPWは何れかのNPW区分に属する。NPW品名は、NPWが処理される工程手順を表す情報である。膜種は、NPWに形成されている膜の種類を表す情報である。これらについては、より詳しく後述する。
リサイクル回数は、NPWが同一の再生処理装置によって再生処理された回数を表す情報である。社内再生回数は、NPWが社内設備の再生処理装置(即ち再生処理装置12,13)によって再生処理された回数を表す情報である。社外再生回数は、NPWが社外設備の再生処理装置によって再生処理された回数を表す情報である。熱履歴回数は、NPWが再生処理装置(社内設備、社外設備)によって熱処理された回数を表す情報である。社内再生回数、社外再生回数、熱履歴回数は、各処理が行われた通算の回数を表し、リセットされる事はない。これらについても、より詳しく後述する。
リサイクル回数は、NPWが同一の再生処理装置によって再生処理された回数を表す情報である。社内再生回数は、NPWが社内設備の再生処理装置(即ち再生処理装置12,13)によって再生処理された回数を表す情報である。社外再生回数は、NPWが社外設備の再生処理装置によって再生処理された回数を表す情報である。熱履歴回数は、NPWが再生処理装置(社内設備、社外設備)によって熱処理された回数を表す情報である。社内再生回数、社外再生回数、熱履歴回数は、各処理が行われた通算の回数を表し、リセットされる事はない。これらについても、より詳しく後述する。
次に、膜種毎の情報について説明する。膜種毎の在庫数は、本サイクル運用システム内のNPWの枚数を膜種毎に表す情報である。
次に、ロットID毎の情報について説明する。ロットID毎の当該ロットに属するウェハIDは、同一のロットに属するNPWのウェハIDを表す情報である。優先順位は、同一のロットに属するNPWの再生回数等に基づいて付されている情報であり、後述する様にホストコンピュータ1は優先順位に従ってロットからNPWを選択する。
次に、ロットID毎の情報について説明する。ロットID毎の当該ロットに属するウェハIDは、同一のロットに属するNPWのウェハIDを表す情報である。優先順位は、同一のロットに属するNPWの再生回数等に基づいて付されている情報であり、後述する様にホストコンピュータ1は優先順位に従ってロットからNPWを選択する。
続いて、NPW区分が「リファレンス・ダミー品」であるNPWのNPW品名毎の情報について説明する。工程手順は、NPW品名に対応して決められているプロセス処理の工程とその順序を表す情報である。再生限度回数(リサイクル限度回数、社内再生限度回数、社外再生限度回数)は許容される各々の再生回数(リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数)の上限を表す情報であり、熱履歴限度回数は許容される熱履歴回数の上限を表す情報である。NPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWの利用可能な膜種と優先順位は、あるNPW品名に利用可能な膜種を優先順位と共に表す情報である。再生限度回数や熱履歴限度回数を超えた場合の処理は、NPWの膜種情報をプロセス処理後の膜種情報に変更する処理、または、NPWを社外再生する処理、または、NPWを廃棄する処理の何れかであり、NPW品名に対応して記憶されている。プロセス処理後の膜種は、NPWが工程手順に従ってプロセス処理された結果として得られる膜種の情報である。
続いて、NPW区分が「社外再生・下地作成品」であるNPWのNPW品名毎の情報について説明する。工程手順は、NPW品名に対応して決められている再生処理の工程とその順序を表す情報である。再生処理後の膜種は、NPWが工程手順に従って再生処理された結果として得られる膜種の情報である。
ここで、記憶手段2が記憶するデータ構造の概念図を図2,3に示す。
図2に示す様に、ウェハIDに対応付けてNPW区分、NPW品名、膜種、リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数、熱履歴回数を表すデータが記憶手段2に記憶される。
また、図3(a)に示す様に、NPW区分が「リファレンス・ダミー品」であるNPWのNPW品名に対応付けて工程手順、再生限度回数、熱履歴限度回数、利用可能な膜種と優先順位、再生限度回数を超えた場合の処理、プロセス処理後の膜種を表すデータが記憶手段2に記憶される。
さらに、図3(b)に示す様に、NPW区分が「社外再生・下地作成品」であるNPWのNPW品名に対応付けて工程手順、再生処理後の膜種を表すデータが記憶手段2に記憶される。
図2に示す様に、ウェハIDに対応付けてNPW区分、NPW品名、膜種、リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数、熱履歴回数を表すデータが記憶手段2に記憶される。
また、図3(a)に示す様に、NPW区分が「リファレンス・ダミー品」であるNPWのNPW品名に対応付けて工程手順、再生限度回数、熱履歴限度回数、利用可能な膜種と優先順位、再生限度回数を超えた場合の処理、プロセス処理後の膜種を表すデータが記憶手段2に記憶される。
さらに、図3(b)に示す様に、NPW区分が「社外再生・下地作成品」であるNPWのNPW品名に対応付けて工程手順、再生処理後の膜種を表すデータが記憶手段2に記憶される。
再び図1の説明に戻り、制御端末7は、作業者の操作によりラインに投入するNPWを選択するためのものである。さらに、マスタ情報登録端末8は、管理者の操作によりNPW毎にウェハID等の固有の情報などを記憶手段2に記憶させるためのものである。
また、保管手段4は各NPWをロット毎に収納容器に収めて保管するものであり、例えば自動倉庫である。また、NPW立替手段6は、ホストコンピュータ1の制御に基づいて保管手段4に保管されている収納容器からNPWを取り出し、異なる収納容器へ移動させるものであり、例えば立替機である。
さらに、搬送手段3は、ホストコンピュータ1の制御に基づいて収納容器に収められたNPWを保管手段4とプロセス装置10,11と再生処理装置12,13との間で搬送するものであり、例えば搬送ロボットである。また、ID検出手段5はホストコンピュータ1の制御に基づいて保管手段4に保管されているNPWのウェハIDを読み取り認識するものであり、例えばカメラと画像認識装置である。
また、プロセス装置10,11は製品ウェハ及びNPWをプロセス処理するものであり、例えば拡散炉、エッチング装置などを含む。ここで、プロセス処理とは半導体製造プロセスにおける各種の処理を表すものであり、例えば酸化膜形成処理やエッチング処理や金属配線層形成処理などを含む。さらに、再生処理装置12,13はNPWを再生処理するものであり、社内設備を表す。
本システムは、半導体製造工場の有する複数台のプロセス装置、再生処理装置を含むものである。ここでは理解を容易にするためにプロセス装置10,11と再生処理装置12,13のみを図示している。
本システムは、半導体製造工場の有する複数台のプロセス装置、再生処理装置を含むものである。ここでは理解を容易にするためにプロセス装置10,11と再生処理装置12,13のみを図示している。
次に、各NPWの固有情報について説明する。
各々のNPWにはSEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)規格によって定められた固有のウェハIDが、ウェハ裏面を削って形成された2次元バーコードによって付されている。そして、このウェハID単位で記憶手段2に記憶されたNPW区分、NPW品名、膜種、再生回数、熱履歴回数等の固有情報をホストコンピュータ1が更新する。
各々のNPWにはSEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)規格によって定められた固有のウェハIDが、ウェハ裏面を削って形成された2次元バーコードによって付されている。そして、このウェハID単位で記憶手段2に記憶されたNPW区分、NPW品名、膜種、再生回数、熱履歴回数等の固有情報をホストコンピュータ1が更新する。
つまり、ホストコンピュータ1はID検出手段5を制御し、ID検出手段5が読み取ったNPWのウェハIDを得る事により、そのウェハIDに対応付けられて記憶手段2に記憶されているNPW区分等の全ての固有情報を把握できる。また、再生回数等の履歴情報は、NPWがプロセス装置10,11や再生処理装置12,13によって処理される毎にホストコンピュータ1によって随時更新され、記憶手段2に記憶される。
ここで、NPW区分とは、本NPWサイクル運用システムにおいてNPWを管理するための区分である。このNPW区分は、「使用待ち保管品」、「リファレンス・ダミー品」、「社内再生・下地作成品」、「社外再生・廃棄回収品」の4種類であり、このNPWサイクル運用システムに登録されたNPWは4つのNPW区分の何れか1つに属する。
次に、上記4種類のNPW区分について説明する。NPW区分「使用待ち保管品」は、「リファレンス・ダミー品」としてプロセスに投入されるのを待っているNPW区分である。また、NPW区分「リファレンス・ダミー品」は、装置保証や製品保証の為にパイロットを行うか、あるいは装置ダミー品として使用されるNPW区分である。また、NPW区分「社内再生・下地作成品」は、使用済みNPW(プロセス装置により処理されたNPW)を再度社内再生して利用するか、あるいは他の膜種へ転用するためのNPW区分である。さらに、NPW区分「社外再生・廃棄回収品」は、使用済みNPWを社外再生に出すか、あるいは廃棄するNPW区分である。
