JP2011141512A - 黒色硬化性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ、遮光膜およびその製造方法 - Google Patents
黒色硬化性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ、遮光膜およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011141512A JP2011141512A JP2010082283A JP2010082283A JP2011141512A JP 2011141512 A JP2011141512 A JP 2011141512A JP 2010082283 A JP2010082283 A JP 2010082283A JP 2010082283 A JP2010082283 A JP 2010082283A JP 2011141512 A JP2011141512 A JP 2011141512A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- curable composition
- light
- group
- resin
- black curable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 236
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 96
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 217
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 184
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 184
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 66
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 101
- -1 oxime ester compound Chemical class 0.000 claims description 74
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 59
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 59
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 52
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 47
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 41
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 39
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 16
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 10
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 6
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 description 203
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 96
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 70
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 69
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 51
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 50
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 44
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 44
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 42
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 39
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 39
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 33
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 33
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 32
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 26
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 26
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 24
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 23
- 125000000963 oxybis(methylene) group Chemical group [H]C([H])(*)OC([H])([H])* 0.000 description 22
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 22
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 22
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 20
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 18
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 17
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 17
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 16
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 14
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M potassium hydroxide Inorganic materials [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 13
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 13
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 12
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 12
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 9
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 8
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 7
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 7
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 5
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 5
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N [Ag].[Sn] Chemical compound [Ag].[Sn] QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical group C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 3
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 3
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229940030966 pyrrole Drugs 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 3
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Zn+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-ethyl Chemical group C[CH]OC JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 1-undecene Chemical compound CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IZSHZLKNFQAAKX-UHFFFAOYSA-N 5-cyclopenta-2,4-dien-1-ylcyclopenta-1,3-diene Chemical group C1=CC=CC1C1C=CC=C1 IZSHZLKNFQAAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N Isopropyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- NVVZQXQBYZPMLJ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C.C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 NVVZQXQBYZPMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 2
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- DCYOBGZUOMKFPA-UHFFFAOYSA-N iron(2+);iron(3+);octadecacyanide Chemical compound [Fe+2].[Fe+2].[Fe+2].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].[Fe+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] DCYOBGZUOMKFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- VOTNBIJNPNEGJA-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(2-methoxycarbonylprop-2-enoxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(=C)COCC(=C)C(=O)OC VOTNBIJNPNEGJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 2
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000962 poly(amidoamine) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229960003351 prussian blue Drugs 0.000 description 2
- 239000013225 prussian blue Substances 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical class [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- SICLLPHPVFCNTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1',1'-tetramethyl-3,3'-spirobi[2h-indene]-5,5'-diol Chemical compound C12=CC(O)=CC=C2C(C)(C)CC11C2=CC(O)=CC=C2C(C)(C)C1 SICLLPHPVFCNTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005978 1-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-3-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCCN1C1CNCC1 HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CO QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- IGTQPXMEWQTTBJ-UHFFFAOYSA-N 2,7-dibromopyrene Chemical compound C1=C(Br)C=C2C=CC3=CC(Br)=CC4=CC=C1C2=C43 IGTQPXMEWQTTBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-2-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNHQLSVILKHZNI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-nitrophenyl)-2-[2-(2-nitrophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)[N+]([O-])=O)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 FNHQLSVILKHZNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCS)C(=O)C2=C1 UHOPWFKONJYLCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006276 2-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQHSUHILQWIOM-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate titanium(4+) dihydroxide Chemical compound O[Ti++]O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O DTQHSUHILQWIOM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005979 2-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 2h-naphtho[2,3-f]quinolin-1-one Chemical class C1=CC=CC2=CC3=C4C(=O)CC=NC4=CC=C3C=C21 XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 3-(3-prop-2-enoyloxypropoxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOCCCOC(=O)C=C KEPGNQLKWDULGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKIGHOGKGARVAG-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-1h-benzimidazole-2-thione Chemical compound S=C1NC2=CC=CC=C2N1C1=CC=CC=C1 JKIGHOGKGARVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-fluoro-6-nitrophenol Chemical compound OC1=C(F)C=C(Br)C=C1[N+]([O-])=O ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000972773 Aulopiformes Species 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N Benzopyrane Chemical compound C1=CC=C2C=CCOC2=C1 KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012988 Dithioester Substances 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 241000692870 Inachis io Species 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002035 Pluronic® L 10 Polymers 0.000 description 1
