JPH026123A - マイクロレンズアレイの作成方法 - Google Patents

マイクロレンズアレイの作成方法

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JPH026123A
JPH026123A JP15632788A JP15632788A JPH026123A JP H026123 A JPH026123 A JP H026123A JP 15632788 A JP15632788 A JP 15632788A JP 15632788 A JP15632788 A JP 15632788A JP H026123 A JPH026123 A JP H026123A
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JP
Japan
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microlens array
stamper
light
array
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP15632788A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Iguchi
敏之 井口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH026123A publication Critical patent/JPH026123A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、スキャナ、フォトプリンタ等の光学系に用い
られるマイクロレンズアレイの作成方法に関する。
従来の技術 従来、マイクロレンズアレイの等倍結像素子は、ルーフ
ミラーレンズアレイ、ロッドレンズアレイ。
オプティカルファイバプレート等に使用されており、近
年、それらマイクロレンズはスキャナ、フォトプリンタ
等の複写機の分野のみならず光フアイバ通信、オーディ
オ、ビデオディスクなどの分野からもその応用面から強
い関心を集めている。
そのようなマイクロレンズアレイの従来からの作成方法
の一つとして、光CVDの一種であるレーザCVDによ
って材料ガスにレーザ光を照射して反応させ、基板上に
薄膜を選択的に形成させる、いわゆる、薄膜形成技術を
応用したものが報告されている(応用物理学会光学懇話
会微小光学研究グループ、1987.5/15 Vol
、5 No、2 p、14〜19)。また、この他に、
光CVDとして光源にレーザ光以外のランプや、シンク
ロトロン放射を用い、薄膜形成技術によりマイクロレン
ズアレイを作成するような方法もある。
発明が解決しようとする問題点 上述したような光CVDによりマイクロレンズアレイを
作成する方法の場合、材料ガスを用いなければならずそ
の分コストがかかり、また、光源の種類によっては薄膜
を形成させる時に空間選択性に差が出てくるためその調
整が複雑になるなどの問題がある。また、近年、センサ
や発光素子などの小型、薄型に伴い、それら等倍結像素
子の微小化、薄型化が一層必要になってきていることか
ら、低コストで、しかも、より一層簡単に作成できる方
法が望まれてきている。
問題点を解決するための手段 そこで、このような問題点を解決するために、本発明は
、基板上にプレコート剤を塗布し紫外線露光を行い硬化
させ、このプレコート剤の表面に光重合部材を塗布し、
この光重合部材の上部からスタンパ部材を圧着させた状
態で紫外線露光を行い硬化させた後、前記スタンパ部材
を剥離することによりマイクロレンズアレイを作成し、
この作成されたマイクロレンズアレイの各々のレンズ間
に遮光部材を設けた。
作用 従って、マイクロレンズアレイの複製物であるマイクロ
レンズアレイマスタを予め作成し、これをもとにスタン
パ部材を作成して、これによりマイクロレンズアレイを
容易に作成することが可能となり、従来の光CVDにお
けるような材料ガスを用いる必要がなく、しかも、薄膜
を形成させるための空間選択性を考慮する煩わしさもな
いため、低コストで量産化することが可能となる。また
、マイクロレンズアレイの各々のレンズ間に遮光部材を
設けたことにより、隣接するレンズへの光の回り込みを
低減することができ、これにより、S/N比を高め、光
利用効率を一段と上げることができる。
実施例 本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
