KR100446049B1 - 적외선 흡수필터 - Google Patents
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Abstract
파장 800~1100㎚의 근적외선 영역의 투과율이 30% 이하이고, 파장 450~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내이며, 또한 파장 550㎚에서의 투과율이 50% 이상인 적외선 흡수필터로서, 온도 60℃, 습도 90%의 공기분위기 하에서 1000시간 방치한 후에도 상기 범위의 분광특성을 유지할 수 있는 환경안정성이 우수한 적외선 흡수필터이다. 그 때문에, 상기와 같은 고온고습하에서도, 플라즈마디스플레이 등에 사용한 경우, 디스플레이로부터 방사되는 불필요한 적외선을 흡수할 수 있기 때문에 적외선을 사용한 리모콘의 오작동을 막는다. 또한, 색조가 회색이기 때문에, 디스플레이 앞면에 상기 적외선 흡수필터를 두어도, 디스플레이가 발하는 색조를 변함 없이 표현할 수 있다.
Description
본 발명은 광학필터에 관한 것으로, 가시광선영역에 투과율이 높아, 적외선을 차단하는 광학필터로, 특히 디스플레이 용도로 사용되는 필터이다.
종래, 열선 흡수필터나 비디오카메라 시감도 보정용 필터 등에는 다음에 나타내어지는 바와 같은 것이 널리 사용되어 왔다.
(1) 인산계 유리에, 구리나 철 등의 금속이온을 함유한 필터(특개소60-235740, 특개소62-153144 등)
(2) 기판상에 굴절률이 다른 층을 적층하고, 투과광을 간섭시킴으로써 특정 파장을 투과시키는 간섭필터(특개소55-21091, 특개소59-184745 등)
(3) 공중합체에 구리이온을 함유하는 아크릴계 수지필터(특개평6-324213)
(4) 바인더 수지에 색소를 분산한 구성의 필터(특개소57-21458, 특개소57-198413, 특개소60-43605 등)
상기의 종래 사용되어 온 적외선 흡수필터에는, 각각 이하에 나타내는 바와 같은 문제점이 있다.
상술 (1)의 방식에서는 적외영역에 급격한 흡수가 있어, 적외선 차단율은 매우 양호하지만, 가시영역의 적색의 일부도 크게 흡수하여, 투과색은 청색으로 보인다. 디스플레이용도에서는 색의 균형이 중시되어, 이러한 경우 사용하기 곤란하다. 또한, 유리이기 때문에 가공성에도 문제가 있다.
상술 (2)의 방식의 경우, 광학특성은 자유롭게 설계할 수 있어, 거의 설계와 동등한 필터를 제조하는 것이 가능하지만, 그를 위해서는, 굴절률차가 있는 층의 적층매수가 매우 많아져, 제조비용이 비싸지는 결점이 있다. 또한, 큰 면적을 필요로 하는 경우, 전체면적에 걸쳐 높은 정도(精度)의 막두께 균일성이 요구되어, 제조가 곤란하다.
상기 (3)의 방식의 경우, (1)의 방식의 가공성은 개선된다. 그러나 (1)의 방식과 마찬가지로 가파른 흡수특성이 있지만, 적색부분에도 흡수가 있어 필터가 청색으로 보이는 문제점은 여전히 변하지 않는다.
상기 (4)의 방식은, 적외선 흡수색소로서 프탈로시아닌계, 니켈착체계, 아조화합물, 폴리메틴계, 디페닐메탄계, 트리페닐메탄계, 퀴논계 등 많은 색소가 사용되고 있다. 그러나, 각각 단독으로는 흡수가 불충분하거나, 가시영역에서 특정 파장의 흡수가 있는 등의 문제점을 가지고 있다. 또한, 동일 필터를 고온하나 고습하에 장시간 방치하면, 색소의 분해나 산화가 일어나 가시영역에서의 흡수가 발생하거나, 적외선영역에서의 흡수가 없어져 버리는 등의 문제가 있다.
본 발명의 목적은, 근적외선영역에 흡수가 있어, 가시영역의 광투과성이 높고, 또한 가시영역에 특정 파장의 커다란 흡수를 가지지 않으며, 더욱이 환경안정성이 우수하고, 또한 가공성 및 생산성이 양호한 적외선 흡수필터를 제공하는 것에 있다.
도1은 실시예 1에서 얻은 적외선 필터의 분광특성이다.
도2는 실시예 1에서 얻은 적외선 필터를 온도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치한 후의 분광특성이다.
도3은 실시예 1에서 얻은 적외서 필터를 온도 80℃의 분위기하에서 1000시간 방치한 후의 분광특성이다.
도4는 비교예 1에서 얻은 적외선 필터의 분광특성이다.
도5는 비교예 1에서 얻은 적외선 필터를 온도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치한 후의 분광특성이다.
도6은 비교예 1에서 얻은 적외선 필터를 온도 80℃의 분위기하에서 1000시간 방치한 후의 분광특성이다.
도7은 비교예 2에서 얻은 적외선 필터를 온도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치한 후의 분광특성이다.
도8은 비교예 2에서 얻은 적외선 필터를 온도 80℃의 분위기하에서 1000시간 방치한 후의 분광특성이다.
도9는 실시예 2에서 얻은 적외선 필터의 분광특성이다.
도10은 실시예 2에서 얻은 적외선 필터를 온도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치한 후의 분광특성이다.
도11은 비교예 3에서 얻은 적외선 필터의 분광특성이다.
도12는 비교예 3에서 얻은 적외선 필터를 온도 60℃, 온도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치한 후의 분광특성이다.
도13은 실시예 3에서 얻은 적외선 필터의 분광특성이다.
도14는 실시예 4에서 얻은 적외선 필터의 분광특성이다.