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical compound C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020836 Sn-Ag Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020888 Sn-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020988 Sn—Ag Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019204 Sn—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- VMKBJESZDNXQHG-UHFFFAOYSA-N [(9-oxothioxanthen-2-yl)methylideneamino] acetate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C=NOC(=O)C)=CC=C3SC2=C1 VMKBJESZDNXQHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N [(e)-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]ethylideneamino] acetate Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(\C)=N\OC(C)=O)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C SEEVRZDUPHZSOX-WPWMEQJKSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAHIYJUCKVHOTR-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(oxiran-2-yl)methyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)C1CO1 OAHIYJUCKVHOTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005377 alkyl thioxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002635 aromatic organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005165 aryl thioxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical class OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M copper phthalocyaninesulfonic acid, dioctadecyldimethylammonium salt Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC.C=1C(S(=O)(=O)[O-])=CC=C(C(=NC2=NC(C3=CC=CC=C32)=N2)[N-]3)C=1C3=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 125000005022 dithioester group Chemical group 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- HQPMKSGTIOYHJT-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;propane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CC(O)CO HQPMKSGTIOYHJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)OCC WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)OC WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001905 inorganic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OC PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPIWVCAMONZQCP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCC(=O)C(=O)OC XPIWVCAMONZQCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N octadecylazanium;acetate Chemical compound CC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCN UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N octoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 239000003348 petrochemical agent Substances 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical class C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920005646 polycarboxylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000000244 polyoxyethylene sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000010482 polyoxyethylene sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 229920000053 polysorbate 80 Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000276 potassium ferrocyanide Substances 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGOFMNHNVFEEHB-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxymethoxymethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCOCOC(=O)C=C KGOFMNHNVFEEHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHJHBFLMOSTPIC-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylidenechromium Chemical compound C(=C)C=[Cr] KHJHBFLMOSTPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical compound N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019515 salmon Nutrition 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZNCPFRVNHGOPAG-UHFFFAOYSA-L sodium oxalate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C([O-])=O ZNCPFRVNHGOPAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940039790 sodium oxalate Drugs 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- XOGGUFAVLNCTRS-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;iron(2+);hexacyanide Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[Fe+2].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] XOGGUFAVLNCTRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004961 triphenylmethanes Chemical class 0.000 description 1
- 235000013799 ultramarine blue Nutrition 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 description 1
- PSUYMGPLEJLSPA-UHFFFAOYSA-N vanadium zirconium Chemical compound [V].[V].[Zr] PSUYMGPLEJLSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】(A)無機顔料、(B)親溶剤性部と、酸基又は塩基性基を有する顔料吸着部とを含む鎖状の樹脂、(C)重合開始剤、及び(D)重合性化合物、を含有する黒色硬化性組成物。
【選択図】なし
Description
液晶表示装置用のブラックマトリクスや固体撮像素子用の遮光性カラーフィルタを形成するための組成物としては、カーボンブラックやチタンブラック等の黒色色材を含有する感光性樹脂組成物が知られている(例えば、特許文献1〜5参照)。
即ち、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよびウエハレベルレンズ用の遮光膜は、可視領域の遮光性と共に800nm〜1300nmの赤外領域の波長の光もノイズ発生防止の為に遮光する必要がある。従来液晶表示装置等のブラックマトリックスで用いられているカーボンブラックなどの黒色顔料を使用した感光性樹脂組成物を用いて、固体撮像素子用の遮光性カラーフィルタおよびウエハレベルレンズ用の遮光膜を形成した場合、赤外領域の遮光は不十分であり、赤外領域の遮光の要求を満足させようとするとカーボン含有量を高くしたり、遮光性カラーフィルタの黒色層を厚くしたりする必要があった。
その他の黒色無機顔料、例えば、銀、錫などの金属を含有する金属顔料やチタンブラックは、カーボンブラックよりも赤外領域の遮光性が高く、かつ300nm〜500nmの波長の紫外線の吸収はカーボンブラックに比べれば少ない。しかし、この黒色無機顔料を含有する感光性樹脂組成物を紫外線で硬化させようとすると、依然として硬化が不十分であり、基板への密着性が低いという問題点があった。
しかし、これら両者を満足させることは非常に困難であった。
その理由は、固体撮像素子の基体であるシリコン基板が赤外光に対し高い透過率を示すためであり、更に、固体撮像素子に備えられる撮像素子が可視光に対してだけでなく赤外光に対しても感度を示すためである。
ところで、上記のような固体撮像素子におけるシリコン基板の他方の面に有する撮像素子部への電気的接続は、シリコン基板の一方の面に形成された金属電極と電気的に接続するハンダボールを介して回路基板と接続される方式が採用されることが多い。この場合、金属電極とハンダボールとの接続箇所以外の金属電極には、保護層としてのソルダーレジスト層が形成される。そのため、赤外光遮蔽膜には、金属電極との高い密着力とソルダーレジスト層との高い密着力の両者が要求される。このような赤外光遮蔽膜は、金属電極上およびソルダーレジスト層上にフォトリソグラフィ法を用いてパターン状に形成されるのが一般的である。
しかしながら、前述の通り、銀、錫などの金属を含む金属顔料やチタンブラックを含有する黒色硬化性組成物は300〜500nmの波長の透過性は不十分であり、ソルダーレジスト層または金属電極との密着性が不足していた。
即ち、本発明は、可視領域から赤外領域までの広い波長範囲に亘る光に対する遮光性と、基板との密着性とが良好な遮光膜を形成することができ、かつ硬化感度が高く、高精細なパターンを形成しうる黒色硬化性組成物を提供することを目的とする。
本発明のさらなる目的は、本発明による上記の黒色硬化性組成物を用いてなることで、微細で、ノイズ発生が防止され、画質が向上した固体撮像素子用の遮光性カラーフィルタを提供すること、光量が適切に調整され、簡易に製造しうるウエハレベルレンズを提供すること、並びに固体撮像素子用遮光膜およびその製造方法を提供することにある。
<1> (A)無機顔料、(B)親溶剤性部と酸基又は塩基性基を有する顔料吸着部とを含む鎖状の樹脂、(C)重合開始剤、及び(D)重合性化合物、を含有する黒色硬化性組成物。
<3> 前記親溶剤性部が、I/O値が0.05〜1.50の範囲にある繰り返し単位を80質量%以上含む<1>または<2>に記載の黒色硬化性組成物。
<6> さらに、前記(B)の樹脂以外の(E)アルカリ可溶性樹脂を含有する<1>〜<5>のいずれか1項に記載の黒色硬化性組成物。
<7> さらに、(F)有機顔料を含有する<1>〜<6>のいずれか一項に記載の黒色硬化性組成物。
<9> <8>に記載の黒色硬化性組成物を用いてなる固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ。
<12> 基板上に存在するレンズの周縁部に、<11>に記載の黒色硬化性組成物を用いて得られた遮光膜を備えたウエハレベルレンズ。
<14> 撮像素子部を有するシリコン基板の該撮像素子が設けられた面とは反対側の面上に、<13>に記載の黒色硬化性組成物を用いて形成された赤外光遮蔽膜。
<15> 撮像素子部を有するシリコン基板の該撮像素子が設けられた面とは反対側の面上に、<13>に記載の黒色硬化性組成物を塗布して感光性層を形成する感光層形成工程と、前記感光性層をパターン状に露光する露光工程と、露光後の前記感光性層を現像してパターン形成する現像工程と、を有する赤外光遮蔽膜の製造方法。
<16> 撮像素子部を有するシリコン基板の該撮像素子が設けられた面とは反対側の面上に、<14>に記載の赤外光遮蔽膜を備えた固体撮像素子。
また、本発明の黒色硬化性組成物を用いることで、微細で、ノイズ発生が防止され、画質が向上した固体撮像素子用の遮光性カラーフィルタを提供することができ、光量が適切に調整され、簡易に製造しうるウエハレベルレンズを提供することができる。
さらに、本発明の黒色硬化性組成物を用いることで、赤外光によるノイズが低減された固体撮像素子を提供することができる。