また、NPW品名は工程手順を表すものであり、例えばNPW区分が「使用待ち保管品」に属するNPWは、「NPW−WAIT000」というNPW品名を必ず有し、記憶手段2に記憶されている。この「NPW−WAIT000」というNPW品名は、NPW投入、保管工程、NPW入庫という一連の工程手順を表すものであり、この工程手順も記憶手段2に記憶されている。
また、NPW区分が「リファレンス・ダミー品」に属するNPWは、例えばNPW品名としてゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」を有するものがある。このNPW品名は、NPW投入、前ゴミチェック、プロセス処理、後ゴミチェック、NPW入庫という工程手順を表す。ここで、NPW投入とはNPW立替手段6によって保管手段4からNPWを取り出し、新たなロットとしてラインに投入してプロセス処理が行われるプロセス装置に搬送する工程である。また、前ゴミチェックとは、プロセス処理前のNPWの表面に付着したゴミの量を測定する工程である。また、プロセス処理とは、前述の様に酸化膜形成処理などを行う工程である。さらに、後ゴミチェックとは、プロセス処理後のNPWの表面に付着したゴミの量を測定する工程である。また、NPW入庫とは、処理が終了したNPWをウェハ収納容器に入庫する工程である。
NPW区分「リファレンス・ダミー品」、「社内再生・下地作成品」、「社外再生・廃棄回収品」は、用途に対応して様々なNPW品名(即ち工程手順)を有するNPWを含んでいる。ホストコンピュータ1は、NPW品名から定義される工程手順に従ってNPWを処理する様に各部を制御する。なお、工程手順は、NPWが処理されるプロセス装置や再生処理装置を特定する情報も含んでいる。
また、膜種はウェハに形成された膜の種類を表すものであり、例えば、新品を表す「NEW1」,「NEW2」、社外再生品を表す「OLD1」、社内転用品を表す「TEN1」,「TEN2」等がある。
また、膜種はウェハに形成された膜の種類を表すものであり、例えば、新品を表す「NEW1」,「NEW2」、社外再生品を表す「OLD1」、社内転用品を表す「TEN1」,「TEN2」等がある。
新たなNPWを本NPWサイクル運用システムに投入する際に、管理者は、マスタ情報登録端末8を用いてホストコンピュータ1を介して記憶手段2にウェハID毎のNPW区分、NPW品名、膜種、再生回数、熱履歴回数等を記憶させる。さらに、管理者は、図2,3を用いて説明した様なNPW品名毎の再生限度回数と熱履歴限度回数などのデータを予め記憶手段2に記憶させ、NPWの処理経路を設定しておく。
次に、上述したNPWサイクル運用システムを用いてNPWをサイクル運用する方法について、図1から図4を参照して説明する。
図4は、NPWの処理経路を示す概念図である。
NPWは、各種プロセス装置に対して装置ダミーや装置パイロットのために用いられる。同図は、一例としてゴミチェック処理、ダミー1処理、ダミー2処理についてのみ示している。
図4は、NPWの処理経路を示す概念図である。
NPWは、各種プロセス装置に対して装置ダミーや装置パイロットのために用いられる。同図は、一例としてゴミチェック処理、ダミー1処理、ダミー2処理についてのみ示している。
(1)ゴミチェック処理
ゴミチェック処理とは装置パイロットの一種であり、プロセス装置がNPWに対してプロセス処理を行うことによってウェハ表面に付着するゴミの量を調べるものである。
まず、ホストコンピュータ1はライン内で不足しているNPW品名を検出する。次に、ホストコンピュータ1にてリストアップされたNPW品名を投入すべきか否かを作業者が判断する。ここでは、作業者は制御端末7を操作してゴミチェック処理に用いるゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」(24)を投入するものとする。
ゴミチェック処理とは装置パイロットの一種であり、プロセス装置がNPWに対してプロセス処理を行うことによってウェハ表面に付着するゴミの量を調べるものである。
まず、ホストコンピュータ1はライン内で不足しているNPW品名を検出する。次に、ホストコンピュータ1にてリストアップされたNPW品名を投入すべきか否かを作業者が判断する。ここでは、作業者は制御端末7を操作してゴミチェック処理に用いるゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」(24)を投入するものとする。
次に、ゴミチェック処理に利用可能な膜種と優先順位が、ホストコンピュータ1によって示される。作業者は制御端末7を使用して、保管手段4に保管されておりNPW区分が「使用待ち保管品」、膜種が「NEW1」(20)、「OLD1」(21)、「TEN1」(22)であるNPWロットの中から優先順位に基づいてゴミチェック処理に用いる膜種を選択する。ここで、前述した様に、ゴミチェック処理のために選択され得る膜種と優先順位は予め記憶手段2に記憶されており、ホストコンピュータ1はゴミチェック用のNPW品名に利用できない膜種(例えば膜種「NEW2」(23))からは選択できない様に制御する。
また、この膜種と優先順位はNPW品名毎に個別設定されて記憶手段2に記憶されている。例えば、あるゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」(24)では膜種「NEW1」(20)、「OLD1」(21)、「TEN1」(22)から選択し、別のゴミチェック用品名「RAPT−GOMICHECK000」(図示なし)では膜種「NEW3」(図示なし)、「OLD1」(21)、「OLD2」(図示なし)から選択する等の設定が出来る。
ここでは、膜種「NEW1」(20)が選択されたものとして以下の説明を行う。
制御端末7が出力した情報を受けたホストコンピュータ1は、膜種「NEW1」(20)から優先順位に従って不足枚数分のウェハIDを選択し、選択されたウェハIDに対応するNPW区分を「リファレンス・ダミー品」に変更し、NPW品名を「RCIM−GOMICHECK000」(24)に変更して記憶手段2に記憶する。次に、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、選択されたウェハIDを有するNPWを取り出す様にNPW立替手段6に指示を出す。この指示に従ってNPW立替手段6は、保管手段4に保管されており、膜種が「NEW1」(20)であり、NPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWのロットから必要枚数分ウェハを抜き取り、それらのウェハをゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」(24)の新たなロットとして投入する。
制御端末7が出力した情報を受けたホストコンピュータ1は、膜種「NEW1」(20)から優先順位に従って不足枚数分のウェハIDを選択し、選択されたウェハIDに対応するNPW区分を「リファレンス・ダミー品」に変更し、NPW品名を「RCIM−GOMICHECK000」(24)に変更して記憶手段2に記憶する。次に、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、選択されたウェハIDを有するNPWを取り出す様にNPW立替手段6に指示を出す。この指示に従ってNPW立替手段6は、保管手段4に保管されており、膜種が「NEW1」(20)であり、NPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWのロットから必要枚数分ウェハを抜き取り、それらのウェハをゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」(24)の新たなロットとして投入する。
ここで、NPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWから選択された各々のウェハには固有のウェハIDが対応付けられているので、NPW区分が変更になっても記憶手段2はウェハID毎に情報を記憶している。なお、上記ウェハIDはID検出手段5が立替時に読み取り、ウェハIDと実際のウェハの対応付けはホストコンピュータ1が誤っていないか確認する。
上述の処理について、図5を参照して更に説明する。図5は、ロットIDとNPW品名、膜種、ウェハIDの関係の一例を示す概念図である。同図に示す様に、NPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWは、同一の膜種を有する複数枚のNPWのウェハIDが関連付けられてロット100,101毎にロットIDによって管理されている。これらのNPWは、ロット100,101毎に別々のウェハ収納容器に収納されている。上述の処理では、NPW立替手段6はホストコンピュータ1に指示された優先順位に従って、例えばロット100の5枚のNPWが収納されたウェハ収納容器の中から2枚のNPWを抜き取り、この2枚のNPWをロットIDが異なる新たなロット102(NPW区分「リファレンス・ダミー品」、ゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」)として別のウェハ収納容器に収めてラインに投入する。
