KR101090350B1 - 퓸 제거장치 및 이를 이용한 반도체 제조장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 도 1에 도시된 퓸 제거 장치의 상부 몸체 측을 나타내는 분해 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 상부 몸체 측을 나타내는 분해 사시도.
도 4는 도 2에 도시된 상부 몸체 측을 나타내는 배면 분해 사시도.
도 5는 본 발명에 따른 퓸 제거 장치가 구비된 반도체 제조 장치를 나타내는 평면도.
도 6은 본 발명의 퓸 제거 장치를 나타내는 측면도.
도 7 및 도 8은 본 발명의 퓸 제거 장치를 나타내는 개략도.
도 9는 본 발명에 따른 퓸의 흡기 상태를 나타내는 시뮬레이터.
102 : 하부 몸체 103 : 입구측
104 : 하우징 120 : 적재대
130 : 에어커튼 140 : 흡기부재
150 : 배기부재
Claims (16)
- 상하로 분리되는 몸체;
상기 몸체 상측에 구비되어 웨이퍼를 수납하는 적재대;
상기 몸체 상측에 구비되어 적재대에 진입하는 웨이퍼를 샤워하는 에어커튼;
상기 적재대에 적재된 웨이퍼로부터 퓸을 흡기하는 흡기부재;
흡기된 퓸을 배기하는 배기부재;로 이루어지고,
상기 흡기부재는 상기 몸체 상부 후면에 배치되며, 다수개 흡기공기 형성된 플레이트인 것을 특징으로 하는 퓸 제거장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 에어커튼은 상측관과 측면관으로 이루어지며,
상기 상측관과 측면관에는 관을 따라 등간격 배치되는 노즐이 구비되는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치.
- 제 2 항에 있어서,
상기 노즐은 웨이퍼의 진행 방향으로 분사되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 흡기공은 하측에서 상측으로 갈수록 개구된 면적이 점차 증가되도록 하는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치.
- 제 1 항에 있어서,
상기 배기부재는 흡기부재와 연결관에 의해 연결되는 배기관과 상기 배기관 단부에 배치되어 배기 속도를 조절하게 하는 밴트리로 이루어지는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 배기관은 투명소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 배기부재에는 배기되는 퓸을 수용하는 배기호퍼;를 더 구비하게 하는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치.
- 공정을 위한 웨이퍼를 대기시키는 로드락 챔버;
상기 로드락 챔버 일측에 구비되어 로드락 챔버로부터 웨이퍼를 전달받아 공정 챔버로 반입 반출하는 반송 챔버;
상기 반송 챔버로부터 전달받은 웨이퍼에 소정의 공정을 소행하는 공정 챔버; 및
상기 로드락 챔버 측에 구비되어 공정 후의 웨이퍼로부터 퓸을 제거하는 퓸 제거 장치;로 이루어지며,
상기 퓸 제거 장치는 상하로 분리되는 몸체;
상기 몸체 상측에 구비되어 웨이퍼를 수납하는 적재대;
상기 몸체 상측에 구비되어 적재대에 진입하는 웨이퍼를 샤워하는 에어커튼;
상기 적재대에 적재된 웨이퍼로부터 퓸을 흡기하는 흡기부재;
흡기된 퓸을 배기하는 배기부재;로 이루어지고,
상기 흡기부재는 상기 몸체 상부 후면에 배치되며, 다수개 흡기공이 형성된 플레이트인 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치가 구비된 반도체 제조 장치.
- 제 9 항에 있어서,
상기 에어커튼은 상측관과 측면관으로 이루어지며,
상기 상측관과 측면관에는 관을 따라 등간격 배치되는 노즐이 구비되는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치가 구비된 반도체 제조 장치.
- 제 10 항에 있어서,
상기 노즐은 웨이퍼의 진행 방향으로 분사되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치가 구비된 반도체 제조 장치.
- 삭제
- 제 9 항에 있어서,
상기 흡기공은 하측에서 상측으로 갈수록 개구된 면적이 점차 증가되도록 하는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치가 구비된 반도체 제조 장치.
- 제 9 항에 있어서,
상기 배기부재는 흡기부재와 연결관에 의해 연결되는 배기관과 상기 배기관 단부에 배치되어 배기 속도를 조절하게 하는 밴트리로 이루어지는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치가 구비된 반도체 제조 장치.
- 제 14 항에 있어서,
상기 배기관은 투명소재로 이루어진 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치가 구비된 반도체 제조 장치.
- 제 14 항에 있어서,
상기 배기부재에는 배기되는 퓸을 수용하는 배기호퍼;를 더 구비하게 하는 것을 특징으로 하는 퓸 제거 장치가 구비된 반도체 제조 장치.
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