KR100521731B1 - 투과형 스크린의 제조 방법 및 투과형 스크린 - Google Patents

Abstract

광투과성 기판상에 병설되어 이루어진 렌즈체 및 각 렌즈체의 경계부에 상응하는 위치에 광흡수재의 패턴을 형성한 구성의 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 광투과성 기판에 렌즈용 조성물을 토출 착탄시키고, 이 렌즈용 조성물의 액적에 의해 최소 렌즈체 또는 그 전구체를 형성한다. 밝고, 콘트라스트비가 높고, 모아레나 스펙클이 없는 고화질 영상을 표시할 수 있는 투과형 스크린을 저비용으로 실현시키는 투과형 스크린의 제조 방법을 제공할 수 있다.

Description

투과형 스크린의 제조 방법 및 투과형 스크린{METHOD FOR MANUFACTURING TRANSMISSION SCREEN AND TRANSMISSION SCREEN}

본 발명은 투사 스크린 기술에 관한 것이다. 특히 프로젝션 텔레비젼이나 마이크로필름리더 등의 표시 화면으로서 사용되는 투과형 스크린의 제조 방법 및 이 제조 방법에 의해 제작된 투과형 스크린에 관한 것이다.

최근, 대화면 디스플레이로서 액정 라이트 밸브 또는 CRT를 이용한 배면 투사형 프로젝터가 주목받고 있다. 이 디스플레이는 영상 투사부로부터의 영상광을 투과형 스크린상에 결상시켜서 표시한다. 이러한 유형의 투과형 스크린은 관찰시 밝고, 시야각이 확대되도록 소정의 미세 렌즈체가 스크린상에 형성되어 있다.

또한, 이와 같이 밝고 시야각이 넓은 스크린의 배광 특성은 도 11에 도시한 바와 같이 수직 방향보다 수평 방향쪽이 넓은 시야각(1101)을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 이유로, 인간의 시야는 수직 방향보다 수평 방향쪽이 넓으나, 수직 방향과 수평 방향에 균등하게 배광되는 경우 인간의 시야에 불필요한 수직 방향에도 광을 배분시키므로 전체적인 밝기가 감소되어 바람직하지 않다.

투과형 스크린의 대표적인 구성은 다음과 같다.

① 볼록한 원통형 렌즈(반원통형 볼록 렌즈)를 병설하여 이루어진 렌즈부를 구비한 렌티큘시트(lenticular sheet). 도 9(a)에 도시한 바와 같이 일반적인 렌티큘시트의 구성은 양면에 볼록한 원통형 렌즈면(901)이 형성되고, 한 면(영상광(201)의 출사측)의 각 원통형 렌즈의 경계부에는 돌기가 형성되고 돌기의 상부에는 차광층(광흡수성을 구비한 흑색 스트라이프)(902)이 형성된다.

이 렌티큘시트는 투명한 열가소성 수지 시트에 대해 프레스 성형을 실시하거나, 용융 압출과 양면 성형을 동시에 실시함으로써 수득되었다.

② 투명 미소구체를 2차원 배열하여 구성한 평면형 렌즈(예컨대, 미국 특허 제 2,378,252 호, 미국 특허 제 3,552,822 호, 일본 실용신안등록 2513508 호 공보). 도 10(a)에 도시한 바와 같이 상기 평면형 렌즈는 광입사측의 투명층(1001)에 각 투명 미소구체(1002)의 직경의 50% 정도가 설치되어 유지되고, 나머지 50%는 광출사측의 광흡수층(1003)에 매설되어 있다.

이 평면형 렌즈는 투명층, 투명 미소구체 및 광흡수층으로 구성되는 시트를 형성하고, 이것을 투명 기판(1004)에 점착시킴으로써 제조되었다.

상기 종래의 투과형 스크린에는 다음과 같은 문제점이 있다.

렌티큘렌즈는 전술한 열가소성 수지에 대한 각 성형법으로 파인피치화(fine pitch)가 어렵고, 최근 점차 고세밀화되는 배면 투사형 프로젝터의 스크린으로서 사용되는 경우, 모아레(moire)의 발생에 따른 화질을 열화시키는 문제점이 있다. 또한 렌티큘렌즈의 파워가 없는 수직 방향(렌티큘렌즈에 평행한 방향, 도 9(b)의 (903))의 시야각을 넓히기 위해서, 통상적으로 렌티큘렌즈 내부에 미세한 광확산재를 혼련하는데, 이 광확산재가 영상광의 간섭을 야기하여 스펙클이 생겨 화질을 열화시키는 문제점이 있다. 또한 열 가소성 수지에 대한 각 성형법은 배면 투사형 프로젝터의 스크린 사이즈와 동등한 대각 50인치 이상의 금형이나 대형의 성형기가 요구되기 때문에 제조 단가를 현저히 상승시키는 문제점이 있다.

한편, 투명 미소구체를 2차원 배열하여 구성한 평면형 렌즈로는 영상광 입사측에서부터 본 도 10(b)에 도시한 바와 같이 개개의 미소구체(1002) 간에 영상광을 투과시키지 않는 데드 스페이스가 생기고, 이곳에 입사하는 영상광이 관찰자측에 투과되지 않는다. 또한, 미소구체를 완전히 세밀 충전하는 것은 극히 어렵고 상기 데드 스페이스가 확대된다. 또한, 투명 미소구체의 관찰자측 표면에는 엷은 광흡수층(1003)이 잔존하기 때문에 광이 흡수된다. 전술한 세 가지의 주 원인으로 인해 투과형 스크린의 광투과율이 낮아지는 문제점이 있다.

또한, 미소구체에 의한 시야각의 확대는 완전히 동일한 방향으로 진행되므로, 수평 방향과 같은 정도의 광을 시야각을 넓힐 필요가 없는 수직 방향으로도 확산시키게 되어 정면에서 보았을 때의 밝기가 부족해지는 문제점이 있다.

또한, 본 평면형 렌즈는 일반적으로 투명층, 투명 미소구체 및 광흡수층으로 구성된 시트를 형성하고, 그것을 투명 기판에 점착하는 공정으로 제조되는데, 상기 시트를 투명 기판으로 점착하는 공정에 있어 점착 불균일이 발생하고 표시 영상의 표시 균일성이 손상되거나, 시트와 투명 기판의 밀착성이 충분하지 않아 계면 다중 반사가 발생함으로써 해상도가 저하되는 문제점이 있다.

본 발명은 상기 과제를 해결할 수 있는 것으로 그 목적은, 밝고 콘트라스트 해상도가 뛰어나고 모아레, 신틸레이션(scintillation)이 없는 고화질 영상을 표시할 수 있는 투과형 스크린을 저렴하게 제조하는 방법을 실현하는데 있다.

도 1은 본 발명에 따른 투과형 스크린의 제조 방법의 제 1 실시 형태의 공정도이다.

도 2는 제 1 실시 형태에서의 구성 요소의 평면도 및 단면도이다.

도 3은 제 1 실시 형태에서의 렌즈체의 배광 기능의 설명도이다.

도 4는 본 발명에 따른 투과형 스크린의 제조 방법의 제 2 실시 형태의 공정도이다.

도 5는 본 발명에 따른 투과형 스크린의 제조 방법의 제 3 실시 형태의 공정도이다.