본 발명은 상기와 같은 상황에 비추어 이루어진 것으로서, 상기의 과제를 해결할 수 있었던 적외선 흡수필터란, 이하와 같다.
즉, 본 발명의 제1발명은, 파장 800~1100㎚의 근적외선영역의 투과율이 30% 이하이고, 파장 450~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내이며, 또한 파장 550㎚에서의 투과율이 50% 이상인 적외선 흡수필터로서, 온도 60℃, 습도 95%의 공기분위기하에서 1000시간 방치한 후의, 파장 800~1100㎚의 근적외선영역의 투과율이 30% 이하이고, 또한 파장 450~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제2발명은, 제1발명에 있어서, 온도 80℃의 공기분위기하에서 1000시간 방치한 후의 파장 800~1100㎚의 근적외선영역의 투과율이 30% 이하이고, 또한 파장 450~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제3발명은, 제1발명에 있어서, 상기 적외선 흡수필터가 적외선을 흡수하는색소 또는 염안료와 분산매인 중합체로 구성된 적외선 흡수층을 투명기재상에 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제4발명은, 제3발명에 있어서, 상기 적외선 흡수층 중의 잔류용제량이 5.0중량% 이하인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제5발명은, 제3발명에 있어서, 상기 투명기재의 전체 광선투과율이 89% 이상이고, 또한 헤이즈가 1.6% 이하이며, 또한 정마찰계수 및 동마찰계수가 0.6 이하인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제6발명은, 제3발명에 있어서, 상기 투명기재가 폴리에스테르필름인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제7발명은, 제3발명에 있어서, 상기 적외선 흡수층을 구성하는 중합체의 유리전이온도가, 80℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제8발명은, 제7발명에 있어서, 상기 적외선 흡수층을 구성하는 중합체가, 폴리에스테르 수지인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제9발명은, 제3발명에 있어서, 상기 적외선 흡수필터의 적외선 흡수층과 동일면, 내지는 반대면에 개구율이 50% 이상인 금속메쉬 도전층을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제10발명은, 제3발명에 있어서, 상기 적외선 흡수필터의 적외선 흡수층과 동일면, 내지는 반대면에 투명도전층을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제11발명은, 제10발명에 있어서, 상기 투명도전층이 금속산화물인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제12발명은, 제10발명에 있어서, 상기 투명도전층이 금속산화물/금속/금속산화물의 3층 이상의 반복구조인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제13발명은, 제12발명에 있어서, 상기 투명도전층의 금속층이 은 또는 금 및 그들을 포함하는 화합물인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제14발명은, 제1발명에 있어서, 상기 적외선 필터의 가장 바깥층에 하드코팅처리층을 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제15발명은, 제1발명에 있어서, 상기 적외선 필터의 가장 바깥층에 반사방지층을 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제16발명은, 제1발명에 있어서, 상기 적외선 필터의 가장 바깥층에 방현처리층을 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
제17발명은, 제1발명에 있어서, 플라즈마디스플레이의 앞면에 설치되는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터이다.
본 발명의 적외선 흡수필터는, 파장 800~1100㎚의 근적외선영역의 투과율이 30% 이하인 것이 필요하다. 이 영역의 투과율이 낮음으로써, 플라즈마디스플레이 등에 사용한 경우, 디스플레이로부터 방사되는 불필요한 적외선을 흡수하여, 적외선을 사용한 리모콘의 오작동을 막을 수 있다.
또한, 본 발명의 적외선 흡수필터는, 파장 450㎚~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내인 것이 필요하다. 파장 450㎚~650㎚의 투과율의 차가 이 범위에 있으면, 색조가 회색으로 되고, 디스플레이 앞면에 둔 경우, 디스플레이가 발하는 색조를 변함 없이 표현할 수 있다.
또한, 본 발명의 적외선 흡수필터는, 파장 550㎚에서의 투과율이 50% 이상인 것이 필요하다. 그 파장역에서의 투과율이 50% 이하이면, 디스플레이 앞면에 설치된 경우, 매우 어두운 디스플레이가 되어 버린다.
상기 적외선 흡수필터를, 온도 60℃, 습도 95%의 공기분위기하에서 1000시간 방치한 후의, 파장 800㎚~1100㎚의 근적외선영역의 투과율이 30% 이하이고, 또한 파장 450㎚~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내인 것도 필요하다.
또한, 상기 적외선 흡수필터를, 80℃의 공기분위기하에서 1000시간 방치한 후의, 파장 800㎚~1100㎚의 근적외선영역의 투과율이 30% 이하이고, 또한 파장 450㎚~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내인 것인 바람직하다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 상술한다.
본 발명에서는 적외선 흡수색소를 중합체 중에 분산하고, 이것을 투명한 기판상에 더 고팅한 구조가 바람직하다. 이러한 구성으로 함으로써 제작이 간단해져, 소롯의 생산에도 대응 가능해진다.
또한, 화학식(1)으로 나타내어지는 디이모늄염화합물을 포함하는 근적외선 흡수색소를 바인더 수지에 분산한 조성물을 기재상으로 적층하여 형성되는 근적외선 흡수필터에 있어서, 그 적층물 중의 잔류용제량이 5.0중량% 이하인 것이 바람직하다.
(식중, R1~R8은 서로 상이한 수소, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, X는 sbF6, ClO4, PF6, NO3또는 할로겐원자를 나타낸다.)
코팅층 중의 잔류용제량이 5.0중량% 이하가 아니면, 고온, 고습하에 장시간 방치한 경우, 디이모늄염화합물이 화학변화하여, 근적외영역의 흡수가 감소되어, 근적외선의 차단이 불충분해진다. 또한, 가시영역의 흡수가 커져, 필터 전체가 황녹색을 강하게 띠게 된다.
