JP2011081352A - ウェハレベルレンズの製造方法、ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット - Google Patents
ウェハレベルレンズの製造方法、ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011081352A JP2011081352A JP2010180626A JP2010180626A JP2011081352A JP 2011081352 A JP2011081352 A JP 2011081352A JP 2010180626 A JP2010180626 A JP 2010180626A JP 2010180626 A JP2010180626 A JP 2010180626A JP 2011081352 A JP2011081352 A JP 2011081352A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- wafer level
- substrate
- level lens
- black resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Lenses (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Studio Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】基板と、基板に形成された複数のレンズとを有するレンズモジュールを少なくとも1つ有するウェハレベルレンズの製造方法であって、基板にレンズを形成する前に、該基板の表面に黒色レジスト層を塗布し、塗布された黒色レジスト層を、レンズの光軸と交差する部分が開口するパターンで形成し、その後、基板にレンズを一体に成形することにより、遮光性が高く、反射光に起因するゴーストやフレアを防止できるウェハレベルレンズを、製造コストの増加を抑えつつ製造することができる。
【選択図】図6
Description
しかし、本来、ウェハレベルレンズは、基板に複数のレンズを同時に成形し、ダイシングして撮像素子を備えた半導体基板等に接合して用いることができる点で製造コストを抑えられるという大きな利点がある。それにもかかわらず、遮光部材を別途に取り付ける加工を行うと、その分だけ製造コストが増加することが避けられなくなる。
前記基板に前記レンズを形成する前に、該基板の表面に黒色レジスト層を塗布し、
塗布された前記黒色レジスト層を、前記レンズの光軸と交差する部分が開口するパターンで形成し、その後、
前記基板に前記レンズを一体に成形するウェハレベルレンズの製造方法である。
この方法によれば、ウェハレベルレンズを製造する手順のなかで黒色レジスト層もレンズモジュールと一緒に作りこむことができるため、製造されたウェハレベルレンズに別の遮光部材などを取り付けるなどといった手順を行う必要がなく、製造コストの増加を抑えることができる。
この方法によって得られるウェハレベルレンズは、黒色レジスト層が遮光機能を有することによってレンズ以外を透過する光を遮光できる。このため、撮像素子を備えた撮像モジュールに適用した場合に、撮像時にゴーストやフレアといった不具合の発生を防止できる。
ウェハレベルレンズは、基板1と、該基板1に形成された複数のレンズ10とを有するレンズモジュールを備えている。複数のレンズ10は、基板1に対して1次元又は2次元に配列されている。この構成例では、図1のように、複数のレンズ10が、基板1に対して2次元に配列されている構成を例に説明する。レンズ10は、基板1と同じ材料から構成され、該基板1に成形されたものである。
この例では、基板1の一方の面に図2と同様の形状のレンズ10が成形され、他方の面に凸状のレンズ面20aを有するレンズ20が成形されている。レンズ10とレンズ20の光軸は一致する。また、他方の面には、レンズモジュール同士を重ね合わせる際に距離を確保するためのスペーサ12が形成されている。スペーサ12は、平面視において格子状の部材であって、基板1の他方の面に接合される。この例では、レンズモジュールの基板1にスペーサを接合した後、ダイシングによって、基板1にレンズ10及びレンズ20が1個づつ備えられた構成となるように分離したものである。スペーサ12は、基板1の一部として該基板1に一体に成形されたものとしてもよい。
撮像ユニットは、ウェハレベルレンズをダイシングしてレンズごとに分離したレンズモジュールと、撮像素子(ここでは、固体撮像素子)Dと、固体撮像素子Dが設けられたセンサ基板Wとを備える。この例の撮像ユニットは、3つのレンズモジュールLM1,LM2,LM3を光の入射側(図4の上側)からのこの順に重ね合わせた構成である。
本発明の黒色レジスト組成物は、黒色材料を含有する。
黒色材料としては、公知の着色剤、金属粒子、又は金属を含有する粒子を用いることができる。着色剤としては黒色顔料、染料を用いることができる。また、種々の色相の着色剤を混合して所望の透過率を有する黒色レジスト組成物を調整しても良い。それら着色剤としては、特開2006−208796号公報の段落番号[0037]〜[0046]などに記載の公知の着色剤及びそれらの組み合わせを用いることができる。中でも、遮光性が高いという観点から、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛、銀錫、銀コロイドなどが好ましく、中でも、遮光性の点でカーボンブラック、銀錫、チタンブラックが特に好ましい。これらの黒色材料を分散し、その他硬化成分等と組み合わせて組成物として使用する。
金属化合物とは、前記金属と金属以外の他の元素との化合物である。金属と他の元素との化合物としては、金属の酸化物、硫化物、窒化物、硫酸塩、炭酸塩などが挙げられ、金属化合物粒子としてはこれらの粒子が好適である。中でも、色調や微粒子形成のしやすさから、窒化物、硫化物の粒子が好ましい。
金属化合物の例としては、酸化銅(II)、硫化鉄、硫化銀、硫化銅(II)、チタンブラックなどがあるが、色調、微粒子形成のしやすさや安定性の観点から、硫化銀が特に好ましい。
