JP2000155201A - レンズアレイ基板、その製造方法及び反射型画像表示装置 - Google Patents

レンズアレイ基板、その製造方法及び反射型画像表示装置

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JP2000155201A
JP2000155201A JP10329882A JP32988298A JP2000155201A JP 2000155201 A JP2000155201 A JP 2000155201A JP 10329882 A JP10329882 A JP 10329882A JP 32988298 A JP32988298 A JP 32988298A JP 2000155201 A JP2000155201 A JP 2000155201A
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lens
array substrate
microlens array
light
substrate
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Atsushi Shimizu
敦 清水
Yoshinori Ito
嘉則 伊藤
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Omron Corp
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  • Projection Apparatus (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 マイクロレンズアレイの各レンズの焦点距離
をそれぞれ異ならせることにより、マイクロレンズアレ
イの焦点面を自由に設計できるようにする。 【解決手段】 ベースガラス基板2の上に紫外線硬化型
樹脂を供給し、スタンパで型押ししてマイクロレンズア
レイ4を形成し、紫外線照射により紫外線硬化型樹脂を
硬化させてレンズ樹脂層6を形成する。レンズ樹脂層6
の上に屈折率の異なる紫外線硬化型樹脂を供給し、カバ
ーガラス基板3で押圧させ、紫外線照射により紫外線硬
化型樹脂を硬化させてレンズ樹脂層8を形成する。上記
スタンパ表面には個々のレンズの曲率を個別に変化させ
たレンズパターンが形成されており、その反転パターン
をマイクロレンズアレイ4に転写させることで個々のレ
ンズの曲率を変化させ焦点距離を任意の面に合わせる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレンズアレイ基板、
その製造方法及び反射型画像表示装置に関する。特に、
異なる焦点距離のレンズを配列したマイクロレンズアレ
イ基板と、その製造方法及び当該マイクロレンズ基板を
用いた反射型画像表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の反射型画像表示装置にあっては、
光を画素ごとに集光するためのレンズとして、複数の微
細なレンズの配列からなるマイクロレンズアレイが用い
られている。このマイクロレンズアレイはマイクロレン
ズアレイ基板内に形成されている。図16にもとづい
て、従来のマイクロレンズアレイ基板40の構造を説明
する。マイクロレンズアレイ基板40はガラス薄板から
なるレンズ基板41にエッチングされた凹部内に高屈折
率樹脂43を充填することで構成されている。このレン
ズ基板41と高屈折率樹脂43との界面に複数のレンズ
パターン42aによりマイクロレンズアレイ42が形成
されている。個々のレンズパターン42aのレンズ径及
び曲率は全て同一である。
【0003】(従来のマイクロレンズアレイ基板の製造
方法)上記のマイクロレンズアレイ基板40の従来の製
造方法を図17にもとづいて説明する。まず、図17
(a)に示すような所定の厚みのレンズ基板41を準備
し、図17(b)のように、レンズパターン42aと同
じピッチで開口44をあけられたマスク45をレンズ基
板41の表面に形成する。ついで、図17(c)に示す
ように、マスク45の開口44を通してレンズ基板41
の表面に等方性エッチング処理を行なうことにより、レ
ンズパターン42aを凹状に形成する。そして、マスク
45を除去した後、上記レンズパターン42aの凹部に
それぞれ、図17(d)のように高屈折率樹脂43を充
填し、レンズ基板41と高屈折率樹脂43との界面にお
けるレンズパターン42aにてマイクロレンズアレイ4
2を形成する。
【0004】上記の方法で得られるマイクロレンズアレ
イ基板40は各レンズの焦点距離が、すべて等しいもの
である。その理由は、レンズ基板41全面にわたって一
様な等方性エッチング処理がなされるため、得られる各
レンズの曲率はすべて同一になるからである。
【0005】そこで、本発明の発明者らは、各レンズの
曲率を任意に変えることを目的に、図18(a)〜図1
9(f)のようにレンズ1つずつについて、若しくは一
列ずつについて別々にエッチング処理し、その時間を順
次増加させながらそれぞれのレンズパターン46a,4
6b,…を形成する方法を試みた。この方法では、図1
8(a)のレンズ基板41の表面に1つの開口44を有
するマスク45を形成し[図18(b)]、この開口4
4を通してレンズ基板41をエッチングすることによっ
てレンズパターン46aを形成する[図18(c)]。
ついで、最初のマスク45を除去した後、レンズ基板4
1の表面にレンズパターン46aと隣接する位置に開口
44をあけたマスク45を形成し[図18(d)]、こ
の開口44を通してレンズ基板41をエッチングするこ
とにより、レンズパターン46aと隣接する位置に深さ
の異なるレンズパターン46bを形成する[図18
(e)]。このような工程を繰り返すことにより、深さ
の異なる多数のレンズパターン46a,46b,…をレ
ンズ基板41の表面に形成した後、レンズパターン46
