KR100452919B1 - 반도체 제조에 사용되는 노즐장치 - Google Patents

반도체 제조에 사용되는 노즐장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 노즐 장치로, 웨이퍼의 가장자리가 삽입되는 삽입구, 제 1 분사구, 흡입구, 제 2분사구를 가진다. 노즐 장치는 웨이퍼의 가장자리가 삽입되는 삽입구를 가지므로, 상기 웨이퍼의 가장자리의 식각폭을 용이하게 조절할 수 있다. 또한, 노즐 장치는 식각액을 강제흡입하는 흡입구와, 질소가스에 의한 차단막을 제공하여 노즐 장치 밖으로 식각액이 흐르는 것을 방지하므로, 식각을 요하지 않는 부분(즉, 패턴이 형성된 부분)을 보호용 액이나 마스크로 보호할 필요가 없어 작업시간을 줄일 수 있고, 공정 진행 중 주변 환경이 오염되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다

Description

반도체 제조에 사용되는 노즐장치{nozzle device for manufacturing semiconductor}
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 기판의 가장자리에 유체를 분사하는 노즐 장치에 관한 것이다.
통상, 반도체 소자의 제조공정에서 반도체 기판으로 사용되는 웨이퍼 (wafer)상에는 다결정막, 산화막, 질화막 및 금속막 등과 같은 복수의 막질이 형성된다. 상기한 막질 위에는 포토레지스트막이 코팅되고, 노광 공정에 의해 포토마스크에 그려진 패턴은 상기 포토레지스트막으로 전사된다. 이후, 식각공정에 의해서 웨이퍼상에는 원하는 패턴이 형성된다.
따라서 반도체 소자를 제조하기 위해서는 복수의 공정이 필요하므로 하나의 공정이 진행된 웨이퍼는 다른 공정으로 이송되어야 한다. 이 때 웨이퍼는 이송장치에 의해서 가장자리가 파지되어 다른 공정으로 이송된다. 그러나 웨이퍼의 가장자리가 파지되어 이송될 때, 웨이퍼 가장자리의 막질이 떨어져 비산하여, 웨이퍼 중앙부의 표면을 오염시키거나, 다른 웨이퍼의 표면을 오염시킨다. 결과적으로 수율(yield)이 저하되므로, 웨이퍼 가장자리의 막질은 모두 제거되어야 한다. 따라서 웨이퍼의 가장자리를 식각하여 막질을 제거하는 것이 필요하다 .
종래에는 웨이퍼 가장자리를 식각하기 위해서, 2가지 방법이 사용되었다.
한가지 방법으로는 웨이퍼 가장자리의 식각되는 부분을 제외한 나머지 부분(즉, 패턴부가 포함되는 일정 면적)을 보호용 액 또는 마스크로 보호하여 웨이퍼를 식각하였다. 그러나 상기 방법은 보호용 액 또는 마스크로 패턴부가 형성된 부분을 보호하고, 후에 이를 제거해야 하므로 작업시간이 오래 걸리고, 웨이퍼의 전체면에식각액이 분사되므로 식각액이 다량 소모되는 문제가 있다.
또 다른 방법으로, 웨이퍼에 형성된 패턴이 척과 마주보도록 상기 웨이퍼를 반전하여 상기 척에 설치하고, 식각액이 노즐을 통하여 웨이퍼를 향해 분사하여 웨이퍼 가장자리가 식각되었다. 그러나 이 방법에서 식각폭의 조절은 척의 중앙부로부터 분사되는 질소가스의 양에 의해서 조절되기 때문에, 정확한 식각폭으로 웨이퍼의 가장자리를 식각하기가 어려운 문제가 있다.
상기 2가지 방법은 다음과 같은 문제점들을 더 가지고 있다.
웨이퍼의 상부에서 노즐을 통하여 분사된 식각액이 노즐 밖으로 흘러 주변설비를 오염시킬 수 있다. 이는 높은 청정도를 요구하는 반도체 제조 설비에서 바람직하지 않다.
