KR20040091300A - 상부기판, 액정 디스플레이 패널, 액정 프로젝터 및 액정디스플레이 패널 제조방법 - Google Patents

상부기판, 액정 디스플레이 패널, 액정 프로젝터 및 액정디스플레이 패널 제조방법 Download PDF

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KR20040091300A
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Abstract

본 발명은 마이크로 렌즈 어레이 및 액정 디스플레이 패널의 제조방법에 관한 것으로, 투명기판 상부에 제 1 박막을 형성하고 제 1 박막의 사이가 일정한 간격을 갖도록 패터닝을 하고 일정한 간격 사이에 제 1 박막의 굴절률보다 큰 제 2 박막을 형성하고 그 상부를 평탄화하는 제 1 단계; 제 1 박막과 제 2 박막의 상부에 포토레지스터를 코팅하고 포토레지스터를 포토마스크를 이용하여 노광하여 제 2 박막의 상부에 위치하는 포토레지스터의 중앙부가 오목한 형태로 패터닝 되어 있도록 하는 제 2 단계; 포토레지스터가 패터닝 되어 있는 제 1 박막과 제 2 박막을 에칭하여 제 2 박막이 포토레지스터의 형태와 동일하게 식각되는 제 3단계; 및 식각된 제 2박막과 제 1박막의 상부에 제 2 박막과 동일한 물질을 코팅하여 후막을 형성하고 후막의 상부를 평탄화하는 제 4단계로 구성되는 것을 특징으로 하여, 액정 디스플레이 패널의 개구율을 높일 수 있고 액정 디스플레이 패널의 고장을 줄일 수 있다.

Description

상부기판, 액정 디스플레이 패널, 액정 프로젝터 및 액정 디스플레이 패널 제조방법{UPPER SUBSTRATE,LIQUID CRYSTAL DISPLAY, LIQUID CRYSTAL PROJECTOR AND A METHOD FOR LCD PANNEL}
본 발명은 상부기판, 액정 디스플레이 패널, 액정 프로젝터 및 액정 디스플레이 패널 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세히 설명하면, 마이크로 렌즈 어레이를 액정 디스플레이 패널의 빛이 입사되는 면인 상부기판에 반도체 식각공정을 적용하여 직접 형성하여 개구율을 높이는 상부기판, 액정 디스플레이 패널, 액정 프로젝터 및 액정 디스플레이 패널 제조방법에 관한 것이다.
액정디스플레이 패널과 같은 표시소자에서 개구율은 성능을 결정하는 매우 중요한 요소로 빛이 투과되는 정도를 나타낸다. 개구율이 높은 표시소자는 빛을 통과시키는 영역이 상대적으로 넓기 때문에, 상대적으로 낮은 개구율을 갖는 표시소자에 비해 밝게 표시할 수 있다. 따라서, 대각 길이 및 해상도가 같은 표시소자라면, 개구율이 높은 표시소자를 사용하는 경우 상대적으로 낮은 전력으로 램프를 구동하여 원하는 밝기를 구현할 수 있는 장점이 있다. 또한, 밝기가 뛰어나기 때문에 밝은 색을 표시하는 경우, 실제와 더욱 비슷한 색깔을 표시하여 디스플레이의 품격을 더 높일 수 있다. 복수 개의 픽셀로 구성되는 액정디스플레이 패널에서 픽셀과 픽셀 사이에 또는 박막 트랜지스터가 위치하는 곳에 광차단부가 위치하도록 하여 콘트라스트(Contrast)를 높이고 박막 트랜지스터의 채널부에 발생하는 누설전류의 발생을 방지한다. 즉 입사되는 빛에 의해 생성되는 열에너지 또는 빛 자체의 에너지에 의해 박막 트랜지스터 채널에 누설전류가 발생하는 것을 막는 것이다.하지만 광차단부의 영역이 넓어지면 그에 상응하여 개구율이 감소되어 표시 자체가 어두워지는 문제점이 발생한다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 종래에는 광투과율을 높이기 위하여 액정디스플레이 패널에 마이크로 렌즈 어레이를 부착하여 마이크로 렌즈에 의해 빛을 개구부에 모아주는 방법이 제시되었다.