a,46b,…内に高屈折率樹脂43を充填して図18
(f)に示すようにマイクロレンズアレイ基板40を得
る。
【0006】しかしながら、このようにエッチング時間
を各レンズ毎に個別に調整する方法においても、各レン
ズの曲率を各レンズパターン46a,46b,…毎に任
意に変えることができず、全てのレンズの曲率は、ほぼ
一定であった。しかも、この方法では、図19(f)の
ように、エッチング時間の増加に伴い各レンズ径が順次
拡大することを回避できなかった。画像表示装置でマイ
クロレンズアレイを使用する場合、各レンズの中心を各
画素の中心に一致させるためには各レンズの径を等しく
しなければならず、また均一な解像度を得るためにも各
レンズの径を等しくしなければならないため、このよう
な各レンズ毎に異なるレンズ径を有するマイクロレンズ
アレイ46は使用できないことが分かった。
【0007】一方、従来の反射型画像表示装置として、
図20に示す構成の装置がある。この反射型画像表示装
置50においては、白色光源51から照射された白色光
W及び球面鏡52で反射された白色光Wは集光レンズ5
3にて集光され、集光レンズ53の焦点付近を通過する
ように配置された赤、青、緑のフィルタを有する円板状
のカラーフィルタ板54を回転させることによって赤
(R)、緑(G)、青(B)の光束に時分割的に分光さ
れた後、レンズ55によって平行光に変換され、デジタ
ルミラーデバイス(以下DMDと略記する)56に向か
って照射される。DMD56は各画素に対応して微細な
マイクロミラーを配列したものであって、DMD56に
入射した赤、緑、青のそれぞれの光束は、カラーフィル
タ板54の回転と同期して動作させるDMD56のマイ
クロミラーによって、画像表示に必要な光束はプロジェ
クションレンズ57に、画像表示に必要でない光束は光
アブソーバ59に向けて反射される。その後、画像表示
に必要な光束は、プロジェクションレンズ57によって
スクリーン58に向けて投影され拡大された画像とな
る。一方、画像表示に必要でない光束は光アブソーバ5
9によって散乱することなく吸収される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
マイクロレンズアレイ基板では、マイクロレンズアレイ
を構成する各レンズの焦点距離は全て同一であり、各レ
ンズ毎に個別に変えることができないため、各レンズの
焦点位置はマイクロレンズアレイと平行になり、DMD
と平行な平面上に形成することができなかった。
【0009】また、従来の反射型画像表示装置のよう
に、マトリクス状に配列されたDMDのマイクロミラー
による平行光の反射方向を制御する方式では、平行光は
隣り合うマイクロミラーの隙間にも進入し、平行光をD
MDで100%反射させることができないため、光の利
用効率が悪く、画像が暗くなる原因となっていた。さら
に、マイクロミラーの隙間に進入した平行光の一部が、
前記隙間内で乱反射した後、プロジェクションレンズの
方向に迷光することにより、スクリーン上の投影画像を
汚す問題もあった。
【0010】本発明は上述の技術的問題点を解決するた
めになされたものであり、その目的とするところは、レ
ンズ毎に焦点距離の異なるレンズアレイを容易に製造で
き、また、前記レンズアレイによって、表示が明るく鮮
明な反射型画像表示装置を安価に提供することにある。
【0011】
【発明の開示】請求項1に記載のレンズアレイ基板は、
複数のレンズを配列したレンズアレイ基板において、前
記各レンズの焦点位置が、基板面と平行でない平面もし
くは曲面の上にあるものである。
【0012】従来のレンズアレイ基板では、各レンズの
焦点を含む面が基板面と平行な面内にあるものに限られ
ていたが、本発明のレンズ基板では、各レンズの焦点を
含む面を自由に設計することができ、結像面などを任意
に設計できるようになった。
【0013】請求項2に記載のレンズアレイ基板は、複
数のレンズを配列したレンズアレイ基板において、前記
各レンズのうち少なくとも一部のレンズの曲率が他のレ
ンズの曲率と異なったものである。
【0014】従来のレンズアレイ基板は、すべてのレン
ズの曲率が同一であったが、本発明のレンズアレイ基板
では、レンズ毎に焦点距離を変えることができる。よっ
て、このレンズアレイ基板でも、各レンズの焦点を含む
面を自由に設計することができ、結像面などを任意に設
計できるようになった。
【0015】なお、請求項1又は2のレンズアレイ基板
は、屈折率の異なる2種の透明樹脂間の界面により形成
されたレンズでもよく、樹脂の表面(樹脂と空気との界
面)によって形成されたレンズでもよい。
【0016】請求項3に記載の実施態様は、請求項1又
は2に記載のレンズアレイ基板において、前記レンズ
は、その入光面に反射防止膜を備えているものである。
【0017】請求項3に記載の実施態様によれば、反射
防止膜によりレンズアレイ基板に入射する光の反射を防
止することができ、光の利用効率を向上させることがで
きる。
【0018】請求項4に記載のレンズアレイ基板の製造
方法は、複数のレンズ反転パターンを備え、少なくとも
一部のレンズ反転パターンの曲率が他のレンズ反転パタ
ーンの曲率と異なっている成形型と基板との間に未硬化
のエネルギー硬化型樹脂を挟み込んで型押しし、当該樹
脂をエネルギー硬化反応させることによって当該樹脂を
硬化させることを特徴としている。ここで、エネルギー
硬化型樹脂とは、可視光線硬化型樹脂、赤外線硬化型樹
脂、電子線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、湿気硬化型樹脂
等である。
【0019】請求項4に記載のレンズアレイ基板の製造
方法によれば、成形型に曲率の異なるレンズ反転パター
ンを形成しておくことにより、成形型による型押しで曲
率の異なるレンズを備えたレンズアレイ基板を容易に量
産することができる。
【0020】請求項5に記載の反射型画像表示装置は、
入射光を各画素毎に選択的に反射する反射型表示素子
と、前記各画素に対応する複数のレンズを配列した請求