複合粒子とは、金属と金属化合物とが結合して1つの粒子になったものをいう。例えば、粒子の内部と表面で組成の異なるもの、2種の粒子が合一したもの等を挙げることができる。また、金属化合物と金属とはそれぞれ1種でも2種以上であってもよい。
金属化合物と金属との複合粒子の具体例としては、銀と硫化銀の複合粒子、銀と酸化銅(II)の複合粒子などが好適に挙げられる。
本発明の着色剤として顔料を用いる場合は、まず少なくとも一種の溶剤に顔料が分散された顔料分散液を製造することが好ましい。溶剤としては、以下に示される有機溶剤から選択される液体が挙げられ、顔料分散液中に含まれる各成分の溶解性や、レジスト組成物に応用した場合の塗布性などを考慮して選択されるものであり、これら所望の物性を満足すれば基本的に特には限定されないが、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
顔料分散液の調製に好適に用いうる溶剤としては、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)等がより好ましい。
顔料分散液には、顔料分散液の用途など、目的に応じて、本発明の効果を損なわない限りにおいて他の成分を含有することができる。
顔料分散液は、更に顔料誘導体を含有することが好ましい。特に、酸性基を有する顔料誘導体を含有することで、分散性・分散安定性が飛躍的に向上する。
顔料誘導体が有する酸性基としては、スルホン酸、カルボン酸及びその4級アンモニウム塩が好ましい。また、顔料誘導体が有する塩基性基としては、アミノ基が好ましい。
好ましい分散樹脂は、分子内に、水素原子を除いた原子数が40〜10000の範囲であり、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、及びポリアクリレート構造から選択されるグラフト鎖を有するグラフト共重合体であり、下記式(1)〜式(5)のいずれかで表される構造単位を含むグラフト共重合体である。
具体例として、以下に示す化合物が挙げられる。なお、下記例示化合物中、各構造単位に併記される数値(主鎖繰り返し単位に併記される数値)は、当該構造単位の含有量〔質量%(wt%)と記載〕を表す。また、側鎖の繰り返し単位に併記される数値は当該繰り返し部位の繰り返し数を示す。
なお、黒色材料として、無機顔料や赤外線吸収染料を用いる場合においても、所望の分光を実現すべく、既存の赤、青、緑、黄色、シアン、マゼンタ、グレーなどの色相を有する有機顔料として例示した材料以外の染料から適宜選択して組み合わせて用いてもよい。
そのような顔料分散組成物中における顔料分散剤の含有量としては、顔料分散組成物中の着色剤(黒色顔料及び他の着色剤を含む)の全固形分質量に対して、1質量%〜90質量%が好ましく、3質量%〜70質量%がより好ましい。
黒色材料に更に感光性成分を加えることにより、黒色レジスト組成物を提供する。黒色レジスト組成物は光により露光部の現像液への溶解性が向上するポジ作用を有する組成物でも、露光部が硬化、あるいは現像液への溶解性が低下するネガ作用の組成物でもどちらでも採用することができる。たとえは感光性成分として、光重合開始剤、エチレン性不飽和二重結合を含有する化合物を添加することで、解像性・色特性・塗布性・現像性に優れた黒色レジスト組成物を提供することができる。
黒色レジスト組成物は、感度及びパターン形成性向上のため光重合開始剤を含有することが好ましい。本発明における光重合開始剤は、光により分解し、本発明における重合可能な成分の重合を開始、促進する化合物であり、波長300nm〜500nmの領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、光重合開始剤は、単独で、又は2種以上を併用して用いることができる。
本発明の黒色レジスト組成物は、前記樹脂以外のエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物(以下、単に「重合性化合物」と称する場合がある。)を含有することができる。
本発明に好適に用いうる重合性化合物としては、例えば、特開2008−233244号公報の段落番号〔0115〕〜〔0116〕に記載の化合物、及び特開2009−20453号公報の段落番号〔0100〕〜〔0109〕記載の化合物が挙げられ、これらを目的に応じて使用しうる。
アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子(好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子)中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基(例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、ヒドロキシル基など)を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
上記アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、特開2008−233244公報の段落番号〔0096〕〜〔0111〕に記載の樹脂が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂の具体的な構成単位については、特に(メタ)アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体、所謂アクリル系樹脂が好適である。
また、アクリル系樹脂の質量平均分子量Mw(GPC法で測定されたポリスチレン換算値)は、カラーレジストを塗布等の工程上使用しやすい粘度範囲を実現するために、また膜強度を確保するために、2,000〜100,000であることが好ましく、より好ましくは3,000〜50,000である。
アクリル系樹脂の酸価を上記で特定した範囲とするには、各単量体の共重合割合を適切に調整することに容易に行うことができる。また、質量平均分子量の範囲を上記範囲とするには、単量体の共重合の際に、重合方法に応じた連鎖移動剤を適切な量使用することにより容易に行うことができる。
アクリル系樹脂は、例えばそれ自体公知のラジカル重合法により製造することができる。ラジカル重合法でアクリル系樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者であれば容易に設定することができるし、条件設定が可能である。