코팅층 중의 잔류용제량을 5.0중량% 이하로 하기 위해서는, 하기식(2)~(4)의 건조조건을 동시에 만족시키는 것이 필요하다. 하기식(2)에서 사용한 인자의 단위는, 풍속이 m/sec, 열풍온도가 ℃, 건조시간이 분, 코팅두께가 ㎛이다.
풍속×(열풍온도-20)×건조시간/코팅두께>48…(2)
열풍온도:≥80℃…(3)
건조시간:≤60분…(4)
본 발명에 사용하는 바인더 수지는, 본 발명에서 사용하는 근적외선 흡수색소를 균일하게 분산할 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않지만, 폴리에스테르계, 아크릴계, 폴리아미드계, 폴리우레탄계, 폴리올레핀계, 폴리카보네이트계 수지가 바람직하다. 또한, 본 발명에서의 색소를 분산하는 바인더 수지는, 그 유리전이온도가, 본 발명의 필터를 사용하는 상정보증온도 이상의 온도인 것이 바람직하다. 이것에 의해, 색소의 안정성이 향상된다. 상기 필터를 사용하는 상정보증온도는 80℃ 이상이 바람직하고, 85℃ 이상이 특히 바람직하다.
본 발명에서 코팅시의 코팅액으로 사용하는 용제는, 본 발명에서 사용하는 근적외 흡수색소와 바인더를 균일하게 분산할 수 있는 것이라면 뭐든지 좋다. 예를 들면, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 초산에틸, 초산프로필, 메탄올, 에탄올, 이소프로필, 알코올, 에틸셀로솔브, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 테트라히드로푸란, n-헥산, n-헵탄, 염화메틸렌, 클로로포름, N,N-디메틸포름아미드, 물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정시키는 것은 아니다.
본 발명에 사용하는 적외선 흡수색소는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 일례를 들자면, 이하와 같은 것을 들 수 있다.
근적외선 흡수색소로서, 상기 화학식(1)으로 나타내어지는 디이모늄염화합물 이외에, 함불소프탈로시아닌계 화합물, 디티올금속착체계 화합물의 양쪽, 또는 어느 한쪽을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 적어도 디이모늄염화합물, 함불소프탈로시아닌계 화합물 및, 니켈착체 중 어느 것이든 2종류를 함유하는 것이 바람직하다. 그 색소배합비는, 디이모늄염화합물을 1중량부당, 함불소프탈로시아닌계 화합물인 경우 0.5~0.01중량부, 니켈착체계 화합물인 경우 1~0중량부의 범위가 바람직하다.
상기 화학식(1)으로 나타내어지는 디이모늄염화합물로서는, 예를 들면, N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-부틸아미노페닐)-p-벤조퀴논-디이모늄·디테트라플루오르안티모네이트, N,N,N',N'-테트라키스(p-디에틸아미노페닐)-p-벤조퀴논-디이모늄·디테트라플루오르안티모네이트, N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-부틸아미노페닐) -p-벤조퀴논-디이모늄·디퍼클로레이트, N,N,N',N'-테트라키스(p-디에틸아미노페닐)-p-벤조퀴논-디이모늄·디퍼클로레이트, N,N,N',N'-테트라키스(p-디이소프로필아미노페닐)-p-벤조퀴논-디이모늄·디테트라플루오르포스페이트, N,N,N',N'-테트레키스(p-n-프로필아미노페닐)-p-벤조퀴논-디이모늄·디니트레이트 등을 들 수 있지만, 이들의 화합물에 한정되는 것은 아니다. 이들의 일부는 시판품으로서 입수가능하여, 일본화약사제 Kayasorb IRG-022, IRG-023 등을 바람직하게 사용할 수 있다.
함불소프탈로시아닌계 화합물로서는 일본촉매사제 Excolor IR1, IR2, IR3, IR4, 디티올금속착체계 화합물로서는 미쯔이화학사제 SIR-128, SIR-130, SIR-132, SIR-159 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명 적외선 흡수필터에서는 내광성을 향상시킬 목적으로, UV 흡수제를 첨가한 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에서는 내후성, 내용제성을 부여하기 위해, 적외선 흡수색소를 분산하는 중합체를, 가교제를 사용하여 가교해도 좋다.
또한, 본 발명의 적외선 흡수필터에 사용하는 투명기재 필름은, 특별히 한정은 없지만, 폴리에스테르계, 아크릴계, 셀룰로오스계, 폴리에틸렌계, 폴리프로필렌계, 폴리올레핀계, 폴리염화비닐계, 폴리카보네이트, 페놀게, 우레탄계 수지 등으로 된 연신필름을 들 수 있지만, 분산안정성, 환경부하 등의 관점에서, 폴리에스테르필름이 바람직하다.
투명 고분자필름의 적어도 한쪽면에 적외선 흡수층을 형성하여 된 적외선 흡수필터에 있어서, 그 투명 고분자필름은 전체 광선투과율이 89% 이상이고, 또한 헤이즈가 1.6 이상이며, 또한 정마찰계수 및 동마찰계수가 0.6 이하인 것이 바람직하다.
본 발명은 디스플레이용도로 사용되는 경우가 많기 때문에, 전체 광선투과율이 높은 것이 바람직하다. 또한, 헤이즈도 작은 것이 좋다. 그러나, 필름의 전체 광선투과율을 높게, 헤이즈를 낮게 하기 위해서, 표면요철을 부여하는 불활성 입자를 적게하면, 일반적으로 마찰계수가 높아져 미끄럼짐성이 악화되어, 권취 등의 작업이 하기 어려워진다. 본 발명의 전체 광선투과율, 및 헤이즈 및 마찰계수의 범위에서라면, 권취성과 전체 광선투과율을 양립하는 것이 가능하다.
전체 광선투과율, 및 헤이즈 및 마찰계수를 상기 범위로 하기 위해서는, 기재 고분자필름 중에 불활성 입자를 함유시키지 않고, 기재 고분자필름상에 두께가 30~300㎚인 코팅층을 설치하고, 그 코팅층에 가시광선의 파장 이하의 평균입경이 작은 불활성 입자를 함유시키는 것이 바람직하다.
