KR100558926B1 - 반도체 소자 제조 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (7)
- 반도체 기판의 가장자리에 소정의 약액을 분사하여 공정을 진행하는 장치에 있어서,반도체 기판이 놓여지는, 그리고 상기 반도체 기판의 저면을 지지하는 지지핀들이 설치된 척과;상기 척 상에 설치된 몸체와 상기 몸체의 상부면 일측 가장자리로부터 상부로 연장되며 공정 진행 중 상기 척에 놓여진 반도체 기판의 측면을 지지하는 그립부를 가지는, 그리고 상기 몸체의 회전에 의해 상기 척 상에 놓여진 상기 반도체 기판을 정위치시키는 복수의 회전핀들과;상기 척을 회전시키는 척 구동부와; 그리고상기 척 상에 놓여진 상기 반도체 기판의 상부면 가장자리에 소정의 약액을 분사하는 노즐을 포함하되,상기 복수의 회전핀들에 의해 정위치된 상기 반도체 기판과 대향되는 상기 그립부의 일측은 공정진행 중 이에 부딪히는 기류를 상기 반도체 기판의 외측으로 유도할 수 있는 곡률반경을 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 몸체는 원통형의 형상을 가지고,상기 그립부의 일측은 상기 몸체의 외주면과 동일한 곡률반경을 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 그립부는 유선형으로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 반도체 기판은 상기 그립부의 일측 하단부와 접촉되고,상기 그립부는 상기 노즐로부터 상기 그립부의 일측으로 분사되어 상기 반도체 기판을 향해 튀겨지는 약액이 상기 반도체 기판의 비식각부인 중심부에 도달되는 것을 방지할 수 있는 높이로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 장치는 상기 척 내에 형성되는, 그리고 상기 척과 상기 반도체 기판의 하부면 사이의 공간으로 약액을 분사하는 약액공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장치.
- 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 장치는 상기 척 상부에 배치되며, 공정진행 중 상기 반도체 기판 가장자리로 분사된 약액이 상기 반도체 기판의 중앙부로 유입되는 것을 방지하는 보호 커버와;상기 보호커버를 상하로 구동하는 구동부를 더 포함하고,상기 노즐은 상기 지지핀들에 의해 지지된 상기 반도체 기판의 바깥쪽을 향하는 방향으로 경사지도록 상기 보호커버에 장착되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 장치는 반도체 기판의 가장자리를 식각하는 장치인 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 장치.
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KR1020030083667A KR100558926B1 (ko) | 2003-11-24 | 2003-11-24 | 반도체 소자 제조 장치 |
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KR100837626B1 (ko) * | 2006-09-12 | 2008-06-12 | 세메스 주식회사 | 스핀헤드 및 이를 이용한 기판처리방법 |
KR102292336B1 (ko) | 2019-09-27 | 2021-08-24 | 무진전자 주식회사 | 웨이퍼를 안정적으로 그립하는 스핀척 장치 |
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- 2003-11-24 KR KR1020030083667A patent/KR100558926B1/ko active IP Right Grant
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