項1、2又は3に記載のレンズアレイ基板とを備えたも
のである。
【0021】請求項5に記載の反射型画像表示装置によ
れば、前記レンズアレイ基板と前記反射型表示素子を用
いることにより、平行光をレンズアレイ基板によって集
光させ反射型表示素子の各画素に集光させることができ
る。よって、各画素外へ入射する光を減少させ、あるい
は無くすことができ、光の利用効率を向上させて明るい
表示画像を得ることができる。また、画素外へ入射した
光の反射による迷光もなくなるので、画像のにじみ等も
小さくできる。
【0022】さらに、反射型の画像表示装置では、マイ
クロレンズアレイと反射型表示素子とが平行でないた
め、反射型表示素子で反射する際に各画素位置毎に、各
光線の集光位置からスクリーンまでの光路長が異なり、
画像全体をスクリーンに結像させられなく。しかし、本
発明の画像表示装置では、各画素に対応するレンズ毎に
焦点距離を異ならせることができるので、各画素に入射
する光の集光位置とスクリーンまでの光路長を均一にで
き、明瞭な画像を得ることが可能になる。
【0023】請求項6に記載の実施態様は、請求項5に
記載の画像表示装置において、前記反射型表示素子と前
記レンズアレイ基板とが平行でないことを特徴とするも
のである。
【0024】本発明の画像表示装置では、レンズアレイ
基板を透過した光を任意の面上に集光させることができ
るので、上記のようにレンズアレイ基板と反射型表示素
子とを非平行に配置しても反射型画像表示装置において
鮮明な画像を得ることができるようになり、レンズアレ
イ基板に妨げられることなくスクリーン等に画像を投影
させることができるようになる。
【0025】
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)図1は本発明
によるマイクロレンズアレイ基板1の構造を示してお
り、その構造は以下の通りである。このマイクロレンズ
アレイ基板1はベースガラス基板2、カバーガラス基板
3の間に屈折率の異なる2層の透明なレンズ樹脂層6、
8を挟み込んだものであり、レンズ樹脂層6、8の界面
は異なる曲率を有するレンズパターン4a,4b,…の
配列にて形成されており、前記レンズパターン4a,4
b,…によってマイクロレンズアレイ4が形成されてい
る。前記レンズパターン4a,4b,…の個々のレンズ
の曲率を変えることによって、各レンズの焦点距離を個
別に変えて、予め設定された平面上若しくは曲面上に焦
点を揃えることが可能である。また、レンズ樹脂層6及
びレンズ樹脂層8の外側にベースガラス基板2及びカバ
ーガラス基板3を配している構造から前記ベースガラス
基板2及びカバーガラス基板3によってレンズ樹脂層6
及びレンズ樹脂層8は保護されている。
【0026】(本発明のマイクロレンズアレイ基板の製
造方法)次に、本発明のマイクロレンズアレイ基板1の
製造方法の詳細を以下に説明する。これは、ガラス基板
にレーザー加工を施すことで原盤を作製し、前記原盤か
らニッケル電鋳法によってニッケルマスタ及びスタンパ
を順次作製し、前記スタンパによって未硬化の樹脂を押
圧し硬化させることでマイクロレンズアレイ基板1を形
成していく方法である。
【0027】まず、マイクロレンズアレイ4の原盤の複
製となる、スタンパの製造方法を図2を参照しながら説
明する。まず、図2(a)に示すような平板状のガラス
板10を用意し、図3に示すようにガラス板10の表面
に、結像レンズ11で集光させたレーザー光を照射し、
レーザー加工(レーザーリトグラフィ)により2点鎖線
で示す形状にガラス板10を蒸発除去し、ガラス板10
の表面に所望の凹凸パターン12a,12b,…を形成
する[図2(b)]。ここで、上記凹凸パターン12
a,12b,…とは、任意の平面又は曲面上に各レンズ
の焦点位置を合せるため、各レンズ面の曲率を個別に変
えたマイクロレンズアレイ4のレンズ面の形状と同一で
ある。前記レーザー加工は、コンピュータにより制御さ
れているレーザー加工装置を用いて行ない、精密かつ複
雑な形状であってもその形状データを入力しておけば、
容易に加工することができる。
【0028】このように、ガラス板10の表面に凹凸パ
ターン12a,12b,…を形成してガラス板10から
なる原盤13を作製した後、原盤13の上にニッケルを
堆積させ、ニッケル電鋳法により原盤13の反転型であ
るニッケルマスタ14を作製し[図2(c)]、ニッケ
ルマスタ14を原盤13から剥離する[図2(d)]。
ニッケル電鋳法によりニッケルマスタ14を作製する際
には、その準備として原盤13を例えば蒸着法あるいは
無電解メッキ法で導電化しておき、導電化された原盤1
3の表面を陰極とし、例えばスルファミン酸ニッケル浴
で電気メッキしてニッケルマスタ14を作製する。
【0029】このニッケルマスタ14をさらにニッケル
電鋳法で複製したものをスタンパ15(原盤13の複
製)とする。ニッケルマスタ14を複製する場合には、
ニッケルマスタ14の表面に例えば重クロム酸カリ溶液
で酸化膜を作った後、再びニッケル電鋳法により再度凸
凹パターンが反転したスタンパ15を作製する[図2
(e)]。こうして、スタンパ15には、前記凹凸パタ
ーン12a,12b,…と同一の反転パターン17a,
17b,…が形成される。
【0030】また、スタンパ15を作製する別な方法と
しては、図4(a)〜(e)に示すように、ガラス板1
0の表面に塗布されたレジスト16をレーザー加工する
ことによって原盤13を作製してもよい。レジスト16
を使用する場合には、ガラス板10とレジスト16の密
着剤として、例えばシランカップリング剤をガラス板1
0の表面に塗布しておき、レーザー加工した後、露光、
現像及び洗浄の工程を経て、レジスト16による所望の
凹凸パターン12がガラス板10の表面に形成される
[図4(a)(b)]。レーザー加工は、図3と同様に
行なわれ、各レンズの曲率を個別に変えた所望の凹凸パ
ターン12a,12b,…が形成される。この後の処理
は、図2(c)以下と同様に行う[図4(c)〜