이러한 불활성 입자예로서는, 탄산칼슘, 인산칼슘, 실리카, 고령토, 탈크, 이산화티탄, 알루미나, 황산바륨, 플루오르화칼슘, 플루오르화리튬, 제오라이트, 황화몰리브덴 등의 무기입자, 가교고분자입자, 주석산칼슘 등의 유기입자를 들 수있다. 그 중에서도 실리카입자는 폴리에스테르 수지와 굴절률이 비교적 가깝고, 고투명 필름을 얻기 쉽기 때문에 가장 바람직하다.
상기 코팅층에 함유시키는 불활성 입자의 평균입경은, 0.01~1.0㎛가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.02~0.5㎛, 특히 바람직하게는 0.03~0.3㎛이다. 평균입경이 1.0㎛를 초과하면, 필름의 투명성이 저하되는 경향이 있다. 한편, 평균입경이 0.01㎛ 미만이면, 필름의 핸들링성(미끄러짐성, 권성, 블로킹방지 등)이 악화되는 경향이 있다. 또한, 상기 코팅층 중에 포함되는 입자함유량은, 이접착층의 고형분량에 대해 0.1~60중량%, 바람직하게는 0.5~50중량%, 더욱 바람직하게는 1.0~40중량%가 되도록 첨가한다. 코팅층 중의 입자함유량이 60중량%를 초과하면, 필름의 이접착성이 손상되거나, 투명성도 악화되기 쉬워진다. 한편, 코팅층 중의 입자합유량이 0.1중량% 미만에서는, 필름의 핸들링성(미끄러짐성, 권성, 블로킹방지 등)이 악화되기 쉬워진다.
또한, 본 발명에서는 그 적외선 흡수층과 동일면, 내지는 반대면에 투명도전층 또는 개구율이 50% 이상인 금속메쉬 도전층을 가지고 있는 것이 바람직하다. 이것에 의해 디스플레이로부터 방출되는 유해한 전자파를 제거하는 것이 가능해진다.
본 발명에 사용되는 금속메쉬로서는, 전기전도성이 높은 금속박을 에칭처리하여, 메쉬상으로 한 것이나, 금속섬유를 사용한 직물상의 메쉬, 고분자섬유의 표면에 금속을 도금 등의 수법을 사용하여 부착시킨 섬유를 사용해도 좋다. 그 전자파 흡수층에 사용되는 금속은, 전기전도성이 높고, 안정성이 좋으면 어떠한 금속이더라도 좋고 특별히 한정되는 것은 아니지만, 가공성, 비용 등의 관점에서, 바람직하게는 구리, 니켈, 텅스텐 등이 좋다.
또한, 본 발명에 사용되는 투명도전층은 어떠한 도전막이더라도 좋지만, 바람직하게는 금속산화물인 것이 바람직하다. 이것에 의해, 보다 높은 가시광선 투과율을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서 투명도전층의 도전율을 향상시키고 싶은 경우는, 금속산화물/금속/금속산화물의 3층 이상의 반복구조인 것이 바람직하다. 금속을 다층화함으로써, 높은 가시광선 투과율을 유지하면서, 전도성을 얻을 수 있다.
본 발명에 사용되는 금속산화물은, 전도성과 가시광선 투과성을 가지고 있으면 어떠한 금속산화물이더라도 좋다. 일례로서, 산화주석, 인듐산화물, 인듐주석산화물, 산화아연, 산화티탄, 산화비스마스 등이 있다. 이상은 일례로서, 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에 사용되는 금속층은, 도전성의 관점에서, 금, 은 및 그들을 포함하는 화합물이 바람직하다.
또한, 본 발명의 도전층을 다층으로 한 경우, 예를 들면 금속산화물/금속/금속산화물의 3층구조의 도전층인 경우, 은층의 두께는 50~200Å가 바람직하고, 특히 바람직하게는 50~100Å이다. 은층의 두께가 200Å를 초과하면 광선투과율이 저하되고, 은층의 두께가 50Å 미만에서는 저항값이 올라가 버린다. 또한, 금속산화물층의 두께로서는, 바람직하게는 100~1000Å가 바람직하고, 특히 바람직하게는 100~500Å이다. 금속산화물층의 두께가 1000Å를 초과하면 착색에 의해 색조가 변해 버리고, 금속산화물층의 두께가 100Å 미만에서는 저항값이 올라가 버린다. 또한, 3층 이상으로 다층화한 경우, 예를 들면, 금속산화물/은/금속산화물/은/금속산화물과 같이 5층구조로 한 경우, 중심의 금속산화물의 두께는, 그 이외의 금속산화물층의 두께보다도 두꺼운 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 다층막 전체의 광선투과율이 향상된다.
또한, 본 발명의 적외선 흡수필터는, 가장 바깥층에 손상방지를 위해 하드코팅처리층(HC)을 설치해도 좋다. 이 하드코팅처리층(HC)으로서는, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 폴리이미드계 수지 등의 경화성 수지를 단체 또는 혼합한 가교성 수지경화물층이 바람직하다.
이 하드코팅처리층(HC)의 두께는, 1~50㎛의 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 2~30㎛의 범위이다. 1㎛ 보다 얇은 경우는, 하드코팅처리의 기능이 충분히 발현되지 않고, 50㎛를 초과하는 두께에서는, 수지코팅의 속도가 현저하게 느려져, 생산성면에서 좋은 결과를 얻기 어렵다.
하드코팅처리층(HC)을 적층하는 방법으로서는, 투명도전성 필름을 설치한 면의 반대쪽 면에, 상기의 수지를 그라비어방식, 리버스방식, 다이방식 등으로 코팅한 후, 열, 적외선, 전자선 등의 에너지를 인가함으로써, 경하시킨다.