重合性二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂は、アルカリ現像液での現像が可能であって、更に光硬化性と熱硬化性を備えたものである。
これら重合性基を含有するポリマーの例を以下に示すが、COOH基、OH基等のアルカリ可溶性基と炭素−炭素間不飽和結合が含まれていれば下記に限定されない。
(1)予めイソシアネート基とOH基を反応させ、未反応のイソシアネート基を1つ残し、かつ(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、
(2)カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基及び重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、
(3)酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、
(4)OH基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する2塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂。
上記のうち、特に(1)及び(2)の樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の市販品としては、例えば、ダイヤナールNRシリーズ(三菱レイヨン(株)製);Photomer 6173(COOH基含有Polyurethane acrylic oligomer、Diamond Shamrock Co.Ltd.,製);ビスコートR−264、KSレジスト106(いずれも大阪有機化学工業(株)製);サイクロマーPシリーズ、プラクセルCF200シリーズ(いずれもダイセル化学工業(株)製);Ebecryl3800(ダイセルユーシービー(株)製)、などが挙げられる。
本発明における黒色レジスト組成物、一般には、有機溶剤を用いて構成することができる。有機溶剤は、各成分の溶解性や黒色レジスト組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、特に紫外線吸収剤、バインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。また、本発明における光黒色レジスト組成物を調製する際には、少なくとも2種類の有機溶剤を含むことが好ましい。
[増感剤]
黒色レジスト組成物は、重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有してもよい。本発明に用いることができる増感剤としては、前記した光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。本発明に用いることができる増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、かつ300nm〜450nmの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
例えば、多核芳香族類(例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、9,10−ジアルコキシアントラセン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、チオキサントン類(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン)、シアニン類(例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、フタロシアニン類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、アクリジンオレンジ、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン)、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、N−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
更に欧州特許第568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、同5,227,227号明細書、特開2001−125255号公報、特開平11−271969号公報等に記載の化合物等などが挙げられる。
黒色レジスト組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。
熱重合防止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
黒色レジスト組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する黒色レジスト組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
更に、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤、支持体密着性を向上させうる支持体密着剤を加えてもよい。
可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し10質量%以下添加することができる。
支持体密着剤としては、公知の材料を用いることができるが、特にシラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤を用いることが好ましい。
に記載された屈折率1.60より大きい樹脂、特開2007−211164号に記載された疎水性セグメント及び親水性セグメントで構成されるブロック共重合体、特開2007−238929号公報、特願2008−12645号、特開2010−043191号公報、特開2010−065063号公報、特開2010−54817号公報に記載された高分子末端又は側鎖に無機微粒子と任意の化学結合を形成しうる官能基を有する樹脂、特開2010−031186号公報、特開2010−37368号公報に記載された熱可塑性樹脂等を挙げることができる。有機無機複合材料には、必要に応じて、可塑剤、分散剤等の添加剤を加えることができる。