(e)]。
【0031】つぎに、上記スタンパ15を用いた、マイ
クロレンズアレイ基板1の製造方法を図5(a)〜図6
(f)により説明する。これは、紫外線照射により硬化
する紫外線硬化型樹脂を用いた、いわゆる2P(Photo-
Polymerization)法により、ベースガラス基板2とカバ
ーガラス3の間にマイクロレンズアレイ4を成形する方
法である。
【0032】まず、図5(a)に示すように、透明なベ
ースガラス基板2の上に流動性のある透明な紫外線硬化
型樹脂5を供給した後、紫外線硬化型樹脂5の上からベ
ースガラス基板2へ向けてスタンパ15を降下させる。
このスタンパ15の下面には、前記反転パターン17
a,17b,…が形成されている。このスタンパ15を
ベースガラス基板2に十分に押し付けてスタンパ15と
ベースガラス基板2の間に紫外線硬化型樹脂5を挟み込
み、紫外線硬化型樹脂5をスタンパ15とベースガラス
基板2の間に押し広げてスタンパ15の反転パターン1
7a,17b,…で紫外線硬化型樹脂5を型押しした
後、そのままの状態を保持し、ベースガラス基板2を通
して紫外線硬化型樹脂5に紫外線ランプ等によって紫外
線(UV光)を照射する[図5(b)]。
【0033】紫外線を照射された紫外線硬化型樹脂5
は、紫外線を浴びると硬化反応を起こして硬化するの
で、紫外線硬化型樹脂5にスタンパ15の反転パターン
17a,17b,…が転写成形される。スタンパ15を
上昇させて紫外線硬化型樹脂5から分離すると、硬化し
た紫外線硬化型樹脂5によってベースガラス基板2の上
にレンズ樹脂層6が成形されると共に当該レンズ樹脂層
6の表面にレンズパターン4a,4b,…からなるマイ
クロレンズアレイ4のパターンが成形される[図5
(c)]。尚、紫外線硬化型樹脂5はレンズ樹脂層6全
域にわたって均一な屈折率を有している。
【0034】さらに、ベースガラス基板2の入光面に、
反射防止膜をスパッタリングにて形成する(図示せ
ず)。上記の反射防止膜によって、レンズに入射する光
の反射を防止することができ、光の利用効率を向上させ
ることができる。そして、硬化したレンズ樹脂層6の上
に、レンズ樹脂層6とは屈折率が異なり流動性のある透
明な紫外線硬化型樹脂7を供給した後、紫外線硬化型樹
脂7の上からレンズ樹脂層6へ向けてカバーガラス基板
3を真っ直ぐに降下させる[図6(d)]。このカバー
ガラス基板3をレンズ樹脂層6に十分に押し付けてカバ
ーガラス基板3とレンズ樹脂層6の間に紫外線硬化型樹
脂7を挟み込み、カバーガラス基板3で紫外線硬化型樹
脂7の表面を平らにならして紫外線硬化型樹脂7をカバ
ーガラス基板3とレンズ樹脂層6の間に押し広げた後、
そのままの状態を保持し、ベースガラス基板2及びレン
ズ樹脂層6を通して紫外線硬化型樹脂7に紫外線ランプ
等によって紫外線(UV光)を照射する[図6
(e)]。
【0035】紫外線を照射された紫外線硬化型樹脂7
は、紫外線を浴びると硬化反応を起こして硬化する。こ
の結果、紫外線硬化型樹脂7によってレンズ樹脂層6と
カバーガラス基板3の間にレンズ樹脂層8が成形される
と共にレンズ樹脂層6とレンズ樹脂層8の界面にマイク
ロレンズアレイ4が成形される[図6(f)]。尚、紫
外線硬化型樹脂7はレンズ樹脂層8全域にわたって均一
な屈折率を有している。
【0036】このようにスタンパ15による2P法は、
型となるスタンパ15さえ作製すればその後は、紫外線
硬化型樹脂5及び7の滴下、押圧及び硬化を繰り返せ
ば、マイクロレンズアレイ基板1を得ることができるた
め、少ない工数で容易にマイクロレンズアレイ基板1を
製作することができる。
【0037】また、2P法によりマイクロレンズアレイ
基板1を作製すれば、レンズ毎に焦点距離又は曲率が異
なり、レンズ径が均一なマイクロレンズアレイ基板を容
易に製造することができる。
【0038】ここでは、樹脂として紫外線硬化型樹脂5
及び7を使用したが、レンズを形成する機能上、屈折率
が適性であれば特に制限はなく、未硬化状態から硬化
し、透光性を有するエネルギー硬化型樹脂であればよ
い。このようなエネルギー硬化型樹脂の例としては、可
視光線硬化型樹脂、赤外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹
脂、熱硬化型樹脂、湿気硬化型樹脂等がある。
【0039】また、マイクロレンズアレイ4のレンズ配
列はDMD26のマイクロミラーの配置に応じて、図7
のように、正6角形のレンズを蜂の巣状に配置させたも
のであってもいいし、図8のように、長方形のレンズを
ストライプ状に配置させたシリンドリカルレンズアレイ
であってもよい。
【0040】(本発明の反射型画像表示装置)図9は本
発明の一実施形態による反射型画像表示装置20の概略
構成図である。白色光源21、球面鏡22及びコンデン
サレンズ23からなる光源部と、ダイクロイックミラー
24R、24G、24B及びマイクロレンズアレイ4か
らなる分光部と、DMD26、プロジェクションレンズ
27及び光アブソーバ29からなる表示部で構成されて
いる。ここで、上記マイクロレンズアレイ4はマイクロ
レンズアレイ基板1内に構成されたものであり、上記マ
イクロレンズアレイである。尚、図9において画像を左
右対称に表示させるため、DMD26、プロジェクショ
ンレンズ27及びスクリーン28は互いに平行に配置さ
れている。
【0041】次に図9の反射型画像表示装置20の各部
の動作について順を追って説明する。まず、白色光源2
1より照射された白色光W、及び球面鏡22で反射され
た白色光Wはコンデンサレンズ23によって平行光に変
換された後、ダイクロイックミラー24R、24G、2
4Bに入射する。
【0042】3枚のダイクロイックミラー24R、24
G、24Bは、それぞれ赤、緑、青の波長域の光を反射
させるものであって、図10に示すように、白色光源2
に近い側から順にダイクロイックミラー24R、24
G、24Bがそれぞれ角度θだけずらして扇型に配置さ
れている。しかして、3枚のダイクロイックミラー24