본 발명은 기판 가장자리를 용이하게 식각하고, 기판 가장자리의 식각폭을 정확하게 조절할 수 있는 노즐 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은, 노즐을 통해 분사된 유체가 주변환경을 오염시키는 것을 방지할 수 있는 노즐 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 노즐장치의 사시도;
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 노즐장치의 단면도;
도 3은 본 발명에서 제 1 실시예에서 식각액의 흐름을 보여주는 도면;
도 4a와 도 4b는 제 1 실시예의 변형예를 보여주는 도면;
도 5는 본 발명의 다른 실시예를 보여주는 노즐장치의 단면도; 그리고
도 6은 본 발명의 다른 실시예에서 식각액의 흐름을 보여주는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 상부 몸체 12 : 제 1 커버
20 : 하부 몸체 22 : 제 2 커버
32 : 제 1 분사구 34 : 흡입구
36 : 제 2 분사구 38 : 유로가이드
42 : 삽입구 상부면 44 : 삽입구 하부면
45 : 삽입구 측면
상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명인 노즐 장치는 상기 기판으로 상기 유체를 분사하는 제 1 분사구와 상기 기판에 분사된 상기 유체를 흡입하는 흡입구를 가진다.
상기 노즐장치는 상기 기판의 일부분이 삽입되는, 그리고 제 1 면, 상기 제1 면과 마주보도록 위치되는 제 2 면, 상기 제 1 면과 상기 제 2 면에 연결된 제 3 면으로 이루어지는 삽입구를 가지며, 상기 흡입구는 상기 제 1 면에 형성되고, 상기 제 1 분사구는 상기 제 2 면에 형성된다.
바람직하게는 상기 제 1 면은 상기 기판에 분사된 유체의 강제흡입이 잘 이루어질 수 있도록 상기 흡입구는 상기 삽입구의 안쪽으로 경사를 이루며 형성된다.
바람직하게는 상기 제 2 면은 상기 제 1 분사구에서 분사된 상기 유체가 상기 삽입구의 안쪽으로 흐르도록 상기 제 1 분사구에서 안쪽으로 유로가이드가 형성된다.
바람직하게는 상기 삽입구는 상기 제 1 면을 상부면으로 가지고, 상기 제 2 면을 하부면으로 가진다.
본 발명의 상기 노즐 장치는 상기 기판의 가장자리가 삽입되는, 그리고 제 1 면, 상기 제 1 면과 마주보도록 위치되는 제 2 면, 상기 제 1 면과 상기 제 2 면에 연결된 제 3 면으로 이루어지는 삽입구를 가지며, 상기 제 1 분사구는 상기 제 1 면과 상기 제 2 면에 각각 형성되고, 상기 흡입구는 상기 제 3 면에 형성된다.
바람직하게는, 본 발명의 노즐 장치는 상기 제 1 분사구를 통해 분사된 상기 유체가 상기 삽입구 외부로 흐르는 것을 방지하기 위한 차단수단을 더 포함한다. 상기 제 1 면과 상기 제 2 면은 가스를 분사하는 제 2 분사구를 각각 가지며, 상기 차단수단은 상기 삽입구의 외곽에 상기 가스를 분사하여 차단막을 형성함으로써 이루어질 수 있다.
본 발명의 노즐 장치는 상부 몸체, 하부 몸체, 그리고 상기 상부 몸체와 상기 하부 몸체를 결합시키는 브라켓을 구비하고, 상기 상부 몸체와 상기 하부 몸체의 결합에 의해 상기 기판의 가장자리가 삽입되는 삽입구가 형성되며, 상기 제 1 노즐은 상기 하부 몸체에 형성되고, 상기 흡입구는 상기 상부 몸체에 형성된다.
바람직하게는 상기 상부 몸체와 상기 하부 몸체는 상기 유체가 상기 제 1 노즐의 상기 삽입구 외부로 흐르는 것을 방지하기 위해, 가스를 분사하는 제 2 분사구를 각각 가진다. 바람직하게는 상기 제 2 분사구는 상기 상부 몸체와 소정거리 이격되어 결합되는 제 1 커버와, 상기 하부 몸체와 소정거리 이격되어 결합되는 제 2 커버에 의해서 제공될 수 있다.
바람직하게는 상기 제 1분사구의 압력은 0.05kgf/cm2내지 0.5kgf/cm2이고, 상기 흡입구의 압력은 -0.05kgf/cm2내지 -0.5kgf/cm2이며, 상기 흡입구의 면적은 1mm2내지 5mm2이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 6을 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 상기 도면들에 있어서 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호가 병기되어 있다.
본 발명의 실시예는 여러가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 노즐 장치를 보여주는 사시도이고, 도 2는 상기 노즐 장치의 단면도이다.