マイクロレンズアレイの作成方法には、第一工程として
マイクロレンズアレイマスタの作成、第二工程としてス
タンパ部材の作成、第三工程としてマイクロレンズアレ
イの複製の三段階に分けられる。以下、これら順を追っ
て説明する。
第一工程のマイクロレンズアレイマスタの作成方法を第
1図ないし第5図(a)(b)(c)に基づいて説明す
る。まず、第1図及び第2図において、基板としてのガ
ラス基板1上にフォトレジスト2を塗布し、このフォト
レジスト2上に露光を行うことによって所望のピッチと
プロファイルの干渉光パターン3を形成し、その後、適
正条件にて現像を行う。なお、この露光時には、アレイ
方向と直交する方向のレンズ作用を付与するため、又は
、レンズ部分を規制するために、第3図(a)のような
マスク4を介して2光束干渉露光した後、第3図(b)
のようなマスク5を介して紫外線(UV)露光を行うよ
うにするか、或いはこれと反対の順序で、マスク5を介
してUV露光を先に行い、その後、マスク4を介して2
光束干渉露光を行うようにする。
そして、第4図はその現像エツチングして作成されたフ
ォトレジスト2からなるマイクロレンズアレイマスタ6
の斜視図であり、これにより、第一工程が終了する。な
お、第5図(a)はそのレンズ7のアレイ方向の断面図
であり、第5図(b)は平面図であり、さらに、第5図
(c)はそのA−A断面図である。
次に、第二工程のスタンパ部材の作成方法を第6図(a
)(b)(c)及び第7図(a)(b)に基づいて説明
する。まず、第6図(a)(b)(c)において、フォ
トレジスト2からなるマイクロレンズアレイマスタ6の
表面にスパッタリングとしてのNiスパッタ8を行い、
電鋳9した後、スタンパ部材としてのNiスタンバ10
を作成し、その裏面にA0台11を裏打ちすることによ
り第二工程が終了する。なお、第7図(a)はそのNi
スタンパ1゜のアレイ方向の断面図、第7図(b)はア
レイ方向と直交する方向の断面図である。
次に、第三工程のマイクロレンズアレイの複製方法を第
8図(a)(b)(c)ないし第11図(a)(b)に
基づいて説明する。まず、第8図(a)(b)(C)に
おいて、基板としてのプラスチック基板11上にプレコ
ート剤12を塗布しUV露光を行い、このプレコート剤
12の表面に光重合部材としての2P樹脂13を塗布す
る。そして、この2P樹脂13の上部からNiスタンパ
10を圧着させ、この状態でUV露光を行い硬化させた
後、Niスタンパ10を剥離することにより目的とする
マイクロレンズアレイ14が複製される。第9図はその
複製されたマイクロレンズアレイ14の斜視図であり、
第10図はそれらレンズ15間の凹み部分に遮光部材と
してのカーボンブラック16などの光吸収部材を付加さ
せた状態を示す。第11図(a)はそのアレイ方向の断
面図を示し、第11図(b)はアレイと直交する方向の
断面図を示している。なお、プレコート剤12は、基板
11と2P樹脂13との密着強度を増加させるためのも
のであり、Niスタンパ10のNiと2P樹脂13との
反発力によって深溝部分の剥離を容易に行うことができ
る。
次に、このようにして作成されたマイクロレンズアレイ
14の実際の使用状態について見てみる。
第12図(a)は、受光素子17の配列ピッチに対応し
て1本発明であるマイクロレンズアレイ14を一体化し
て構成したものであり、第12図(b)はそのアレイと
直交する方向の断面図を示したものである。このような
状態で入射した光は、各微小なレンズ15により集光さ
れ、下部の受光素子17まで導かれていき検出される。
また、第12図(c)は、各微小レンズ15によって集
光された光がそれらレンズ15内部での全反射以外に、
カーボンブラック16を設けたことにより隣接するレン
ズ15への光のクロストーク(回り込み)という現象を
なくすことができる様子を示したものであり、これによ
り、各々の受光素子17に対応した光情報を効率良く伝
達することができる。さらに、第12図(d)は、発光
素子18の配列ピッチに対応して本発明のマイクロレン
ズアレイ14を一体化構成したものであり、この場合に
も、カーボンブラック16を設けたことにより光のクロ
ストーク(回り込み)という現象をなくし光情報を効率
良く伝達することができる。
また、第13図はマイクロレンズアレイ14のスキャナ
19への応用例を示したものであり、第14図はフォト
プリンタ20への応用例を示したものである。これらの
場合にも上述した例と同様な効果を得ることができる。
発明の効果 本発明は、基板上にプレコート剤を塗布し紫外線露光を
行い硬化させ、このプレコート剤の表面に光重合部材を