即ち、本発明による上記<9>〜<10>に係る本発明によれば、可視領域から赤外領域までの広い波長範囲に亘る光に対する遮光性と、基板との密着性とが良好な固体撮像素子用遮光性カラーフィルタを形成しうる固体撮像用黒色硬化性組成物、並びにそれを用いてなる固体撮像素子用遮光性カラーフィルタおよびその固体撮像素子用遮光性カラーフィルタを備えた固体撮像素子が提供される。
また、本発明による上記<11>〜<12>に係る本発明によれば、可視領域から赤外領域までの広い波長範囲に亘る光に対する遮光性と、基板との密着性とが良好な遮光膜を形成することができるウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、およびそれを用いて得られた遮光膜を有するウェハレベルレンズが提供される。
さらにまた、本発明による上記<13>〜<16>に係る本発明によれば、赤外光を遮光する性能、並びに金属電極およびソルダーレジスト層の両者との密着性とに優れた赤外光遮蔽膜の形成に用いられる黒色硬化性組成物、並びにそれを用いて形成された赤外光遮蔽膜、その製造方法およびその赤外光遮光膜を有する固体撮像素子が提供される。
<黒色硬化性組成物>
本発明の黒色硬化性組成物は、(A)無機顔料、(B)親溶剤性部と酸基又は塩基性基を有する顔料吸着部とを含む鎖状の樹脂(以下、適宜「特定樹脂」と称する。)、(C)重合開始剤、及び(D)重合性化合物、を含有する。以下、本発明の黒色硬化性組成物に含まれる各成分について順次説明する。
本発明に係る黒色硬化性組成物に含有させられる(A)無機顔料としては、可視光から赤外線までの遮光性を発現するべく、可視光領域から赤外線領域まで吸収を有する顔料が好ましい。
(A)無機顔料としては、金属単体からなる顔料、金属酸化物、金属錯塩等から選ばれる金属化合物からなる顔料などを挙げることができる。
具体的には、例えば、亜鉛華、鉛白、リトポン、酸化チタン、酸化クロム、酸化鉄、沈降性硫酸バリウム、バライト粉、鉛丹、酸化鉄赤、黄鉛、亜鉛黄(亜鉛黄1種、亜鉛黄2種)、ウルトラマリン青、プロシア青(フェロシアン化鉄カリ)、ジルコングレー、プラセオジムイエロー、クロムチタンイエロー、クロムグリーン、ピーコック、ビクトリアグリーン、紺青(プルシアンブルーとは無関係)、バナジウムジルコニウム青、クロム錫ピンク、陶試紅、およびサーモンピンク等が挙げられる。また、黒色の無機顔料としては、Co、Cr、Cu、Mn,Ru、Fe、Ni、Sn、Ti及びAgからなる群より選ばれた1種又は2種以上の金属元素を含む金属酸化物、金属窒素物が挙げられる。
これらの顔料は、一種のみを用いてもよく、また、2種以上を混合物として用いることもできる。
特に、可視光領域から赤外線領域までの広い波長域での遮光性を実現する目的で、単独のみならず、複数種の顔料を混合し、使用することが可能である。
本発明においてチタンブラックとは、チタン原子を有する黒色粒子である。好ましくは低次酸化チタンや酸窒化チタン等である。チタンブラック粒子は、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、表面を修飾することが可能であり、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウムで被覆することが可能であり、また、特開2007−302836号公報に示されるような撥水性物質での処理も可能である。
また、前記チタンブラックは、分散性、着色性等を調整する目的でCu、Fe、Mn、V、Ni等の複合酸化物、酸化コバルト、酸化鉄、カーボンブラック、アニリンブラック等の黒色顔料を1種あるいは2種以上の組み合わせで含有してもよく、この場合、無機顔料の50質量%以上がチタンブラック粒子であることが好ましい。
チタンブラックの比表面積は、とくに限定がないが、BET法にて測定した値が通常5m2/g〜150m2/g程度、特に20m2/g〜100m2/g程度であることが好ましい。
本発明の黒色硬化性組成物には、(A)無機顔料は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、後述するように、遮光性の調整等を目的として、有機顔料や染料などを所望により併用してもよい。
本発明の黒色硬化性組成物は、(B)親溶剤性部と酸基又は塩基性基を有する顔料吸着部とを含む鎖状の樹脂(=特定樹脂)を含有する。
この特定樹脂を含有することにより、本発明に係る黒色硬化性組成物の基板に対する密着性が向上するものと考えられる。特に、ウエハレベルレンズ用途では、これまで両立が難しかったレンズ上での密着性とガラス基板上での密着性との両立が可能となる。また、他方の面に固体撮像素子が設けられたシリコン基板の一方の面に設けられる赤外光遮蔽膜を形成するために、本発明に係る黒色硬化性組成物を使用する場合には、これまで両立が難しかったソルダーレジスト層との密着性と金属電極との密着性との両立が可能となる。
上記のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートのI/O値(0.67)に近いとは、繰り返し単位のI/O値が、0.05〜1.50の範囲にあり、好ましくは0.30〜1.30の範囲にあり、0.40〜0.70の範囲にあることがさらに好ましい。I/O値がこの範囲の繰り返し単位を含むことにより、分散安定性がさらに良好になる。これは、黒色硬化性組成物に用いる溶剤の主成分であるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートのI/O値である0.67に近いほど、特定樹脂の親溶剤性が高まり、顔料の凝集を抑制するためと考えられる。
前記I/O値の概念は、化合物の性質を、共有結合性を表わす有機性基と、イオン結合性を表わす無機性基とに分け、すべての有機化合物を有機軸と無機軸と名付けた直行座標上の1点ずつに位置づけて示すものである。
前記有機性値とは、分子内のメチレン基を単位とし、そのメチレン基を代表する炭素原子の沸点への影響力を基準にして定めたものである。即ち、直鎖飽和炭化水素化合物の炭素数5〜10付近での炭素1個加わることによる沸点上昇の平均値は20℃であるから、これを基準に、炭素原子1個の有機性値を20と定め、これを基礎として、各種置換基や結合等の沸点への影響力を数値化した値が有機性値である。例えば、ニトロ基(−NO2)の有機性値は70である。
前記I/O値は、0に近いほど非極性(疎水性、有機性の大きな)の有機化合物であることを示し、大きいほど極性(親水性、無機性の大きな)の有機化合物であることを示す。
以下において前記I/O値の計算方法を説明する。
60(エステル基の無機性値)×1(エステル基の個数)=60
となる。
20(炭素原子の有機性値)×8=160
となる。
よって、前記共重合体のI/O値は、60(前記共重合体の無機性値)/160(前記共重合体の有機性値)=0.38となる。
R1におけるシクロアルキル基としては、炭素数3〜30の単環又は多環のシクロアルキル基が好ましく、炭素数5〜20の単環又は多環のシクロアルキル基が最も好ましい。また、シクロアルコキシ基の一部の炭素が酸素原子、窒素原子及び硫黄原子等のヘテロ原子で置換されていてもよい。具体例としては、シクロプロポキシ、シクロブトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロオクチルオキシ、シクロデシルオキシ、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イルオキシ、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イルオキシ、トリシクロ[5.2.1.02、6]デカン-8-イルオキシ等の基が挙
げられる。
R1におけるアリールオキシ基としては、炭素数6〜30のアリールオキシ基が好ましく、炭素数6〜20のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基が好ましい。R1は、特に炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数5〜15のシクロアルコキシ基が好ましい。
R3が表すアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜20のアリール基がさらに好ましく、炭素数6〜15のアリール基が最も好ましい。具体例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
また、親溶剤性部は上記した親溶剤性を示す繰り返し単位以外の繰り返し単位として上記したI/O値が、0.05〜1.50の範囲外の繰り返し単位を含んでもよく、親溶剤性を示す繰り返し単位以外の繰り返し単位としては、酸基、水酸基、アミド基等の極性基を有する繰り返し単位やアルキル基、又はアルケニル基のみからなる繰り返し単位が挙げられる。
親溶剤性を示す繰り返し単位以外の繰り返し単位のI/O値としては、0.05未満又は1.50を超える値であり、好ましくは0.03以下或いは2.00以上であることが好ましい。
酸基含有モノマーからなる繰り返し単位の具体的な構造を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、式中のRAは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。
また、特定樹脂が塩基性基を含む場合、アミン価は50mgKOH/g〜150mgKOH/gが好ましく、60mgKOH/g〜140mgKOH/gがさらに好ましく、75mgKOH/g〜120mgKOH/gが最も好ましい。この範囲にあることで、ガラス基板上及びレンズ上の密着性が両立する。特定樹脂における顔料吸着部は、特に酸基を含む繰り返し単位で構成されることが現像性の観点から好ましい。
また、前記酸基又は塩基性基を有する顔料吸着部は、酸基又は塩基性基を含む繰り返し単位以外の繰り返し単位を含んでもよく、このような繰り返し単位としては、アルキル基、アルキレンオキシド基、シアノ基、アミド基、水酸基、ラクトン基、芳香族環基、ヘテロ環基である。
親溶剤性部が1種の親溶剤性を示す繰り返し単位だけから構成され、顔料吸着部が1種の酸基又は塩基性基含有モノマーからなる繰り返し単位だけから構成される場合は、親溶剤性部を構成するモノマーPと顔料吸着部を構成するモノマーQを重合する。この場合はPとQとを混合した状態でラジカル発生剤と混合して重合する方法では、通常は、次の様にPとQとからなる繰り返し単位がほぼランダムに配列する。
PPPQPPQP・・・・・・・PPQPQPPQPPQP
(ランダムな配列部位)
これに対し、本発明における特定樹脂の場合は、同一繰り返し単位のみを重合させることによってP又はQが連続して配列する箇所が存在する。この場合には特定樹脂は、ブロックポリマーを構成する。
その場合に、下記のようにPとQとを特定樹脂の構成部位として一つずつ有してもよい(PQ型)し、PとQとPとを一つずつ有してもよい(PQP型)。特にPQ型であることが密着性の観点から好ましい。
PPPPPPPPPPPPPPP−QQQQQQQQQQQQ
(親溶剤性部) (顔料吸着部)
・親溶剤性部と顔料吸着部と親溶剤性部とを有する場合(PQP型)
PPPPPPPPPPPP−QQQQQQQQQQ−PPPPPPPPPPPPP
(親溶剤性部) (顔料吸着部) (親溶剤性部)
PPPPAPPPPAAA−BQQQQQQBBQQQQQ
ここでAとBとが同一構造をとる場合は、下記のようになるが、親溶剤性基は顔料吸着部を構成する酸基又は塩基性基を有する構成単位を除いた部分のことを示す。
PPPPAPPPPAAA−AQQQQQQAAQQQQQ
即ち、本発明では、上記の場合には、Qに挟まれた部分「QQQQQQAAQQQQQ」を顔料吸着部とし、それを除いた「PPPPAPPPPAAA−A」を親溶剤性部と定義する。親溶剤性を示す繰り返し単位が2種以上、酸基又は塩基性基含有モノマーからなる繰り返し単位が2種以上の場合も、酸基又は塩基性基含有モノマーからなる繰り返し単位で挟まれた部分を顔料吸着部とし、それ以外を親溶剤性部と定義する。顔料吸着部に含有するAは、顔料吸着部の全質量に対し、10質量%以下含有されるが、5質量%以下であることが好ましい。
その他、アクリル系共重合体など、分子末端もしくは側鎖に極性基を有するオリゴマーもしくはポリマーも分散剤として好適に挙げられる。
顔料分散物への溶解性、分散性、現像性の観点から最も好ましくは、ポリエステル鎖がポリカプロラクトン側鎖であり、カルボン酸基を有する樹脂が好ましい。
本発明の黒色硬化性組成物は、(C)重合開始剤を含有する。本発明の黒色硬化性組成物における重合開始剤は、光や熱により分解し、後述する重合性化合物の重合を開始、促進する化合物であり、波長300nm〜500nmの領域に吸収を有するものであることが好ましい。
具体的には、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン(オキシド)化合物、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物が挙げられるが、特にオキシムエステル化合物及びヘキサアリールビイミダゾール系化合物が残渣及び密着性の観点から好ましい。
より具体的には、例えば、特開2006−78749号公報の段落番号[0081]〜[0100]、段落番号[0101]〜[0139]等に記載される重合開始剤が挙げられる。
本発明においては、波長が365nmや405nm等の近紫外光領域の吸収が小さいオキシムエステル化合物でも、増感剤と併用することによって著しく高感度化され実用的な感度まで到達させることができる。
ここでオキシムエステル化合物は380nm〜480nmの波長領域に吸収が小さく、着色、特に黄着色が小さいので、本発明の主たる用途である画像表示装置用のカラーフィルタに用いたときに、色純度の高い画像が得られる。また他の用途である固体撮像素子用の色分解用カラーフィルタに用いたときには、解像力の高い色信号が得られるので高解像力の固体撮像素子が得られる。
また、一般式(a)におけるnは1〜2の整数が好ましい。
以下、オキシムエステル化合物の具体例を示す。
やチオール系化合物があげられ、チオール系化合物としては、2-メルカプトベンゾチア
ゾール、2-メルカプト-1-フェニルベンズイミダゾール、3-メルカプトプロピオン酸、などを単独または2種以上混合して使用することができる。特に、ヘキサアリールビイミダゾール化合物とチオール系化合物を組み合わせて用いることが、残渣及び密着性の観点から好ましい。
本発明の黒色硬化性組成物は、(D)重合性化合物を含有する。
(D)重合性化合物としては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100℃以上である化合物が好ましい。
更に、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308頁に光硬化性モノマー
及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。
また、特公昭48−41708号、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた黒色硬化性組成物を得ることができる。市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS−10、UAB−140(山陽国策パルプ社製)、UA−7200」(新中村化学社製、DPHA−40H(日本化薬社製
)、UA−306H、UA−306T、UA−306I、AH−600、T−600、AI−600(共栄社製)などが挙げられる。
また、酸基を有するエチレン性不飽和化合物類も好適であり、市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のカルボキシル基含有3官能アクリレートであるTO−756、及びカルボキシル基含有5官能アクリレートであるTO−1382などが挙げられる。
本発明に用いられる重合性化合物としては、4官能以上のアクリレート化合物がより好ましい。
重合性化合物の黒色硬化性組成物中における含有量としては、質量換算で全固形分100部に対して、3部〜55部が好ましく、より好ましくは10部〜50部である。重合性化合物の含有量が前記範囲内において、十分な硬化反応が進行する。
<その他の添加剤>
本発明の黒色硬化性組成物には、前記(A)〜(D)の必須成分及びその他の顔料分散剤に加え、必要に応じて以下に記載する種々の化合物を使用することができる。
本発明において使用しうるアルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子(好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子)中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基(例えばカルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基、ヒドロキシ基など)を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
アルカリ可溶性樹脂の酸価としては、20mgKOH/g〜200mgKOH/g、好ましくは30mgKOH/g〜150mgKOH/g、更に好ましくは50mgKOH/g〜120mgKOH/gの範囲のものが好ましい。