또한, 본 발명의 적외선 필터는, 디스플레이 등에 사용한 경우의 시인성 향상을 위해, 가장 바깥층에 방현처리층(AG)을 설치하더라도 좋다.
방현처리층(AG)은 경화성 수지를 코팅, 건조 후에 엠보스롤로 표면에 요철을 형성하고, 형성 후, 열, 자외선, 전자선 등의 에너지를 인감함으로써 경화시킨다. 경화성 수지로서는, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민계 수지, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 폴리이미드계 수지 등의 경화성 수지를 단체 또는 혼합한 것이 바람직하다.
또한, 본 발명 적외선 흡수필터를 디스플레이에 사용했을 때에 가시광선의 투과율을 더욱 향상시키기 위해, 가장 바깥층에 반사방지처리층(AR)을 설치하더라도 좋다. 이 반사방지처리층(AR)에는, 플라스틱필름의 굴절률과는 다른 굴절률을 갖는 재료를 단층 또는 2층 이상으로 적층하는 것이 바람직하다. 단층구조인 경우, 플라스틱필름 보다도 작은 굴절률을 갖는 재료를 사용하는 것이 좋다. 또한, 2층 이상의 다층구조로 하는 경우는, 플라스틱필름에 인접하는 층은, 플라스틱필름 보다도 큰 굴절률을 갖는 재료를 사용하고, 이 윗층에는 이것 보다도 작은 굴절률을 갖는 재료를 선택하는 것이 좋다. 이러한 반사방지처리층(AR)을 구성하는 재료로서는, 유기재료든 무기재료든 상기 굴절률의 관계를 만족하면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, CaF2, MgF2, NaAlF4, SiO2, ThF4, Nd2O3, SnO2, TiO2, CeO2, ZnS, In2O3등의 유전체를 사용하는 것이 바람직하다.
이 반사방지처리층(AR)은, 진공증착법, 스펏터링법, CVD법, 이온도금법 등의 건식코팅법이더라도, 그라비어방식, 리버스방식, 다이방식 등의 습식코팅법이더라도 좋다.
또한, 이 하드코팅처리층(HC), 방현처리층(AG), 반사방지처리층(AR)의 적층에 앞서, 전처리로서, 코로나방전처리, 플라즈마처리, 스펏터링처리, 전자선조사처리, 자외선조사처리, 프라이머(primer)처리, 이접착처리 등의 공지의 처리를 행해도 좋다.
실시예
본 발명을 하기의 실시예에서 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에서 사용한 특성값의 측정방법 빛 효과의 평가방법은 다음과 같다.
(1) 분광특성
자기분광 광도계(히타치 U-3500형)를 사용하여, 파장 1500~200㎚의 범위에서 측정했다.
(2) 환경안정성
1) 내습성
습도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 샘플을 1000시간 방치한 후, 상기 기재의 분광특성을 측정했다.
2) 내열성
80℃의 공기분위기하에서 샘플을 1000시간 방치한 후, 상기 기재의 분광특성을 측정했다.
(3) 코팅층 중의 잔존용제량
시마즈제작소제 GC-9A를 사용하여 잔존용제량의 측정을 다음과 같이 행했다. 시료 약 5㎎을 정확하게 달아, 가스크로마토그래프 주입구에서 150℃에서 5분간 가열트랩한 후, 톨루엔, 테트라히드로푸란(THF), 및 메틸에틸케톤(MEK)의 총량(A:ppm)을 구했다. 단, THF와 MEK는 피크가 겹치기 때문에, 표준피크(톨루엔)와 비교하여, 합계값으로서 톨루엔환산량을 구했다. 또한, 별도로 사방을 각 10㎝로 잘라낸 시료를 단(B:g) 후, 코팅층을 용제로 닦아내고, 닦아내기 전후의 시료의 중량차(C:g)를 구했다. 잔존용제량은 하기식을 이용하여 산출했다.
잔존용제량(%)=A×B×10-4/C
(4) 전체광선 추과율 및 헤이즈
JIS K 7105에 준거하여, 헤이즈 meter(동경전색공업사제 모델 TC-H3DP)를 사용하여 측정했다.
(6) 마찰계수
JIS K 7125에 준거하여, 필름의 정마찰계수(㎲) 및 동마찰계수(μd)를 구했다.
실시예 1
분산매가 되는 베이스폴리에스테르를 이하의 요령으로 제작했다. 온도계, 교반기를 갖춘 오토클레이브 중에,
텔레프탈산디메틸 136중량부,
이소프탈산디메틸 58중량부,
에틸렌글리콜 96중량부,
트리시클로데칸디메탄올 137중량부,
3산화안티몬 0.09중량부
를 넣어 170~220℃에서 180분간 가열하여 에스테르교환반응을 행했다. 이어서 반응계의 온도를 245℃까지 승온시켜, 계의 압력 1~10㎜Hg으로서 180분간 반응을 계속한 결과, 공중합폴리에스테르 수지(Al)를 얻었다. 공중합폴리에스테르 수지(Al)의 고유점도는 0.4㎗/g, 유리전이온도는 90℃였다. 또 NMR분석에 의한 공중합조성비는,
산성분에 대해
테레프탈산 71몰%,
이소프탈산 29몰%,
알코올성분에 대해
에틸렌글리콜 28몰%,
트리시클로데칸디메탄올 72몰%
였다.