도 1은 종래 기술에 의한 마이크로 렌즈가 형성된 액정디스플레이 패널에 관한 평면도이다. 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
디스플레이 화면 전체에 해당하는 영역에 마이크로 렌즈 어레이(MLA)를 형성하도록 한다. 마이크로 렌즈 어레이는 빛이 투과되는 화소(3) 상부마다 각각의 마이크로 렌즈(1)가 형성되도록 하고 마이크로 렌즈 어레이의 각 마이크로 렌즈(1)의 사이에 배선부와 블랙매트릭스 등의 광차단 영역(2)을 위치 시키게 된다.
도 2는 도 1에 의한 액정디스플레이 패널에 관한 단면도이다. 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
마이크로 렌즈 어레이에 사용되는 마이크로 렌즈(1)는 포지티브의 볼록렌즈를 사용하도록 하여 광차단부(2)에 투사되는 빛을 화소(3)로 굴절시켜 밝기를 향상시키도록 한다. 하지만, 마이크로 렌즈(1)는 2차원 평면에서 볼 경우 원형 또는 원형에 가까운 형태를 가지므로, 도 1에 도시된 바와 같이 마이크로 렌즈(1) 사이에 렌즈가 덮이지 않는 공간이 형성되며 이러한 공간에 투사되는 빛은 굴절되지 않으므로 화면의 휘도를 향상시키는데 한계가 있었다.
이러한 마이크로 렌즈 어레이가 부착되어 있는 액정디스플레이 패널을 제작하는 방법에는 두 가지가 있을 수 있는데, 첫번째는 반도체 사진식각공정을 활용하여 대향기판의 GLASS 표면을 엠보싱면으로 만들고 그 위에 GLASS의 굴절률과 다른 수지를 코팅, 평탄화 한 후 COVER GLASS를 덮고 연마를 하여 대향기판을 완성하는 것이다. 대향기판은 연마에 의해서 수십마이크로미터 정도의 두께로 구비되도록 한다.
두번째는 몰딩법을 사용하는데, 유리기판 위에 제 1수지를 코팅을 하고 몰더를 이용해서 마이크로 렌즈가 형성될 위치에 압력을 가하고 UV를 이용해서 제 1수지를 경화시키는 것이다. 그리고, 제 1 수지와 굴절율이 다른 제 2 수지를 코팅을 하고 다시 UV를 이용해서 경화를 시킨 후에 COVER GLASS를 덮고 연마를 하여 대향기판을 완성을 한다.
첫번째 경우의 구조는 대향기판-수지-COVER GLASS-투명전극-배향막-액정-...이 되며, 두번째의 경우는 대향기판-수지-수지-COVER GLASS-투명전극-배향막-액정-...이 된다.
이들 경우의 제작방법에 따르면, 제조공정이 복잡하므로 제작 원가가 고가로 되는 문제점이 발생한다. 또한, 어떠한 방법으로 만들더라도 모두 적어도 하나의 수지를 사용하게 되므로써, 광원으로부터 입사되는 빛에 의해 그 성질이 변화될 수 있는 문제점이 있다.
더욱이, 수지를 사용하게 됨으로써 경화공정이 요구되며, 수지 자체가 물리적으로 매우 취약하여 제작 공정 중 변형이 발생되는 문제점이 있다.
또한, 대향기판-수지- COVER GRASS 로 구성되어 액정 디스플레이 패널을 완성하기 위해 필수적인 절단공정에서는 고비용이 소비되는 소잉 공정만이 사용가능하게 되는 문제점이 있다. 종래의 마이크로렌즈 제작 공정에서는 렌즈의 초점거리를 맞추어주기 위해 COVER GLASS를 붙여야 했으며, 이를 일정한 두께를 갖도록 연마해야 하는 복잡 공정이 요구되는 문제점이 있었다.