前記アルキル(メタ)アクリレート、及びアリール(メタ)アクリレートとしては、CH2=C(R11)(COOR13)〔ここで、R11は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、R13は炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数6〜12のアラルキル基を表す。〕具体的にはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート(アルキルは炭素数1〜8のアルキル基)、ヒドロキシグリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等を挙げることができる。
ポリエチレンオキシド鎖、およびポリプロピレンオキシド鎖の繰り返し単位数は1〜20が好ましく、2〜12がより好ましい。これらの側鎖にポリアルキレンオキサイド鎖を有するアクリル系共重合体は、例えば2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートなどおよびこれらの末端OH基をアルキル封鎖した化合物、例えばメトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートなどを共重合成分とするアクリル系共重合体も好ましい。
これら共重合可能な他の単量体は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。好ましい共重合可能な他の単量体は、アルキル(メタ)アクリレート(アルキルは炭素数2から4のアルキル基)、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート及びスチレンである。
また、アクリル系樹脂の重量平均分子量Mw(GPC法で測定されたポリスチレン換算値)は、黒色硬化性組成物を塗布等の工程上使用しやすい粘度範囲を実現するために、また膜強度を確保するために、2,000〜100,000であることが好ましく、より好ましくは3,000〜50,000である。
(1)予めイソシアネート基とOH基を反応させ、未反応のイソシアネート基を1つ残し、かつ(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、(2)カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基及び重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、
(3)酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、
(4)OH基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する2塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂。
上記のうち、特に(1)及び(2)の樹脂が好ましい。
具体例として、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレートとメタクリル酸と、さらにこれらと共重合可能なアクリル系若しくはビニル系化合物等のモノマーとの共重合体に、OH基に対し反応性を有するエポキシ環と炭素間不飽和結合基とを有する化合物(例えばグリシジルアクリレートなどの化合物)を反応させて得られる化合物等を使用できる。OH基との反応ではエポキシ環のほかに酸無水物、イソシアネート基、アクリロイル基を有する化合物も使用できる。また、特開平6−102669号公報、特開平6−1938号公報に記載のエポキシ環を有する化合物にアクリル酸のような不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物に、飽和もしくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる反応物も使用できる。また、重合性二重結合を有するアルカリ樹脂の重合性基を有する繰り返し単位は、樹脂に対し5〜60質量%含有されることが好ましく、10〜40質量%含有されることがさらに好ましい。
本発明では、所望の遮光性を発現させるべく、公知の(F)有機顔料、または染料などの無機顔料以外の着色剤を併用することが可能である。
併用することができる着色剤としては、(F)有機顔料では、例えば、特開2008−224982号公報段落番号〔0030〕〜〔0044〕に記載の顔料や、C.I.Pigment Green 58、C.I.Pigment Blue 79のCl置換基をOHに変更したものなどが挙げられ、これらのなかでも、好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
C.I.Pigment Yellow 11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185,
C.I.Pigment Orange 36,
C.I.Pigment Red 122,150,171,175,177,209,224,242,254、255
C.I.Pigment Violet 19,23,29、32,
C.I.Pigment Blue 15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,
C.I.Pigment Green 7,36,37、58
C.I.Pigment Black 1、7
具体例としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ペンゾピラン系、インジゴ系等の染料が使用できる。
本発明では、無機顔料との組み合わせにおいて、硬化性と遮光性を両立する組み合わせとして、チタンブラック顔料とオレンジ顔料及び/または赤顔料及び/またはバイオレット顔料を組み合わせることが好ましく、最も好ましくはチタンブラック顔料と赤顔料の組み合わせが良い。
本発明の黒色硬化性組成物に(F)有機顔料を添加する際の添加量としては、黒色硬化性組成物の全固形分の5質量%〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは10質量%〜30質量%である。
高分子分散剤は、その構造からさらに直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料に対して、5質量%〜100質量%の範囲が好ましく、10質量%〜80質量%の範囲がより好ましい。また、顔料誘導体を使用する場合であれば、その使用量としては、顔料に対し1質量%〜30質量%の範囲にあることが好ましく、3質量%〜20質量%の範囲にあることがより好ましく、5質量%〜15質量%の範囲にあることが特に好ましい。
黒色硬化性組成物は、重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、(G)増感剤を含有していてもよい。
本発明に用いることができる増感剤としては、使用する(C)重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
増感剤の好ましい例としては、特開2008−214395号公報の段落番号〔0085〕〜〔0098〕に記載された化合物を挙げることができる。
増感剤の含有量は、感度と保存安定性の観点から、黒色硬化性組成物の全固形分の質量に対し、0.1質量%〜30質量%の範囲が好ましく、1質量%〜20質量%の範囲がより好ましく、2質量%〜15質量%の範囲が更に好ましい。
黒色硬化性組成物には、該組成物の製造中或いは保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の(H)重合禁止剤を添加することが望ましい。重合禁止剤としては、公知の熱重合防止剤を用いることができ、具体的には、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、黒色硬化性組成物の全固形分に対し約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。
また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を黒色硬化性組成物に添加して、塗布後の乾燥の過程で塗布膜の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、黒色硬化性組成物の約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
黒色硬化性組成物には、支持体などの表面との密着性を向上させるために、(I)密着向上剤を添加することができる。密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
シラン系カップリング剤としては、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましく挙げられる。
密着向上剤の添加量は、黒色硬化性組成物の全固形分中0.5質量%〜30質量%が好ましく、0.7質量%〜20質量%がより好ましい。
特に本発明の黒色硬化性組成物によって、ガラス基板上のウエハレベルレンズを作製する場合には、感度向上の観点から密着向上剤を添加することが好ましい。
本発明の着色感光性組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
特に、本発明の着色感光性組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性(特に、流動性)がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する着色感光性組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。
更に、黒色硬化性組成物に対しては、増感色素や開始剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは酸素による光重合性化合物の重合阻害を抑制する等の目的で共増感剤を含有してもよい。また、硬化皮膜の物性を改良するために希釈剤、可塑剤、感脂化剤等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。
本発明に係る黒色硬化性組成物は、一般には、有機溶剤を含んで構成することができる。有機溶剤は、各成分の溶解性や着色硬化性組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、特に紫外線吸収剤、バインダーの溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。また、本発明における着色硬化性組成物を調製する際には、少なくとも2種類の有機溶剤を含むことが好ましい。
よび、所望により併用される各種添加剤を、溶剤と共に含有させ、これに必要に応じて界面活性剤等の添加剤を混合し調製することができる。
次に、本発明の固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ及びその製造方法について説明する。
本発明の固体撮像素子用遮光性カラーフィルタは本発明の黒色硬化性組成物を用いてなるパターンを有することを特徴とする。
具体的には、支持体上に、本発明の黒色硬化性組成物を塗布して黒色硬化性組成物層を形成する工程(以下、適宜「黒色硬化性組成物層形成工程」と称する)と、前記黒色硬化性組成物層を、マスクを介して露光する工程(以下、適宜「露光工程」と称する)と、露光後の前記黒色硬化性組成物層を現像してパターンを形成する工程(以下、適宜「現像工程」と称する)と、を有する。
以下、本発明の固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法における各工程について説明する。
黒色硬化性組成物層形成工程では、支持体上に、本発明の黒色硬化性組成物を塗布して黒色硬化性組成物層を形成する。
また、これらの支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
黒色硬化性組成物の塗布膜厚としては、解像度と現像性の観点から、乾燥後の膜厚で0.35μm〜1.5μmが好ましく、0.40μm〜1.0μmがより好ましい。
露光工程では、前記黒色硬化性組成物層形成工程において形成された黒色硬化性組成物層を、マスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。
露光は放射線の照射により行うことが好ましく、露光に際して用いることができる放射線としては、特に、g線、h線、i線等の紫外線が好ましく用いられ、このなかでもi線が好ましく、露光機としてはi線ステッパーがより好まれる。照射強度は5mJ/cm2〜1500mJ/cm2が好ましく10mJ/cm2〜1000mJ/cm2がより好ましく、10mJ/cm2〜800mJ/cm2が最も好ましい。
露光工程に次いで、アルカリ現像処理(現像工程)を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分だけが残る。
現像液としては、下地の回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常20℃〜30℃であり、現像時間は20秒間〜90秒間である。
なお、現像液には無機アルカリを用いてもよく、無機アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウムなどが好ましい。
さらに、前記黒色硬化性組成物層形成工程において、黒色硬化性組成物中の(A)無機顔料を所望の色相の着色剤(例えば有彩色の顔料や染料)に替え、有彩色硬化性組成物を用いることにより、RGBに対応する有彩色硬化性組成物層を形成することができる(以下、「有彩色硬化性組成物層形成工程」とも称する)。
本発明における固体撮像素子は、本発明の固体撮像素子用遮光性カラーフィルタを備える。本発明における固体撮像素子用遮光性カラーフィルタは、本発明の黒色硬化性組成物を用いているため、形成されたパターンが、支持体基板との高い密着性を示し、硬化した黒色硬化性組成物は耐現像性に優れるため、露光感度に優れ、露光部の基板との密着性が良好であり、かつ、所望の断面形状を与える高解像度のパターンを形成することができる。従って、100万画素を超えるような高解像度のCCD素子やCMOS等に好適である。
本発明における固体撮像素子用遮光性カラーフィルタは、例えば、CCDを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置される固体撮像素子用遮光性カラーフィルタとして用いることができる。
本発明のウエハレベルレンズは、基板上に存在するレンズの周縁部に、本発明の黒色硬化性組成物を用いて得られた遮光膜を有することを特徴とする。
以下、図面を参照して、本発明のウエハレベルレンズについて説明する。
図1に示されるように、ウエハレベルレンズアレイは、基板10と、該基板10に配列されたレンズ12と、を備えている。ここで、図1では、複数のレンズ12は、基板10に対して2次元に配列されているが、1次元に配列されていてもよい。
また、図2は、図1に示すA−A線断面図である。
図2に示すように、ウエハレベルレンズアレイにおいて、基板10に配列された複数のレンズ12の間には、レンズ12以外の箇所からの光透過を防止する遮光膜14が設けられている。
本発明のウエハレベルレンズは、基板10上に存在する1つのレンズ12とその周縁部に設けられた遮光膜14により構成される。本発明の黒色硬化性組成物は、この遮光膜14の形成に用いられる。
撮像ユニットのリフロー実装を考慮すると、軟化点が例えば200℃以上といった、軟化点の比較的高い樹脂が好ましく、軟化点が250℃以上の樹脂がより好ましい。
以下、レンズ材料として好適な樹脂について説明する。
高アッベ数側の樹脂は、アッベ数(νd)が50以上であることが好ましく、より好ましくは55以上であり特に好ましくは60以上である。屈折率(nd)は1.52以上であることが好ましく、より好ましくは1.55以上であり、特に好ましくは1.57以上である。
このような樹脂組成物に含有される樹脂としては、脂肪族の樹脂が好ましく、特に、脂環構造を有する樹脂(例えば、シクロヘキサン、ノルボルナン、アダマンタン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の環構造を有する樹脂、具体的には例えば、特開平10−152551号公報、特開2002−212500号公報、同2003−20334号公報、同2004−210932号公報、同2006−199790号公報、同2007−2144号公報、同2007−284650号公報、同2008−105999号公報等に記載の樹脂)が好ましい。