R、24G、24Bに入射した白色光Wは、ダイクロ
イックミラー24Rで反射される赤の光線、ダイクロ
イックミラー24Rを通過し、ダイクロイックミラー2
4Gで反射され、再度ダイクロイックミラー24Rを通
過して得られる緑の光線、ダイクロイックミラー24
R、24Gを通過し、ダイクロイックミラー24Bで反
射され、再度ダイクロイックミラー24G、24Rを通
過して得られる青の光線の3光線に分けられる。このと
き、緑の光線は赤の光線に対して進行方向が2θの角度
だけ傾いて出射し、青の光線は緑の光線に対して進行方
向が2θの角度だけ傾いて出射される(図10)。
【0043】ダイクロイックミラー24R、24G、2
4Bにより分割された赤、緑、青の各平行光は、本発明
に係るマイクロレンズアレイ4にそれぞれ2θずつ傾い
た角度で入射し、マイクロレンズアレイ4の各レンズご
とに、それぞれ赤、緑、青の光束として集光され、それ
ぞれの焦点で一度収束した後わずかに発散しながらDM
D26のマイクロミラー面へ照射される(図12、図1
3参照)。
【0044】ここで、DMD26とは、マイクロマシニ
ング技術を用いることにより、Si基板31上に多数の
微細なマイクロミラー32を配列させた光学素子であ
る。このDMDの1画素分の構造を図11に示す。Si
基板31の上面には一対の支持部33が設けられてお
り、Si基板31の表面においてトーションヒンジ34
の両端が支持部33によって支持されている。トーショ
ンヒンジ34には、ヨーク35の中央部が取り付けられ
ており、ヨーク35の中心に立てられた柱部36の上端
にマイクロミラー32が形成されている。Si基板31
の上面には、静電気等の電気磁気的な力によってヨーク
35に駆動力を及ぼしてトーションヒンジ34を捩らせ
ながらヨーク35の傾きを調整することにより、マイク
ロミラー32の角度を制御するためのミラー駆動手段
(図示せず)が設けられている。こうしてヨーク35を
傾けることにより、マイクロミラー32の角度を2方向
に変化させることができ、マイクロミラー32に光を照
射していると、反射光の方向を自由に制御することがで
きる。
【0045】前記の通り、DMD26は反射光の方向を
自由に制御することができるから、マイクロレンズアレ
イ4から照射された赤、緑、青の各光束のうち画像表示
に必要な光束はプロジェクションレンズ27に向かって
反射させ、画像表示に必要でない光束は光アブソーバ2
9に向かって反射させる。個々のマイクロミラー32で
反射された画素毎の光線は、プロジェクションレンズ2
7によりスクリーン28上に結像される。また、DMD
26の全体でスクリーン上に形成される画像は、図9に
示すようにプロジェクションレンズ27によってスクリ
ーン28上に拡大投影される。一方、光アブソーバ29
に向かって反射させた光束は、光アブソーバ29によっ
て散乱することなく吸収される。
【0046】本実施形態の反射型画像表示装置では、ダ
イクロイックミラー24R、24G、24Bによって反
射された赤、緑、青の各平行光はマイクロレンズアレイ
4によって集光され、全てDMD26のマイクロミラー
32に向かって照射させている。本実施形態ではマイク
ロレンズアレイ4にて集光した全光束をマイクロミラー
32の隙間に進入させることなく、マイクロミラー32
に100%入射させることで、光の利用効率を向上させ
ている。また、前記マイクロミラー32の隙間に進入し
た光が前記隙間内で乱反射した後、プロジェクションレ
ンズ27の方向に迷光することでスクリーン28上の投
影画像を汚す問題も発生しないため美しい表示画像が得
られる。
【0047】しかしながら、このような反射型画像表示
装置において、図16に示した構造の従来のマイクロレ
ンズアレイ基板40を使用した場合、以下の問題があ
る。すなわち、マイクロレンズアレイ42の各レンズの
焦点距離は等しいために、図21において、各レンズを
透過した光束は、マイクロレンズアレイ基板40に平行
な面でそれぞれ収束する(K1、K2及びK3)。この
ような場合、各焦点K1、K2、K3と対応する各DM
D26との距離Q1、Q2、Q3はそれぞれ異なるた
め、焦点K1、K2及びK3からスクリーン28までの
光学的距離も一致しなくなり、DMD26にて反射させ
た後プロジェクションレンズ27を透過させる全ての光
束をスクリーン28上で収束させることはできない。そ
の結果、スクリーン28に投影された像にぼやけが発生
して鮮明な画像を得ることができなかった。尚、図21
では緑の光束のみを図示しているが、赤の光束及び青の
光束についても同様である。
【0048】本発明のマイクロレンズアレイ基板1を使
用すれば、各レンズを異なる任意の曲率で形成すること
ができるため、DMD26に平行な面37上に各レンズ
の焦点を揃えることができる(図12)。こうしてDM
D26に平行な面37上にマイクロレンズアレイ基板1
の各レンズの焦点S1、S2及びS3等を合致させれ
ば、各焦点からスクリーンまでの光学的距離は等しくな
り、DMD26にて反射させた後プロジェクションレン
ズ27を透過させる全ての光束をスクリーン28上で収
束させることで鮮明な画像を得ることができる。本発明
のマイクロレンズアレイ基板1の各レンズによって集光
された各光束が、それぞれのレンズの焦点で一度収束し
た後、発散しながらDMD26のマイクロミラー32に
よってプロジェクションレンズ27に向かって反射され
る様子を図12に示す。その後、上記のように、プロジ
ェクションレンズ27によって、再び集光しスクリーン
28上に収束させる(図示せず)ことで明るく鮮明な表
示画像を得ることができる。
【0049】尚、図12においては、図10のダイクロ
イックミラー24Gから反射した緑の平行光のみ図示し
たが、赤の平行光R、青の平行光Bについても以下、図
13に示すように同様である。図13は、緑の平行光G
の進行方向に対して角度が2θ及び−2θだけ傾いた方
向に赤の平行光R及び青の平行光B(図10参照)がマ
イクロレンズアレイ4の各レンズに入射して収束させら