따라서, 종래의 이러한 구조 및 공정으로 인해 공정문제, 제작비용 문제가 심각하였다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기 종래 기술의 문제점을 해결하고자 제시된 것으로서, 이상적 개구율 100% 를 달성하여 빛의 이용효율을 높이고, 빛이 차단되는 배선부에 대응되는 대향기판의 적어도 일부분에 렌즈를 형성하여 배선부에 입사되는 빛의 경로를 바꿔주도록 하는 상부기판, 액정 디스플레이 패널, 액정 프로젝터 및 액정 디스플레이 패널 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널의 상부 기판은,
빛이 통과되는 투명기판; 투명기판의 상부에 액정 디스플레이 패널의 하부기판의 광차단 영역과 대응되는 위치에 설치되며, 가운데가 오목한 형상으로 설치되는 제 1 박막; 투명기판의 상부에 제 1 박막의 주변에 설치되는 제 2 박막; 및 제2박막과 밀도가 동일하며 제 1박막과 제 2 박막의 상부에 설치되는 후막을 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 후막은 복수 개의 얇은 박막의 층으로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널은,
신호가 인가되는 배선과 블랙매트릭스로 구성되는 광차단 영역과 광투과 영역이 있는 하부기판; 하부기판과 대향되며 일정한 셀갭을 유지하며 결합되는 상부기판; 및 하부기판과 상부기판 사이에 채워지는 액정을 구비하며,
상부기판은,
빛이 통과되는 투명기판; 투명기판의 상부에 하부기판의 광차단 영역과 대응되는 위치에 설치되며, 가운데가 오목한 형상으로 설치되는 제 1박막; 투명기판의 상부에 제 1박막의 주변에 설치되는 제 2박막; 및 제 2박막과 밀도가 동일하며 제 1박막과 제 2박막의 상부에 설치되는 후막으로 구성되는 것을 특징으로 하며,
또한, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널을 이용하여 디스플레이 하는 액정 프로젝터에 있어서,
상기 액정 디스플레이 패널은
신호가 인가되는 배선과 블랙매트릭스로 구성되는 광차단 영역과 광투과 영역이 있는 하부기판; 상기 하부기판과 대향되며 일정한 셀갭을 유지하며 결합되는상부기판; 및 상기 하부기판과 상기 상부기판 사이에 채워지는 액정을 구비하며,
상부기판은,
빛이 통과되는 투명기판; 투명기판의 상부에 하부기판의 광차단 영역과 대응되는 위치에 설치되며, 가운데가 오목한 형상으로 설치되는 제 1박막; 투명기판의 상부에 제 1박막의 주변에 설치되는 제 2박막; 및 제 2박막과 밀도가 동일하며 제 1박막과 제 2박막의 상부에 설치되는 후막으로 구비하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 상부기판 제조방법은, 투명기판 상부에 제 1 박막을 형성하고 제 1 박막의 사이가 일정한 간격을 갖도록 패터닝을 하고 일정한 간격 사이에 제 1 박막의 굴절률보다 큰 제 2 박막을 형성하고 그 상부를 평탄화하는 제 1 단계; 제 1 박막과 제 2 박막의 상부에 포토레지스터를 코팅하고 포토레지스터를 포토마스크를 이용하여 노광하여 제 2 박막의 상부에 위치하는 포토레지스터의 중앙부가 오목한 형태로 패터닝 되어 있도록 하는 제 2 단계; 포토레지스터가 패터닝 되어 있는 제 1 박막과 제 2 박막을 에칭하여 제 2 박막이 포토레지스터의 형태와 동일하게 식각되는 제 3단계; 및 식각된 제 2박막과 제 1박막의 상부에 제 2 박막과 동일한 물질을 코팅하여 후막을 형성하고 후막의 상부를 평탄화하는 제 4단계로 구성되는 것을 특징으로 하며,
또한, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널 제조방법은 투명기판 상부에 제 1 박막을 형성하고 제 1 박막의 사이가 일정한 간격을 갖도록 패터닝을 하고 일정한 간격 사이에 제 1 박막의 굴절률보다 큰 제 2박막을 형성하고 그 상부를 평탄화하는 제 1 단계; 제 1 박막과 제 2 박막의 상부에 포토레지스터를 코팅하고 포토레지스터를 포토마스크를 이용하여 노광하여 제 2 박막의 상부에 위치하는 포토레지스터의 중앙부가 오목한 형태로 패터닝 되어 있도록 하는 제 2 단계; 포토레지스터가 패터닝 되어 있는 제 1 박막과 제 2 박막을 에칭하여 제 2 박막이 포토레지스터의 형태와 동일하게 식각되는 제 3단계; 식각된 제 2박막과 제 1박막의 상부에 제 2 박막과 동일한 물질을 코팅하여 후막을 형성하고 후막의 상부를 평탄화하는 제 4단계; 및 후막의 상부에 투명전극과 배향막을 설치하는 제 5단계로 구성되는 액정 디스플레이 패널의 상부기판을 제작하고
제작된 상부기판에 일정한 셀갭을 유지하며 전계의 변화를 가하는 배선이 되어 있는 하부기판을 결합하고
상부기판과 하부기판의 셀갭 사이에 액정이 주입하는 것을 특징으로 한다.