続いて、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順(NPW投入、前ゴミチェック、プロセス処理、後ゴミチェック、NPW入庫)に従い搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、その指示に従いゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」(24)として投入されたNPWを保管手段4からゴミチェック処理の対象となる所定のプロセス装置10に搬送する。NPWの搬送先となるプロセス装置10は、前述の工程手順に定義付けられている。そして、ホストコンピュータ1はプロセス装置10に指示を出し、プロセス装置10はその指示に従いゴミチェック処理を行う。
具体的には、まずプロセス処理前のNPWのゴミの量が測定され(前ゴミチェック)、続いてNPWはプロセス装置10によってプロセス処理される。
次に、プロセス処理が行われたNPWのゴミの量が再度測定され(後ゴミチェック)、測定されたゴミの量はプロセス処理前のゴミの量と比較されてプロセス装置10の状態把握等に利用される。
次に、プロセス処理が行われたNPWのゴミの量が再度測定され(後ゴミチェック)、測定されたゴミの量はプロセス処理前のゴミの量と比較されてプロセス装置10の状態把握等に利用される。
ゴミチェックの結果ゴミの量が規定値以下であった場合、ホストコンピュータ1は、このNPWのウェハIDに対応付けられて記憶手段2に記憶されている再生回数(リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数)を再生限度回数(リサイクル限度回数、社内再生限度回数、社外再生限度回数)と比較し、熱履歴回数を熱履歴限度回数と比較する。ホストコンピュータ1は、社内再生回数が予めNPW品名に対して設定されている社内再生限度回数(図示した例では20回とする)未満であり、その他の再生回数も各再生限度回数未満であり、熱履歴回数も熱履歴限度回数未満である場合、このNPWを通常処置として社内再生するために、NPW区分を「社内再生・下地作成品」に変更し、NPW品名を社内再生品名「RCIM−ZUMI000」(25)に変更して記憶手段2に記憶する。ここで、ゴミチェック用品名「RCIM−GOMICHECK000」(24)から変更され得る社内再生品名「RCIM−ZUMI000」(25)は、予め記憶手段2に記憶されている。
続いて、ホストコンピュータ1は、上記NPW品名に対応付けられている工程手順に従い搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを再生処理装置12に搬送する。NPWの搬送先となる再生処理装置12は、工程手順に定義付けられている。次に、ホストコンピュータ1は再生処理装置12に指示を出し、再生処理装置12はこの指示に基づいてNPWの再生処理を行う。ここでは、この再生処理は熱処理を含まないものとする。
再生処理が終了すると、再生処理装置12から終了報告を受けたホストコンピュータ1は、このウェハIDに対応するリサイクル回数と社内再生回数に1回加算すると共に、NPW区分を「使用待ち保管品」に変更し、NPW品名を「NPW−WAIT000」に変更し、膜種を「TEN1」(22)に変更して記憶手段2に記憶する。そして、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを保管手段4に搬送し、保管手段4はNPWを保管する。
次のゴミチェックを行う際には、再度優先順位に基づいてNPWが選択され、上述の一連の処理が所定のプロセス装置によって行われる。
次のゴミチェックを行う際には、再度優先順位に基づいてNPWが選択され、上述の一連の処理が所定のプロセス装置によって行われる。
一方、前述した再生回数の比較において、社内再生回数が社内再生限度回数(20回)以上である場合、ホストコンピュータ1はNPW区分を「社外再生・廃棄回収品」、NPW品名を社外再生品「RCIM−SYAGAI000」(26)に変更すると共に、社外再生回数に1回加算して記憶手段2に記憶する。続いて、このNPWは、社外の施設において再生処理が施され、その後再び本NPWサイクル運用システムに組み込まれる。その際、ホストコンピュータ1はID検出手段5を制御してこのNPWのウェハIDを読み取らせ、このウェハIDに対応するNPW区分を「使用待ち保管品」に変更し、膜種を「OLD1」(21)に変更して記憶手段2に記憶する。このNPWが社外再生に出される前にウェハIDに対応付けて記録されていたすべての情報は記憶手段2によって記憶されている。
また、前述のゴミチェックを行った結果、ゴミが規定値以上であった場合、このNPWは社内再生、社外再生の何れによっても再度ゴミチェック処理に用いる事ができる状態に再生する事は不可能であるため、別の処理に用いられる。そこで、ホストコンピュータ1は、このNPWのウェハIDに対応するNPW区分を「使用待ち保管品」に変更し、NPW品名を「NPW−WAIT000」に変更し、膜種を「DUM1」(27)に変更して記憶手段2に記憶する。この変更されるNPW区分、NPW品名、膜種は、予め記憶手段2に記憶されている。そして、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを保管手段4に搬送し、保管手段4はNPWを保管する。
(2)ダミー1処理
次に、ダミー1処理について説明する。ダミー1処理とは装置ダミーの一種であり、プロセス処理を安定化させるためにNPWをダミーウェハとしてプロセス装置に投入する処理である。ここでは、熱履歴がないプロセス処理にNPWを用いるものとして説明する。
まず、ホストコンピュータ1はライン内で不足しているNPW品名を検出する。次に、ホストコンピュータ1にてリストアップされたNPW品名を投入すべきか否かを作業者が判断する。ここでは、作業者は制御端末7を操作してダミー1処理に用いるダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(28)を投入するものとする。
次に、ダミー1処理について説明する。ダミー1処理とは装置ダミーの一種であり、プロセス処理を安定化させるためにNPWをダミーウェハとしてプロセス装置に投入する処理である。ここでは、熱履歴がないプロセス処理にNPWを用いるものとして説明する。
まず、ホストコンピュータ1はライン内で不足しているNPW品名を検出する。次に、ホストコンピュータ1にてリストアップされたNPW品名を投入すべきか否かを作業者が判断する。ここでは、作業者は制御端末7を操作してダミー1処理に用いるダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(28)を投入するものとする。
次に、ダミー1処理に利用可能な膜種と優先順位が、ホストコンピュータ1によって選択されて示される。作業者は制御端末7を使用して、保管手段4に保管されておりNPW区分が「使用待ち保管品」、膜種が「DUM1」(27)であるNPWロットの中から優先順位に基づいてダミー1処理に用いる膜種を選択する。ここで、前述した様に、ダミー1処理のために選択され得る膜種と優先順位は予め記憶手段2に記憶されており、ホストコンピュータ1はダミー1処理に利用できない膜種からは選択できない様に制御する。
ここでは、膜種「DUM1」(27)が選択されたものとして以下の説明を行う。
次に、制御端末7が出力した情報を受けたホストコンピュータ1は、膜種「DUM1」(27)から優先順位に従って不足枚数分のウェハIDを選択し、選択されたウェハIDに対応するNPW区分を「リファレンス・ダミー品」に変更し、NPW品名をダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(28)に変更して記憶手段2に記憶する。
次に、制御端末7が出力した情報を受けたホストコンピュータ1は、膜種「DUM1」(27)から優先順位に従って不足枚数分のウェハIDを選択し、選択されたウェハIDに対応するNPW区分を「リファレンス・ダミー品」に変更し、NPW品名をダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(28)に変更して記憶手段2に記憶する。
続いて、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、選択されたウェハIDを有するNPWを取り出す様にNPW立替手段6に指示を出す。この指示に従ってNPW立替手段6は、保管手段4に保管されており、膜種が「DUM1」(27)であり、NPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWのロットから必要枚数分ウェハを抜き取り、それらのウェハをダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(28)の新たなロットとして投入する。
次に、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、その指示に従いダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(28)として投入されたNPWを保管手段4からダミー1処理の対象となる所定のプロセス装置11に搬送する。NPWの搬送先となるプロセス装置11は、前述の工程手順に定義付けられている。そして、ホストコンピュータ1はプロセス装置11に指示を出し、プロセス装置11はその指示に従いダミー1処理を行う。