このような樹脂としては芳香族構造を有する樹脂が好ましく、例えば、9,9’‐ジアリールフルオレン、ナフタレン、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾール等の構造を含む樹脂(具体的には例えば、特開昭60−38411号公報、特開平10−67977号公報、特開2002−47335号公報、同2003−238884号公報、同2004−83855号公報、同2005−325331号公報、同2007−238883号公報、国際公開2006/095610号公報、特許第2537540号公報等に記載の樹脂等)が好ましい。
有機無機複合材料中の無機微粒子としては、例えば、酸化物微粒子、硫化物微粒子、セレン化物微粒子、テルル化物微粒子が挙げられる。より具体的には、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、硫化亜鉛等の微粒子を挙げることができる。
また、無機微粒子には、光触媒活性低減、吸水率低減などの種々の目的から、異種金属をドープしたり、表面をシリカやアルミナ等異種金属酸化物で被覆したり、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、有機酸(カルボン酸類、スルホン酸類、リン酸類、ホスホン酸類等)、又は有機酸基を持つ分散剤などで表面修飾してもよい。
無機微粒子の数平均1次粒子サイズは通常1nm〜1000nm程度とすればよいが、小さすぎると物質の特性が変化する場合があり、大きすぎるとレイリー散乱の影響が顕著となるため、1nm〜15nmが好ましく、2nm〜10nmが更に好ましく、3nm〜7nmが特に好ましい。また、無機微粒子の粒子サイズ分布は狭いほど望ましい。このような単分散粒子の定義の仕方はさまざまであるが、例えば、特開2006−160992号公報に記載されるような数値規定範囲が好ましい粒径分布範囲に当てはまる。
ここで上述の数平均1次粒子サイズとは、例えば、X線回折(XRD)装置或いは透過型電子顕微鏡(TEM)などで測定することができる。
なお、有機無機複合材料には、必要に応じて、可塑剤、分散剤等の添加剤を加えることができる。
即ち、上記のごとき高アッベ数の樹脂をマトリックスとした場合には、無機微粒子として、酸化ランタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等の微粒子を分散させることが好ましく、低アッベ数の樹脂をマトリックスとした場合には、無機微粒子として、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム等の微粒子を分散させることが好ましい。
−レンズの形成−
まず、図3及び図4(A)〜(C)を参照して、基板10上にレンズ12を形成する方法について説明する。
ここで、図3は、基板10に、レンズ形成用の樹脂組成物である成形材料(図3中にMと記載)を供給している状態を示す図である。
また、図4(A)〜(C)は、基板10にレンズ12を型60で成形する手順を示す図である。
ここで、型60には、レンズ12の形状を転写するための凹部62が、所望のレンズ12の数に応じて設けられている。
次に、図5(A)〜(C)を参照して、レンズ12の周縁部に遮光膜14を形成する方法について説明する。
ここで、図5(A)〜(C)は、レンズ12が成形された基板10に遮光膜14を設ける工程を示す概略断面図である。
以下、遮光膜14の形成方法における各工程について説明する。
遮光性塗布層形成工程では、図5(A)に示すように、基板10上に、黒色硬化性組成物を塗布して該黒色硬化性組成物からなる光反射率の低い遮光性塗布層14Aを形成する。このとき、遮光性塗布層14Aは、基板10の表面、及び、レンズ12のレンズ面12aとレンズ縁部12bの表面を全て覆うように形成される。
なお、ここで言う基板10とは、レンズ12と基板10を一体形成する態様においては、レンズ12と基板10の両方を含む形態を言う。
また、これらの基板10上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止、或いは基板10表面の平坦化のために、下塗り層を設けてもよい。
黒色硬化性組成物の塗布直後の膜厚としては、塗布膜の膜厚均一性、塗布溶剤の乾燥のし易さの観点から、0.1μm〜10μmが好ましく、0.2μm〜5μmがより好ましく、0.2μm〜3μmが更に好ましい。
露光工程では、遮光性塗布層形成工程において形成された遮光性塗布層14Aをパターン状に露光する。パターン露光は走査露光でもよいが、図5(B)に示すように、所定のマスクパターンを有するマスク70を介して露光する態様が好ましい。
次いで、アルカリ現像処理(現像工程)を行うことにより、露光における光未照射部分、即ち、遮光性塗布層14Aの未硬化領域をアルカリ水溶液に溶出させ、光照射により硬化した領域だけを残す。
具体的には、図5(B)に示すように露光された遮光性塗布層14Aは、現像されることにより、図5(C)に示すように、レンズ面12aに形成された遮光性塗布層14Aのみが除去され、それ以外の領域に硬化された遮光膜14が形成される。
現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−[5、4、0]−7−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物(有機アルカリ剤)、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機化合物(無機アルカリ剤)等が挙げられ、これらのアルカリ剤を濃度が0.001質量%〜10質量%、好ましくは0.01質量%〜1質量%となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が現像液として好ましく使用される。
このポストベーク処理は、現像後に形成された遮光膜14を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式或いはバッチ式で行うことができる。
図6は、ウエハレベルレンズアレイの他の構成例を示す図である。
図6に示すウエハレベルレンズは、基板10とレンズ12とを同一の成形材料で同時に成形した構成(モノリシックタイプ)である。
このようなウエハレベルレンズを作成する際には、成形材料としては上述したものと同じものを用いることができる。また、この例では、基板10の一方の面(図中の上側の面)には、凹状のレンズ12が複数形成され、他方の面(図中の下側の面)には、凸状のレンズ20が複数形成されている。また、基板10のレンズ面12aを除く領域、つまり、基板10の表面及びレンズ縁部12bの表面にパターン状の遮光膜14が形成されている。遮光膜14を形成する際のパターニング方法としては、上述した手順を適用することができる。
次に、図7(A)〜(C)及び図8(A)〜(C)を参照して、ウエハレベルレンズアレイの更なる他の構成例と、それを作製する手順について説明する。
ここで、図7(A)〜(C)は、パターン状の遮光膜14を形成する他の工程を示す概略図である。
また、図8(A)〜(C)は、まず、パターン状の遮光膜14を形成した後、レンズ12を成形する工程を示す概略図である。
先ず、図7(A)に示すように、基板10上に黒色硬化性組成物を塗布して遮光性塗布層14Aを形成する遮光性塗布層形成工程を行う。
本工程における露光においては、遮光性塗布層14をパターン露光することで、遮光性塗布層14Aのうち光照射された部分だけを硬化する。ここでは、後工程でレンズ12を成形した際にレンズ12のレンズ開口14aとなる部位を除く領域の遮光性塗布層14Aにのみ光を照射するマスクパターンを用いる。この方法によりレンズ12のレンズ開口14aとなる部位を除く領域の遮光性塗布層14Aのみが光照射によって硬化する。なお、露光に際して用いることができる放射線としては、先に説明した手順と同様に、g線、h線、i線等の紫外線が好ましく用いられる。
ここで、現像液であるアルカリ水溶液中のアルカリ剤としては、先に説明した手順と同じものを用いることができる。
現像処理後は、その後、余剰の現像液を洗浄除去し、乾燥を施す。
次に、遮光膜14を形成後に、レンズ12を形成する工程について説明する。
図8(A)に示すように、パターン状の遮光膜14が形成された基板10の上に、レンズ12を構成する成形材料Mがディスペンサ50により滴下される。成形材料Mは、レンズ12のレンズ開口14aに相当する領域を覆うように、該開口に隣接する遮光膜14の端部を一部含むように供給される。
以下、これらの態様について、説明する。
本発明の固体撮像素子は、一方の面に撮像素子部を有するシリコン基板の他方の面(前記撮像素子部を有する面とは反対側の面)に、前記の本発明に係る黒色硬化性組成物を用いて形成された赤外光遮蔽膜を有して構成される。
即ち、本発明の固体撮像素子は、本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成された赤外光遮蔽膜を備えるため、撮像素子部が設けられた面の反対側の面からシリコン基板(固体撮像素子の基体)に入射される赤外光によるノイズや、残渣物によるノイズが低減される。
本発明の固体撮像素子の構造は、シリコン基板の一方の面に撮像素子部(詳しくは、複数の撮像素子が例えばマトリクス状に配列されて構成された撮像素子部)が設けられ、該シリコン基板の他方の面に前記本発明の赤外光遮蔽膜が設けられた構造であれば特に限定はない。
また、撮像素子は、CCDであってもCMOSであってもよい。
即ち、本発明の固体撮像素子の好適な一実施形態は、第1の主面に撮像素子部を有するシリコン基板と、前記シリコン基板の第2の主面に設けられ、前記撮像素子部と電気的に接続された金属電極と、前記シリコン基板の前記金属電極が設けられた面に設けられ、前記金属電極の少なくとも1部が露出するようにパターニングされた前記本発明に係る赤外光遮蔽膜と、を有する固体撮像素子である。
従来より固体撮像素子は、ワイヤボンディング方式により回路基板に接続されてきた。 詳細には、固体撮像素子を回路基板の上に配置し、前記シリコン基板の撮像素子部側の面に設けられた接続用電極と、回路基板上の接続用電極と、をワイヤにより接続していた。このワイヤボンディング方式を採用する構造は、ボンディング領域の面積が大きくなり、カメラモジュールの小型化が難しい構造である。
上記一実施形態の固体撮像素子と前記回路基板との接続は、前記固体撮像素子と前記回路基板とを、前記金属電極と回路基板上の接続用電極とが対向する向きに配置し、接続材料により前記金属電極と前記接続用電極とを接続することにより行われる(例えば、後述する図9及び図10参照)。
上記一実施形態の固体撮像素子のように、(ワイヤを用いず)第2の主面上に形成された金属電極により回路基板と接続される固体撮像素子を用いることで、ワイヤボンディングスペースを省略できるので、カメラモジュールの大幅な小型化が可能となる(例えば、”株式会社東芝ニュースリリース「携帯電話用CMOSカメラモジュール内製化によるCMOSイメージセンサ事業の強化について」”参照)。
また、例えば後述するカメラモジュール200の場合、遮光兼電磁シールド244が設けられているものの、ハンダボール260の体積バラツキ等の影響で、加工精度上、遮光兼電磁シールド244と回路基板270との間の隙間Sを完全に無くすことは極めて困難である。
従って、このような構造においては、本発明の効果(赤外光遮光能向上及び赤外光によるノイズ低減の効果)がより効果的に奏される。
従って、このような構造においては、本発明の効果(残渣物低減の効果及び残渣物によるノイズ低減の効果)がより効果的に奏される。
即ち、前記一実施形態は、前記金属電極が形成された第2の主面上に設けられ、前記金属電極の少なくとも1部を露出するようにパターニングされた保護絶縁層を有し、前記赤外光遮蔽膜が、前記保護絶縁層を覆うようにして設けられ、かつ、前記金属電極の少なくとも1部を露出するようにパターニングされた形態であってもよい。
図9は、前記一実施形態の具体例に係る固体撮像素子を備えたカメラモジュールの構成を示す概略断面図である。
図10は、図9中の固体撮像素子基板100を拡大した断面図である。
なお、図9及び図10にわたり、共通する部分には共通する符号を付す。
また、説明に際し、「上方」及び「上側」は、固体撮像素子基板100またはシリコン基板110からみて遠い側を指し、「下方」及び「下側」は、はシリコン基板110に近い側を指す。
詳細には、カメラモジュール200は、固体撮像素子基板100と、固体撮像素子基板100の一方の主面上に配置されるガラス基板230(光透過性基板)と、ガラス基板230の上方に配置される赤外線カットフィルタ242と、ガラス基板230及び赤外線カットフィルタ242の上方に配置され内部空間に撮像レンズ240を有するレンズホルダー250と、固体撮像素子基板100、ガラス基板230およびレンズホルダー250の一部の周囲を囲うように配置された遮光兼電磁シールド244と、を備えて構成されている。各部材は、接着剤221、241、243、245により接着されている。
カメラモジュール200では、外部からの入射光hνが、撮像レンズ240、赤外線カットフィルタ242、ガラス基板230を順次透過した後、固体撮像素子基板100に到達するようになっている。
また、カメラモジュール200は、固体撮像素子基板100の前記一方の主面とは反対側の他方の主面側で、ハンダボール260(接続材料)を介して回路基板270に接続されている。
但し、ソルダーレジスト層124は省略されていてもよい。
図10に示すように、固体撮像素子基板100の基体であるシリコン基板110の第1の主面上に、CCDやCMOS等の撮像素子112が前記主面に平行な2次元に複数配列された撮像素子部が設けられている。
撮像素子部における撮像素子112上には層間絶縁膜113が形成されており、層間絶縁膜113上にはベース層114が形成されている。更にベース層114上には、撮像素子112に対応するように、赤色のカラーフィルタ115R、緑色のカラーフィルタ115G、青色のカラーフィルタ115B(以下、これらをまとめて「カラーフィルタ115」ということがある)がそれぞれ配置されている。
赤色のカラーフィルタ115R、緑色のカラーフィルタ115G、青色のカラーフィルタ115Bの境界部、及び撮像素子部の周辺には、図示しない遮光膜が設けられていてもよい。この遮光膜は、例えば、公知のブラックのカラーレジストまたは本発明に係る黒色硬化性組成物を用いて作製できる。
カラーフィルタ115上にはオーバーコート116が形成され、オーバーコート116上には撮像素子112(カラーフィルタ115)に対応するようにマイクロレンズ117が形成されている。
さらに、内部電極126上には、層間絶縁膜113を介して素子面電極127が形成されている。内部電極126と素子面電極127間の層間絶縁膜113内には、これら電極間を電気的に接続するコンタクトプラグ(不図示)が形成されている。素子面電極127は、コンタクトプラグ、内部電極126を介して電圧の印加及び信号の読み出しなどに使用される。
素子面電極127上には、ベース層114が形成されている。ベース層114上にはオーバーコート116が形成されている。素子面電極127上に形成されたベース層114及びオーバーコート116が開口されて、パッド開口部が形成され、素子面電極127の一部が露出している。
固体撮像素子基板100の第1の主面側において、撮像素子部の周辺には接着剤221が設けられ、この接着剤221を介し、固体撮像素子基板100とガラス基板230とが接着される。
シリコン基板110の第2の主面上には、第1の主面上から貫通孔110Hの内壁にわたり絶縁膜122が形成されている。
絶縁膜122上には、シリコン基板110の第2の主面上の領域から貫通孔110Hの内部に至るようにパターニングされた金属電極123が設けられている。金属電極123は、固体撮像素子基板100中の撮像素子部と回路基板270との接続用の電極である。
前記貫通電極は、この金属電極123のうち、貫通孔110Hの内部に形成された部分である。貫通電極は、シリコン基板110及び層間絶縁膜の一部を貫通して内部電極126の下側に至り、該内部電極126に電気的に接続されている。
更に、ソルダーレジスト層124の上方には、前記開口部124Hを除くソルダーレジスト層124を覆う赤外光遮蔽膜118が設けられている。
この赤外光遮蔽膜118を、前述の本発明に係る黒色硬化性組成物を用いてリソグラフィーにより形成する。
これにより、第2の主面側からシリコン基板110に入射する赤外光が遮光される。更に、金属電極123では、現像残渣が抑制される。このため、金属電極123との露出部123Eハンダボール260との接続性、ひいては撮像素子112から構成される撮像素子部と回路基板270との接続性も良好に維持される。
なお、図10では、赤外光遮蔽膜118は、金属電極123の露出部123Eを除く部分を覆うようにパターニングされているが、金属電極123の全部を露出させるようにパターニングされていてもよい(ソルダーレジスト層124のパターニングについても同様である)。
また、ソルダーレジスト層124は省略されていてもよく、金属電極123の上方に金属電極123と接するように赤外光遮蔽膜118が直接形成されていてもよい。
赤外光遮蔽膜118の形成は、既述の本発明の赤外光遮蔽膜の製造方法によって形成できる。
カラーフィルタ115は、例えば、公知のカラーレジストを用い、フォトリソグラフィーにより形成する。