도 1은 종래 기술에 의한 마이크로 렌즈가 형성된 액정디스플레이 패널에 관한 평면도이다.
도 2는 도 1에 의한 액정디스플레이 패널에 관한 단면도이다.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널에 사용되는 상부기판의 제조과정을 나타내는 도이다.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널의 상부기판을 제조하는 방법의 일실시례를 나타내는 도면이다.
***도면의 부호설명***
10: 상부기판 11: n1박막
13: 투명전극 14: 배향막
17: 후막 20: 액정층
30: 하부기판 31: 배향막
32: 투명전극 33: 광차단영역
이하 본 발명의 장점, 특징 및 바람직한 실시례는 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널에 사용되는 상부기판의 제조과정을 나타내는 도이다. 도 3a 내지 도 3f를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
투명기판 상에 n2박막(12)을 증착하고 패터닝을 하여 일정한 간격을 갖고 n2박막(12)을 다수 개 투명기판 상에 형성되도록 한다. 그런 후, n2박막(12) 사이에 n1박막(11)을 형성하도록 한다. 이때 n2박막(12)은 얇은 박막을 스트레스의 방향을 +,-로 교차하여 형성할 수 있다.n1박막(11)이 형성되는 위치는 액정 디스플레이 패널의 하부기판의 광차단영역이 위치하는 부분에 대응되는 위치이다.(도 3a).
그리고, n2박막(12)과 n1박막(11)의 상부에 포토레지스터(16)를 증착하고 포토마스크를 이용해서 포토레지스터(16)가 n1박막(11)의 상부에서 n1박막(11)의 중앙부에 위치하는 부분으로부터주변부로 갈수록 포토레지스터(16)의 두께가 두꺼워지는 홈을 형성하도록 현상한다(도 3b). 홈의 크기는 n1박막(11)의 가로 길이를 넘지 않도록 하여 n2박막(12)의 상부에 위치하는 포토레지스터(16)가 식각되지 않도록 한다. 포토레지스터(16)에 일정한 형태의 홈이 형성되면, 에칭을 하여 포토레지스터(16)에 형성된 홈의 형태가 n1박막(11)에 형성되도록 한다. 에칭은 이방성 에칭을 한다. 이방성 에칭은 길이 방향의 에칭속도가 수평방향의 에칭속도보다 커 에칭 속도가 방향의존성을 갖도록 하는 에칭으로, 이방성 에칭을 하여 n1박막(11)에 형성되는 홈은 가운데가 깊고 주변부로 갈수록 n1박막(11)의 두께가 두꺼워지도록 한다(도 3c).
에칭작업이 끝난 후에 남아 있는 포토레지스터(16)를 제거하고 일정한 두께를 갖는 후막(17)을 증착한다(도 3d).
후막(17)은 n2박막을 이루는 물질과 굴절률 값이 동일한 물질을 이용하여 형성하며, 화학기상증착법(CVD: Chemical Vapor Deposition)을 이용하여 후막(17)이 복수 개의 n2박막으로 구성되는 층으로 구성되도록 하며, 후막을 구성하는 n2박막은 각 층이 교차적으로 반대성질을 갖는 스트레스를 갖도록 증착하며 스트레스는 각각 인장력(+ : Tensile Stress)과 압축력(-: Compressive Stress)의 성질을 갖게 된다.