ダミー1処理が終了すると、プロセス装置11から終了報告を受けたホストコンピュータ1は、このNPWのウェハIDに対応付けられて記憶手段2に記憶されている再生回数(リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数)を再生限度回数(リサイクル限度回数、社内再生限度回数、社外再生限度回数)と比較し、熱履歴回数を熱履歴限度回数と比較する。社内再生回数が社内再生限度回数(この例では15回とする)未満であり、その他の再生回数も各再生限度回数未満であり、熱履歴回数も熱履歴限度回数未満である場合、このNPWを通常処置として社内再生するために、ホストコンピュータ1はウェハIDに対応するNPW区分を「社内再生・下地作成品」に変更し、NPW品名を社内再生品名「RCIM−ZUMI001」(29)に変更して記憶手段2に記憶する。
続いて、ホストコンピュータ1は、上記NPW品名に対応付けられている工程手順に従い搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを再生処理装置13に搬送する。NPWの搬送先となる再生処理装置13は、工程手順に定義付けられている。次に、ホストコンピュータ1は再生処理装置13に指示を出し、再生処理装置13はこの指示に基づいてNPWの再生処理を行う。ここでは、この再生処理は熱処理を含まないものとする。
再生処理が終了すると、再生処理装置13から終了報告を受けたホストコンピュータ1は、このウェハIDに対応する社内再生回数とリサイクル回数に1回加算すると共に、NPW区分を「使用待ち保管品」に変更し、膜種を「DUM1」(27)に変更して記憶手段2に記憶する。そして、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを保管手段4に搬送し、保管手段4はNPWを保管する。
次のダミー1処理を行う際には、再度優先順位に基づいてNPWが選択され、上述の一連の処理が所定のプロセス装置によって行われる。
次のダミー1処理を行う際には、再度優先順位に基づいてNPWが選択され、上述の一連の処理が所定のプロセス装置によって行われる。
一方、前述した再生回数の比較において、社内再生回数が社内再生限度回数(15回)以上である場合、このNPWは再度ダミー1処理に用いる事が可能な状態に再生する事は不可能であるため、別の処理に用いられる。そこで、ホストコンピュータ1は、このNPWのウェハIDに対応するNPW区分を「使用待ち保管品」に変更し、膜種を「DUM2」(30)に変更して記憶手段2に記憶する。そして、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを保管手段4に搬送し、保管手段4はNPWを保管する。
(3)ダミー2処理
次に、ダミー2処理について説明する。ダミー2処理とは装置ダミーの一種であり、プロセス処理を安定化させるためにNPWをダミーウェハとしてプロセス装置に投入する処理である。ここでは、熱履歴を伴うプロセス処理にNPWを用いるものとして説明する。
まず、ホストコンピュータ1がライン内で不足しているNPW品名を検出する。次に、ホストコンピュータ1にてリストアップされたNPW品名を投入すべきか否かを作業者が判断する。ここでは、作業者は制御端末7を操作してダミー2処理に用いるダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(31)を投入するものとする。
次に、ダミー2処理について説明する。ダミー2処理とは装置ダミーの一種であり、プロセス処理を安定化させるためにNPWをダミーウェハとしてプロセス装置に投入する処理である。ここでは、熱履歴を伴うプロセス処理にNPWを用いるものとして説明する。
まず、ホストコンピュータ1がライン内で不足しているNPW品名を検出する。次に、ホストコンピュータ1にてリストアップされたNPW品名を投入すべきか否かを作業者が判断する。ここでは、作業者は制御端末7を操作してダミー2処理に用いるダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(31)を投入するものとする。
次に、ダミー2処理に利用可能な膜種と優先順位が、ホストコンピュータ1によって選択されて示される。作業者は制御端末7を使用して、保管手段4に保管されておりNPW区分が「使用待ち保管品」、膜種が「DUM2」(30)であるNPWロットの中から優先順位に基づいてダミー2処理に用いる膜種を選択する。ここで、前述した様に、ダミー2処理のために選択され得る膜種と優先順位は予め記憶手段2に記憶されており、ホストコンピュータ1はダミー2処理に利用できない膜種からは選択できない様に制御する。
なお、この例ではダミー2処理はメタライズ(金属配線層形成処理)を行うものであり、ダミー1処理よりも後の工程であるとする。
なお、この例ではダミー2処理はメタライズ(金属配線層形成処理)を行うものであり、ダミー1処理よりも後の工程であるとする。
ここでは、膜種「DUM2」(30)が選択されたものとして以下の説明を行う。
次に、制御端末7が出力した情報を受けたホストコンピュータ1は、膜種「DUM2」(30)から優先順位に従って不足枚数分のウェハIDを選択し、選択されたウェハIDに対応するNPW区分を「リファレンス・ダミー品」に変更し、NPW品名をダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(31)に変更して記憶手段2に記憶する。
次に、制御端末7が出力した情報を受けたホストコンピュータ1は、膜種「DUM2」(30)から優先順位に従って不足枚数分のウェハIDを選択し、選択されたウェハIDに対応するNPW区分を「リファレンス・ダミー品」に変更し、NPW品名をダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(31)に変更して記憶手段2に記憶する。
続いて、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、選択されたウェハIDを有するNPWを取り出す様にNPW立替手段6に指示を出す。この指示に従ってNPW立替手段6は、保管手段4に保管されており、膜種が「DUM2」(30)であり、NPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWのロットから必要枚数分ウェハを抜き取り、それらのウェハをダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(31)の新たなロットとして投入する。
次に、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、その指示に従いダミー用品名「RCIM−DUMMY000」(31)として投入されたNPWを保管手段4からダミー2処理の対象となる所定のプロセス装置(図示なし)に搬送する。NPWの搬送先となるプロセス装置は、前述の工程手順に定義付けられている。そして、ホストコンピュータ1はプロセス装置に指示を出し、プロセス装置はその指示に従いダミー2処理を行う。
ダミー2処理が終了すると、プロセス装置から終了報告を受けたホストコンピュータ1は、このNPWのウェハIDに対応付けられて記憶手段2に記憶されている再生回数(リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数)を再生限度回数(リサイクル限度回数、社内再生限度回数、社外再生限度回数)と比較し、熱履歴回数を熱履歴限度回数と比較する。各再生回数が各再生限度回数未満であり、熱履歴回数が熱履歴限度回数(この例では5回とする)未満である場合、このNPWを通常処置として社内再生するために、ホストコンピュータ1はウェハIDに対応するNPW区分を「社内再生・下地作成品」に変更し、NPW品名を社内再生品名「RCIM−ZUMI002」(32)に変更して記憶手段2に記憶する。
続いて、ホストコンピュータ1は、上記NPW品名に対応付けられている工程手順に従い搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを再生処理装置(図示なし)に搬送する。NPWの搬送先となる再生処理装置は、工程手順に定義付けられている。次に、ホストコンピュータ1は再生処理装置に指示を出し、再生処理装置はこの指示に基づいてNPWの再生処理を行う。ここでは、この再生処理は熱処理を含むものとする。
再生処理が終了すると、再生処理装置から終了報告を受けたホストコンピュータ1は、このウェハIDに対応する社内再生回数とリサイクル回数に1回加算し、熱履歴回数に1回加算すると共に、NPW区分を「使用待ち保管品」に変更し、膜種を「DUM2」(30)に変更して記憶手段2に記憶する。そして、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを保管手段4に搬送し、保管手段4はNPWを保管する。
次のダミー2処理を行う際には、再度優先順位に基づいてNPWが選択され、上述の一連の処理が所定のプロセス装置によって行われる。
次のダミー2処理を行う際には、再度優先順位に基づいてNPWが選択され、上述の一連の処理が所定のプロセス装置によって行われる。
一方、前述した熱履歴回数の比較において、熱履歴回数が熱履歴限度回数(5回)以上である場合、このNPWは熱履歴によってダメージが蓄積されているため割れる可能性があり、再度ダミー2処理に用いる事が可能な状態に再生する事や、別の処理に用いることも不可能である。そこで、ホストコンピュータ1は、このNPWのウェハIDに対応するNPW区分を「社外再生・廃棄回収品」に変更し、NPW品名を「RCIM−HAIKI000」(33)に変更して記憶手段2に記憶する。そして、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを廃棄回収品の置き場所に搬送する。このNPWは、その後廃棄処理される。