塗布し、この光重合部材の上部からスタンパ部材を圧着
させた状態で紫外線露光を行い硬化させた後、前記スタ
ンパ部材を剥離することによりマイクロレンズアレイを
作成し、この作成されたマイクロレンズアレイの各々の
レンズ間に遮光部材を設けたので、マイクロレンズアレ
イの複製物であるマイクロレンズアレイマスタを予め作
成し、これをもとにスタンパ部材を作成して、これによ
りマイクロレンズアレイを容易に作成することが可能と
なり、従来の光CVDにおけるような材料ガスを用いる
必要がなく、しかも、薄膜を形成させるための空間選択
性を考慮する煩わしさもないため、低コストで量産化す
ることが可能となる。また、マイクロレンズアレイの各
々のレンズ間に遮光部材を設けたことにより、隣接する
レンズへの光の回り込みを低減することができ、これに
より、S/N比を高め、光利用効率を一段と上げること
ができるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す干渉光パターンの作成
状態を示す説明図、第2図はその現像後の作成された干
渉光パターンの様子を示す側面図。 第3図(a)(b)はマスクの斜視図、第4図はマイク
ロレンズアレイマスタの斜視図、第5図(a)はそのレ
ンズのアレイ方向の断面図、第5図(b)は第4図の平
面図、第5図(c)はそのA−A断面図、第6図(a)
はNiスパッタを行った場合の様子を示す側面図、第6
図(b)は電鋳を行った場合の様子を示す側面図、第6
図(c)はスタンパ作成の作成状態を示す側面図、第7
図(a)はそのアレイ方向の断面図、第7図(b)はア
レイと直交する方向の断面図、第8図(a)はプレコー
ト剤を塗布した状態で紫外線露光を行っている様子を示
す側面図、第8図(b)は2P樹脂を塗布した状態で紫
外線露光を行っている様子を示す側面図、第8図(Q)
は複製されたマイクロレンズアレイの側面図、第9図は
マイクロレンズアレイの斜視図、第10図はそれに遮光
部材を付加した様子を示す斜視図、第11図(a)はそ
のアレイ方向の断面図、第11図(b)はそのアレイと
直交する方向の断面図、第12図(a)はアレイ方向に
対応して受光素子を配設した場合の様子を示す説明図、
第12図(b)はそのアレイと直交する方向の様子を示
す説明図、第12図(Q)は遮光部材により隣接するレ
ンズからの光の回り込みを防止した状態を示す説明図、
第12図(d)はアレイ方向に対応した発光素子を配設
した場合の様子を示す説明図、第13図はマイクロレン
ズアレイのスキャナへの応用例を示す説明図、第14図
はマイクロレンズアレイのフォトプリンタへの応用例を
示す説明図である。 1・・・基板、2・・・フォトレジスト、3・・・干渉
光パターン、6・・・マイクロレンズアレイマスタ、8
・・・スパッタ、9・・・電鋳、1o・・・スタンパ部
材、11・・・基板、12・・・プレコート剤、13・
・・光重合部材、14・・・マイクロレンズアレイ、1
6・・・遮光部村山 願 人    株式会社 リ コ
 −−篤71  図 露光 J−35現 、、yD Z図 、% 、IZ慟 (a’) (b) (C) (d) 呂身〕光

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板上にプレコート剤を塗布し紫外線露光を行い硬
    化させ、このプレコート剤の表面に光重合部材を塗布し
    、この光重合部材の上部からスタンパ部材を圧着させた
    状態で紫外線露光を行い硬化させた後、前記スタンパ部
    材を剥離することによりマイクロレンズアレイを作成し
    、この作成されたマイクロレンズアレイの各々のレンズ
    間に遮光部材を設けたことを特徴とするマイクロレンズ
    アレイの作成方法。 2、スタンパ部材は、基板上にフォトレジストを塗布し
    、その表面より露光することによつて周期的な干渉光パ
    ターンを形成し、この干渉光パターンの形成された前記
    フォトレジストを現像、定着することによつてマイクロ
    レンズアレイマスタを作成し、この複製されたマイクロ
    レンズアレイマスタにスパッタリングを行い、その後電
    鋳を行って作成するようにしたことを特徴とする請求項
    1記載のマイクロレンズアレイの作成方法。
JP15632788A 1988-06-24 1988-06-24 マイクロレンズアレイの作成方法 Pending JPH026123A (ja)

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