인장력과 압축력의 스트레스를 교차적으로 가하는 이유는, 단일 스트레스를 갖는 후막(17)이 증착되면 투명기판이 휘어지게 되는데, 이러한 투명기판이 휘어지는 것을 방지하기 위한 것으로 각 층의 스트레스가 교차적으로 가해져 각 층간에 작용되는 힘에 의해 후막(17)에 의해 투명기판이 휘어지는 것을 방지한다. 스트레스를 교차하면서 다층박막은 증착하는 것은 각각의 박막 생성 당시 가스농도와 온도 등의 증착조건을 조절하여 달성할 수 있다. 그리고, 후막(17)의 상부를 평탄화한다. 후막(17)은 투명기판과 스트레스가 발생하지 않도록 한다.(도 3e)
그리고, 후막(17)의 상부에 투명전극(13)을 증착하고 그 상부에 배향막(14)을 증착하여 액정 디스플레이 패널의 상부기판(10)을 완성한다.
완성된 상부기판(10)이 하부기판(30)과 일정한 셀갭을 유지하면서 결합하도록 하고, 액정을 주입하여 셀갭에 액정층(20)이 형성되도록 하여 액정 디스플레이 패널을 완성한다(도 3f).
하부기판(30)은 투명기판에 박막 트랜지스터, 블랙매트릭스(33) 또는 액정에 가해지는 전계를 변화시키도록 하는 신호를 트랜지스터에 전달하는 배선부, 상부기판의 투명전극과 대향되어 액정층에 전계를 가하는 투명전극(32)과 배향막(31)을 구비하는 광투과영역(광차단 영역을 제외한 영역)으로 구성된다.
후막(17)을 형성하는 물질의 굴절률은 액정의 굴절률과 동일하거나 비슷한 굴절률을 갖도록 하여후막(17)과 액정층(20)의 경계에서 빛의 경로가 굴절되지 않도록 한다. 그리고, n1박막(11)은 빛을 굴절시키는 렌즈의 역할을 수행하며, n1박막(11)의 상부를 통과한 빛이 n1박막(11)과 후막(17)의 경계에서 굴절되어 빛이 n1박막(11)의 하부에 위치하는 광차단영역에 조사되지 않도록 n1박막(11)의 굴절률을 결정한다. 따라서, n1박막(11)의 굴절률이 n2박막(12)의 굴절률 보다 커야 한다.
그리고, n1박막(11)과 n2박막(12)의 경계에서 굴절된 빛이 하부기판의 블랙매트릭스 또는 배선 등의 광차단영역(33)으로 조사되지 않도록 하기 위하여 광차단영역(33)과 n1박막(11)이 일정한 거리를 유지하여야 하며 거리는 n1, n2박막의 굴절률에 따라 결정되며 증착되는 후막(17)의 두께를 가지고 조절한다.
액정 디스플레이 패널에 입사되는 빛이 n1박막과 후막의 경계면과 이루는 각을 θ, 경계면에서 굴절되는 굴절각을 θ', n1박막과 n2박막의 굴절률을 각각 n1, n2라하고, n1막의 중심에서 광차단막까지의 거리를 D, 광차단막의 폭을 2L 로 정의하고, n1막의 중심으로부터 입사된 빛이 광차단영역(33)에 부딪히지 않고 n1막과 n2막의 경계에서 굴절하여 광투과영역으로 조사될 수 있는 최소의 각도를 α라고 정의하면 다음과 같은 수학식 1을 얻을 수 있다.
따라서, 수학식 1에 따라 D의 길이와 액정층의 두께 및 후막의 굴절률과 n1의 굴절률에 의해 후막 두께를 정하게 되며 후막의 굴절률은 1.4에서 1.6의 범위를 갖는 것이 바람직하다.
그리고, 일반적으로 후막을 형성하는데에 많은 시간과 대규모 설비가 필요하지만, 고주파 유도 가열원을 이용하여 에어로졸화하여 초미립자를 생성하고, 초미립자를 반송하며 초미립자 퇴적 성막용 진공챔버를 이용하여 초미립자를 퇴적시켜 막을 증착할 수 있다.
미립자 에어로졸은 입자생성용 챔버에서 수기압으로 가압된 불활성 가스 중에서 고주파 유도 가열에 의해 금속재료를 가열 증발시켜 생성하며 입자의 크기는 수 나노 미터 정도이다. 그리고, 미립자 에어로졸을 진공챔버로 반송하여 직경 수십 마이크로 미터의 미세한 노즐을 통해 음속의 에어로졸로서 기판에 분사한다. 미립자의 속도는 매초 약 900m 정도로 가속된다. 이때 미립자의 운동에너지가 열 에너지로 전환되어, 국소적으로 소결을 일으켜, 고속에서 후막 형성이 이루어지도록 한다.