続いて、膜種転用について説明する。膜種転用とは、NPWにプロセス処理を行うことにより膜種を変更する処理である。
膜種毎に必要な在庫枚数は記憶手段2に記憶されており、ホストコンピュータ1は、他の膜種を加工して在庫枚数が基準値を下回った膜種を補充する様に制御する。例えば、膜種「TEN1」(22)が不足している場合の膜種転用処理について以下に説明する。
膜種毎に必要な在庫枚数は記憶手段2に記憶されており、ホストコンピュータ1は、他の膜種を加工して在庫枚数が基準値を下回った膜種を補充する様に制御する。例えば、膜種「TEN1」(22)が不足している場合の膜種転用処理について以下に説明する。
まず、ホストコンピュータ1がライン内で不足している膜種を検出する。次に、ホストコンピュータ1にてリストアップされた膜種を補充すべきか否かを作業者が判断する。ここでは、作業者は制御端末7を操作して膜種「TEN1」(22)を補充するものとする。
次に、作業者は制御端末7を使用して、保管手段4に保管されておりNPW区分が「使用待ち保管品」であり、膜種が「TEN2」(34)であるNPWロットの中からホストコンピュータ1に示された優先順位に基づいて膜種転用に用いる膜種を選択する。ここで、膜種「TEN1」(22)に転用するために選択され得る膜種と優先順位は予め記憶手段2に記憶されており、ホストコンピュータ1は膜種「TEN1」(22)に転用できない膜種からは選択できない様に制御する。
次に、作業者は制御端末7を使用して、保管手段4に保管されておりNPW区分が「使用待ち保管品」であり、膜種が「TEN2」(34)であるNPWロットの中からホストコンピュータ1に示された優先順位に基づいて膜種転用に用いる膜種を選択する。ここで、膜種「TEN1」(22)に転用するために選択され得る膜種と優先順位は予め記憶手段2に記憶されており、ホストコンピュータ1は膜種「TEN1」(22)に転用できない膜種からは選択できない様に制御する。
ここでは、膜種「TEN2」(34)が選択されたものとして以下の説明を行う。
次に、制御端末7が出力した情報を受けたホストコンピュータ1は、膜種「TEN2」(34)から優先順位に従って不足枚数分のウェハIDを選択し、選択されたウェハIDに対応するNPW区分を「社内再生・下地作成品」に変更し、NPW品名を下地作成用品名「RCIM−SITAJI000」(35)に変更して記憶手段2に記憶する。
次に、制御端末7が出力した情報を受けたホストコンピュータ1は、膜種「TEN2」(34)から優先順位に従って不足枚数分のウェハIDを選択し、選択されたウェハIDに対応するNPW区分を「社内再生・下地作成品」に変更し、NPW品名を下地作成用品名「RCIM−SITAJI000」(35)に変更して記憶手段2に記憶する。
続いて、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、選択されたウェハIDを有するNPWを取り出す様にNPW立替手段6に指示を出す。この指示に従ってNPW立替手段6は、保管手段4に保管されており、膜種が「TEN2」(34)であり、NPW区分が「社内再生・下地作成品」であるNPWのロットから必要枚数分ウェハを抜き取り、それらのウェハを下地作成用品名「RCIM−SITAJI000」(35)の新たなロットとして投入する。
次に、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、その指示に従い下地作成用品名「RCIM−SITAJI000」(35)として投入されたNPWを保管手段4から膜種転用処理の対象となる所定の再生処理装置(図示なし)に搬送する。NPWの搬送先となる再生処理装置は、前述の工程手順に定義付けられている。そして、ホストコンピュータ1は再生処理装置に指示を出し、再生処理装置はその指示に従い膜種転用処理を行う。
膜種転用処理が終了すると、再生処理装置から終了報告を受けたホストコンピュータ1は、このウェハIDに対応する社内再生回数とリサイクル回数に1回加算すると共に、NPW区分を「使用待ち保管品」に変更し、膜種を「TEN1」(22)に変更して記憶手段2に記憶する。そして、ホストコンピュータ1は、NPW品名に対応付けられている工程手順に従い、搬送手段3に指示を出す。搬送手段3は、この指示に基づいてNPWを保管手段4に搬送し、保管手段4はNPWを保管する。
なお、膜種転用処理はプロセス装置によって行われても良い。
なお、膜種転用処理はプロセス装置によって行われても良い。
上述してきた説明においては、図2に例示された代表的な処理についてのみ説明してきたので、以下にホストコンピュータ1が行うその他の一般的な処理について更に詳細に説明する。
(社内再生・下地作成品と使用待ち保管品との関係の説明)
ここでは、再生処理後のNPWの膜種の決定方法について説明する。
図6は、社内再生・下地作成品と使用待ち保管品との関係についての説明図である。
同図に示す様に、NPW区分が「社内再生・下地作成品」であるNPW品名とNPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWの膜種とは、1対1に対応して記憶手段2に記憶されている。即ち、NPW区分が「社内再生・下地作成品」のフローを経由すると、ホストコンピュータ1はNPW区分を予め設定された膜種の「使用待ち保管品」に自動的に変更する。
ここでは、再生処理後のNPWの膜種の決定方法について説明する。
図6は、社内再生・下地作成品と使用待ち保管品との関係についての説明図である。
同図に示す様に、NPW区分が「社内再生・下地作成品」であるNPW品名とNPW区分が「使用待ち保管品」であるNPWの膜種とは、1対1に対応して記憶手段2に記憶されている。即ち、NPW区分が「社内再生・下地作成品」のフローを経由すると、ホストコンピュータ1はNPW区分を予め設定された膜種の「使用待ち保管品」に自動的に変更する。
同図に示す様に、ホストコンピュータ1がNPW区分を「リファレンス・ダミー品」(40)から「社内再生・下地作成品」(41)に変更し、その後「使用待ち保管品」(42)に変更するルートと、「使用待ち保管品」(43)から「社内再生・下地作成品」(44)に変更し、その後「使用待ち保管品」(45)に変更するルートとは異なる。つまり、NPW区分が「使用待ち保管品」(42)であるNPWと「使用待ち保管品」(45)であるNPWとは異なった膜種となる。
具体例を挙げると、前述した様に、図4に示した社内再生品名が「RCIM−ZUMI001」(29)であり、NPW区分が「社内再生・下地作成品」であるNPWは、必ず膜種「DUM1」(27)のNPW区分「使用待ち保管品」に変更される様にルートが設定されて記憶手段2に記憶されている。また、前述の様に、NPW区分が「社内再生・下地作成品」から「使用待ち保管品」に変更されるときに、ホストコンピュータ1は再生回数を1回加算して記憶手段2に記憶する。
(再生回数カウント方法の説明)
次に、リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数、熱履歴回数をカウントする方法について説明する。
図7は、再生回数カウント方法についての説明図である。
同図は、本システムに用いられる一部のフローのみについて例示している。まず、ホストコンピュータ1は、NPWのNPW区分を「リファレンス・ダミー品」(50)に変更して、プロセス装置に指示を出す。プロセス装置は、この指示に基づいてNPWをプロセス処理する。このプロセス処理により、NPWは熱ダメージを受けたとする。続いて、ホストコンピュータはNPW区分を「社内再生・下地作成品」(51)に変更して、再生処理装置に指示を出す。ここで、再生処理装置は、この指示に基づいて熱ダメージを受けたNPWを再生するために熱処理を加える。ホストコンピュータ1は、熱処理が加えられて再生処理されたNPWのNPW区分を「使用待ち保管品」(52)に変更し、再生回数を加算して記憶手段2に記憶する。図示した例では、リサイクル回数は1回加算されて10回になり、社内再生回数は1回加算されて10回になり、熱履歴回数は1回加算されて1回になり、社外再生回数は加算されないので1回のまま記憶手段2に記憶される。
次に、リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数、熱履歴回数をカウントする方法について説明する。
図7は、再生回数カウント方法についての説明図である。
同図は、本システムに用いられる一部のフローのみについて例示している。まず、ホストコンピュータ1は、NPWのNPW区分を「リファレンス・ダミー品」(50)に変更して、プロセス装置に指示を出す。プロセス装置は、この指示に基づいてNPWをプロセス処理する。このプロセス処理により、NPWは熱ダメージを受けたとする。続いて、ホストコンピュータはNPW区分を「社内再生・下地作成品」(51)に変更して、再生処理装置に指示を出す。ここで、再生処理装置は、この指示に基づいて熱ダメージを受けたNPWを再生するために熱処理を加える。ホストコンピュータ1は、熱処理が加えられて再生処理されたNPWのNPW区分を「使用待ち保管品」(52)に変更し、再生回数を加算して記憶手段2に記憶する。図示した例では、リサイクル回数は1回加算されて10回になり、社内再生回数は1回加算されて10回になり、熱履歴回数は1回加算されて1回になり、社外再生回数は加算されないので1回のまま記憶手段2に記憶される。