도 6은 제 3 실시 형태에서의 인접하는 착탄 목표 위치의 간격과 형성되는 렌즈체의 평면 형상의 설명도이다.

도 7은 제 3 실시 형태에 있어서의 다른 인접하는 착탄 목표 위치의 간격과 형성되는 렌즈체의 평면형상 설명도이다.

도 8은 본 발명에 따른 투과형 스크린의 제조 방법의 제 4 실시 형태의 공정도이다.

도 9는 렌티큘렌즈 시트의 구성도이다.

도 10은 평면형 렌즈의 구성도이다.

도 11은 투과형 스크린의 배광 분포의 설명도이다.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 제 1 투과형 스크린의 제조 방법의 형태는, 광투과성을 지닌 기판상에 병설되어 이루어진 렌즈체 및 상기 각 렌즈체의 경계부에 상당하는 위치에 광흡수재의 패턴이 형성된 구성이고, 상기 광투과성을 지닌 기판의 표면중 광투과 영역 근방에 렌즈용 조성물의 미세 액적을 토출 착탄시킴으로써 렌즈체 또는 그 전구체를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 렌즈용 조성물의 미세 액적을 토출 착탄시키는 수단이 잉크젯식 기록 헤드이고, 바람직하게는 피에조제트식 기록 헤드인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 투과형 스크린의 표면에 형성되어 있는 개개의 렌즈체는 대면적에 걸쳐 양호한 정밀도로 미세 형상을 형성시키는데 뛰어난 잉크젯식 기록 헤드, 예를 들어 피에조제트식 기록 헤드로부터 렌즈용 조성물을 토출함으로써 형성되기 때문에, 극히 미세한 렌즈체를 제작할 수 있다. 따라서, 해상도가 우수하고, 모아레에 의한 화질 저하가 없는 투과형 스크린을 제공할 수 있다. 또한 본 방식은 피에조제트식 기록 헤드를 스크린의 수평·수직 방향으로 스캔하는 기구를 구비한 제조 장치에 의해 투과형 스크린을 제조할 수 있다. 따라서, 대형의 금형 또는 성형기 등의 고가의 제조 장치가 불필요해짐에 따라 제조 단가를 낮출 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제조 방법의 제 2 형태는, 상기 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 상기 렌즈체의 표면 형상을 상기 렌즈용 조성물의 표면 장력 및 점도와, 상기 렌즈용 조성물이 접하는 표면의 젖음성을 조정하여 규제하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면 금형 가공 등이 필요없는 간편한 공정으로 렌즈체의 형상 제어가 가능해지므로 제조 가격을 낮출 수 있게 된다.

본 발명의 투과형 스크린의 제조 방법의 제 3 형태는, 상기 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 렌즈체 또는 전구체를 형성하는 공정에 앞서, 광투과성 기판의 표면에 제방상으로 광흡수재 패턴을 형성하고, 상기 제방상의 광흡수재 패턴의 광투과부 근방에 렌즈용 조성물의 미세 액적을 토출 착탄시킴으로써 렌즈체 또는 그 전구체를 형성하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 렌즈체는 제방상의 광흡수재 패턴의 광투과부 근방에 렌즈용 수지 조성물을 토출시켜 형성되기 때문에, 개개의 광흡수재 패턴과 렌즈체의 얼라인먼트 정밀도가 높아져 투과형 스크린의 투과율이 향상된다.

본 발명의 투과형 스크린의 제조 방법의 제 4 형태는, 상기 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 광투과성 기판의 광흡수재 패턴을 형성하는 표면이 상기 렌즈체를 형성하는 표면과 다른 면인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 광흡수재 패턴용 조성물과 렌즈체용 조성물 간의 화학 반응을 고려할 필요가 없으므로, 재료 선택의 범위가 넓어져 저렴한 재료를 사용한 저가의 투과형 스크린을 제공할 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제조 방법의 제 5 형태는, 상기 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 광흡수재 패턴에 광흡수재 패턴용 조성물의 미소 액적을 토출 착탄시킴으로써 광흡수재 패턴 또는 전구체를 형성하는 것을 특징으로 한다. 또한 상기 광흡수재 패턴용 조성물의 미세 액적을 토출 착탄시키는 수단이 잉크젯식 기록 헤드이고 바람직하게는 피에조제트식 기록 헤드인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 미소 액적을 토출 착탄시키는 방법으로 광흡수재 패턴 및 렌즈체의 양쪽을 형성할 수 있기 때문에 제조 공정이 간소화되어 저가의 투과형 스크린을 제공할 수 있다.

또한, 광흡수재 패턴이 대면적에 걸쳐 양호한 정밀도로 미세 형상을 형성하는데 뛰어난 잉크젯식 기록 헤드, 예를 들어 피에조제트식 기록 헤드로부터 광흡수재 패턴용 조성물을 토출함으로써 형성되기 때문에, 극히 미세한 광흡수재 패턴을 제작할 수 있다. 따라서, 해상도가 뛰어난, 모아레에 의한 화질 저하가 없는 투과형 스크린을 제공할 수 있다. 또한 본 방식은 피에조제트식 기록 헤드를 스크린의 수평·수직 방향으로 스캔하는 기구를 구비한 제조 장치를 통해 투과형 스크린을 제조할 수 있다. 따라서, 대형의 금형 또는 성형기 등의 고가의 제조 장치가 불필요해짐에 따라 제조 가격을 더욱 낮출 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제조 방법의 제 6 형태는, 상기 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 렌즈체 또는 전구체를 형성하는 공정에 앞서, 광투과성의 렌즈체를 형성하는 쪽의 표면에 렌즈체의 평면 형상을 규제하는 처리를 실시하는 공정을 포함하고, 상기 처리는 렌즈체용 조성물의 투명 기판상에서의 확대를 규제하는 화학 처리 또는 규제 형상 형성인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 금형을 사용하지 않고 렌즈체 형상이 제어 가능해지므로, 특정 시야각을 구비한 투과형 스크린을 저가로 제조할 수 있게 된다.