또한, 3차원의 정밀 진공 스테이지의 제어나 반송 미립자의 혼합, 절환에 의해 각종 패턴이나 경사 기능 구조를 형상할 수 있으며 레이저를 이용하여 적층막의 일부 혹은 전체를 제거할 수 있다.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널의 상부기판을 제조하는 방법의 일실시례를 나타내는 도면이다. 도 4a 내지 도 4d를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
투명기판 상에 n2박막(22)을 증착하고 패터닝을 하여 일정한 간격을 갖는 n2박막(22)을 투명기판 상에 다수개 형성한다. 그런후, n2박막(22)의 사이에 n1박막(21)을 형성하도록 한다. n2박막(22)과 n1박막(21)의 경계는 소정의 각도를 가지고 기울어져 있도록 하여 n1박막이 역사다리꼴의 형태를 갖도록 한다(도 4a).
그리고, n2박막(22)과 n1박막(21)의 상부에 포토레지스터(26)를 증착하고 포토마스크를 이용해서 포토레지스터(26)가 n1박막(21)의 상부에서 n1박막(21)의 중앙부에 위치하는 부분에서주변부로 갈수록 포토레지스터(26)의 두께가 두꺼워지는 홈을 형성하여 현상한다(도 4b). 홈의 크기는 n1박막(21)의 가로 길이를 넘지 않도록 하여 n2박막(22)의 상부에 위치하는 포토레지스터(26)가 식각되지 않도록 한다.
포토레지스터(26)에 일정한 형태의 홈이 형성되면, 에칭하여 포토레지스터 (26)에 형성된 홈의 형태가 n1박막(21)에 형성되도록 한다. 에칭은 이방성 에칭을 한다. 이방성 에칭은 길이 방향의 에칭속도가 수평방향의 에칭속도보다 커 에칭 속도가 방향의존성을 갖도록 하는 에칭으로, 이방성에칭을 하여 n1박막(21)에 형성되는 홈은 가운데가 깊고 주변부로 갈수록 n1박막(21)의 두께가 두꺼워 지도록 한다(도 4c).
에칭작업이 끝난 후에 남아 있는 포토레지스터(26)를 제거하고 일정한 두께를 갖는 후막(27)을 증착한다(도 4d).
그리고, 도 3에 설명된 것과 동일한 방식으로 액정 디스플레이 패널의 상부기판을 완성하고, 상부기판과 하부기판을 합착한 후에 액정을 주입하여 액정 디스플레이 패널을 완성한다.
또한, 도 3과 도 4에 설명된 액정 디스플레이 패널을 이용하여 액정 프로젝터를 제조하여 이미지를 선명하게 디스플레이할 수 있도록 한다.
본 발명에 따른 마이크로 렌즈 어레이 및 액정 디스플레이 패널 제조방법에 의하면, 배선부, 블랙매트릭스 등의 액정 디스플레이 패널에서 빛이 투과되지 않는 영역으로 조사되는 빛을 굴절시켜 화소 등의 빛이 투과되는 영역으로 조사되어 더 많은 빛이 화소를 통과하여 액정 디스플레이 패널의 개구율을 높일 수 있다.
그리고, 액정 디스플레이의 상부기판에 빛을 굴절시키는 렌즈가 위치하게 되어 정렬오차(Misalign)를 방지할 수 있다. 따라서, 빛을 사용하는 효율을 더욱 극대화 시킴으로서, 광원의 효율이 높아져 소비전력이 더 적은 광원을 사용할 수 있어 광원에서 발생하는 열을 줄여 프로젝터의 성능저하를 방지할 수 있게 되어 고장 등을 방지할 수 있다.
또한, 더 밝게 디스플레이를 할 수 있어 실제 색과 동일하게 재현할 수 있도록 하여 디스플레이의 품격을 높일 수 있다.