れる。この色の異なる光束R、G、B毎の焦点位置も各
色の光束の波長の違いによる焦点距離の違い(色収差)
を利用すれば、DMD26と平行となるようにすること
ができる。
【0050】(第2の実施形態)図14は本発明の別な
実施形態による反射型画像表示装置28の構成を示す概
略図である。この実施形態において用いられているDM
D26にあっては、凹曲面上に多数のマイクロミラー3
2を配置してあり、各マイクロミラー32も凹面鏡又は
凸面鏡によって構成されている。しかして、DMD26
全体(マイクロミラー32の集合)によって形成される
凹面鏡によってDMD26の画像をスクリーン上に拡大
投影するようになっている。
【0051】また、各マイクロミラー32は、マイクロ
ミラー32に入射した各色の光束をスクリーン上に結像
させるように焦点距離を設計されている。すなわち、マ
イクロレンズアレイ4の各レンズによって集光され、一
度収束した光束はわずかに発散しながらマイクロミラー
32に入射し、マイクロミラー32によって反射する
際、マイクロミラー32によって収束され、スクリーン
上に結像される。
【0052】よって、この実施形態では、プロジェクシ
ョンレンズを用いることなく鮮明な画像を得ることがで
きる。このときマイクロレンズアレイ4の各レンズとD
MD26のそれぞれのレンズに対応する各マイクロミラ
ー32との中点に各レンズの焦点を設定すればよい。そ
の理由は、DMD26の各マイクロミラー32に照射さ
れる各光束のスポット径を揃えることができるからであ
る。尚、各マイクロミラー32の曲率は、スクリーン2
8に照射する各光束のスポット径に合わせて設定すれば
いい。
【0053】また、ここで用いるDMD26は、図15
(a)に示すような凸曲面上に多数のマイクロミラー2
6を配置したものでもよい。さらには、図15(b)に
示すように、3次元曲面上に多数のマイクロミラー26
を配列したDMD26を用いてもよい。
【0054】このように、本発明によれば、マイクロレ
ンズアレイ4をDMD26と組み合わせて反射型映像表
示装置を製作するとき、マイクロレンズアレイ4の各レ
ンズの曲率を任意に変えることで、任意に配置されたD
MD26のマイクロミラー32面に焦点位置を合せるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のマイクロレンズアレイの構造を示す断
面図である。
【図2】(a)〜(e)はマイクロレンズアレイのパタ
ーンを成形するためのスタンパの製造方法を説明する図
である。
【図3】ガラス板をレーザー加工する様子を示す図であ
る。
【図4】(a)〜(e)はマイクロレンズアレイのパタ
ーンを成形するためのスタンパの別な製造方法を説明す
る図である。
【図5】(a)(b)(c)は本発明のマイクロレンズ
アレイを製造方法を説明する図である。
【図6】(d)(e)(f)は図5の続図である。
【図7】本発明の一実施形態によるマイクロレンズアレ
イの一実施例のレンズ形状とその配置を示した上面図と
縦断面図である。
【図8】本発明の一実施形態によるマイクロレンズアレ
イの別な実施例のレンズ形状とその配置を示した上面図
と縦断面図である。
【図9】本発明の一実施形態による反射型画像表示装置
の概略構成図である。
【図10】同上の装置に用いられているダイクロイック
ミラーの構成と作用を示す図である。
【図11】同上の装置に用いられているDMDの構成を
示す概略図である。
【図12】本発明のマイクロレンズアレイの作用を説明
する図である。
【図13】本発明のマイクロレンズアレイの作用を説明
する別な図である。
【図14】本発明のさらに別な実施形態による反射型画
像表示装置の構成を示す断面図である。
【図15】(a)(b)はそれぞれ本発明のさらに別な
実施形態による反射型画像表示装置に使用するDMDの
配置形状を示す図である。
【図16】従来のマイクロレンズアレイの構造を示す断
面図である。
【図17】(a)〜(d)は従来のマイクロレンズアレ
イの製造方法を説明する図である。
【図18】(a)(b)(c)はレンズ曲率の異なるマ
イクロレンズアレイ基板を製造する方法を説明する図で
ある。
【図19】(d)(e)(f)は図18の続図である。
【図20】従来の反射型画像表示装置の概略構成図であ
る。
【図21】本発明の効果を説明するための比較例であ
る。
【符号の説明】
1 マイクロレンズアレイ基板 2 ベースガラス基板 3 カバーガラス基板 4 マイクロレンズアレイ 4a,4b,… レンズパターン 6 レンズ樹脂層 8 レンズ樹脂層 24R、24G、24B ダイクロイックミラー 26 デジタルミラーデバイス(DMD)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29L 11:00 Fターム(参考) 2K009 AA02 DD04 4F204 AA44 AD04 AG03 AH74 EA03 EB01 EB12 EB22 EK17 EK18 EK24

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のレンズを配列したレンズアレイ基
    板において、 前記各レンズの焦点位置は、基板面と平行でない平面も
    しくは曲面の上にあることを特徴とするレンズアレイ基
    板。
  2. 【請求項2】 複数のレンズを配列したレンズアレイ基
    板において、 前記各レンズのうち少なくとも一部のレンズの曲率が他
    のレンズの曲率と異なっていることを特徴とするレンズ
    アレイ基板。
  3. 【請求項3】 前記レンズは、その入光面に反射防止膜
    を備えていることを特徴とする、請求項1又は2に記載
    のレンズアレイ基板。
  4. 【請求項4】 複数のレンズ反転パターンを備え、少な
    くとも一部のレンズ反転パターンの曲率が他のレンズ反
    転パターンの曲率と異なっている成形型と基板との間に
    未硬化のエネルギー硬化型樹脂を挟み込んで型押しし、