상기 노즐 장치(1)는 상부 몸체(10), 하부 몸체(20), 제 1 커버(12), 제 2 커버(22), 그리고 브라켓(60)을 구비한다. 또한, 상기 노즐 장치(1)에는 제 1 분사구(32)와 흡입구(34)가 형성된다. 상기 노즐 장치(1)는 상기 상부 몸체(10)와 상기 하부 몸체(20)의 접촉부에 웨이퍼(2)의 가장자리가 삽입될 수 있는 삽입구(40)를 가진다.
도 2를 참조하면 상기 상부 몸체(10)의 바닥면과 상기 하부 몸체(20)의 윗면이 서로 접촉되는 형태로, 상기 브라켓(60)에 의해 결합된다. 상기 상부 몸체(10) 및 상기 하부 몸체(20)는 각각 상기 브라켓(60)과 나사(70)결합된 후, 가스켓(66)에 의해 체결이 강화된다.
상기 노즐 장치(1)는 상기 상부 몸체(10)와 상기 하부 몸체(20)의 접촉부위에 상기 웨이퍼(2)의 가장자리가 삽입될 수 있도록 삽입구(40)를 가진다. 상기 삽입구(40)는 상부면(42), 하부면(44), 그리고 측면(46)으로 이루어진다.
상기 측면(46)은 곡면으로 형성되는 것이 바람직하며, 이는 제 1 분사구(32)로부터 분사되는 식각액의 이동을 원활하게 하기 위함이다.
상기 제 1 분사구(32)를 통해 상기 식각액이 상기 삽입구(40)에 삽입된 상기 웨이퍼(2)의 가장자리에 분사되고, 식각을 마친 상기 식각액은 상기 흡입구(34)를 통해 강제 흡입된다. 도 2에서 보는 바와 같이 상기 제 1 분사구(32)는 상기 하부면(44)에 형성되고, 상기 흡입구(34)는 상기 상부면(42)에 형성되는 것이 바람직하다. 그러나 상기 제 1분사구(32)가 상기 상부면(42)에 형성되고, 상기 흡입구(34)가 상기 하부면(44)에 형성될 수 있다.
상기 제 1분사구(32)는 0.05kgf/cm2내지 0.5kgf/cm2의 압력을 유지하고, 상기 흡입구(34)는 -0.05kgf/cm2내지 -0.5kgf/cm2의 압력을 유지하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 흡입구(34)는 1mm2내지 5mm2의 면적을 가지는 것이 바람직하다.
본 실시예에서는 상기 삽입구(40)는 상부 몸체(10), 하부 몸체(20)등에 의해 형성되는 것으로 기재하였으나, 삽입구를 가지는 몸체를 직접 제조할 수 있다.
상기 노즐 장치(1)에서는 상기 웨이퍼(2) 가장자리가 상기 삽입구(40)에 삽입되어진 상태에서 상기 웨이퍼(2) 가장자리에 식각액을 분사하고, 식각에 사용된 식각액을 상기 삽입구(40) 내에서 강제 흡입한다. 따라서 식각을 요하지 않는 부분(즉, 패턴이 형성된 부분)을 보호용 액이나 마스크로 보호할 필요가 없어 작업 시간을 줄일 수 있다. 또한, 상기 웨이퍼(2)의 가장자리는 식각하고자 하는 폭만큼 상기 삽입구(40)에 삽입되어 식각 공정이 진행되므로 상기 웨이퍼(2)의 가장자리의 식각폭을 용이하게 조절할 수 있다. 또한, 상기 노즐 장치(1)는 식각하고자 하는 웨이퍼(1)의 가장자리에만 직접 식각액을 분사하므로 적은 양의 식각액으로 공정을 진행할 수 있다.
상기 제 1 분사구(32)는 외부의 약액공급부(도시하지 않음)와 연통되고, 상기 흡입구(34)는 외부의 배기관이나 진공펌프(도시하지 않음)와 연통된다.
상기 상부 몸체(10)는 상기 흡입구(34)에서 강제 흡입된 식각액이 이동되는제 1 통로(52)를 가진다. 상기 제 1 통로(52)의 일단은 상기 흡입구(34)와 연결되고, 타단은 상기 브라켓(60)의 제 1 포트(62)와 연결된다. 상기 하부 몸체(20)는 상기 제 1 분사구(32)로 식각액을 공급하기 위한 제 2 통로(54)를 가진다. 상기 제 2 통로(54)의 일단은 상기 제 1 분사구(32)와 연결되고, 타단은 상기 브라켓(60)의 제 2 포트(64)와 연결된다.