次に、パターン形成方法について説明する。
以下、本発明の製造方法における各工程について説明する。
黒色レジスト層形成工程では、図5Aに示すように、基板1上に、黒色レジスト組成物を塗布して該レジスト組成物からなる光反射率の低い黒色レジスト層14を形成する。このとき、黒色レジスト層14は、基板1の表面を全て覆うように形成される。
なお、ここで言う基板1とは、レンズ10と基板1を一体形成する態様においては、レンズ10と基板1の両方を含む形態を言う。
また、これらの基板1上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板1表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
露光工程では、上記黒色レジスト層形成工程において形成された黒色レジスト層14(レジスト組成物層)をフォトリソグラフィを用いてパターン状に露光する。パターン露光は走査露光でもよいが、図5Bに示すように、所定のマスクパターンを有するマスク70を介して露光する態様が好ましい。
本工程における露光においては、黒色レジスト層14のパターン露光は、所定のマスクパターンを介して露光し、黒色レジスト層14のうち光照射された部分だけを硬化させることによりことにより行うことができる。ここでは、基板1上に塗布された黒色レジスト層14に、レンズの光軸と交差する領域が開口するマスクパターンを用いて光を照射する。こうすることで、レンズ開口14aを除く領域の黒色レジスト層14のみが光照射によって硬化する。露光に際して用いることができる放射線としては、特に、g線、h線、i線等の紫外線が好ましく用いられる。この放射線は単一波長の光源であっても良いし、高圧水銀灯のように全ての波長を含んだ光源を用いても良い。
次いで、アルカリ現像処理(現像工程)を行うことにより、上記露光により光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させ、光硬化した部分だけが残る。この例では、レンズ開口14aに形成された黒色レジスト層14のみが除去され、それ以外の領域に黒色レジスト層14が残る。(図5C参照)。アルカリ剤としては、有機、又は無機のアルカリ剤及びその組み合わせを用いることができる。本発明では周囲の回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。
現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−[5、4、0]−7−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機化合物等が挙げられ、これらのアルカリ剤を濃度が0.001質量%〜10質量%、好ましくは0.01質量%〜1質量%となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が現像液として好ましく使用される。上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄(リンス)する。
次いで、余剰の現像液を洗浄除去し、乾燥を施す。
このポストベーク処理は、現像後の黒色レジスト層14を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
高アッべ数側の樹脂は、アッベ数(νd)が50以上であることが好ましく、より好ましくは55以上であり特に好ましくは60以上である。屈折率(nd)は1.52以上であることが好ましく、より好ましくは1.55以上であり、特に好ましくは1.57以上である。
このような樹脂としては、脂肪族の樹脂が好ましく、特に脂環構造を有する樹脂(例えば、シクロヘキサン、ノルボルナン、アダマンタン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の環構造を有する樹脂、具体的には例えば、特開平10−152551号公報、特開2002−212500号公報、同2003−20334号公報、同2004−210932号公報、同2006−199790号公報、同2007−2144号公報、同2007−284650号公報、同2008−105999号公報等に記載の樹脂)が好ましい。
このような樹脂としては芳香族構造を有する樹脂が好ましく、例えば9,9’‐ジアリールフルオレン、ナフタレン、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール等の構造を含む樹脂(具体的には例えば、特開昭60−38411号公報、特開平10−67977号公報、特開2002−47335号公報、同2003−238884号公報、同2004−83855号公報、同2005−325331号公報、同2007−238883号公報、国際公開2006/095610号公報、特許第2537540号公報等に記載の樹脂等)が好ましい。
特に上記高アッべ数の樹脂に対しては、酸化ランタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の微粒子を分散させることが好ましく、低アッベ数の樹脂に対しては、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム等の微粒子を分散させることが好ましい。無機微粒子は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。また、複数の成分による複合物であってもよい。また、無機微粒子には光触媒活性低減、吸水率低減などの種々の目的から、異種金属をドープしたり、表面層をシリカ、アルミナ等異種金属酸化物で被覆したり、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、有機酸(カルボン酸類、スルホン酸類、リン酸類、ホスホン酸類等)又は有機酸基を持つ分散剤などで表面修飾してもよい。無機微粒子の数平均粒子サイズは通常1nm〜1000nm程度とすればよいが、小さすぎると物質の特性が変化する場合があり、大きすぎるとレイリー散乱の影響が顕著となるため、1nm〜15nmが好ましく、2nm〜10nmが更に好ましく、3nm〜7nmが特に好ましい。また、無機微粒子の粒子サイズ分布は狭いほど望ましい。このような単分散粒子の定義の仕方はさまざまであるが、例えば、特開2006−160992号に記載されるような数値規定範囲が好ましい粒径分布範囲に当てはまる。ここで上述の数平均1次粒子サイズとは、例えばX線回折(XRD)装置あるいは透過型電子顕微鏡(TEM)などで測定することができる。無機微粒子の屈折率としては、22℃、589nmの波長において、1.90〜3.00であることが好ましく、1.90〜2.70であることが更に好ましく、2.00〜2.70であることが特に好ましい。無機微粒子の樹脂に対する含有量は、透明性と高屈折率化の観点から、5質量%以上であることが好ましく、10〜70質量%が更に好ましく、30〜60質量%が特に好ましい。