다음에 이 수지를 사용하여 표1에 나타내는 바와 같은 조성으로, 적외선 흡수색소와 제작한 수지, 용제를 플라스크에 넣고, 가열하면서 교반하여 색소 및 바인더 수지를 용해했다. 또한 용해한 수지를, 한쪽면이 이활면이고 다른면이 평활면인 두께 100㎛인 고투명성 폴리에스테르 필름기재(동양방적제 코스모샤인 A4100:전체 광선투과율 90.9%, 헤이즈 0.7, 정마찰계수(이활면/평활면:0.58/>1), 동마찰계수(이활면/평활면:0.42/>1)에, 갭이 100㎛인 어플리케이터를 사용하여 코팅하고, 열풍건조기 내에서 풍속 0.4m/s, 온도 90℃에서 1시간 건조시켰다. 이 때의 코팅 두께는 25㎛였다.
얻어진 적외선 흡수필터는, 눈으로 봤을 때의 색깔은 어두운 회색이었다. 또한, 도1에 그 분광특성을 나타낸다. 도1에 나타내는 바와 같이, 파장 400㎚~650㎚까지의 가시영역에 있어서는 흡수가 평평하고, 파장 450㎚~650㎚ 사이에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차는 4.8%, 투과율은 최소 69.4%였다. 또한, 파장 700㎚ 이상에서는 가파르게 흡수가 있는 필터가 얻어지고, 파장 800㎚~1100㎚의 범위에서의 투과율은 최대 23.4%였다.
얻어진 필터를 온도 60℃ , 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바 도2와 같이 되어, 약간의 색변화는 보이지만, 파장 450㎚~650㎚ 사이에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차는 9.8%, 투과율은 최소 65.5%였다. 또한, 파장 800㎚~1100㎚의 범위에서의 투과율은 최대 29.1%로 근적외선 흡수특성을 유지하고 있었다.
또한, 얻어진 필터를 온도 80℃의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바 도3과 같이 되어, 약간의 색변화는 보이지만, 파장 450㎚~650㎚ 사이에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차는 5.8%, 투과율은 최소 67.2%였다. 또한, 파장 800㎚~1100㎚의 범위에서의 투과율은 최대 21.0%로 근적외선 흡수특성을 유지하고 있었다.
또한, 얻어진 필터를 플라즈마디스플레이 등의 앞면에 배치한 바, 색의 변화는 없고, 콘트라스트가 향상되며, 또한 근적외선의 방사도 줄어 있었다.
분류 | 재료 | 배합량 |
근적외선 흡수색소 | 디이모늄염화합물일본화약사제 Kyasorb IRG-022 | 3.2중량부 |
함불소프탈로시아닌계 화합물일본촉매사제 Excolor IR-1 | 0.5중량부 | |
디티올금속착체계 화합물미쯔이화학사제 SIR-159 | 1.6중량부 | |
바인더 수지 | 공중합폴리에스테르 수지(A1) | 440중량부 |
용제 | 메틸에틸케톤 | 490중량부 |
테트라히드로푸란 | 490중량부 | |
톨루엔 | 490중량부 |
비교예 1
베이스중합체로서 동양방적제 바이론 RV200(비중 1.26, 유리전이온도 67℃)을 사용하여 표2에 나타내는 바와 같은 조성으로, 적외선 흡수색소와 바인더 수지, 용제를 플라스크에 넣어, 가열하면서 교반하여, 색소 및 바인더 수지를 용해했다. 다음에 용해한 수지를 두께 100㎛인 고투명성 폴리에스테르 필름기재(동양방적제 코스모샤인 A4100)에, 갭이 100㎛인 어플리케이터를 사용하여 코팅하고, 열풍건조기 내에서 풍속 0.4m/s, 온도 90℃에서 1시간 건조시켰다. 코팅두께는 25㎛였다. 얻어진 적외선 흡수필터는, 눈으로 봤을 때의 색은, 갈색으로 착색되어 있었다. 도4의 분광특성에 나타내어지는 바와 같이, 파장 400㎚~650㎚까지의 가시영역에 있어서, 약 550㎚에 피크를 갖는 산모양의 특성이 되고, 파장 450㎚~650㎚ 사이에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차는 11.5%, 투과율은 최소 71.4%였다. 또한, 파장 700㎚ 이상에 가파른 흡수가 있는 필터가 얻어지고, 파장 800㎚~1100㎚의 범위에서의 투과율은 최대 44.0%인 적외선 흡수필터가 얻어졌다. 또한, 겉모습이 갈색으로 변해 있었다. 또한, 얻어진 필터를 플라즈마디스플레이 등의 앞면에 배치한 바, 색균형이 무너져, 녹색을 띤 색조로 되었다.
얻어진 필터를 온도 60℃ , 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바, 파장 450㎚~650㎚ 사이에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차는 11.5%에서 28.6%로 증가하고, 투과율은 최소 54%로 되었다. 또한, 파장 800㎚~1100㎚의 범위에서의 투과율은 최대 49.0%로 증가했다. 또한, 겉모습이 상당히 녹색으로 변해 있었다. 도5에 그 분광특성을 나타낸다. 또한, 얻어진 필터를 플라즈마디스플레이 등의 앞면에 배치한 바, 색균형이 무너져, 녹색을 띤 색조로 되었다.
또한, 얻어진 필터를 온도 80℃의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바, 파장 450㎚~650㎚ 사이에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차는 11.5%에서 20.3%로 증가하고, 투과율은 최소 61.8%로 되었다. 또한, 파장 800㎚~1100㎚의 범위에서의 투과율은 최대 47.2%로 증가했다. 또한, 겉모습이 상당히 녹색으로 변해 있었다. 도6에 그 분광특성을 나타낸다. 또한, 얻어진 필터를 플라즈마디스플레이 등의 앞면에 배치한 바, 색균형이 무너져, 녹색을 띤 색조로 되었다.