マイクロレンズ117は、例えば、スチレン系樹脂等を用い、フォトリソグラフィー等により形成する。
ソルダーレジスト層124は、例えばフェノール系樹脂、あるいはポリイミド系樹脂、アミン系樹脂を含む公知のソルダーレジストを用い、フォトリソグラフィーにより形成する。
内部電極126及び素子面電極127は、例えば、CMP(Chemical Mechanical Polishing)、またはフォトリソグラフィー及びエッチングにより、Cu等の金属電極として形成する。
金属電極123の膜厚は、例えば、0.1μm〜100μm(好ましくは0.5μm〜10μm)とする。
シリコン基板10としては、例えば、厚み10μm〜10,000μm(好ましくは100μm〜1,000μm)のシリコンウエハーを用いる。
シリコン基板10の貫通孔は、例えば、フォトリソグラフィー及びRIE(Reactive Ion Etching)により形成する。
赤外光遮蔽膜は、前記の通り、シリコン基板の第2の主面上に形成されるものである。
このため、本発明の赤外光遮蔽膜は赤外遮光能に優れる。
また、本発明の赤外光遮蔽膜の周辺(シリコン基板上の該赤外光遮蔽膜が形成されていない領域)では、残渣物が低減される。
光学濃度(OD)は、(株)島津製作所製UV-3600を用い、得られた膜の透過率測定を行ない、得られた透過率(%T)を下記式Bにより変換しOD値とする。
OD値=−Log(%T/100) … 式B
可視域と赤外域との遮光能のバランスの観点、及び本発明の効果をより効果的に得る観点より、赤外光遮蔽膜の光学濃度としては以下の条件が好適である。即ち、
前記〔OD1200/OD365〕は、1.0以上2.5以下がより好ましく、1.3以上2.0以下が特に好ましい。
前記赤外光遮蔽膜の波長1200nmにおける光学濃度(OD1200)は、1.5〜10であることが好ましく、2〜10であることがより好ましい。
前記赤外光遮蔽膜の波長365nmにおける光学濃度(OD365)は、1〜7であることが好ましく、2〜6であることがより好ましい。
前記赤外光遮蔽膜の、900nm〜1300nmの波長領域における光学濃度は、2以上10以下であることが好ましく、2以上9以下であることがより好ましく、2以上8以下であることが特に好ましい。
前記赤外光遮蔽膜の比〔OD900/OD365〕は、1.0以上2.5以下であることが好ましく、1.1以上2.5以下であることがより好ましい。
前記赤外光遮蔽膜の比〔OD1100/OD365〕は、0.6以上2.5以下であることが好ましく、0.7以上2.5以下であることがより好ましい。
前記赤外光遮蔽膜の比〔OD1300/OD365〕は、0.4以上2.3以下であることが好ましく、0.5以上2.0以下であることがより好ましい。
本発明の遮光膜の製造方法は、第1の主面に撮像素子部を有するシリコン基板の第2の主面に既述の本発明に係る黒色硬化性組成物の有機溶剤溶液を塗布して感光性層を形成する工程(以下、「感光性層形成工程」ともいう。)と、前記感光性層をパターン状に露光する工程(以下、「露光工程」ともいう。)と、露光後の前記感光性層を現像してパターンを形成する工程(以下、「現像工程」ともいう。)と、を設けて構成されたものである。
本発明の遮光膜の製造方法によれば、赤外遮光能に優れた遮光膜を形成でき、該遮光膜を形成する際、該遮光膜の形成領域外における残渣物(以下、「現像残渣」ともいう)を低減できる。
以下、本発明に係る赤外光遮蔽膜の製造方法の各工程を説明する。
感光性層形成工程では、シリコン基板上に、本発明に係る黒色硬化性組成物の有機溶剤溶液(以下、単に「塗布液」ともいう。)を塗布し、有機溶剤を除去することにより感光性層を形成する。有機溶剤の除去に際しては、加熱した空気を吹き付ける等、有機溶剤の除去を促進させる手段を講じても良い。
感光性層の塗布膜厚(乾燥膜厚)としては、解像度と現像性の観点から、0.35μm〜3.0μmが好ましく、0.50μm〜2.5μmがより好ましい。
露光工程では、前記感光性層形成工程で形成された感光性層を、例えばマスクを介して、パターン状に露光して硬化させる(マスクを介して露光する場合には、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる)。
前記露光工程に引き続いて、露光後の感光性層を例えばアルカリ現像処理により現像してパターンを形成する。現像工程では、露光工程における感光性層の非照射部分をアルカリ水溶液等に溶出させることにより、光照射部分だけが残る。
本発明に係る黒色硬化性組成物は、固体撮像素子の撮像素子部が形成される第1の主面上の所望の位置に配置、形成され、意図せずに侵入する光を遮蔽する機能を有する遮光性カラーフィルタの作製に使用することができる。このような遮光性カラーフィルタの作製も、前記の赤外光遮蔽膜の形成と同様にして行えばよいので、その説明は省略する。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、PGMEAと記載する。)233g中に、メタクリル酸メチル56g(0.56mol)及び連鎖移動剤(a)6.39g(0.029mol)を添加し、窒素気流下、80℃で1時間加熱した。その後、アゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)加え、3時間加熱攪拌し、さらに120℃で2時間加熱した。このとき、樹脂(親溶剤性部に相当する)の重量平均分子量(Mw)は2,500であった。次に、メタクリル酸2−ジメチルアミノエチル44g(0.28mol)を添加し、さらにアゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)添加して3時間攪拌し、さらに120℃で2時間加熱し、樹脂(1)の30質量%PGMEA溶液を得た。重量平均分子量(Mw)は、4,600、Mw/Mnは1.3であった。また、顔料吸着部の重量平均分子量(Mw)は、4,600(樹脂(1)の重量平均分子量)−2,500(親溶剤性部の重量平均分子量)=2,100であった。アミン価(滴定)は、159mgKOH/gであった。合成のスキームを下記に示す。
合成例1のモノマー及び連鎖移動剤を、表1、または表2に記載の親溶剤性部に使用のモノマー、顔料吸着部に使用のモノマー、及び連鎖移動剤の種類および量にそれぞれ変更した以外は、合成例1と同様の操作を行い、樹脂(2)〜(44)の30質量%PGMEA溶液を合成した。
表1、表2で「P(Mw)」、「Q(Mw)」はそれぞれ親溶剤性部、顔料吸着部の重量平均分子量を示す。また「樹脂(Mw)」は得られた各樹脂の重量平均分子量を示し、「アミン価」は各樹脂のアミン価を示す。
PGMEA233g中に、メタクリル酸メチル41.5g(0.415mol)及び連鎖移動剤(a)2.40g(0.011mol)を添加し、窒素気流下、80℃で1時間加熱した。その後、アゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)加え、3時間加熱攪拌し、120℃で2時間加熱攪拌した。このとき、樹脂(親溶剤性部に相当する)の重量平均分子量は4,700であった。次に、メタクリル酸2−ジメチルアミノエチル17g(0.11mol)を添加し、さらにアゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)添加して3時間攪拌した。このときの樹脂の重量平均分子量は7,000であったため、顔料吸着部の重量平均分子量は(7,000−4,700)=2,300であった。さらに、メタクリル酸メチル41.5g(0.415mol)を添加し、さらにアゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)添加して3時間攪拌し、さらに120℃で2時間加熱攪拌した。樹脂(45)の30質量%PGMEA溶液を得た。重量平均分子量は、12,000、分散度は1.3であった。また、親溶剤性部の重量平均分子量は(12,000−7,000)=5,000であった。アミン価(滴定)は、61mgKOH/gであった。合成のスキームを下記に示す。
PGMEA233g中に、メタクリル酸メチル41.5g(0.415mol)及び連鎖移動剤(a)2.40g(0.011mol)を添加し、窒素気流下、80℃で1時間加熱した。その後、アゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)加え、3時間加熱攪拌した。このとき、樹脂(親溶剤性部に相当する)の重量平均分子量は4,900であった。次に、モノマーd17g(0.079mol)を添加し、さらにアゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)添加して3時間攪拌した。このときの樹脂の重量平均分子量は7,800であったため、顔料吸着部の重量平均分子量は、(7,800−4,900)=2,900であった。さらに、メタクリル酸メチル41.5g(0.415mol)を添加し、さらにアゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)添加して3時間攪拌した。樹脂(46)の30質量%PGMEA溶液を得た。重量平均分子量は、13,000、分散度は1.3であった。また、親溶剤性部の重量平均分子量は、(13,000−7,800)=5,200であった。酸価(滴定)は、47mgKOH/gであった。合成のスキームを下記に示す。
PGMEA233g中に、メタクリル酸2−ジメチルアミノエチル25g(0.16mol)、メタクリル酸メチル75g0.75mol)、及びドデシルメルカプタン2.0g(0.0099mol)を加え、窒素気流下で75℃まで加温した。次に、アゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)を添加し、2時間加熱した。さらに、アゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)を添加し、2時間加熱した後、90℃に昇温し1時間加熱した。得られた溶液を放冷し、樹脂(47)の30質量%PGMEA溶液を得た。樹脂(47)のアミン価は85mgKOH/gであり、重量平均分子量は19,000、重量平均分子量/数平均分子量は2.7であった。合成のスキームを下記に示す。
PGMEA233g中に、メタクリル酸15g(0.17mol)、メタクリル酸メチル85g(0.85mol)、及びドデシルメルカプタン2.0g(0.0099mol)を加え、窒素気流下で75℃まで加温した。次に、アゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)を添加し、2時間加熱した。さらに、アゾビスイソブチロニトリル1.48g(0.0090mol)を添加し、2時間加熱した後、90℃に昇温し1時間加熱した。得られた溶液を放冷し、樹脂(48)の30質量%PGMEA溶液を得た。樹脂(48)の酸価は100mgKOH/gであり、重量平均分子量は21,000、重量平均分子量/数平均分子量は2.7であった。合成のスキームを下記に示す。
(分散液の調整)
下記(組成I)に示す成分を二本ロールにて高粘度分散処理を施し、分散物を得た。なお、高粘度分散処理の前にニーダーで30分混練することを行ってもよい。
・平均一次粒径75nmチタンブラック 40部
(三菱マテリアルズ(株)製 13MT)(Pigment Black35)
・各樹脂(1)〜(48)の30質量%PGMEA溶液 5部
・各樹脂(1)〜(48)の30質量%PGMEA溶液 20部
・溶剤:PGMEA 150部
下記の(組成III)の組成を攪拌機で混合して、実施例1〜実施例52のチタンブラック
を用いた各黒色硬化性組成物を調製した。
(組成III)
・アルカリ可溶性樹脂:表3および表4に記載の樹脂D−1または樹脂D−2(構造は下記に示す)、いずれも30質量%PGMEA溶液 10部
・重合性化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 2.0部
・重合性化合物:ペンタエリスリトールトリアクリレート 1.0部
・重合開始剤:表3および表4に記載の化合物(構造を下記に示す。) 0.3部
・各分散液:表3および表4に記載の分散液 24部
・溶剤:PGMEA 10部
・溶剤:エチル−3−エトキシプロピオネート(EEPと記載する) 8部
・γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 0.1部
・メガファックF171 0.05部
60℃に保温した純水200mlに錫コロイド(平均粒子系:20nm、固形分:20質量%、住友大阪セメント社製)15gと、銀コロイド(平均粒子系:7nm、固形分:20質量%、住友大阪セメント社製)60gとポリビニルピロリドン0.75gを水100mlに溶解した溶液を加え、コロイド溶液とした。
次いで、このコロイド溶液を60℃に保持した状態で60分間攪拌し、その後、超音波を5分間照射した。次いでこのコロイド溶液を遠心分離により濃縮し、固形分が25%のA液を得た。A液をフリーズドライ方法により乾燥し、粉末試料を得た。
実施例53において、樹脂(3)の代わりに、樹脂(24)を用いる以外は実施例53と同様にして、実施例54の黒色硬化性組成物を得た。
(赤色顔料分散液の調製)
下記組成物を0.3mmジルコニアビーズを用いた分散機(商品名:ディスパーマット
GETZMANN社製)にて4時間微分散処理を施して赤色顔料分散液を調製した。
・有機顔料:C.I.ピグメントレッド254 30部
・樹脂溶液(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、mol比:80/10/10、Mw:10000、樹脂固形分濃度:40%のPGMEA溶液) 10部
・溶剤:PGMEA 200部
・分散剤:樹脂(3)の30%PGMEA溶液 30部
樹脂(3)を用いて得られたチタンブラック分散液20部、および赤色顔料分散液4部の混合物を、組成(III)における分散液に用いて、実施例1と同様にして黒色硬化性組成
物を調製した。なお、実施例55では樹脂(3)を用い、実施例56では樹脂(24)を用いた。
実施例1における樹脂(1)を比較合成例で得られた樹脂(47)、または樹脂(48)にそれぞれ変更する以外は、実施例1と同様にして黒色硬化性組成物を調製し比較例1、比較例2の黒色硬化性組成物を調製した。
実施例1におけるチタンブラックをカーボンブラック(東海カーボン社製 トーカブラック#7400、平均1次粒子径28nm)に変更し、それ以外は実施例1と同様にして黒色硬化性組成物を調製した。
実施例1〜56、および比較例1〜3の黒色硬化性組成物に用いた特定樹脂、または比較用樹脂、アルカリ可溶性樹脂、および重合開始剤を表3および表4に示す。また用いた重合開始剤は下記に示す化合物(I−1)〜(I−6)である。
(黒色硬化性組成物層形成工程)
塗布・加熱処理後の膜厚が2.0μmになるように、スピンコートの塗布回転数を調整して、シリコンウエハ(基板)上に、実施例1〜56、比較例1〜3の各黒色硬化性組成物を均一に塗布し、表面温度120℃のホットプレートにより120秒間加熱処理した。このようにして、膜厚2.0μmの黒色硬化性組成物層を得た。
次いで、i線ステッパー、FPA−3000iS+(キャノン(株)製)を使用して、20.0μmラインアンドスペース状パターン用フォトマスクを介して、100〜5000mJ/cm2の範囲の露光量を、50mJ/cm2の刻みで変化させて照射(露光)した。
照射(露光)後に、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)0.3質量%水溶液を用いて、23℃にて60秒間パドル現像を行い、その後、純水を用いて20秒スピンシャワーにて、リンスを行い、更に純水にて水洗を行った。
このようにして、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタを得た。
上記のようにして得られた各黒色硬化性組成物、及び各固体撮像素子用遮光性カラーフィルタについて、以下のような評価を行った。評価結果をまとめて表5、表6に示す。
黒色硬化性組成物を調液して1日後、及び1ヶ月後(保存温度10℃)の粘度をE型粘度計(東機産業株式会社製 TV−22型粘度計コーンプレートタイプ)を用いて25℃で測定し、その差を保存安定性とした。粘度の差が小さいほど、保存安定性が良好であることを示す。
SEM観察において、基板からのはがれが生じなくなった最小の露光量を感度として評価した。感度の値が小さいほど基板密着性が高いことを示す。
得られた遮光性カラーフィルタを用いて、400nm〜800nmの波長領域における最大の透過率を分光光度計(島津製作所製 UV23600)で測定した。数値が少ない程良好である。最大透過率が1%未満の場合は遮光性が良好であることを示す。
以下の操作により、レンズ膜用硬化性組成物を用いた樹脂膜を形成した。
この樹脂膜を用いて、黒色硬化性組成物とレンズとの密着性の模擬評価に供した。
(レンズ膜用熱硬化性樹脂膜の形成)
表7に示す成分2の化合物を成分2の欄に示した量だけ成分1に対して添加し、レンズ膜用硬化性組成物1〜6を調製した。成分2が空欄のレンズ膜用硬化性組成物は成分1だけを用いた。