また、黒色レジスト層14は基板の表面にパターニングされたものであるため、ウェハレベルレンズに別の遮光部材などを取り付ける必要がなく、製造コストの増加を抑えることができる。
図7Aは、入射光の波長に対する透過率を示す透過スペクトルである。ここで、黒色レジスト層は、ガラスウェハ上に平均膜厚3μmとなるようにスプレー塗布した。図7Aに示すように、黒色レジスト層は、波長400〜700nmの可視光に対して、透過率0.4%以下に抑えることができた。
(1)基板と、前記基板に形成された複数のレンズとを有するレンズモジュールを少なくとも1つ有するウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記基板に前記レンズを形成する前に、該基板の表面に黒色レジスト層を塗布し、
塗布された前記黒色レジスト層を、前記レンズの光軸と交差する部分が開口するパターンで形成し、その後、
前記基板に前記レンズを一体に成形するウェハレベルレンズの製造方法。
(2)上記(1)に記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記黒色レジスト層が、フォトリソグラフィによってパターニングされるウェハレベルレンズの製造方法。
(3)上記(1)又は(2)に記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記レンズは、型によって前記基板に成形されるウェハレベルレンズの製造方法。
(4)上記(1)から(3)のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記黒色レジスト層が黒色レジスト組成物を用いて形成されるウェハレベルレンズの製造方法。
(5)上記(1)から(4)のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記黒色レジスト層がカーボンブラック、銀錫、チタンブラックのいずれかを含むウェハレベルレンズの製造方法。
(6)上記(1)から(5)のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記黒色レジスト層は、波長400〜700nmの可視光に対する反射率が2%以下であって、透過率が1%以下であるウェハレベルレンズの製造方法。
(7)上記(1)から(6)のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
複数の前記レンズモジュールが、前記基板に形成されたスペーサを介して重ね合わされるウェハレベルレンズの製造方法。
(8)上記(1)から(7)のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズの製造方法によって得られたウェハレベルレンズ。
(9)上記(8)に記載の前記レンズモジュールを前記レンズごとに前記基板を分離させたレンズモジュールと、
撮像素子と、
前記撮像素子が設けられたセンサ基板とを備える撮像ユニット。
10 レンズ
14 黒色レジスト層
Claims (9)
- 基板と、前記基板に形成された複数のレンズとを有するレンズモジュールを少なくとも1つ有するウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記基板に前記レンズを形成する前に、該基板の表面に黒色レジスト層を塗布し、
塗布された前記黒色レジスト層を、前記レンズの光軸と交差する部分が開口するパターンで形成し、その後、
前記基板に前記レンズを一体に成形するウェハレベルレンズの製造方法。 - 請求項1に記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記黒色レジスト層が、フォトリソグラフィによってパターニングされるウェハレベルレンズの製造方法。 - 請求項1又は2に記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記レンズは、型によって前記基板に成形されるウェハレベルレンズの製造方法。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記黒色レジスト層が黒色レジスト組成物を用いて形成されるウェハレベルレンズの製造方法。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記黒色レジスト層がカーボンブラック、銀錫、チタンブラックのいずれかを含むウェハレベルレンズの製造方法。 - 請求項1から5のいずれか1項に記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
前記黒色レジスト層は、波長400〜700nmの可視光に対する反射率が2%以下であって、透過率が1%以下であるウェハレベルレンズの製造方法。 - 請求項1から6のいずれか1項に記載のウェハレベルレンズの製造方法であって、
複数の前記レンズモジュールが、前記基板に形成されたスペーサを介して重ね合わされるウェハレベルレンズの製造方法。 - 請求項1から7のいずれか1項に記載のウェハレベルレンズの製造方法によって得られたウェハレベルレンズ。
- 請求項8に記載の前記レンズモジュールの前記基板を前記レンズごとに分離させてなる該レンズモジュールと、
撮像素子と、