분류 | 재료 | 배합량 |
근적외선흡수색소 | 디이모늄염화합물일본화약사제 Kyasorb IRG-022 | 3.2중량부 |
바인더 수지 | 동양방적사제 바이론 RV200 | 440중량부 |
용제 | 메틸에틸케톤 | 490중량부 |
테트라히드로푸란 | 490중량부 | |
톨루엔 | 490중량부 |
비교예 2
베이스중합체로서 동양방적제 바이론 RV200(비중 1.26, 유리전이온도 67℃)을 사용하여 표3에 나타내는 바와 같은 조성으로, 적외선 흡수색소와 바인더 수지, 용제를 플라스크에 넣고, 가열하면서 교반하여 색소 및 바인더 수지를 용해했다. 다음에 용해한 수지를 두께 100㎛인 고투명성 폴리에스테르 필름기재(동양방적제 코스모샤인 A4100)에, 갭이 100㎛인 어플리케이터를 사용하여 코팅하고, 열풍건조기 내에서 풍속 0.4m/s, 온도 90℃에서 1시간 건조시켰다. 코팅두께는 25㎛였다.
얻어진 적외선 흡수필터는, 눈으로 봤을 때의 색깔은 어두운 회색이었다. 그 분광특성은 실시예 1과 거의 동일했다. 파장 400㎚~650㎚까지의 가시영역에 있어서는 흡수가 평평하고, 파장 700㎚ 이상에서는 가파르게 흡수가 있는 필터가 얻어졌다.
얻어진 필터를 온도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바, 도7과 같이 되어, 파장 450㎚~650㎚ 사이에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 4.8%에서 27.4%로 증가하고, 또한 투과율은 최소 44.0%로 되었다. 또한, 파장 800㎚~1100㎚의 범위에서의 투과율은 최대 47.2%로 증가하고, 또한 겉모습이 갈색으로 변화했다. 또한, 얻어진 필터를 플라즈마디스플레이 등의 앞면에 배치한 바, 색균형이 무너져, 녹색을 띤 색조로 되었다.
또한, 얻어진 필터를 온도 80℃의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바, 도8과 같이 되어, 파장 450㎚~650㎚ 사이에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 4.8%에서 16.6%로 증가하고, 투과율은 최소 56.3%로 되었다. 또한, 파장 800㎚~1100㎚의 범위에서의 투과율은 최대 30.2%로 증가했다. 또한, 겉모습이 녹색으로 변화했다. 또한, 얻어진 필터를 플라즈마디스플레이 등의 앞면에 배치한 바, 녹색으로 착색되어 보였다.
분류 | 재료 | 배합량 |
근적외선흡수색소 | 디이모늄염화합물일본화약사제 Kyasorb IRG-022 | 3.2중량부 |
함불소프탈로시아닌계 화합물일본촉매사제 Excolor IR-1 | 0.5중량부 | |
디티올금속착차계 화합물미쯔이화학사제 SIR-159 | 1.6중량부 | |
바인더 수지 | 동양방적사제 바이론 RV200 | 440중량부 |
용제 | 메틸에틸케톤 | 490중량부 |
테트라히드로푸란 | 490중량부 | |
톨루엔 | 490중량부 |
실시예 2
실시예 1에 기재의 공중합폴리에스테르 수지(Al)를 사용하여, 표1에 나타내는 바와 같은 조성으로, 코팅액을 제작했다. 또한, 제작한 코팅액을 두께 100㎛인 고투명성 폴리에스테르 필름기재(동양방적제 코스모샤인 A4300;전체 광선투과율 90.9%, 헤이즈 0.7, 정마찰계수(양면 모두) 0.58, 동마찰계수(양면 모두) 0.42)에 그라비어롤에 의해 코팅하고, 이어서 130℃의 열풍을 풍속 5m/s로 보내면서 1분간 건조하여, 롤상으로 권취하였다. 코팅층의 두께는 8.0㎛, 코팅층 중의 잔류용제량은 4.1중량%였다. 또한, 얻어진 필름은 미끄러짐성이 양호하여, 감는 모습이 양호한 롤이었다.
제작한 근적외선 흡수필터의 색깔은, 직접 눈으로 봐서는 어두운 회색이었다. 또한, 도9에 그 분광특성을 나타낸다. 도9에 나타내는 바와 같이, 파장 400㎚~ 650㎚까지의 가시영역에 있어서는 흡수가 평평하고, 파장 700㎚ 이상에 가파른 흡수가 있는 필터가 얻어졌다.
얻어진 필터를 온도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바, 도10과 같이 되어, 분광곡선의 커다는 변화는 없고, 안정된 성능을 나타냈다.
비교예 3
실시예 1에서 사용한 코팅액을, 고투명성 폴리에스테르 필름기재(동양방적제 코스모샤인 A4300)에 그라비어롤에 의해 코팅하고, 120℃의 열풍을 풍속 5m/s로 보내면서 1분간 건조했다. 코팅층의 두께는 11㎛, 코팅층의 잔류용제량은 6.5중량%였다. 눈으로 직접 봤을 때의 색깔은 어두운 회색이었다. 또한, 도11에 그 분광특성을 나타낸다. 도11에 나타내는 바와 같이, 파장 450㎚~650㎚까지의 가시영역에 있어서는 흡수가 평평하고, 파장 700㎚ 이상에서는 가파르게 흡수가 있는 필터가 얻어졌다.
그러나, 이 필터를 온도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바, 도12와 같이 되었다. 도12에 나타내는 바와 같이, 근적외선영역의 흡수가 저하되고, 또한 필터의 색깔도 황녹색으로 변화되었다.
실시예 3
실시예 2에서 얻은 적외선 흡수층을 둔 투명 폴리에스테르필름에 있어서, 상기 적외선 흡수층과는 반대측의 표면에 하드코팅처리층(HC)을 두었다. 하드코팅제로서는, 에폭시아크릴 수지 100부에 벤조페논 4부를 가한 자외선경화형 수지조성물을 사용하여, 하드코팅법으로 성막 후, 80℃로 5분간의 예비건조를 행하고, 이어서 500mJ/㎠의 자외선을 조사함으로써 경화시켰다. 경화 후의 하드코팅처리층(HC)의 두께는 5㎛이다.