    当該樹脂をエネルギー硬化反応させることによって当該
    樹脂を硬化させることを特徴とするレンズアレイ基板の
    製造方法。
  5. 【請求項5】 入射光を各画素毎に選択的に反射する反
    射型表示素子と、前記各画素に対応する複数のレンズを
    配列した請求項1、2又は3に記載のレンズアレイ基板
    とを備えた反射型画像表示装置。
  6. 【請求項6】 前記反射型表示素子と前記レンズアレイ
    基板とが平行でないことを特徴とする、請求項5に記載
    の反射型画像表示装置。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006111A (ja) * 2000-06-19 2002-01-09 Canon Inc 撮像装置および実装装置
WO2003077325A1 (en) * 2002-03-12 2003-09-18 Automotive Lighting Rear Lamps Italia S.P.A. Optical lighting device and method to produce lighting devices adopting said optical device
JP2005352392A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Ricoh Co Ltd マイクロレンズアレイ、空間光変調装置及びプロジェクタ装置
US6985297B2 (en) * 2002-05-13 2006-01-10 Sony Corporation Production method of microlens array, liquid crystal display device and production method thereof, and projector
WO2006060298A2 (en) * 2004-12-03 2006-06-08 Micron Technology, Inc. Gapless microlens array and method of fabrication
US7319242B2 (en) 2003-12-16 2008-01-15 Seiko Epson Corporation Substrate with recess portion for microlens, microlens substrate, transmissive screen, rear type projector, and method of manufacturing substrate with recess portion for microlens
JP2008545173A (ja) * 2005-07-04 2008-12-11 韓国科学技術院 マイクロレンズアレイとマイクロミラーアレイを利用した投射型表示装置
JP2009511953A (ja) * 2006-04-12 2009-03-19 コリア アドバンスト インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー マイクロレンズを用いたディスプレイ
JP2013522681A (ja) * 2010-03-17 2013-06-13 ペリカン イメージング コーポレーション 結像レンズアレイのマスタを作製する方法
JP2014119681A (ja) * 2012-12-19 2014-06-30 Casio Comput Co Ltd 光源装置及びプロジェクタ
WO2015022917A1 (ja) * 2013-08-12 2015-02-19 大日本印刷株式会社 照明装置、投射装置、レンズアレイおよび光学モジュール
EP2902819A1 (en) * 2014-02-03 2015-08-05 Ricoh Company, Ltd. Image-display apparatus having a micro-lens array, the lenses of which having different curvatures
JP2018136558A (ja) * 2018-03-29 2018-08-30 株式会社リコー 画像表示装置及び移動体
CN113777829A (zh) * 2021-08-26 2021-12-10 惠州视维新技术有限公司 光学透镜、背光模组以及显示装置

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006111A (ja) * 2000-06-19 2002-01-09 Canon Inc 撮像装置および実装装置
JP4521938B2 (ja) * 2000-06-19 2010-08-11 キヤノン株式会社 撮像装置
WO2003077325A1 (en) * 2002-03-12 2003-09-18 Automotive Lighting Rear Lamps Italia S.P.A. Optical lighting device and method to produce lighting devices adopting said optical device
US6995916B2 (en) * 2002-05-13 2006-02-07 Sony Corporation Production method of microlens array, liquid crystal display device and production method thereof, and projector
US6985298B2 (en) * 2002-05-13 2006-01-10 Sony Corporation Production method of microlens array, liquid crystal display device and production method thereof, and projector