그리고, 렌즈의 초점거리를 맞추기 위하여 사용되는 커버글라스(Cover Glass)를 사용하지 않게 되어 제조 공정이 복잡하지 않고 별도의 자재가 필요하지 않아 원자재의 수가 적어 제조원가를 저렴하게 할 수 있어 제작비 절감의 효과가 나타나 프로젝터를 저렴한 가격에 공급할 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시례가 특정 용어들을 사용하여 기술되어 왔지만, 그러한 기술은 오로지 설명을 하기 위한 것이며, 다음의 청구범위의 기술적 사상 및 범위로부터 이탈되지 않고서 여러 가지 변경 및 변화가 가해질 수 있는 것으로 이해되어져야 한다.

Claims (21)

  1. 액정 디스플레이 패널의 상부기판에 있어서,
    빛이 통과되는 투명기판;
    상기 투명기판의 상부에 상기 액정 디스플레이 패널의 하부기판의 광차단 영역과 대응되는 위치에 설치되며, 가운데가 오목한 형상을 갖는 제 1 박막;
    상기 투명기판의 상부 및 상기 제 1 박막의 주변에 설치되는 제 2 박막; 및
    상기 제 2박막과 밀도가 동일하며 상기 제 1박막과 상기 제 2 박막의 상부에 설치되는 후막으로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널의 상부기판.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 후막은 복수 개의 얇은 박막의 층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스프레이 패널의 상부 기판.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 후막을 구성하는 복수 개의 박막은 스트레스의 극성이 교차되어 설치되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널의 상부기판.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 후막은 상기 상부기판에 대하여 스트레스가 없도록 한 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널의 상부기판.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1박막은 상기 제 2박막과 경계면에서 소정의 기울기를 가지고 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널의 상부기판.
  6. 신호가 인가되는 배선과 블랙매트릭스로 구성되는 광차단 영역과 광투과 영역이 있는 하부기판; 상기 하부기판과 대향되며 일정한 셀갭을 유지하며 결합되는 상부기판; 및 상기 하부기판과 상기 상부기판 사이에 채워지는 액정을 구비하는 액정 디스플레이 패널에 있어서,
    상기 상부기판은,
    빛이 통과되는 투명기판;
    상기 투명기판의 상부에 상기 하부기판의 광차단 영역과 대응되는 위치에 설치되며, 가운데가 오목한 형상으로 설치되는 제 1박막;
    상기 투명기판의 상부에 상기 제 1박막의 주변에 설치되는 제 2박막; 및
    상기 제 2박막과 밀도가 동일하며 상기 제 1박막과 상기 제 2박막의 상부에 설치되는 후막으로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 후막은 복수 개의 얇은 박막의 층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스프레이 패널.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 후막을 구성하는 박막은 스트레스의 극성이 교차되어 설치되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널.
  9. 제 6항에 있어서,
    상기 제 1박막은 상기 제 2박막과 경계면에서 소정의 기울기를 가지고 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널.
  10. 제 6항에 있어서,
    상기 후막과 상기 액정의 굴절률은 실질적으로 동일한 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널.
  11. 액정 디스플레이 패널을 이용하여 디스플레이 하는 액정 프로젝터에 있어서,
    상기 액정 디스플레이 패널은
    신호가 인가되는 배선과 블랙매트릭스로 구성되는 광차단 영역과 광투과 영역이 있는 하부기판; 상기 하부기판과 대향되며 일정한 셀갭을 유지하며 결합되는 상부기판; 및 상기 하부기판과 상기 상부기판 사이에 채워지는 액정을 구비하며,
    상기 상부기판은,
    빛이 통과되는 투명기판;
    상기 투명기판의 상부에 상기 하부기판의 광차단 영역과 대응되는 위치에 설치되며, 가운데가 오목한 형상으로 설치되는 제 1박막;
    상기 투명기판의 상부에 상기 제 1박막의 주변에 설치되는 제 2박막; 및
    상기 제 2박막과 밀도가 동일하며 상기 제 1박막과 상기 제 2박막의 상부에 설치되는 후막으로 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 프로젝터.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 후막은 복수 개의 얇은 박막의 층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스프레이 패널의 상부 기판.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 후막을 구성하는 박막은 스트레스의 극성이 교차되어 설치되는 것을 특징으로 하는 액정 프로젝터.
  14. 제 11항에 있어서,
    상기 제 1박막은 상기 제 2박막과 경계면에서 소정의 기울기를 가지고 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 프로젝터.