본 발명의 투과형 스크린의 제조 방법의 제 7 형태는, 상기 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 렌즈체의 평면 형상을 규제하는 처리를 실시하는 공정이 광흡수재 패턴을 형성하는 공정과 동일한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 부가적인 평면 형상을 규제하는 처리를 실시하는 공정을 생략할 수 있으므로 공정을 간소화할 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제조 방법의 제 8 형태는, 상기 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 인접하는 렌즈체를 다른 렌즈체용 조성물로 형성하고, 바람직하게는 상기 다른 렌즈체용 조성물들이 서로 혼합하기 어렵도록 조정해 놓은 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 인접하는 렌즈체용 조성물이 서로 혼합하기 어렵도록 조성할 수 있기 때문에, 인접하는 렌즈체의 간격을 좁힐 수 있고, 데드 스페이스가 좁아진다. 따라서 투과율이 높은 투과형 스크린을 실현할 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 형태는 상기 투과형 스크린의 제조 방법에 따라 제작한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 있어서 투과형 스크린의 표면에 형성되어 있는 개개의 렌즈체는, 대면적에 걸쳐 양호하게 정밀도로 미세 형상을 형성하는데 뛰어난 잉크젯식 기록 헤드, 예를 들어 피에조제트식 기록 헤드로부터 렌즈용 조성물을 토출함으로써 형성되기 때문에, 지극히 미세한 렌즈체를 실현할 수 있다. 따라서 해상도가 우수하고, 모아레 의한 화질 저하가 없는 투과형 스크린을 제공할 수 있다. 또한 본 발명의 형태에서는 피에조제트식 기록 헤드를 스크린의 수평·수직 방향으로 스캔하는 기구를 구비한 제조장치를 통해 투과형 스크린을 제조할 수 있다. 따라서, 대형 금형이나 성형기 등 고가의 제조 장치가 불필요해짐에 따라 제조 가격을 낮출 수 있고, 저렴한 투과형 스크린을 제공할 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제 2 형태는 상기 투과형 스크린에 있어서, 광투과성 기판, 렌즈체 및 광흡수재 패턴의 분광 특성은 가시영역에서 거의 평탄한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 표시 영상의 색재현을 충실히 실시할 수 있기 때문에, 고화질의 영상을 표시할 수 있는 투과형 스크린을 실현할 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제 3 형태는 상기 투과형 스크린에서, 형성되는 렌즈체의 저변의 형상이 대략 직사각형인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 개개의 렌즈체의 저변 형상이 대략 직사각형이기 때문에 개개의 렌즈체를 세밀 충전한 경우, 개개의 렌즈체의 사이에 데드 스페이스가 생기지 않는다. 따라서, 광투과율이 높은 밝은 투과형 스크린을 실현시킬 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제 4 형태는 상기 투과형 스크린에서, 형성되는 상기 렌즈체의 투과형 스크린 수평 방향의 곡률 반경을 RH, 수직 방향의 곡률 반경을 RV라 했을 때, RH < RV인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 렌즈체의 수평 방향의 광학 파워가 수직 방향의 광학 파워에 비해 커지기 때문에 투과형 스크린의 수평 방향 시야각을 수직 방향 시야각에 비해 크게 할 수 있다. 따라서, 투과형 스크린을 투과하여 영상광을 인간의 시각 특성에 맞춘 적절한 방향으로 낭비없이 발산시킬 수 있어, 밝은 투과형 스크린을 실현시킬 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제 5 형태는 상기 투과형 스크린에서, 형성되는 상기 렌즈체의 수평 방향의 폭을 WH, 수직 방향의 폭을 WV로 했을 때, WH<WV인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 렌즈체의 표면 형상을 렌즈용 조성물의 표면 장력, 점도 및 상기 렌즈용 조성물이 접하는 표면의 젖음성을 조정하여 규제하는 경우, 렌즈체의 곡률 반경은 렌즈체의 폭이 넓은 쪽이 커지고 좁은 쪽이 작아진다. 이것을 광학 파워의 관점에서 보면 곡률 반경이 작은 쪽이 광학 파워가 크다. 따라서, 본 발명의 형태와 같이 렌즈체의 수평 방향폭을 수직 방향폭에 비해 좁게 함으로써 수평 방향의 광학 파워가 수직 방향의 광학 파워에 비해 커지게 함으로써 투과형 스크린의 수평 방향 시야각을 수직 방향 시야각에 비해 크게 할 수 있게 된다. 따라서, 투과형 스크린을 투과하여 영상광을 인간의 시각 특성에 맞춘 적절한 방향으로 낭비없이 발산시키는 것이 가능해져, 밝은 투과형 스크린을 실현할 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제 6 형태는 상기 투과형 스크린에 있어서, 렌즈용 조성물의 인접하는 착탄 목표 위치 간의 거리가 이 투과형 스크린의 면내에서 동일하지 않은 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 렌즈체가 규칙성을 지니고 투과형 스크린상에 배치되어 있지 않기 때문에, 모아레가 저감하여 투사 화상의 화질을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 투과형 스크린의 제 7 형태는 상기 투과형 스크린에서, 상기 렌즈용 조성물이 인접하는 착탄 목표 위치 간의 거리가 수평 방향과 수직 방향에서 다르고, 바람직하게는 수평 방향의 거리를 PH, 수직 방향의 거리를 PV로 했을 때에 PH > PV이고, 더욱 바람직하게는 렌즈체 단체의 직경을 SP라 했을 때 PH > SP > PV인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 수직 방향에 인접하는 렌즈체를 융합할 수 있다. 그 결과, 수득된 복합 렌즈체는 수평 방향 곡률보다 수직 방향 곡률이 커져, 투과형 스크린의 수평 시야각을 수직 시야각 보다 크게 할 수 있게 된다.

본 발명의 투과형 스크린의 제조 방법의 제 9 형태는, 광투과성을 지닌 기판상에 병설되어 이루어진 렌즈체 및 상기 각 렌즈체의 경계부에 상당하는 위치에 광흡수재의 패턴이 형성된 구성이고, 상기 광투과성 기판의 렌즈체가 형성된 표면 또는 그 이면에 랜덤의 위상 분포를 지닌 체적형 위상 소자가 병설되어 있고, 상기 체적형 위상 소자를 체적형 위상 소자용 조성물의 미세 액적을 토출 착탄시킴으로써 체적형 위상 소자 또는 그 전구체를 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 상기 체적형 위상 소자용 조성물의 미세 액적을 토출 착탄시키는 수단이 잉크젯식 기록 헤드이고, 바람직하게는 피에조제트식 기록 헤드인 것을 특징으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 광투과성을 지닌 기판의 렌즈체 형성면의 이면에 랜덤의 위상 분포를 구비한 체적형 위상 소자를 병설하고, 영상광의 파면을 랜덤으로 어지럽혀 간섭성을 저하시킴으로써, 스펙클을 대폭 저감할 수 있다. 또한 체적형 위상 소자를 잉크젯식 기록 헤드, 예를 들어 피에조제트식 기록 헤드로 형성하기 때문에 제조 가격을 낮출 수 있다.

이하, 도면 등을 참조하면서, 본 발명의 실시 형태를 들어 더욱 상세히 설명한다.

(투과형 스크린의 제조 방법의 제 1 실시 형태)

도 1은 제 1 실시 형태의 공정의 개념을 설명하는 도면이다.

우선, 도 1(a)에 도시한 바와 같이 광투과성 기판(101)상에 광흡수재(102)를 소정 형상으로 패터닝한다. 광투과성 기판(101)은 가시역 전체에 걸쳐 거의 균일한 투과 특성을 갖고, 또한 그 투과율은 높은 것이 바람직하다. 또한, 기재가 광확산성 미립자를 분산시키거나, 표면에 확산면을 형성하거나 함으로써 광확산성을 갖게 할 수도 있다. 또한 배면 투사형 프로젝터에 편입되었을 때에 평탄성을 유지할 수 있는 강성을 지닌 소재로 구성하는 것이 바람직하다. 그와 같은 소재로서, 투명 유리 기판이나 아크릴 기판이 있지만 이에 한정되지 않는다.

광흡수재(102)도 마찬가지로 가시역 전체에 걸쳐 거의 균일한 흡수 특성을 나타내는 소재로 구성하는 것이 바람직하고, 그 투과율은 낮은 것이 바람직하다. 또한, 소재는 패터닝의 수법이나 렌즈재와의 화학적 상호 작용의 관점에서 다양한 특성을 고려하여 선택된다.