상기 브라켓(60)의 상기 제 1 포트(62)는 외부의 진공펌프나 배기관(도시되지 않음)과 연결되고, 상기 브라켓(60)의 상기 제 2 포트(62)는 외부의 약액공급부(도시되지 않음)와 연결된다.
상기 노즐 장치(1)는 상기 상부 몸체(10)와 상기 하부 몸체(20)에 각각 질소 가스를 분사하는 제 2 분사구(36)를 가진다. 상기 상부 몸체(10)의 상기 제 2 분사구(36)는 상기 상부 몸체(10)의 앞면에 소정거리 이격되어 결합된 제 1 커버(12)에 의해서 제공되고, 상기 하부 몸체(20)의 상기 제 2 분사구(36)는 상기 하부 몸체(20)의 앞면에 소정거리 이격되어 결합된 제 2 커버(22)에 의해서 제공된다.
상기 제 2 분사구(36)를 통해 분사되는 상기 질소 가스는 외부의 가스공급부(도시되지 않음)로부터 공급된다. 상기 상부 몸체(10)와 상기 하부몸체(20)는 일단이 상기 제 2 분사구(36)와 연통되고, 타단이 상기 가스공급부에 연결된 제 3 통로(56)를 각각 가진다.
상기 제 2 분사구(36)는 상기 삽입구(40)와 외부사이에 질소가스에 의한 차단막을 형성하도록, 상기 삽입구(40) 둘레 전체에 형성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명인 노즐 장치(1)에서는 질소가스가 분사되어 상기 삽입구(40) 밖으로식각액이 흐르는 것을 방지하므로 공정 진행 중 주변 환경이 오염되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
본 실시예에서는 제조를 용이하게 하기 위해, 상기 제 2 분사구(36)는 상기 제 1커버(12)와 상기 제 2 커버(22)에 의해서 제공되도록 하였으나, 상기 제 2 분사구(36)는 상기 상부 몸체(10)와 상기 하부 몸체(20)에 홀이 형성되도록 하여 제공될 수 있다.
도 3을 참조하여, 상기 노즐 장치(1)에 의해서 상기 웨이퍼(2)의 가장자리가 식각되는 과정을 설명한다. 식각하고자 하는 상기 웨이퍼(2) 가장자리의 폭에 따라 상기 웨이퍼(2)의 가장자리의 일정폭이 상기 노즐 장치(1)의 상기 삽입구(40)로 삽입된다. 이 과정은 상기 노즐 장치(1)가 별도의 이동장치(도시되지 않음)에 의해 상기 웨이퍼(2)로 이동되는 것이 바람직하다. 다음에 상기 흡입구(34)의 압력을 낮추어, 상기 흡입구(34)로 상기 삽입구(40) 주변의 공기를 강제 흡입한다. 상기 식각액은 상기 약액공급부(도시되지 않음)로부터, 상기 브라켓(60)의 상기 제 2 포트(64), 상기 하부 몸체(20)의 상기 제 2 통로(54), 그리고 상기 제 1 분사구(32)를 통해 상기 삽입구(40)에 삽입된 상기 웨이퍼(2)의 뒷면 가장자리로 분사된다. 상기 식각액은 도 3에서 도시된 바와 같이 상기 웨이퍼(2)의 뒷면 가장자리, 상기 웨이퍼(2)의 측면, 그리고 상기 웨이퍼(2)의 앞면 가장자리를 식각한 후 상기 흡입구(34)로 강제 흡입된다. 상기 식각액은 상기 상부 몸체(10)의 상기 제 1 통로(52)와 상기 제 1 포트(62)를 통해 외부로 배기된다. 상기 제 1 분사구(32)를 통해 식각액이 분사되는 것과 동시에 질소가스가 상기 제 2분사구(36)를 통해 분사된다.
도 4a와 도 4b를 참고하여 상기 제 1 분사구(32)를 통해 분사된 상기 식각액이 상기 웨이퍼(1)의 가장자리 방향으로 분사되도록 하는 변형된 실시예와 식각을 종료한 상기 식각액이 상기 흡입구(34)로 강제흡입이 잘 이루어지도록 하는 변형된 실시예를 설명한다.