表7に示す硬化性組成物1〜4(2mL)を5×5cmのガラス基板(厚さ1mm、Schott社製、BK7)に塗布し、200℃で1分間加熱して硬化させ、レンズ上の残渣を評価できるレンズ膜(膜1〜4)を形成した。
(レンズ膜用光硬化性樹脂膜の形成)
表7に示す硬化性組成物5及び6(2mL)を5×5cmのガラス基板(厚さ1mm、Schott社製、BK7)に塗布し、メタルハライドランプで3000mJ/cm2の光を照射して硬化させ、レンズ上の残渣を評価できるレンズ膜(膜5、6)を形成した。
レンズ膜用硬化性組成物1〜6により樹脂膜を形成したガラスウエハ基板上に、塗布・加熱処理後の膜厚が2.0μmになるように、スピンコートの塗布回転数を調整して、実施例1〜56および比較例1〜3で用いた黒色硬化性組成物(B−1)〜(B−59)を均一に塗布し、表面温度120℃のホットプレートにより120秒間加熱処理した。このようにして、膜厚2.0μmの黒色硬化性組成物層を得た。なお、各実施例、比較例で用いたレンズ膜用硬化性組成物1〜6、および黒色硬化性組成物(B−1)〜(B−59)は、表8、表9に示す。
次いで、得られた黒色硬化性組成物層を、高圧水銀灯を用い、5.0mmのホールパターンを有するフォトマスクを介して露光量100mJ/cm2から1000mJ/cm2まで50mJ/cm2ずつ露光量を変更し露光した。
前記露光後の黒色硬化性組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.3%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後スピンシャワーにてリンスを行いさらに純水にて水洗し、パターン状の遮光膜を得た。
(レンズ上での密着性評価)
レンズ膜用硬化性組成物による樹脂膜からのはがれが生じなくなった最小の露光量をレンズ上での密着性の指標として評価した。最小の露光量の値が小さいほどレンズとの密着性が高いことを示している。
塗布・加熱処理後の膜厚が2.0μmになるように、スピンコートの塗布回転数を調整して、ガラスウエハ基板(厚さ1mm、Schott社製、BK7)上に、黒色硬化性組成物(B−1)〜(B−59)を均一に塗布し、表面温度120℃のホットプレートにより120秒間加熱処理した。このようにして、膜厚2.0μmの黒色硬化性組成物層を得た。
前記露光後の黒色硬化性組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.3%水溶液を用いて、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後スピンシャワーにてリンスを行いさらに純水にて水洗し、パターン状の遮光膜を得た。
ガラスウエハ上に黒色硬化性組成物層を形成し、露光・現像・リンスを施して得られた遮光膜付基板を用いて以下の評価を行った。
ガラスウエハ基板からのはがれが生じなくなった最小の露光量をガラスウエハ上の密着性の指標として評価した。最小の露光量の値が小さいほどガラスウエハ上の密着性が高い。
得られた遮光性カラーフィルタを用いて、400nm〜800nmの波長領域における最大の透過率を分光光度計(島津製作所製 UV23600)で測定した。数値が少ない程良好である。最大透過率が1%未満の場合は遮光性が良好であることを示す。
評価結果をまとめて表8、表9に示す。
以上より、本発明の黒色硬化性組成物は、固体撮像素子用途遮光膜を形成する際に必要とされるi線ステッパー露光照射下でのシリコンウエハへの密着性、及びウエハレベルレンズ用途遮光膜を形成する際に必要とされる水銀灯照射下でのレンズ及びガラス基板上の密着性に非常に優れることがわかる。
レンズ膜用硬化性組成物5を用いてガラス基板上に硬化性樹脂層を形成し、レンズ形状を持つ石英モールドで形状を転写して高圧水銀ランプにより3000mJ/cm2の露光量
で硬化させることにより、レンズを形成した。次に、実施例1の硬化性組成物(B−1)を塗布し、0.5mmのホールパターンを有するフォトマスクを介して高圧水銀ランプで露光し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの0.3%水溶液で未露光部を除去することにより、レンズ外部及びレンズ外縁部に遮光膜を形成し、ウエハレベルレンズを複数有するウエハレベルレンズアレイを作製した。
(基板Aの準備)
前記一実施形態の固体撮像素子(裏面にソルダーレジスト層を有しない形態)における現像残渣の検証用として、以下のようにして基板Aを準備した。
即ち、厚み1000μmのシリコン基板上に、微細加工(フォトリソグラフィー)技術とスパッタ法および電解めっき法を用いて、厚さ5μm、直径10μmの銅(Cu)製の円形金属電極を得た。
以上により、図11の概略断面図に示すような、シリコン基板上300に円形金属電極310を複数有する構成の基板Aを得た。
前記一実施形態の固体撮像素子(裏面にソルダーレジスト層を有する形態)における現像残渣の検証用として、以下のようにして基板Bを準備した。
前記基板Aの円形金属電極形成面側に、下記ソルダーレジストを用いてフォトリソグラフィーにより、パターン状のソルダーレジスト層を形成した。
ソルダーレジスト層のパターンは、図13に示すように、金属電極の一部を露出する開口部を有するパターンとした。
以上により、図13の概略断面図に示すような、シリコン基板300上に円形金属電極310及びソルダーレジスト層330をそれぞれ複数有する構成の基板Bを得た。
下記樹脂溶液 155部
2−(アセチルオキシイミノメチル)チオキサンテンー9−オン(光重合開始剤)
2部
2−メチル−1−[4−(メチルチオフェニル)]−2−モルホリノプロパンー1−オン(光重合開始剤) 6部
2,4−ジエチルチオキサントン(増感剤) 1部
C.I.ピグメントブルー15:6(着色剤) 0.9部
C.I.ピグメントイエロー199(着色剤) 2.3部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(モノマー) 20部
トリメチロールプロパントリアクリレート(モノマー) 10部
硫酸バリウム(フィラー) 130部
フェノールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬製EPPN−201)(熱硬化成分)
15部
ビキシレノール型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製YX−4000)
30部
メラミン 3部
ジブロピレングリコールメチルエーテルアセテート 5部
#150(出光石油化学社製 芳香族系有機溶剤) 5部
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬製EOCN−104S)660g、カルビトールアセテート421.3g、及びソルベントナフサ180.6g仕込み、90℃に加熱・攪拌し、溶解した。次に、60℃まで冷却し、アクリル酸216g、トリフェニルホスフィン4.0g、p−メトキシフェノール1.3gを加え、100℃で12時間反応させた。このときの酸価は0.3mgKOH/gであった。これにテトラヒドロ無水フタル酸241.7gを仕込み、90℃に加熱し、6時間反応させた。これにより、固形分濃度65質量%、固形分酸価77mgKOH/g、二重結合当量(不飽和基1モル当たりの樹脂のg重量)400g/当量、重量平均分子量8,000の樹脂溶液を得た。
上記で得られた黒色硬化性組成物を、上記基板Aの金属電極が形成された側の面にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で120℃で2分加熱して黒色硬化性組成物塗布層を得た。
次いで、得られた塗布層を、i線ステッパーを用い、100mJ/cm2、200mJ/cm2、300mJ/cm2、400mJ/cm2、500mJ/cm2の各露光量にてパターン露光した。
次に、露光後の塗布層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド0.3%水溶液を用い、23℃60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行いさらに純水にて水洗し、パターン状の遮光膜を得た。
ここで遮光膜は、図12に示すように、金属電極310の一部を露出する開口部を有するパターン(図12中の遮光膜320)とした。
ここで遮光膜は、図14に示すように、金属電極310の一部を露出する開口部を有するパターン(詳しくは、基板法線方向からみたときにソルダーレジスト層と重なるパターン;図14中の遮光膜340)とした。
SEM観察において、はがれが生じなくなった最小の露光量を感度として評価した。感度の値が小さいほど基板密着性が高いことを示す。
得られた遮光性カラーフィルタを用いて、800nm〜1200nmの波長領域における最大の透過率を分光光度計(島津製作所製 UV23600)で測定した。数値が少ない程良好である。最大透過率が1%未満の場合は遮光性が良好であることを示す。
結果を表10および表11に示す。
12 レンズ
14 遮光膜
110 シリコン基板
112 撮像素子
113 層間絶縁膜
114 ベース層
115R 赤色のカラーフィルタ
115G 緑色のカラーフィルタ
115B 青色のカラーフィルタ
116 オーバーコート
117 マイクロレンズ
118 赤外光遮蔽膜
122 絶縁膜
123 金属電極
124 ソルダーレジスト層
126 内部電極
127 素子面電極
200 カメラモジュール
230 ガラス基板
240 撮像レンズ
250 レンズホルダー
260 ハンダボール
270 回路基板
Claims (16)
- (A)無機顔料、(B)親溶剤性部と酸基又は塩基性基を有する顔料吸着部とを含む鎖状の樹脂、(C)重合開始剤、及び(D)重合性化合物、を含有する黒色硬化性組成物。
- 前記(A)無機顔料が、チタンブラックである請求項1に記載の黒色硬化性組成物。
- 前記親溶剤性部が、I/O値が0.05〜1.50の範囲にある繰り返し単位を80質量%以上含む請求項1または請求項2に記載の黒色硬化性組成物。
- 前記(C)重合開始剤が、オキシムエステル化合物またはヘキサアリールビイミダゾール化合物である請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の黒色硬化性組成物。
- さらに、(E)前記(B)の樹脂以外のアルカリ可溶性樹脂を含有する請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の黒色硬化性組成物。
- さらに、(F)有機顔料を含有する請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の黒色硬化性組成物。
- 請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の黒色硬化性組成物からなる固体撮像素子用黒色硬化性組成物。
- 請求項8に記載の黒色硬化性組成物を用いてなる固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ。
- 請求項9に記載の固体撮像素子用遮光性カラーフィルタを備えた固体撮像素子。
- 請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載の黒色硬化性組成物からなるウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物。
- 基板上に存在するレンズの周縁部に、請求項11に記載の黒色硬化性組成物を用いて得られた遮光膜を備えたウエハレベルレンズ。
- シリコン基板の一方の面上に設けられる赤外光を遮光する赤外光遮蔽膜の形成に用いられる請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の黒色硬化性組成物。
- 撮像素子部を有するシリコン基板の該撮像素子が設けられた面とは反対側の面上に、請求項13に記載の黒色硬化性組成物を用いて形成された赤外光遮蔽膜。
- 撮像素子部を有するシリコン基板の該撮像素子が設けられた面とは反対側の面上に、請求項13に記載の黒色硬化性組成物を塗布して感光性層を形成する感光層形成工程と、前記感光性層をパターン状に露光する露光工程と、露光後の前記感光性層を現像してパターン形成する現像工程と、を有する赤外光遮蔽膜の製造方法。
- 撮像素子部を有するシリコン基板の該撮像素子が設けられた面とは反対側の面上に、請求項14に記載の赤外光遮蔽膜を備えた固体撮像素子。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010082283A JP2011141512A (ja) | 2009-12-11 | 2010-03-31 | 黒色硬化性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ、遮光膜およびその製造方法 |
PCT/JP2010/072190 WO2011071133A1 (en) | 2009-12-11 | 2010-12-03 | Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device |
CN201410466520.1A CN104317164B (zh) | 2009-12-11 | 2010-12-03 | 黑色可固化组合物 |
EP10836052.0A EP2510399A4 (en) | 2009-12-11 | 2010-12-03 | BLACK CURABLE COMPOSITION, COLORED FILTER, AND LIGHT PROTECTIVE FILM AND METHOD OF MANUFACTURE, LENGTH LENS AND SEMICONDUCTOR IMAGING DEVICE |
US13/514,887 US9110205B2 (en) | 2009-12-11 | 2010-12-03 | Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device |
CN201080056050.1A CN102652284B (zh) | 2009-12-11 | 2010-12-03 | 黑色可固化组合物、遮光彩色滤光片、遮光膜及其制备方法,晶片级透镜,以及固态成像器件 |
SG2012042693A SG181620A1 (en) | 2009-12-11 | 2010-12-03 | Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device |
KR1020127015062A KR101791493B1 (ko) | 2009-12-11 | 2010-12-03 | 흑색 경화성 조성물, 차광성 컬러필터, 차광막 및 그 제조 방법, 웨이퍼 레벨 렌즈, 및 고체 촬상 소자 |
TW104110157A TWI542949B (zh) | 2009-12-11 | 2010-12-07 | 黑色硬化性組成物、遮光性彩色濾光片、遮光性膜及其製造方法、晶圓級透鏡及固態攝影元件 |
TW099142578A TWI503621B (zh) | 2009-12-11 | 2010-12-07 | 黑色硬化性組成物、遮光性彩色濾光片、遮光性膜及其製造方法、晶圓級透鏡及固態攝影元件 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009282002 | 2009-12-11 | ||
JP2009282002 | 2009-12-11 | ||
JP2010082283A JP2011141512A (ja) | 2009-12-11 | 2010-03-31 | 黒色硬化性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ、遮光膜およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011141512A true JP2011141512A (ja) | 2011-07-21 |
Family
ID=44457379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010082283A Pending JP2011141512A (ja) | 2009-12-11 | 2010-03-31 | 黒色硬化性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ、遮光膜およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011141512A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012046826A1 (en) * | 2010-10-04 | 2012-04-12 | Fujifilm Corporation | Black polymerizable composition and method for producing a black layer |
WO2014203686A1 (ja) * | 2013-06-20 | 2014-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、積層体および顔料分散剤 |