광흡수재(102)의 패터닝 방법으로서는 포토리소그라피나 각종 인쇄 기술, 피에조제트식 기록 헤드로 대표되는 잉크젯식 기록 헤드로 광흡수재용 조성물을 위치 선택적으로 토출시키는 방법 등을 생각할 수 있는데 특정한 수법으로 한정되지 않는다. 그러나, 이들 수법 가운데 피에조제트식 기록 헤드를 사용하는 방법은 대면적에 걸쳐 양호한 정밀도로 미세 형상을 경제적으로 작성할 수 있다는 점에서 바람직한 수법이다.

광흡수재(102)는 후속 공정에서 작성되는 개개의 렌즈체의 경계부 근방에 위치 선택적으로 형성되어 있다. 그 평면적인 배치 상태를 도 2(a)에 도시한다. 도 2(a)는 본 실시 형태의 투과형 스크린을 영상광의 입사측에서 본 평면도이다. 실선은 개개의 렌즈체(105)를, 점선은 광흡수재(102)를 나타낸다. 광흡수재(102)는 렌즈체(105)의 경계부 근방에 마련되어 있고 렌즈체(105)의 중앙부 근방에는 광선이 투과하는 개구부(107)가 형성되어 있다.

도 2(b)는 도 2(a)의 H-H '단면에서의 투과형 스크린의 단면 구조 및 영상광의 광로를 나타낸 도면이다. 렌즈체(105)에 입사한 영상광(201)은 렌즈체(105)에 의해 굴절되게 하고, 개구부(107)를 지나서 관찰자측에 투과한다. 한편, 관찰자측의 공간에 설치된 조명 등의 외광(202)의 대부분은 광흡수재(102)에 의해 흡수되기 때문에 관찰자측 공간의 조도가 높더라도 검게 죄어진 콘트라스트가 높은 영상을 관찰할 수 있게 된다.

여기에서, 광흡수재(102)의 상변폭(203)이 넓으면 영상광(201)의 흡수되는 비율이 커진다. 따라서 영상광의 투과율을 높이기 위해서는 상변폭(203)이 되도록 좁은 것이 바람직하다.

한편, 광흡수재(102)의 하변폭(204)이 되도록 넓은 경우, 외광의 흡수효과가 높다. 이상과 같이 광흡수재(102)의 단면 형상은 광투과성 기판(101)측에 대해 넓어지는 테이퍼 형상인 것이 바람직하다.

또한, 광흡수재(102)의 하변폭(204)을 넓게 하기 위해서는 개구부(107)가 렌즈체(105)의 초점 근방에 배치되는 것이 바람직하고 그와 같은 관점에서 광흡수재(102)의 높이가 결정된다.

다음으로 도 1(b)에 도시한 바와 같이 광흡수재(102)에 따라 칸막이된 공간에 피에조제트식 기록 헤드(103)로부터 렌즈체용 조성물(108)을 토출시키고, 렌즈 전구체(104)를 형성한다.

피에조제트식 기록 헤드(103)는 공지의 잉크젯 방식으로, 공급된 렌즈재용 조성물을 그 노즐로부터 토출시키는 것이다. 본 실시 형태에 있어서는 이해하기 쉽도록 헤드를 하나만 나타내고 있지만, 대면적에 걸쳐 렌즈체용 조성물을 토출시키기 위해서 헤드를 여러 개 병치하고, 그것들을 광투과성 기판(101)의 평면내에 걸쳐 스캐닝함으로써 양산성을 높일 수 있다는 것은 말할 필요도 없다.

토출된 렌즈체용 조성물(108)의 액적은 광흡수재(102)에 의해 칸막이된 공간에 충전되어 표면이 렌즈형상으로 된 렌즈체의 전구체(104)를 형성한다. 전구체(104)의 표면 형상은 주로 렌즈체용 조성물의 점도, 표면 장력, 광흡수재와의 젖음성에 의해 결정되고, 렌즈체 조성물 및 광흡수재의 화학 조성 또한 그와 같은 관점에서 조정된다.

또한, 도 1(b)에서는 전구체(104)끼리의 경계폭(109)이 한없이 좁게 쓰여져 있지만, 전구체(104)의 표면 형상 형성의 관점에서 볼 때 이 경계폭(109)이 넓어져도 바람직하다. 그러나, 경계폭(109)이 너무 크면 영상광의 투과율이 저하된다. 이 관점에서 인접하는 노즐(103a)과 노즐(103b)로부터 토출시키는 렌즈체용 조성물을 서로 혼합하기 어렵도록 다르게 조성하는 방법이 유효하다. 렌즈체용 조성물이 넓어져도 이들이 접촉함으로써 자연히 렌즈체의 경계가 형성되기 때문이다. 서로 혼합하기 어려운 렌즈체용 조성물로서 한쪽을 친수성, 다른쪽을 소수성으로 조성하는 것 등을 생각할 수 있는데 이것에 한정되는 것은 아니다.

다음, 도 1(c)에 도시한 후처리에 의해 전구체(104)는 소망의 특성을 구비한 렌즈체(105)가 된다. 이후의 처리로서는 광조사나 가열 등에 의한 전구체의 경화 반응 등을 생각할 수 있는데 이것에 한정되는 것은 아니고 렌즈체용 조성물의 화학적 성질에 의해 다양한 형태를 생각할 수 있다. 또한, 단지 경화 반응 뿐 아니라, 예컨대 투과율을 향상시키기 위한 후처리 및 형상을 보다 바람직한 것으로 하기 위한 후처리 등도 포함된다. 또한, 렌즈체용 조성물이 적하후, 어떠한 처리의 첨가 없이 경시적으로 화학 변화를 일으켜 일정 시간 경과 후에 소정 특성을 얻게 되는 것이면 이 공정은 생략된다. 이러한 렌즈체 조성물의 예로서 혐기성 조성물, 2액 혼합에 의해 화학 반응을 일으키는 조성물을 사용하는 경우 등을 생각할 수 있다.

다음의 잇따른 공정을 통해 렌즈체에 부가적인 특성을 부여한다. 도 1(d)은 렌즈체의 표면에 투명한 보호층(106)을 형성하고 투과형 스크린의 기계적 강도를 높이는 예를 나타내고 있다. 여기에서 부가적인 특성이란 기계적 강도 이외에도 혐기 처리 등에 의한 화학적 내구성의 향상이나 AR 코팅 등의 광학적 특성의 향상 등도 포함된다.

도 3은 본 실시 형태의 렌즈체의 구조의 설명도이다.

도 3(a)은 렌즈체(105)의 저면형상(광투과성 기판(101)과의 접촉면 형상)을 나타내고, 그 수평 방향폭(301)을 WH, 수직 방향폭(302)을 WV로 했을 때에 WH<WV인 관계가 있다. 이러한 저면 형상은 광흡수재(102)의 평면 형상에 의해 결정된다.

렌즈체(105)의 표면 형상은 주로 렌즈체용 조성물의 점도, 표면 장력, 광흡수재와의 젖음성에 의해 결정되기 때문에, 렌즈체(105)의 표면의 곡률 반경은 도 3(a)의 H-H`에서의 수평 방향의 곡률반경(303)을 RH, V-V'에서의 수직 방향의 곡률반경(304)을 RV라 했을 때에 RH<RV가 된다.