도 4a는 상기 제 1 분사구(32) 주변에 유로가이드(38)가 형성되어 있는 노즐 장치(1)를 보여준다. 상기 유로가이드(38)는 상기 제 1 분사구(32)에서 분사된 상기 식각액의 흐름을 상기 삽입구(40)의 측면(46)쪽으로 유도하기 위한 것이다. 도 4b는 상기 흡입구가(34)가 상기 삽입구(40)의 상기 측면(36) 방향으로 경사진 노즐 장치(1)를 보여준다. 이러한 구조도 상기 제 1 분사구(32)에서 분사된 상기 식각액의 흐름을 상기 삽입구(40)의 측면쪽으로 유도하여 상기 식각액이 상기 웨이퍼(2)의 가장자리를 향해 흐르도록 하기 위한 것이다.
도 5와 도 6은 본 발명인 노즐 장치(1)의 다른 실시예를 보여주는 도면이다. 도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 노즐 장치(1)의 단면을 보여준다. 이러한 특징은 제 1 실시예에서 상기 웨이퍼(2) 앞면 식각율이 상기 웨이퍼(2) 뒷면 식각율보다 떨어지는 것을 보완하여, 상기 웨이퍼(2) 앞면과 상기 웨이퍼(2) 뒷면의 식각율을 균일하게 하기 위한 것이다.
상기 노즐 장치(1)가 상기 웨이퍼(2)의 가장자리가 삽입되는 삽입구(40)를 가지는 것은 제 1 실시예와 동일하다. 그러나 상기 제 1 분사구(32)는 상기 상부면(42)과 상기 하부면(44)에 각각 형성되고, 상기 흡입구(34)는 상기 측면(46)에 형성되어 있다는 점에 특징이 있다. 따라서 상기 상부몸체(10)와 상기 하부몸체(20)에는 외부의 약액저장부로에서 상기 제 1 분사구(32)로 식각액이 공급되기 위한 상기 제 1 통로(54)를 각각 가지고, 상기 브라켓(60)도 상기 제 1 포트(62)를 양측에 각각 가지게 된다. 또한 상기 흡입구(340)를 통해 강제 흡입된 상기 식각액이 이동되는 상기 제 2 통로(52)를 가지고, 상기 제 2 통로(52)와 연결되는 상기 제 2 포트(64)가 상기 브라켓(60)에 형성된다.
본 실시예에서도 상기 제 1분사구는 0.05kgf/cm2내지 0.5kgf/cm2의 압력을 유지하고, 상기 흡입구는 -0.05kgf/cm2내지 -0.5kgf/cm2의 압력을 유지한다. 또한, 상기 흡입구는 1mm2내지 5mm2의 면적을 가지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 삽입구(40)의 상기 상부면(42)과 상기 삽입구(40)의 상기 하부면(44)에는 상기 식각액이 상기 삽입구(40) 외부로 흐르는 것을 방지하기 위해 질소가스를 분사하는 제 2분사구(34)가 각각 형성된다. 본 실시예에서는 제 2 분사구(34)가 상기 삽입구(40)의 상기 상부면(42)과 상기 삽입구(40)의 상기 하부면(44)에 홀을 형성하여 이루어지도록 도시되었으나, 제 1 실시예와 마찬가지로 상기 제 1 커버와 상기 제 2 커버를 사용하여 이루어질 수 있다.
도 6은 상기 웨이퍼 가장자리를 식각하기 위해 상기 식각액이 이동되는 경로를 보여주는 도면이다.
상기 삽입구(40)의 상기 측면(46)에 형성된 흡입구(34)로 상기 삽입구(40) 주변의 공기가 강제 흡입되도록 상기 흡입구(36)의 압력이 조절된다. 다음에 외부의 약액저장부로부터 식각액은 상기 브라켓(60)의 상기 제 1 포트(62)와 상기 제 2 포트(64)로 공급된다. 상기 식각액은 상기 상부 몸체(10)와 상기 하부 몸체(20)의 상기 제 1 통로(54)를 통해 상기 제 1 분사구(32)에서 각각 상기 웨이퍼(2) 가장자리의 앞면과 뒷면으로 분사된다. 상기 식각액은 이후 상기 웨이퍼(2)의 측면을 식각함과 동시에 상기 삽입구(40) 측면(46)에 형성된 상기 흡입구(34)로 강제 흡입된다. 상기 식각액은 제 2 통로(52)와 상기 제 2 포트(640)를 통해서 외부로 배기된다.