続いて、このNPWはホストコンピュータ1の判断の結果、再生回数等が所定の基準を超えた場合、他のフローへ移行される。フローが変わる(即ち再生品名が変わる)と、記憶手段2に記憶されていたリサイクル回数はホストコンピュータ2によってリセットされて0になるが、他の社内再生回数、熱履歴回数、社外再生回数は維持される。ここでは、ホストコンピュータ1は、このNPWに対応するNPW区分を「リファレンス・ダミー品」(53)に変更して、プロセス装置に指示を出す。プロセス装置は、この指示に基づいてNPWをプロセス処理する。続いてホストコンピュータ1は、NPW区分を「社内再生・下地作成品」(54)に変更して再生処理装置に指示を出し、再生処理装置はこのNPWを再生処理する。
ホストコンピュータ1は、再生処理されたNPWのNPW区分を「使用待ち保管品」(55)に変更し、再生回数を加算して記憶手段2に記憶する。図示した例では、リサイクル回数はリセットされた後に1回加算されて1回になり、社内再生回数は1回加算されて11回になり、熱履歴回数は加算されないので1回のままであり、社外再生回数は加算されないので1回のまま記憶手段2に記憶される。
続いて、このNPWはホストコンピュータ1の判断の結果、再生回数等が所定の基準を超えていない場合には再度NPW区分が「リファレンス・ダミー品」(53)に変更されるが、所定の基準を超えた場合、他のフローへ移行される。
前述の様に、フローが変わる(即ち再生品名が変わる)と記憶手段2に記憶されていたリサイクル回数はホストコンピュータ1によってリセットされて0になるが、他の社内再生回数、熱履歴回数、社外再生回数は維持されたまま記憶手段2に記憶されている。ここでは、ホストコンピュータ1は、このNPWのNPW区分を「リファレンス・ダミー品」(56)に変更して、プロセス装置に指示を出す。プロセス装置は、この指示に従いNPWをプロセス処理する。
前述の様に、フローが変わる(即ち再生品名が変わる)と記憶手段2に記憶されていたリサイクル回数はホストコンピュータ1によってリセットされて0になるが、他の社内再生回数、熱履歴回数、社外再生回数は維持されたまま記憶手段2に記憶されている。ここでは、ホストコンピュータ1は、このNPWのNPW区分を「リファレンス・ダミー品」(56)に変更して、プロセス装置に指示を出す。プロセス装置は、この指示に従いNPWをプロセス処理する。
続いてホストコンピュータ1は、このNPWのNPW区分を「社外再生・廃棄回収品」(57)に変更し、このNPWがラインから出る際に社外再生回数に1回加算して記憶手段2に記憶する。そして、NPWは社外の再生処理設備に入庫されて再生処理が施され(58)、再生処理が終了すると再度システムに組み込まれる。このNPWが再度システムに組み込まれると、このNPWが有するウェハIDは固有のものであるため、ホストコンピュータ1はこのNPWのウェハIDに対応するNPW区分を「使用待ち保管品」(59)に変更する。リサイクル回数等はラインから出る際の回数が記憶手段2に記憶されているので、社外再生に出される前の履歴を維持できる。
(膜種制限の説明)
次に、使用待ち保管品に変更され得る膜種の制限と、限度回数を越えた場合の処理について説明する。
図8は、膜種制限についての説明図である。
同図に示す様に、ホストコンピュータ1がNPW区分を「使用待ち保管品」(64)に変更できるルートは3種類ある。まず、ホストコンピュータ1がNPW区分を「社内再生・下地作成品」(60)から変更する場合がある。次に、ホストコンピュータ1が他の膜種のNPW区分「使用待ち保管品」(61)から変更する場合もある。この場合は、求めている膜種のグレードが低い場合であり、例えば傷が多い膜種でも許容される場合には、傷が少ない他のNPW区分「使用待ち保管品」から変更され得る。この様に、膜種のグレードも膜種を定義するために用いられる。最後に、ホストコンピュータ1が他の膜種のNPW区分「使用待ち保管品」(62)を「社内再生・下地作成品」(63)に変更して、再生処理装置に社内再生処理あるいは下地作成処理を行わせて所望の膜種を有する「使用待ち保管品」(64)に変更する場合もある。
次に、使用待ち保管品に変更され得る膜種の制限と、限度回数を越えた場合の処理について説明する。
図8は、膜種制限についての説明図である。
同図に示す様に、ホストコンピュータ1がNPW区分を「使用待ち保管品」(64)に変更できるルートは3種類ある。まず、ホストコンピュータ1がNPW区分を「社内再生・下地作成品」(60)から変更する場合がある。次に、ホストコンピュータ1が他の膜種のNPW区分「使用待ち保管品」(61)から変更する場合もある。この場合は、求めている膜種のグレードが低い場合であり、例えば傷が多い膜種でも許容される場合には、傷が少ない他のNPW区分「使用待ち保管品」から変更され得る。この様に、膜種のグレードも膜種を定義するために用いられる。最後に、ホストコンピュータ1が他の膜種のNPW区分「使用待ち保管品」(62)を「社内再生・下地作成品」(63)に変更して、再生処理装置に社内再生処理あるいは下地作成処理を行わせて所望の膜種を有する「使用待ち保管品」(64)に変更する場合もある。
また、前述の通り、ホストコンピュータ1は、NPW区分を「社内再生・下地作成品」(60,63)から「使用待ち保管品」(64)に変更する際に再生回数を加算する。ここで、ホストコンピュータ1は、リサイクル回数、社内再生回数、社外再生回数、熱履歴回数の何れかが各々に設定されたリサイクル限度回数、社内再生限度回数、社外再生限度回数、熱履歴限度回数を超えた場合、NPW区分を他のNPW区分「社内再生・下地作成品」(65)、「使用待ち保管品」(66)、「社外再生・廃棄回収品」(67)の何れかに変更する。その判断基準となる各々の限度回数と変更されるNPW区分は、記憶手段2に記憶されている。
(リファレンス・ダミー品の引当制限の説明)
次に、リファレンス・ダミー品に使用可能な膜種の設定方法について説明する。
図9は、リファレンス・ダミー品の引当制限についての説明図である。
同図に示す様に、ホストコンピュータ1は、記憶手段2に記憶されている対象膜種(71)の中で優先順位の高い膜種から順にNPW区分「リファレンス・ダミー品」(70)として引き当てる。同じ目的が達成できる膜種の中でも膜種によってコスト、在庫等の違いがあるが、この方法により、コストの低い膜種、在庫の多い膜種から優先的に引き当てる事ができる。
次に、リファレンス・ダミー品に使用可能な膜種の設定方法について説明する。
図9は、リファレンス・ダミー品の引当制限についての説明図である。
同図に示す様に、ホストコンピュータ1は、記憶手段2に記憶されている対象膜種(71)の中で優先順位の高い膜種から順にNPW区分「リファレンス・ダミー品」(70)として引き当てる。同じ目的が達成できる膜種の中でも膜種によってコスト、在庫等の違いがあるが、この方法により、コストの低い膜種、在庫の多い膜種から優先的に引き当てる事ができる。
また、この際にホストコンピュータ1は各NPWの再生回数を確認しており、再生回数が限度回数を超えているNPW区分「使用待ち保管品」のNPWを引き当てない。さらに、管理者は、所望の目的が達成できない膜種を有するNPW区分「使用待ち保管品」(72)は対象膜種として設定しない。
(リファレンス・ダミー品の行き先制限の説明)
次に、NPWがリファレンス・ダミー品としてプロセス処理された際、再生回数が限度回数を超えた場合の処理について説明する。
図10は、リファレンス・ダミー品の行き先制限についての説明図である。
ホストコンピュータ1は、再生限度回数などに基づいてNPW区分が「リファレンス・ダミー品」(80)であるNPWの行き先を制限する。同図に示す様に、ホストコンピュータ1は、何れの再生回数も限度回数を超えていない場合、NPWを通常の再生フローへ移行する(81)。しかし、ホストコンピュータ1は、リサイクル回数がリサイクル限度回数を超えている場合、NPWを他の再生フローや、社外再生処理、他の膜種への転用などに移行する(82)。また、ホストコンピュータ1は、社内再生回数が社内再生限度回数を超えている場合、NPWを他の再生フローや、社外再生処理、他の膜種への転用、廃棄処理などへ移行する(83)。さらに、ホストコンピュータ1は、社外再生回数が社外再生限度回数を超えている場合、他の再生フローや、他の膜種への転用、廃棄処理などへ移行する(84)。これらの移行先も、「リファレンス・ダミー品」のNPW品名に対応して予め記憶手段2に記憶されている。
次に、NPWがリファレンス・ダミー品としてプロセス処理された際、再生回数が限度回数を超えた場合の処理について説明する。
図10は、リファレンス・ダミー品の行き先制限についての説明図である。
ホストコンピュータ1は、再生限度回数などに基づいてNPW区分が「リファレンス・ダミー品」(80)であるNPWの行き先を制限する。同図に示す様に、ホストコンピュータ1は、何れの再生回数も限度回数を超えていない場合、NPWを通常の再生フローへ移行する(81)。しかし、ホストコンピュータ1は、リサイクル回数がリサイクル限度回数を超えている場合、NPWを他の再生フローや、社外再生処理、他の膜種への転用などに移行する(82)。また、ホストコンピュータ1は、社内再生回数が社内再生限度回数を超えている場合、NPWを他の再生フローや、社外再生処理、他の膜種への転用、廃棄処理などへ移行する(83)。さらに、ホストコンピュータ1は、社外再生回数が社外再生限度回数を超えている場合、他の再生フローや、他の膜種への転用、廃棄処理などへ移行する(84)。これらの移行先も、「リファレンス・ダミー品」のNPW品名に対応して予め記憶手段2に記憶されている。