前記撮像素子が設けられたセンサ基板とを備える撮像ユニット。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010180626A JP2011081352A (ja) | 2009-09-09 | 2010-08-11 | ウェハレベルレンズの製造方法、ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット |
EP10808250A EP2466341A1 (en) | 2009-08-13 | 2010-08-12 | Wafer-level lens, wafer-level lens production method, and imaging unit |
SG2012009973A SG178391A1 (en) | 2009-08-13 | 2010-08-12 | Wafer level, lens, production method of wafer level lens, and imaging unit |
CN201080035795.XA CN102472837B (zh) | 2009-08-13 | 2010-08-12 | 晶片级透镜、晶片级透镜的制备方法和成像单元 |
KR1020127003635A KR101651157B1 (ko) | 2009-08-13 | 2010-08-12 | 웨이퍼 레벨 렌즈, 웨이퍼 레벨 렌즈의 제조 방법, 및 촬상 유닛 |
PCT/JP2010/063686 WO2011019067A1 (ja) | 2009-08-13 | 2010-08-12 | ウェハレベルレンズ、ウェハレベルレンズの製造方法、及び撮像ユニット |
US13/390,191 US20120134028A1 (en) | 2009-08-13 | 2010-08-12 | Wafer level lens, production method of wafer level lens, and imaging unit |
TW099127032A TWI485441B (zh) | 2009-08-13 | 2010-08-13 | 晶圓級透鏡、晶圓級透鏡之製造方法及攝影單元 |
US14/279,524 US8936371B2 (en) | 2009-08-13 | 2014-05-16 | Wafer level lens, production method of wafer level lens, and imaging unit |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009208367 | 2009-09-09 | ||
JP2010180626A JP2011081352A (ja) | 2009-09-09 | 2010-08-11 | ウェハレベルレンズの製造方法、ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011081352A true JP2011081352A (ja) | 2011-04-21 |
Family
ID=44075423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010180626A Pending JP2011081352A (ja) | 2009-08-13 | 2010-08-11 | ウェハレベルレンズの製造方法、ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011081352A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016052653A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2017-04-27 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化被膜並びにそれらを用いたプリント配線板 |
US10742856B2 (en) | 2016-05-24 | 2020-08-11 | Olympus Corporation | Optical unit for endoscope, endoscope and method for manufacturing optical unit for endoscope |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10311904A (ja) * | 1997-05-13 | 1998-11-24 | Mitsumi Electric Co Ltd | 光学部品およびその製造方法 |
WO2002003136A1 (fr) * | 2000-07-03 | 2002-01-10 | Seiko Epson Corporation | Procede de fabrication d'un ecran de transmission et ecran de transmission ainsi fabrique |
JP2005037884A (ja) * | 2003-07-01 | 2005-02-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | レンズプレートおよびその製造方法並びに画像伝達装置 |
JP2009028952A (ja) * | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Alps Electric Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
JP2009031415A (ja) * | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Alps Electric Co Ltd | 光学素子 |
-
2010
- 2010-08-11 JP JP2010180626A patent/JP2011081352A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10311904A (ja) * | 1997-05-13 | 1998-11-24 | Mitsumi Electric Co Ltd | 光学部品およびその製造方法 |