도 3(b)은 렌즈체(105)를 H-H`를 따라 절단한 단면도이고, 도 3(c)은 V-V`를 따라 절단한 단면도를 가리킨다. 전술한 바와 같이 RH는 RV보다도 작기 때문에, 도 3(b)에 나타낸 H-H'방향의 렌즈체(105)의 광학 파워는 커진다. 이 방향에서의 영상광(201)의 광투과성 기판(101) 출사후의 확대를 θH라 한다. 또한, V-V`방향의 렌즈체(105)의 광학 파워는 보다 작아진다. 이 방향에서의 영상광(201)의 광투과성 기판(101) 출사후, 확대를 θV라고 하면 θH > θV 가 되고, 도 11을 사용하여 설명한 인간의 시각 특성에 알맞은 시야각의 컨트롤이 가능해진다.

(투과형 스크린의 제조 방법의 제 2 실시 형태)

도 4는 본 발명의 제 2 실시 형태의 공정의 개념을 나타낸 도면이다.

우선, 도 2(a)에 도시한 바와 같이 광투과성 기판(101)상에 렌즈 형상 규제 패턴(401)의 공정으로 형성되는 개개의 렌즈체의 경계부 근방에 위치 선택적으로 패터닝한다. 이 렌즈 형상 규제 패턴(401)의 패터닝 방법으로서는 포토리소그라피나 각종 인쇄 기술, 피에조제트식 기록 헤드로 대표되는 잉크젯식 기록 헤드로 광흡수재용 조성물을 위치 선택적으로 토출시키는 방법 등을 생각할 수 있는데 특정한 수법으로 한정되는 것은 아니다. 그러나, 이들 수법중에서도 피에조제트식 기록 헤드를 사용하는 방법은 대면적에 걸쳐 양호한 정밀도로 미세한 형상을 작성할 수 있다는 점에서 가장 바람직한 수법이다.

또한, 가시역 전역에 걸쳐 거의 평탄한 투과율 특성을 갖고 그 투과율은 높은 것이 바람직하다. 이 렌즈 형상 규제 패턴(401)은 그 표면의 화학적 성질을 이용하여 후 공정으로 형성되는 렌즈체의 형상을 규제하는 것이고 예컨대 본 패턴 표면을 친수성, 다른 쪽 렌즈체용 조성물을 소수성으로 조성하는 것 등을 생각할 수 있는데 이것에 한정되는 것은 아니다.

광투과성 기판(101)의 렌즈 형상 규제 패턴(401)을 형성해 둔 이면에는 광흡수재용 필름(402)이 형성된다.

이 광흡수재용 필름(402)은 감광성을 지니고, 광이 닿는 부분과 닿지 않는 부분에서는 화학적 성질이나 광학적 성질에 상위가 생긴다.

이러한 필름의 대표예로서, 감광함으로써 점착성이 소실하는 특성을 보이는 포지티브형 감광성 점착재, 크로마린 필름(듀퐁사 제품)등이 알려져 있는데 그것에 한정되는 것은 아니다.

다음으로 도 4(b)에 도시한 바와 같이 렌즈 형상 규제 패턴(401)에 따라 칸막이된 투명 기판 표면상에 피에조제트식 기록 헤드(103)로부터 렌즈체용 조성물(108)을 토출시키고, 렌즈 전구체(104)를 형성한다. 이 공정에 대해서는 실시 형태 1에 상세하게 설명했기 때문에 여기에서는 설명을 생략한다.

다음으로 도 4(c)에 도시한 바와 같이 광흡수재 필름(402)에 감광 반응이 생기는 파장의 전자파(403)를 렌즈체(105)측에서 방사하고, 전자파(403)를 렌즈체(105)에 의해 광흡수재 필름(402) 근방에 집광시키고 위치 선택적으로 광흡수재 필름(402)에 감광 작용을 발생시킨다.

이 공정에 있어서, 렌즈체(105)는 렌즈 전구체 상태일 수도 있고, 전자는 (403)에 의해 경화 반응, 투과율 향상 반응 등을 생성시키고 보다 바람직한 상태로 변화시킬 수 있으면 공정을 간략화할 수 있어서 바람직하다.

광흡수재 필름(402)의 위치 선택적 감광 반응을 일으킨 부분(404)은 투명부가 되고, 렌즈체(105)에 의해 집광된 영상광을 투과한다. 한편 감광하지 않은 부분(405)은 광흡수 작용을 나타내고, 외광을 흡수한다.

전술한 크로마린 필름의 경우에서 감광 반응을 일으킨 부분(404)은 점착성이 소실하고, 감광하지 않은 부분(405)의 점착성은 잔존한다. 따라서 도시하지 않은 후공정에 있어서 광흡수성을 지닌 분체 등을 광흡수재 필름(402) 상에 살포하고 그것을 점착성이 잔존하는 감광되지 않은 부분(405)에 선택적으로 부착시키면 위치 선택적으로 광흡수재 패턴(406)을 형성시킬 수 있다.

또한, 도 4(c)부터 명백히 알 수 있는 바와 같이, 본 실시 형태에 있어서 광투과성 기판(101)의 두께는 렌즈체(105)의 집광 거리와 대략 일치하도록 설정된다. 여기에서 집광 거리란, 렌즈체(105)의 공기중에 있어서 초점 거리를 f라 하고, 광투과성 기판(101)의 굴절율을 n이라 했을 때에 f ×n에 대략 일치하는 거리이다.

(투과형 스크린의 제조 방법의 제 3 실시 형태)

도 5는 본 발명의 제 3 실시 형태의 공정의 개념을 도시한 도면이다.

우선, 도 5(a)에 도시한 바와 같이 광투과성 기판(101)상에 투명성이 높은 표면 처리층(501)을 균일하게 형성한다. 이 표면 처리층(501)은 이 층상에 토출되는 렌즈체용 조성물에 대하여 발액성을 지니고 있다. 즉, 렌즈체용 조성물이 친수성 재료인 경우는 발수성을 갖고, 반대로 렌즈체용 조성물이 친유성 재료인 경우는 친수성을 갖고 있다.

표면 처리층(501)은 그 재료 물성에 따라 스핀코팅, 딥핑, 인쇄, 스프레이, 증착, 스패터링, 자기 조직화막 등의 각종 박막 형성 기술에 의해 형성된다.

그 중에서도 자기 조직화막은 발액성의 컨트롤이 용이하고 그 작성에 특별한 장치를 필요로 하지 않는 특징을 갖기 위한 본 발명에 바람직한 박막 형성 기술이다.