US6989933B2 (en) * 2002-05-13 2006-01-24 Sony Corporation Production method of microlens array, liquid crystal display device and production method thereof, and projector
US6985297B2 (en) * 2002-05-13 2006-01-10 Sony Corporation Production method of microlens array, liquid crystal display device and production method thereof, and projector
US7791823B2 (en) 2003-12-16 2010-09-07 Seiko Epson Corporation Substrate with recess portion for microlens, microlens substrate, transmissive screen, rear type projector, and method of manufacturing substrate with recess portion for microlens
US7319242B2 (en) 2003-12-16 2008-01-15 Seiko Epson Corporation Substrate with recess portion for microlens, microlens substrate, transmissive screen, rear type projector, and method of manufacturing substrate with recess portion for microlens
JP2005352392A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Ricoh Co Ltd マイクロレンズアレイ、空間光変調装置及びプロジェクタ装置
WO2006060298A2 (en) * 2004-12-03 2006-06-08 Micron Technology, Inc. Gapless microlens array and method of fabrication
WO2006060298A3 (en) * 2004-12-03 2006-08-03 Micron Technology Inc Gapless microlens array and method of fabrication
US7307788B2 (en) 2004-12-03 2007-12-11 Micron Technology, Inc. Gapless microlens array and method of fabrication
JP2008545173A (ja) * 2005-07-04 2008-12-11 韓国科学技術院 マイクロレンズアレイとマイクロミラーアレイを利用した投射型表示装置
JP2009511953A (ja) * 2006-04-12 2009-03-19 コリア アドバンスト インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー マイクロレンズを用いたディスプレイ
JP2013522681A (ja) * 2010-03-17 2013-06-13 ペリカン イメージング コーポレーション 結像レンズアレイのマスタを作製する方法
JP2014119681A (ja) * 2012-12-19 2014-06-30 Casio Comput Co Ltd 光源装置及びプロジェクタ
WO2015022917A1 (ja) * 2013-08-12 2015-02-19 大日本印刷株式会社 照明装置、投射装置、レンズアレイおよび光学モジュール
JP2015057765A (ja) * 2013-08-12 2015-03-26 大日本印刷株式会社 照明装置、投射装置、レンズアレイおよび光学モジュール
US10992912B2 (en) 2013-08-12 2021-04-27 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Illumination device, projection apparatus, lens array, and optical module
EP2902819A1 (en) * 2014-02-03 2015-08-05 Ricoh Company, Ltd. Image-display apparatus having a micro-lens array, the lenses of which having different curvatures
JP2015145962A (ja) * 2014-02-03 2015-08-13 株式会社リコー 画像表示装置、移動体及びレンズアレイ
EP3346303A1 (en) * 2014-02-03 2018-07-11 Ricoh Company Ltd. Image-display apparatus having a micro-lens array, the lenses of which having different curvatures
US11002887B2 (en) 2014-02-03 2021-05-11 Ricoh Company, Ltd. Image display apparatus, moving body, and lens array
JP2018136558A (ja) * 2018-03-29 2018-08-30 株式会社リコー 画像表示装置及び移動体
CN113777829A (zh) * 2021-08-26 2021-12-10 惠州视维新技术有限公司 光学透镜、背光模组以及显示装置

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