  15. 투명기판 상부에 제 1 박막을 형성하고 상기 제 1 박막의 사이가 일정한 간격을 갖도록 패터닝을 하고 상기 일정한 간격 사이에 상기 제 1 박막의 굴절률보다 큰 제 2 박막을 형성하고 그 상부를 평탄화하는 제 1 단계;
    상기 제 1 박막과 상기 제 2 박막의 상부에 포토레지스터를 코팅하고 상기 포토레지스터를 포토마스크를 이용하여 노광하여 상기 제 2 박막의 상부에 위치하는 포토레지스터의 중앙부가 오목한 형태로 패터닝 되어 있도록 하는 제 2 단계;
    상기 포토레지스터가 패터닝 되어 있는 상기 제 1 박막과 상기 제 2 박막을 에칭하여 상기 제 2 박막이 상기 포토레지스터의 형태와 동일하게 식각되는 제 3단계; 및
    상기 식각된 제 2박막과 상기 제 1박막의 상부에 상기 제 2 박막과 동일한 물질을 코팅하여 후막을 형성하고 상기 후막의 상부를 평탄화하는 제 4단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 상부기판 제조방법.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 제 1 박막의 굴절률은 상기 제 2 박막의 굴절률 보다 작은 것을 특징으로 하는 상부기판 제조방법.
  17. 제 15항에 있어서,
    상기 후막의 두께는
    와 상기 후막과 상기 제 1 박막의 굴절률에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 상부기판 제조방법.
  18. 제 15항에 있어서,
    상기 후막은 여러 층의 박막으로 구성되는 것을 특징으로 하는 상부기판 제조방법.
  19. 제 18항에 있어서,
    상기 후막은 스트레스 방향이 교대로 가해지는 것을 특징으로 하는 상부기판 제조방법.
  20. 투명기판 상부에 제 1 박막을 형성하고 상기 제 1 박막의 사이가 일정한 간격을 갖도록 패터닝을 하고 상기 일정한 간격 사이에 상기 제 1 박막의 굴절률보다 큰 제 2 박막을 형성하고 그 상부를 평탄화하는 제 1 단계;
    상기 제 1 박막과 상기 제 2 박막의 상부에 포토레지스터를 코팅하고 상기 포토레지스터를 포토마스크를 이용하여 노광하여 상기 제 2 박막의 상부에 위치하는 포토레지스터의 중앙부가 오목한 형태로 패터닝 되어 있도록 하는 제 2 단계;
    상기 포토레지스터가 패터닝 되어 있는 상기 제 1 박막과 상기 제 2 박막을 에칭하여 상기 제 2 박막이 상기 포토레지스터의 형태와 동일하게 식각되는 제 3단계;
    상기 식각된 제 2박막과 상기 제 1박막의 상부에 상기 제 2 박막과 동일한 물질을 코팅하여 후막을 형성하고 상기 후막의 상부를 평탄화하는 제 4단계; 및
    상기 후막의 상부에 투명전극과 배향막을 설치하는 제 5단계에 의해 액정 디스플레이 패널의 상부기판을 제작하고
    상기 제작된 상부기판에 일정한 셀갭을 유지하며 전계의 변화를 가하는 배선이 되어 있는 하부기판을 결합하고
    상기 상부기판과 상기 하부기판의 셀갭 사이에 액정이 주입하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널 제조방법.
  21. 제 20항에 있어서,
    상기 후막의 굴절률은 1.4 내지 1.6인 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널을 제조방법.
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JPH09222505A (ja) * 1996-02-16 1997-08-26 Casio Comput Co Ltd マイクロレンズを有するデバイスおよびマイクロレンズの形 成方法
JPH1039113A (ja) * 1996-07-29 1998-02-13 Sekisui Chem Co Ltd マイクロレンズアレイシート及び液晶表示素子
JP4329141B2 (ja) * 1998-10-26 2009-09-09 凸版印刷株式会社 液晶表示装置用マイクロレンズ基板
JP3767254B2 (ja) * 1999-07-12 2006-04-19 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置および投射型表示装置
JP3803530B2 (ja) * 2000-04-12 2006-08-02 セイコーエプソン株式会社 液晶装置および該液晶装置を用いた投射型表示装置

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