자기 조직화막은 유기 분자의 분자막으로 구성된다. 이 유기 분자는 광투과성 기판(101)에 결합 가능한 광능기와, 그 반대측에 친액기 또는 발액기라는 광투과성 기판(101)의 표면성을 개질하는 (표면 에너지를 제어하는)관능기와, 이들 관능기를 이어주는 탄소의 직쇄 또는 일부 분기된 탄소쇄를 갖고 있고, 광투과성 기판(101)에 결합하여 자기 조직화를 통해 분자막, 예컨대 단분자막을 형성한다. 이 자기 조직화막은 광투과성 기판(101)의 구성 원자와 반응 가능한 결합성 관능기와, 그 이외의 직쇄 분자로 이루어진다. 또한 자기 조직화막은 직쇄 분자의 상호 작용에 의해 지극히 높은 배향성을 구비한 화합물을 배향시켜 형성되고, 단분자를 배향시켜 형성되기 때문에 분자 레벨에서 균일한 막이 된다. 즉, 막의 표면에 동일한 분자가 위치하기 때문에, 막의 표면에 균일하지만 우수한 발액성이나 친액성 등의 표면 특성을 부여할 수 있다.

자기 조직화막을 형성하는 화합물로는 헵타데카플루오로테트라하이드로데실트리에톡시실란, 트리플루오로프로필트리메톡시실란 등의 플루오로알킬실란이나 알킬기를 갖는 알킬실란을 사용할 수 있다. 또한, 자기 조직화막은 예컨대 문헌[An Introduction ULTRATHIN ORGANIC FILMS: Ulman, ACAD EMIC PRESS]에 자세히 개시되어 있다.

상기 자기 조직화막은 표면 처리층(501)을 전술한 원료 화합물과 광투과성 기판(101)을 동일한 밀폐 용기 중에 넣어두고, 실온의 경우는 수 일 정도 방치하여 형성된다. 또한, 밀폐용기 전체를 3시간 동안 100℃ 정도로 유지함으로써 형성된다. 이와 같이 표면 처리층(501)을 자기 조직화막으로 형성하는 공정은 지극히 간소하고 특별한 장치를 필요로 하지 않는다는 점에서 특히 대형의 투과형 스크린의 제조에 적합하다.

광투과성 기판(101)의 표면 처리층(501)을 형성해둔 면의 이면에는 광흡수층(502)이 형성된다. 이 광흡수층(502)은 가시역의 투과율이 평탄하고 또한 레이저광의 흡수성이 높은 재료로 형성된다. 광흡수층(502)은 그 재료 물성에 따라 스핀코팅, 딥핑, 인쇄, 스프레이 증착, 스패터링, 자기 조직화막 등의 각종 박막 형성 기술에 의해 형성된다.

다음에 도 5(b)에 도시한 바와 같이 표면 처리층(501)이 형성된 광투과성 기판(101)의 표면상에 피에조제트식 기록 헤드(103)로부터 렌즈체용 조성물(108)을 토출시키고, 렌즈 전구체(104)를 형성한다. 그러나, 본 실시 형태에서는 실시 형태 1, 2에서 설명한 바와 같은 인접 렌즈를 분리하기 위한 구조나 패턴이 존재하지 않기 때문에, 개개의 렌즈체를 분리하여 작성하기 위해서 특별한 배려가 필요하다.

도 6(a)은 광투과성 기판(101)상에 있어서 렌즈체용 조성물의 착탄 목표 위치(601)와 렌즈 전구체(104)의 직경의 관계를 나타낸 것이다. 렌즈체용 조성물(108)은 착탄 목표 위치(601) 근방에 착탄후, 표면 처리층(501)과의 젖음성의 관계로 정해지는 부분의 접촉각으로써 젖음 폭이 넓어지고, 그 표면 장력으로 정해진 부분의 곡면을 갖는 렌즈 전구체(104)를 형성한다. 그 평면 형상은 착탄 목표 위치(601)를 중심으로 하는 직경 SP의 대략 원형이 된다. 따라서 도 6(b)에 도시한 바와 같이, 인접하는 착탄 목표 위치(601)의 간격 P를 P>SP로 설정하면 서로 분리 독립된 렌즈 전구체(104)를 형성시킬 수 있다. 또한, P가 SP보다 너무 큰 경우는 렌즈 전구체(104) 간의 데드 스페이스가 커져 투과형 스크린의 투과율이 낮게 되기 때문에 바람직하지 못하다. 또한 도 6(c)에 도시한 바와 같이, 인접하는 착탄 목표 위치(601)의 간격(P)을 P<SP로 설정하면, 렌즈체 조성물(108)이 착탄후, 인접하는 렌즈체 조성물과 융합하여 분리 독립된 렌즈 전구체를 형성시킬 수 없다.

따라서, 피에조제트식 기록 헤드(103)가 인접하는 노즐(103a, 103b) 간의 피치 PN을 PN>SP로 설정해두면 서로 분리 독립된 인접 렌즈 전구체(104)를 형성할 수 있다. 또한, 여기에서는 인접 노즐 사이의 피치 PN을 조정하는 예를 설명했는데, 예컨대, 인접 노즐 간의 피치 PN을 인접 렌즈 전구체(104) 간의 피치와 다른 거리로 설정하고, 피에조제트식 기록 헤드(103)의 스캐닝피치를 적절히 조절함으로써 동일한 효과를 거둘 수 있음은 말할 필요도 없다.

또한, 인접 렌즈 전구체(104)들을 적극적으로 융합 일체화함으로써 투과형 스크린의 시야각을 조절하는 것도 가능하다.

도 7(a)은 인접하는 9개의 착탄 목표 위치(601)의 배치 설명도이다. 착탄 목표 위치(601)의 수평 방향 피치 PH는 PH > SP로 설정되어 있고, 수직 방향 피치 PV는 PV < SP로 설정되어 있다. 도 7(b)에 도시한 바와 같이 이들의 착탄 목표 위치(601)에 렌즈체 조성물(108)을 토출 착탄시킨 결과로 수득되는 렌즈 전구체(104)는 수평 방향으로 분리 독립되어 있지만 수직 방향으로는 융합한 평면 형상을 구비한 렌즈 전구체(104)로 형성된다. 이 렌즈 전구체(104)로부터 수득된 렌즈체의 곡률은 수평 방향의 곡률 반경을 RH, 수직 방향의 곡률 반경을 RV라 했을 때에 RH<RV가 되고, 실시 형태 1에서 설명한 바와 같이, 이 렌즈체를 투과한 영상광의 폭은 인간의 시각 특성에 적합한 수평 방향으로 넓고, 수직 방향으로 좁은 시야각 특성을 구비하게 된다.

또한, 착탄 목표 위치(601)의 피치는 투과형 스크린 전면에 걸쳐 동일할 필요 없이 소정 특성에 따라 자유롭게 설정된다. 예컨대, 수직 방향 피치를 가변으로, 융합하는 렌즈체용 조성물의 수를 조절하여 수직 방향 시야각을 조정하거나, 수평 및 수직 방향 피치의 규칙성을 저감시켜, 영상광과 렌즈체의 광학적 규칙성 패턴의 상호 작용에 의해 발생하는 모아레를 저감시킬 수도 있다.

다음 도 5(c)에 도시한 바와 같이, 집광한 상태로 광흡수층(502)의 재료를 용융·증발 또는 어브레이션(abration)시키는 역치 이상의 강도를 구비한 레이저광(503)을 렌즈체(105)측으로부터 입사시키고, 광흡수층(502) 근방에 레이저광(503)을 집광시키고, 레이저광(503)의 집광부 근방의 광흡수층(502)에 위치선택적으로 용융·증발 또는 어브레이션을 발생시켜 개구부(504)를 형성한다. 이 공정에 있어서, 렌즈체(105)는 렌즈 전구체 상태일 수도 있고, 레이저광(503)에 의해 경화 반응, 투과율 향상 반응 등을 일으켜 보다 바람직한 상태로 변화시킬 수 있는 경우 공정을 간략화시킬 수 있으므로 바람직하다.