본 발명인 노즐 장치는 웨이퍼의 가장자리가 삽입되는 삽입구를 가지므로, 상기 웨이퍼의 가장자리의 식각폭을 용이하게 조절할 수 있다.
또한, 노즐 장치는 식각하고자 하는 웨이퍼의 가장자리에만 직접 식각액을 분사하므로 적은 양의 식각액으로 공정을 진행할 수 있다.
또한, 노즐 장치는 노즐 장치 밖으로 식각액이 흐르는 것을 방지하므로, 식각을 요하지 않는 부분(즉, 패턴이 형성된 부분)을 보호용 액이나 마스크로 보호할 필요가 없어 작업시간을 줄일 수 있고, 공정 진행 중 주변 환경이 오염되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 노즐 장치는 웨이퍼의 앞면과 뒷면의 가장자리를 동시에 균일하게 식각할 수 있다.

Claims (13)

  1. 반도체 제조에 사용되는 기판의 가장자리에 유체를 분사하는 노즐 장치에 있어서,
    유체를 분사하는 제 1분사구가 형성된 제 1면, 상기 제 1면과 대향되도록 배치되며 흡입구가 형성된 제 2면, 그리고 상기 제 1 면과 상기 제 2면에 연결된 제 3면에 의해 제공되며 기판의 가장자리가 삽입되는 삽입구가 형성된 몸체와;
    상기 제 1분사구를 통해 분사된 유체가 상기 삽입구 외부로 흐르는 것을 방지하기 위한 차단수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 차단수단은 상기 제 1면과 상기 제 2면의 끝단부에 형성되어 상기 삽입구의 외곽에 차단막을 형성하는 가스를 분사하는 제 2분사구를 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 제 1면에는 상기 제 1분사구에서 분사된 상기 유체가 상기 삽입구의 안쪽으로 흐르도록 유도하는 유로가이드가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 흡입구는 상기 기판에 분사된 유체의 강제흡입이 잘 이루어질 수 있도록 상기 삽입구의 안쪽을 향해 경사지도록 형성된 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  5. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 제 1면은 상기 삽입구의 상부면이고, 상기 제 2면은 상기 삽입구의 하부면인 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  6. 반도체 제조에 사용되는 기판의 가장자리에 유체를 분사하는 노즐 장치에 있어서,
    서로 대향되도록 배치되며 유체를 분사하는 제 1분사구가 각각 형성된 제 1면과 제 2면, 그리고 상기 제 1면과 상기 제 2면을 연결하며 제 1분사구로부터 분사된 유체를 흡입하는 흡입구가 형성된 제 3면에 의해 제공되며 기판의 가장자리를 삽입하는 삽입구가 형성된 몸체와;
    상기 제 1분사구를 통해 분사된 유체가 상기 삽입구 외부로 흐르는 것을 방지하기 위한 차단수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 차단수단은 상기 제 1면과 상기 제 2면의 끝단부에 형성되어 상기 삽입구의 외곽에 차단막을 형성하는 가스를 분사하는 제 2분사구를 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  8. 삭제
  9. 제 2항 또는 제 7항에 있어서,
    상기 노즐 장치는,
    상부 몸체와,
    상기 상부 몸체와의 사이에 상기 삽입구가 형성되도록 상기 상부 몸체에 결합되는 하부 몸체와;
    상기 상부 몸체의 전방에 일정거리 이격되어 결합되어 상기 상부 몸체와의 사이에 상기 제 2분사구를 제공하는 제 1커버와;
    상기 하부 몸체의 전방에 일정거리 이격되어 결합되어 상기 하부 몸체와의 사이에 상기 제 2분사구를 제공하는 제 2커버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  10. 삭제
  11. 제 1항 또는 제 6항에 있어서,
    상기 유체는 식각액인 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  12. 제 2항 또는 제 7항에 있어서,
    상기 제 1분사구의 분사 압력은 0.05kgf/cm2내지 0.5kgf/cm2이고, 상기 흡입구의 흡입 압력은 -0.05kgf/cm2내지 -0.5kgf/cm2인 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
  13. 제 2항 또는 제 7항에 있어서,
    상기 흡입구의 면적은 1mm2내지 5mm2인 것을 특징으로 하는 노즐 장치.
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