WO2002003136A1 (fr) * | 2000-07-03 | 2002-01-10 | Seiko Epson Corporation | Procede de fabrication d'un ecran de transmission et ecran de transmission ainsi fabrique |
JP2005037884A (ja) * | 2003-07-01 | 2005-02-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | レンズプレートおよびその製造方法並びに画像伝達装置 |
JP2009028952A (ja) * | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Alps Electric Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
JP2009031415A (ja) * | 2007-07-25 | 2009-02-12 | Alps Electric Co Ltd | 光学素子 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016052653A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2017-04-27 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化被膜並びにそれらを用いたプリント配線板 |
US10742856B2 (en) | 2016-05-24 | 2020-08-11 | Olympus Corporation | Optical unit for endoscope, endoscope and method for manufacturing optical unit for endoscope |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101651157B1 (ko) | 웨이퍼 레벨 렌즈, 웨이퍼 레벨 렌즈의 제조 방법, 및 촬상 유닛 | |
JP5894728B2 (ja) | ウェハレベルレンズ、レンズモジュール及び撮像ユニット、並びにウェハレベルレンズの製造方法、レンズモジュールの製造方法、及び撮像ユニットの製造方法 | |
JP5705918B2 (ja) | 光重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示素子、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ及び、ウエハレベルレンズを備えた撮像ユニット | |
KR101552578B1 (ko) | 티탄블랙 분산물, 감광성 수지 조성물, 웨이퍼 레벨 렌즈, 차광막과 그 제조방법, 및 고체 촬상 소자 | |
US20120262793A1 (en) | Black curable composition for wafer - level lens, and wafer - level lens | |
JP5544246B2 (ja) | ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット | |
JP5535842B2 (ja) | ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ | |
JP2011141512A (ja) | 黒色硬化性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ、遮光膜およびその製造方法 | |
JP5813325B2 (ja) | 黒色重合性組成物、及び、黒色層の作製方法 | |
JP5467853B2 (ja) | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、ウエハレベルレンズ、及びカメラモジュール | |
JP5657337B2 (ja) | ウエハレベルレンズ用チタンブラック分散物、それを含有する感光性樹脂組成物、及び、ウエハレベルレンズ | |
JP5637767B2 (ja) | ウェハレベルレンズの製造方法 | |
JP5710283B2 (ja) | ウエハレベルレンズ用チタンブラック分散物、それを含有する感光性樹脂組成物、ウエハレベルレンズ、及び、固体撮像素子 | |
JP2011081352A (ja) | ウェハレベルレンズの製造方法、ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット | |
JP2012062446A (ja) | 黒色重合性組成物、及び黒色層の作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20121005 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130827 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131022 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140418 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140425 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20140523 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150602 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150828 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150918 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150918 |