광흡수재 패턴(506)의 개구부(504)는 렌즈체(105)에 의해 집광된 영상광을 투과시킨다. 비개구부(505)는 광흡수 작용을 나타내고, 외광을 흡수한다.

알려진 바와 같이 레이저 광흡수 재료에 용융·증발 또는 어브레이션 반응을 일으키기 위해서는 높은 에너지를 구비한 레이저광이 필요하다. 이러한 레이저광을 발생시키는 레이저로서는 XeF 등의 엑시머 레이저, Nd:YAG 레이저, Ti:A1₂O₃ 레이저 및 그 고조파 및 파장 변환된 광, 또는 색소 레이저 등을 들 수 있다. 또한, 대면적의 광투과성 기판(101)의 전면에 걸쳐 강력한 레이저광을 조사하기 위해서, 소면적의 레이저광 스폿을 광편향 수단으로 전면에 걸쳐 스캐닝하는 것은 레이저 장치의 대형화, 복잡화를 지양한다는 점에서 효과적인 수단이다.

(투과형 스크린의 제조 방법의 제 4 실시 형태)

도 8은 본 발명의 제 4 실시 형태의 공정 개념을 도시한 도면이다.

도 8(a)에 도시한 바와 같이, 이미 광흡수재(102)의 패턴, 렌즈체(105)의 형성된 광투과성 기판(101)의 렌즈체(105)가 형성되어 있는 면의 이면에 피에조제트식 기록 헤드(103)로부터 체적형 위상 소자용 조성물(801)을 토출시켜, 체적형 위상 소자 전구체(802)를 형성한다.

이 체적형 위상 소자 전구체(802)는 가시역 전반에 걸쳐 거의 평탄한 투과율을 보이는 높은 투과율의 재료로 형성되고, 그 형상, 배치 분포는 랜덤하고 영상광의 간섭성을 저하시키는 정도에 따라 결정된다. 이러한 형상, 배치 분포는 피에조제트식 기록 헤드(103)로부터의 체적형 위상 소자용 조성물(801)의 액적 토출량을 랜덤하게 변화시키거나 피에조제트식 기록 헤드(103)의 스캔방향이나 스캔량을 랜덤하게 변화시킴으로써 형성된다.

다음에 도 8(b)에 도시한 바와 같이, 광조사나 가열 등의 수단을 통해 체적형 위상 소자 전구체(802)에 경화 등을 일으켜서 바람직한 특성을 구비한 체적형 위상형 소자(803)를 수득한다.

이와 같이 광투과성 기판(101)의 렌즈체(105)를 형성해둔 면의 이면에 체적형 위상 소자(803)를 형성함으로써, 영상광의 간섭성을 저감시키는 것이 가능해지므로 스펙클이 적은 높은 화질의 구비한 영상을 관찰할 수 있게 된다.

(투과형 스크린의 제조 방법의 제 5 실시 형태)

실시 형태 1 내지 4에 있어서 렌즈체용 조성물 또는 체적형 위상 소자용 조성물로서, 피에조제트식 기록 헤드로 토출 가능한 광학적에 투명한 소재를 사용한 예를 설명했는데, 렌즈체의 광확산 작용을 더욱 강화하기 위해서 광확산성의 미립자를 혼입시킬 수 있다. 이러한 미립자로서, 평균 입경 수 미크론 내지 20 미크론 정도의 유리 비즈, 스티렌 비즈, 아크릴 비즈 등을 들 수 있는데 이것에 한정되는 것은 아니다.

상술한 렌즈체용 조성물은 실시 형태 1 내지 4로 설명한 모든 실시 형태에서도 적용 가능하고, 투과형 스크린의 시야각을 조정하는 데에 유효한 구성 재료가 된다. (변형 형태)

이상 설명한 실시 형태에 한정되지 않고 본 발명의 취지를 변경하지 않는 범위에서 다양한 변형이나 변경이 가능하다.

예컨대, 렌즈용 조성물 등의 액적을 토출시키는 헤드체로서 피에조제트식 기록 헤드에 관해서 기술했지만, 같은 기능을 구비한 잉크젯식 기록 헤드를 사용해도 무방하다. 대표적인 예로 버블젯식 기록 헤드가 있다.

또한, 렌즈체의 저면 형상으로서 직사각형상을 구비한 예를 기술했는데, 이것 이외의 원형 형상, 타원형상, 부정 형상일 수도 있다.

또한, 광흡수재 패턴의 단면 형상에 관해서 테이퍼 형상을 구비한 것에 관해서 기술했는데 그 이외의 직방체 형상, 곡면 형상을 취할 수도 있다.

이상 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 광투과성을 지닌 기판상에 병설되어 이루어진 렌즈체 및 상기 각 렌즈체의 경계부에 상당하는 위치에 광흡수재의 패턴을 형성한 구성의 투과형 스크린의 제조 방법에 있어서, 상기 광투과성을 지닌 기판에 렌즈용 조성물의 미세 액적을 토출 착탄시키고, 이 렌즈용 조성물의 액적에 의해 렌즈체 또는 그 전구체를 형성함으로써, 밝고, 콘트라스트가 높고, 모아레나 스펙클이 적은 고화질 영상을 표시할 수 있는 투과형 스크린을 저렴한 단가로 실현할 수 있다.

Claims (32)

1. 광투과성 기판, 렌즈체(lens members) 및 광흡수재의 패턴을 구비하는 투과형 스크린(a transmissive screen)을 제조하는 방법에 있어서,

   상기 렌즈체 또는 렌즈체의 전구체(precursors)중 적어도 하나의 렌즈용 조성물을 광투과성 기판의 제 1 표면을 향해 토출시키는 단계와,

   상기 렌즈용 조성물을 렌즈체로 형성하는 단계와,

   상기 광투과성 기판의 제 1 표면에 위치된 광투과성 기판의 제 2 표면상에 광흡수재 필름을 형성하는 단계와,

   상기 광투과성 기판의 제 1 표면에 대향되게 위치된 광투과성 기판의 제 2 표면상에서, 상기 렌즈체 사이의 경계부에 대응하는 위치에 상기 광흡수재의 패턴을 형성하는 단계를 포함하며;

   상기 광흡수재의 패턴을 형성하는 단계가, 상기 렌즈체를 통해 이동하고 상기 광흡수재 필름 근방에서 수렴하는 광으로 상기 광흡수재 필름을 조사하는 단계를 포함하는

   투과형 스크린의 제조 방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 렌즈용 조성물의 미세 액적을 토출 착탄시키는데 잉크젯식 기록 헤드를 이용하는 단계를 더 포함하는

   투과형 스크린의 제조 방법.
3. 제 2 항에 있어서,

   상기 잉크젯식 기록 헤드로서 피에조제트식 기록 헤드를 이용하는 단계를 더 포함하는

   투과형 스크린의 제조 방법.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 렌즈체의 각각의 표면 형상을, 상기 렌즈용 조성물의 각각의 표면 장력 및 점도와, 상기 각 렌즈용 조성물과 상기 렌즈용 조성물의 각각이 접하는 제 1 표면의 젖음성(a wettability)을 조정하여 규제하는 단계를 더 포함하는