(社外再生・廃棄回収品の説明)
次に、社外再生・廃棄回収品に変更され得るNPW区分について説明する。
図11は、社外再生・廃棄回収品についての説明図である。
同図に示す様に、NPW区分「社外再生・廃棄回収品」(90)は、「使用待ち保管品」(91)、「社内再生・下地作成品」(92)、「リファレンス・ダミー品」(93)から変更される様にNPW品名毎に予め記憶手段2に記憶されている。
次に、社外再生・廃棄回収品に変更され得るNPW区分について説明する。
図11は、社外再生・廃棄回収品についての説明図である。
同図に示す様に、NPW区分「社外再生・廃棄回収品」(90)は、「使用待ち保管品」(91)、「社内再生・下地作成品」(92)、「リファレンス・ダミー品」(93)から変更される様にNPW品名毎に予め記憶手段2に記憶されている。
なお、以上に述べてきた非製品ウェハのサイクル運用方法を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより、各々の処理を行ってもよい。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、OSや周辺機器等のハードウェアを含むものであってもよい。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、フラッシュメモリ等の書き込み可能な不揮発性メモリ、CD−ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ROM、フラッシュメモリ等の書き込み可能な不揮発性メモリ、CD−ROM等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。
さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムが送信された場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリ(例えばDRAM(Dynamic Random Access Memory))のように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。
また、上記プログラムは、このプログラムを記憶装置等に格納したコンピュータシステムから、伝送媒体を介して、あるいは、伝送媒体中の伝送波により他のコンピュータシステムに伝送されてもよい。ここで、プログラムを伝送する「伝送媒体」は、インターネット等のネットワーク(通信網)や電話回線等の通信回線(通信線)のように情報を伝送する機能を有する媒体のことをいう。
また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良い。
さらに、前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル(差分プログラム)であっても良い。
また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良い。
さらに、前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル(差分プログラム)であっても良い。
以上、本発明の実施形態を詳述してきたが、具体的な構成は本実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
1;ホストコンピュータ、2;記憶手段、3;搬送手段、4;保管手段、5;ID検出手段、6;NPW立替手段、7;制御端末、8;マスタ情報登録端末、10,11;プロセス装置、12,13;再生処理装置。
Claims (12)
- プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムであって、
前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、
前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、
前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を含んで構成され、
前記制御手段は、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択し、該選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させ、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数とをそれぞれ前記記憶手段に記憶された再生限度回数と熱処理限度回数と比較することによって再生処理を行なうか否かを決定し、再生処理を行なわない場合には適宜膜種情報を更新し、再生処理を行なうことを決定した場合には当該非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるとともに当該再生処理の種類に応じて前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数と膜種情報とを適宜更新することを特徴とする非製品ウェハのサイクル運用システム。 - プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムであって、
前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、
前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、
前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、を含んで構成され、
前記制御手段は、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択し、該選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させ、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの前記再生回数と前記再生限度回数とを比較すると共に当該非製品ウェハの前記熱履歴回数と前記熱履歴限度回数とを比較し、該再生回数が該再生限度回数未満でありかつ該熱履歴回数が該熱履歴限度回数未満である場合に該非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させ、該再生処理が熱処理を伴う場合には該再生回数及び該熱履歴回数の両方に1回加算すると共に前記膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶し、該再生処理が熱処理を伴わない場合には該再生回数に1回加算すると共に前記膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶し、該再生回数が該再生限度回数以上である場合または前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数以上である場合の何れかの場合に前記限度回数を超えた場合の処理を行うことを特徴とする非製品ウェハのサイクル運用システム。 - 前記記憶手段は、前記プロセス処理毎に該プロセス処理後の膜種情報を更に記憶し、
前記限度回数を超えた場合の処理は、前記非製品ウェハの膜種情報を前記プロセス処理後の膜種情報に変更して前記記憶手段に記憶する処理、または、該非製品ウェハを社外再生する処理、または、該非製品ウェハを廃棄する処理の何れかである事を特徴とする請求項2に記載の非製品ウェハのサイクル運用システム。 - 前記記憶手段は、前記非製品ウェハ毎に社外再生回数を更に記憶すると共に、前記プロセス処理毎に社外再生限度回数と該社外再生限度回数を超えた場合の処理を更に記憶し、
前記制御手段は、前記非製品ウェハが社外再生された後に前記社外再生回数を1回加算し、該社外再生回数が前記社外再生限度回数以上である場合、該社外再生限度回数を超えた場合の処理を行う事を特徴とする請求項3に記載の非製品ウェハのサイクル運用システム。 - 前記社外再生限度回数を超えた場合の処理は、前記非製品ウェハの膜種情報を前記プロセス処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶する処理、または、該非製品ウェハを廃棄する処理の何れかである事を特徴とする請求項4に記載の非製品ウェハのサイクル運用システム。
- 前記非製品ウェハは、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する非製品ウェハから優先順位に基づいて選択される事を特徴とする請求項1から請求項5までの何れか1項に記載の非製品ウェハのサイクル運用システム。
- 前記優先順位は、前記非製品ウェハのコストと在庫数とに応じたものである事を特徴とする請求項6に記載の非製品ウェハのサイクル運用システム。
- 前記記憶手段は、前記膜種情報毎に前記非製品ウェハの在庫数を更に記憶し、