JP2016148861A (ja) * | 2016-03-25 | 2016-08-18 | 住友化学株式会社 | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2016157127A (ja) * | 2016-03-25 | 2016-09-01 | 住友化学株式会社 | 着色感光性樹脂組成物 |
JP6045603B2 (ja) * | 2012-11-27 | 2016-12-14 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物、転写材料、硬化物の製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置並びにタッチパネル表示装置 |
JP2017032798A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | レンズ付き基板、積層レンズ構造体、カメラモジュール、並びに、製造装置および方法 |
WO2017159479A1 (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、遮光膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ |
WO2018056312A1 (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 積水化学工業株式会社 | ペロブスカイト太陽電池 |
CN111902747A (zh) * | 2018-04-02 | 2020-11-06 | Jsr株式会社 | 硬化膜的形成方法及硬化性组合物 |
KR20230167012A (ko) | 2021-04-08 | 2023-12-07 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물, 광학 수발광 모듈용 접착제, 광학수발광 모듈용 시일제 및 광학 수발광 모듈용 부재 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008051934A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Fujifilm Corp | 感光性組成物及びそれを用いた感光性転写材料、表示装置用遮光膜及びその製造方法、遮光膜付基板並びに表示装置 |
JP2008122789A (ja) * | 2006-11-14 | 2008-05-29 | Fujifilm Corp | 光硬化性組成物、それを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2008134583A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-06-12 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ、液晶表示装置およびその製造に用いられる硬化性組成物 |
WO2008156148A1 (ja) * | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | 顔料分散液、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ |
JP2009244401A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 固体撮像素子用黒色感光性樹脂組成物及び画像形成方法 |
JP2009276741A (ja) * | 2008-04-16 | 2009-11-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | カラーフィルタ用着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ |
-
2010
- 2010-03-31 JP JP2010082283A patent/JP2011141512A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008051934A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-03-06 | Fujifilm Corp | 感光性組成物及びそれを用いた感光性転写材料、表示装置用遮光膜及びその製造方法、遮光膜付基板並びに表示装置 |
JP2008134583A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-06-12 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ、液晶表示装置およびその製造に用いられる硬化性組成物 |
JP2008122789A (ja) * | 2006-11-14 | 2008-05-29 | Fujifilm Corp | 光硬化性組成物、それを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
WO2008156148A1 (ja) * | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | 顔料分散液、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ |
JP2009244401A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 固体撮像素子用黒色感光性樹脂組成物及び画像形成方法 |
JP2009276741A (ja) * | 2008-04-16 | 2009-11-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | カラーフィルタ用着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012046826A1 (en) * | 2010-10-04 | 2012-04-12 | Fujifilm Corporation | Black polymerizable composition and method for producing a black layer |
JP6045603B2 (ja) * | 2012-11-27 | 2016-12-14 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物、転写材料、硬化物の製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置並びにタッチパネル表示装置 |
WO2014203686A1 (ja) * | 2013-06-20 | 2014-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、積層体および顔料分散剤 |
JP2015025116A (ja) * | 2013-06-20 | 2015-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、積層体および顔料分散剤 |
JP2017032798A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | レンズ付き基板、積層レンズ構造体、カメラモジュール、並びに、製造装置および方法 |
US11194135B2 (en) | 2015-07-31 | 2021-12-07 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Lens attached substrate, layered lens structure, camera module, manufacturing apparatus, and manufacturing method |
KR20180107268A (ko) * | 2016-03-16 | 2018-10-01 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화성 조성물, 차광막, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 적외선 센서 |
WO2017159479A1 (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、遮光膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ |
TWI712859B (zh) * | 2016-03-16 | 2020-12-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 硬化性組成物、遮光膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像裝置、及紅外線感測器 |
JPWO2017159479A1 (ja) * | 2016-03-16 | 2018-12-20 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、遮光膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ |
US11156754B2 (en) | 2016-03-16 | 2021-10-26 | Fujifilm Corporation | Curable composition, light-shielding film, color filter, pattern forming method, method for manufacturing color filter, solid-state imaging element, and infrared sensor |
KR102183283B1 (ko) | 2016-03-16 | 2020-11-26 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화성 조성물, 차광막, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 적외선 센서 |
JP2016157127A (ja) * | 2016-03-25 | 2016-09-01 | 住友化学株式会社 | 着色感光性樹脂組成物 |
JP2016148861A (ja) * | 2016-03-25 | 2016-08-18 | 住友化学株式会社 | 着色感光性樹脂組成物 |
WO2018056312A1 (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 積水化学工業株式会社 | ペロブスカイト太陽電池 |
JPWO2018056312A1 (ja) * | 2016-09-23 | 2019-07-04 | 積水化学工業株式会社 | ペロブスカイト太陽電池 |
JP7074676B2 (ja) | 2016-09-23 | 2022-05-24 | 積水化学工業株式会社 | ペロブスカイト太陽電池 |
CN111902747A (zh) * | 2018-04-02 | 2020-11-06 | Jsr株式会社 | 硬化膜的形成方法及硬化性组合物 |
KR20230167012A (ko) | 2021-04-08 | 2023-12-07 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물, 광학 수발광 모듈용 접착제, 광학수발광 모듈용 시일제 및 광학 수발광 모듈용 부재 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102463387B1 (ko) | 착색 감광성 조성물, 경화막, 패턴 형성 방법, 차광막 부착 적외광 차단 필터, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 적외선 센서 | |
KR101791493B1 (ko) | 흑색 경화성 조성물, 차광성 컬러필터, 차광막 및 그 제조 방법, 웨이퍼 레벨 렌즈, 및 고체 촬상 소자 | |
JP5705918B2 (ja) | 光重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、遮光性カラーフィルタを備えた液晶表示素子、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ及び、ウエハレベルレンズを備えた撮像ユニット | |
KR101898020B1 (ko) | 컬러 필터용 적색 착색 조성물, 착색막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 | |
KR101801671B1 (ko) | 컬러 필터용 녹색 착색 조성물, 착색막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 | |
WO2011019067A1 (ja) | ウェハレベルレンズ、ウェハレベルレンズの製造方法、及び撮像ユニット | |
JP2011141512A (ja) | 黒色硬化性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、ウエハレベルレンズ、遮光膜およびその製造方法 | |
WO2011049090A1 (ja) | チタンブラック分散物、感光性樹脂組成物、ウェハレベルレンズ、遮光膜及びその製造方法、並びに固体撮像素子 | |
JP2011170334A (ja) | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及びウエハレベルレンズ | |
JP5535842B2 (ja) | ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ | |
JP2012169556A (ja) | 遮光膜及びその製造方法、並びに固体撮像素子 | |
WO2014192716A1 (ja) | カラーフィルタの製造方法、下地層形成用組成物、有機el表示装置 | |
JP2015151530A (ja) | 複合体およびその製造方法、着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置、ならびに、積層体よび積層体 | |
WO2016072259A1 (ja) | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、および、画像表示装置 | |
JP5813325B2 (ja) | 黒色重合性組成物、及び、黒色層の作製方法 | |
JP5544246B2 (ja) | ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット | |
JP2011081354A (ja) | ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット | |
JP5467853B2 (ja) | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、ウエハレベルレンズ、及びカメラモジュール | |
JP2010256868A (ja) | カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 | |
JP5657337B2 (ja) | ウエハレベルレンズ用チタンブラック分散物、それを含有する感光性樹脂組成物、及び、ウエハレベルレンズ | |
JP5583389B2 (ja) | ウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウエハレベルレンズ | |
JP2012109506A (ja) | チタンブラック分散物、感光性樹脂組成物、遮光膜及びその製造方法、並びに固体撮像素子 | |
JP5637767B2 (ja) | ウェハレベルレンズの製造方法 | |
JP5518656B2 (ja) | 黒色重合性組成物、及び黒色層の作製方法 | |
JP2011081352A (ja) | ウェハレベルレンズの製造方法、ウェハレベルレンズ及び撮像ユニット |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120619 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141021 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141211 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150602 |