   투과형 스크린의 제조 방법.
5. 삭제
6. 삭제
7. 삭제
8. 삭제
9. 삭제
10. 제 1 항에 있어서,

    상기 렌즈체 또는 렌즈체의 전구체중 적어도 하나를 토출시키는 공정에 앞서, 상기 광투과성 기판의 제 1 표면상의 렌즈체의 각각의 표면 형상을 규제하는 단계를 더 포함하며, 상기 규제 처리는 상기 광투과성 기판의 제 1 표면상에서의 상기 렌즈용 조성물의 폭을 규제하는 화학 처리 및 규제 형상 형성 처리중 적어도 하나인

    투과형 스크린의 제조 방법.
11. 삭제
12. 제 1 항에 있어서,

    인접하는 렌즈체를 다른 렌즈용 조성물로 형성하는 단계를 더 포함하는

    투과형 스크린의 제조 방법.
13. 삭제
14. 제 1 항의 투과형 스크린의 제조 방법에 따라 제작된

    투과형 스크린.
15. 제 14 항에 있어서,

    광투과성 기판, 각각의 렌즈체 및 각각의 광흡수재 패턴의 분광 특성(spectral characteristics)이 가시역(visible region)에 있어서 거의 평탄한

    투과형 스크린.
16. 제 14 항에 있어서,

    형성된 렌즈체의 각각의 저변의 형상이 대략 직사각형인

    투과형 스크린.
17. 제 14 항에 있어서,

    형성된 렌즈체의 각각에 있어서의 투과형 스크린의 수평 방향의 곡률 반경을 RH, 형성된 렌즈체의 각각에 있어서의 투과형 스크린의 수직 방향의 곡률 반경을 RV라 했을 때에 RH < RV

    투과형 스크린.
18. 제 17 항에 있어서,

    형성된 렌즈체의 각각의 수평 방향의 폭을 WH, 형성된 렌즈체의 각각의 수직 방향의 폭을 WV라 했을 때에 WH < WV

    투과형 스크린.
19. 제 14 항에 있어서,

    렌즈용 조성물의 인접하는 착탄 목표 위치 간의 거리가 투과형 스크린의 면내에서 동일하지 않은

    투과형 스크린.
20. 제 19 항에 있어서,

    상기 렌즈용 조성물의 인접하는 착탄 목표 위치 간의 거리가 수평 방향과 수직 방향에서 상이한

    투과형 스크린.
21. 제 20 항에 있어서,

    상기 렌즈용 조성물의 인접하는 착탄 목표 위치 간의 거리가 수평 방향의 거리를 PH, 수직 방향의 거리를 PV라 했을 때에 PH > PV 인

    투과형 스크린.
22. 제 21 항에 있어서,

    상기 렌즈용 조성물이 인접하는 착탄 목표 위치 간의 거리가 렌즈체 단체의 직경을 SP라 했을 때에 PH > SP > PV 인

    투과형 스크린.
23. 광투과성 기판, 렌즈체, 광흡수재의 패턴 및 체적형 위상 소자를 구비하는 투과형 스크린을 제조하는 방법에 있어서,

    상기 렌즈체를 상기 광투과성 기판의 제 1 표면상에 형성하는 단계와,

    상기 광투과성 기판의 제 2 표면에 대향되게 위치된 광투과성 기판의 제 1 표면상에 상기 광흡수재의 패턴을 형성하는 단계와,

    상기 체적형 위상 소자 또는 상기 체적형 위상 소자의 전구체중 적어도 하나의 체적형 위상 소자용 조성물을 상기 투과형 스크린의 제 2 표면을 향해 토출시키는 단계와,

    상기 체적형 위상 소자용 조성물을 제 2 표면상의 체적형 위상 소자로 형성하는 단계를 포함하는

    투과형 스크린의 제조 방법.
24. 제 23 항에 있어서,

    상기 체적형 위상 소자용 조성물의 미소 액적을 토출 착탄시키는데 잉크젯식 기록 헤드를 이용하는 단계를 더 포함하는

    투과형 스크린의 제조 방법.
25. 제 24 항에 있어서,

    상기 잉크젯식 기록 헤드로서 피에조제트식 기록 헤드를 이용하는 단계를 더 포함하는

    투과형 스크린의 제조 방법.
26. 삭제
27. 삭제
28. 광투과성 기판, 렌즈체 및 광흡수재의 패턴을 구비하는 투과형 스크린을 제조하는 방법에 있어서,

    상기 렌즈체 또는 렌즈체의 전구체중 적어도 하나의 조성물을 광투과성 기판의 제 1 표면을 향해 토출시키는 단계와,

    상기 조성물을 렌즈체로 형성하는 단계로서, 형성된 렌즈체의 각각에 있어서의 투과형 스크린의 수평 방향의 곡률 반경을 RH, 형성된 렌즈체의 각각에 있어서의 투과형 스크린의 수직 방향의 곡률 반경을 RV라 했을 때에 RH < RV 인, 상기 형성 단계와,

    상기 광투과성 기판의 제 1 표면 또는 제 1 표면에 대향된 상기 광투과성 기판의 제 2 표면상에서, 상기 렌즈체 사이의 경계부에 대응하는 위치에 상기 광흡수재의 패턴을 형성하는 단계를 포함하는

    투과형 스크린의 제조 방법.
29. 광투과성 기판, 렌즈체 및 광흡수재의 패턴을 구비하는 투과형 스크린을 제조하는 방법에 있어서,

    상기 렌즈체 또는 렌즈체의 전구체중 적어도 하나의 조성물을 광투과성 기판의 제 1 표면을 향해 토출시키는 단계로서, 상기 렌즈용 조성물의 인접하는 착탄 목표 위치 간의 거리가 수평 방향의 거리를 PH, 수직 방향의 거리를 PV라 했을 때에 PH > PV 인, 상기 토출 단계와,

    상기 조성물을 렌즈체로 형성하는 단계와,

    상기 광투과성 기판의 제 1 표면 또는 제 1 표면에 대향된 상기 광투과성 기판의 제 2 표면상에서, 상기 렌즈체 사이의 경계부에 대응하는 위치에 상기 광흡수재의 패턴을 형성하는 단계를 포함하는

    투과형 스크린의 제조 방법.
30. 광투과성 기판, 렌즈체 및 광흡수재의 패턴을 구비하는 투과형 스크린을 제조하는 방법에 있어서,

    상기 렌즈체 또는 렌즈체의 전구체중 적어도 하나의 조성물을 광투과성 기판의 제 1 표면을 향해 토출시키는 단계와,

    상기 조성물을 렌즈체로 형성하는 단계와,

    상기 광투과성 기판의 제 1 표면 또는 제 1 표면에 대향된 상기 광투과성 기판의 제 2 표면상에서, 상기 렌즈체 사이의 경계부에 대응하는 위치에 상기 광흡수재의 패턴을 형성하는 단계를 포함하며;

    상기 광흡수재 패턴의 단면 영역이 테이퍼 형상인

    투과형 스크린의 제조 방법.
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