前記制御手段は、所定の膜種情報を有する非製品ウェハの在庫数が基準以下となった場合に、他の膜種情報を有する非製品ウェハを前記再生処理装置で再生処理して該所定の膜種情報を有する非製品ウェハを得る事を特徴とする請求項1から請求項7までの何れか1項に記載の非製品ウェハのサイクル運用システム。 - 非製品ウェハをプロセス処理するプロセス装置と、
前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、
前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、
前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、
を含んで構成され、前記プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される前記非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムを用いた非製品ウェハのサイクル運用方法であって、
前記制御手段が、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択するステップと、
前記制御手段が、該選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させるステップと、
前記制御手段が、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数とをそれぞれ前記記憶手段に記憶された再生限度回数と熱処理限度回数と比較することによって再生処理を行なうか否かを決定するステップと、
前記制御手段が、再生処理を行なわない場合には適宜膜種情報を更新するステップと、
前記制御手段が、再生処理を行なうことを決定した場合には当該非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるとともに当該再生処理の種類に応じて前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数と膜種情報とを適宜更新するステップと、
を含むことを特徴とする非製品ウェハのサイクル運用方法。 - 非製品ウェハをプロセス処理するプロセス装置と、
前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、
前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、
前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、
を含んで構成され、前記プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される前記非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムを用いた非製品ウェハのサイクル運用方法であって、
前記制御手段が、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択するステップと、
前記制御手段が、前記選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させるステップと、
前記制御手段が、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの前記再生回数と前記再生限度回数とを比較すると共に当該非製品ウェハの前記熱履歴回数と前記熱履歴限度回数とを比較するステップと、
前記制御手段が、前記再生回数が前記再生限度回数未満でありかつ前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数未満である場合に前記非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるステップと、
前記制御手段が、前記再生処理が熱処理を伴う場合には前記再生回数及び前記熱履歴回数の両方に1回加算すると共に前記膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して前記記憶手段に記憶し、該再生処理が熱処理を伴わない場合には該再生回数に1回加算すると共に該膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶するステップと、
前記制御手段が、前記再生回数が前記再生限度回数以上である場合または前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数以上である場合の何れかの場合に前記限度回数を超えた場合の処理を行うステップと、
を含むことを特徴とする非製品ウェハのサイクル運用方法。 - 非製品ウェハをプロセス処理するプロセス装置と、
前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、
前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、
前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、
を含んで構成され、前記プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される前記非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムを制御するコンピュータプログラムであって、
前記制御手段が、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択するステップと、
前記制御手段が、該選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させるステップと、
前記制御手段が、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数とをそれぞれ前記記憶手段に記憶された再生限度回数と熱処理限度回数と比較することによって再生処理を行なうか否かを決定するステップと、
前記制御手段が、再生処理を行なわない場合には適宜膜種情報を更新するステップと、
前記制御手段が、再生処理を行なうことを決定した場合には当該非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるとともに当該再生処理の種類に応じて前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの再生回数と熱処理回数と膜種情報とを適宜更新するステップと、
をコンピュータに実行させるコンピュータプログラム。 - 非製品ウェハをプロセス処理するプロセス装置と、
前記プロセス処理が終了した前記非製品ウェハを再生処理する再生処理装置と、
前記非製品ウェハ毎に膜種情報と再生回数と熱履歴回数とを記憶し、前記プロセス処理毎に該プロセス処理に利用可能な膜種情報と再生限度回数と熱履歴限度回数と該限度回数を超えた場合の処理とを記憶し、前記再生処理毎に該再生処理後の膜種情報を記憶する記憶手段と、
前記プロセス装置と前記再生処理装置と前記記憶手段とを制御する制御手段と、
を含んで構成され、前記プロセス装置の情報を得るために製品ウェハと共に当該プロセス装置によりプロセス処理される前記非製品ウェハを管理する非製品ウェハのサイクル運用システムを制御するコンピュータプログラムであって、
前記制御手段が、前記プロセス処理に利用可能な膜種情報を有する前記非製品ウェハを選択するステップと、
前記制御手段が、前記選択された非製品ウェハを前記プロセス装置にプロセス処理させるステップと、
前記制御手段が、前記記憶手段に記憶されている当該非製品ウェハの前記再生回数と前記再生限度回数とを比較すると共に当該非製品ウェハの前記熱履歴回数と前記熱履歴限度回数とを比較するステップと、
前記制御手段が、前記再生回数が前記再生限度回数未満でありかつ前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数未満である場合に前記非製品ウェハを前記再生処理装置に再生処理させるステップと、
前記制御手段が、前記再生処理が熱処理を伴う場合には前記再生回数及び前記熱履歴回数の両方に1回加算すると共に前記膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して前記記憶手段に記憶し、該再生処理が熱処理を伴わない場合には該再生回数に1回加算すると共に該膜種情報を前記再生処理後の膜種情報に変更して該記憶手段に記憶するステップと、
前記制御手段が、前記再生回数が前記再生限度回数以上である場合または前記熱履歴回数が前記熱履歴限度回数以上である場合の何れかの場合に前記限度回数を超えた場合の処理を行うステップと、
をコンピュータに実行させるコンピュータプログラム。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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2007
- 2007-02-14 JP JP2007033482A patent/JP2008198842A/ja active Pending
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