다음에, 두께 9㎛의 구리박을 UV 경화접착제를 사이에 두고 적외선 흡수층의 상부에 붙여, 포토레지스트를 사용하여 붙여진 구리박을 패터닝하고, 에칭처리를 행하여, 전자파 실드층을 형성했다. 이 때의 구리박의 선폭은, 15㎛, 피치는 115㎛이고, 개구율은 75%였다.
상기와 같이, 투명 폴리에스테르 필름기재의 한쪽면에 하드코팅층, 다른면에 적외선 흡수층, 이어서 전자파 실드층을 순서대로 설치한 필터의 분광특성을 도13에 나타낸다. 도13에 나타내어진 바와 같이, 상기 필터는, 근적외선을 흡수하여 색조가 회색이고, 또한 전자파를 흡수하면서도 높은 가시광선 투과율을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.
얻어진 필터를 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바, 약간의 색변화는 보여지지만, 근적외선 흡수특성을 유지하고 있었다. 또한, 얻어진 필터를, 플라즈마디스플레이 등의 앞면에 배치한 바, 색깔의 변화는 없고, 콘트라스트가 향상하고, 또한 근적외선의 방사 및 전자파의 방사도 줄었다.
실시예 4
실시예 2에서 얻은 적외선 흡수층을 둔 투명 폴리에스테르 필름에 있어서,상기 적외선 흡수층과는 반대측 표면에 하드코팅처리층(HC)을 설치했다. 하드코팅제로서는, 에폭시아크릴 수지 100부에 벤조페논 4부를 가한 자외선경화형 조성물을 사용하여, 바코팅법으로 성막 후, 80℃로 5분간의 예비건조를 행하고, 이어서 500mJ/㎠의 자외선을 조사함으로써 경화시켰다. 경화 후의 하드코팅처리층(HC)의 두께는 5㎛이다.
다음에, 적외선 흡수층의 상부에 고주파 마그네트론 스펏터링장치를 사용하여 두께 380Å의 산화주석박막을 적층했다. 이어서, DC 마크네트론 스펏터링장치를 이용하여 두께 200Å의 은박막을 적층하고, 또한 410Å의 산화주석층을 적층하여 전자파 실드층을 형성했다. 이 전자파 실드층의 표면저항값은, 4Ω/㎡였다. 상기와 같이, 투명 폴리에스테르 필름기재의 한쪽면에 하드코팅층, 다른면에 적외선 흡수층, 이어서 전자파 실드층을 순서대로 설치한 필터의 분광특성을 도14에 나타낸다. 도14에 나타내어진 바와 같이, 상기 필터는 근적외선을 흡수하여 색조가 회색이고, 또한 전자파를 흡수하면서도 높은 가시광선투과율을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.
또한, 얻어진 필터를 온도 60℃, 습도 95%의 분위기하에서 1000시간 방치하고, 다시 분광특성을 측정한 바, 약간의 색변화는 보여지지만, 근적외선 흡수특성은 유지하고 있었다. 또한, 얻어진 필터를 플라즈마디스플레이 등의 앞면에 배치한 바, 색깔의 변화는 없고, 콘트라스트가 향상하고, 또한 근적외선의 방사 및 전자파의 방사도 줄었다.
근적외선영역에 널리 흡수를 가지고, 또한 가시영역의 투과율이 높아, 특정 가시영역 파장을 크게 흡수하지 않는 적외선 흡수필터가 얻어져, 플라즈마디스플레이 등에 사용한 경우, 디스플레이로부터 방사되는 불필요한 적외선을 흡수할 수 있기 때문에 적외선을 사용한 리모콘의 오동작을 방지한다. 또한, 색조가 회색이기 때문에, 비디오카메라, 디스플레이 등에 사용해도 색의 어긋남이 적다. 또한, 환경안정성이 우수하기 때문에, 고온 ·고습의 환경하에서도 상기 특성을 유지할 수 있다.
Claims (16)
- 적외선 흡수색소, 바인더 수지 및 용제를 포함하는 코팅 조성물을 투명 기재상에 적층하여 적외선 흡수층을 형성시킨 적외선 흡수필터로서,상기 투명기재는 전체 광선투과율이 89% 이상이고, 헤이즈가 1.6% 이하이며, 또한 정마찰계수 및 동마찰계수가 0.6 이하이고,상기 적외선 흡수색소는 디이모늄염 화합물, 함불소 프탈로시아닌계 화합물, 및 니켈착체 중 두 종류 이상을 포함하며,상기 용제는 염화메틸렌 또는 클로로포름 이외의 용제이고,또한 상기 바인더 수지는 유리전이온도가 80℃ 이상인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 적외선 흡수색소, 바인더 수지 및 용제를 포함하는 코팅 조성물을 투명 기재상에 적층하여 적외선 흡수층을 형성시킨 적외선 흡수필터로서,상기 투명기재는 전체 광선투과율이 89% 이상이고, 헤이즈가 1.6% 이하이며, 또한 정마찰계수 및 동마찰계수가 0.6 이하이고,상기 적외선 흡수색소는 디이모늄염 화합물, 함불소 프탈로시아닌계 화합물, 및 니켈착체 중 두 종류 이상을 포함하며,상기 용제는 염화메틸렌 또는 클로로포름 이외의 용제이고,또한 상기 적외선 흡수층 중의 잔류용제량이 5.0중량% 이하인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 투명기재가 폴리에스테르 필름인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 적외선 흡수필터의 적외선 흡수층과 동일면, 내지는 반대면에 개구율이 50% 이상의 금속메쉬 도전층을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 적외선 흡수필터의 적외선 흡수층과 동일면, 내지는 반대면에 투명도전층을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제5항에 있어서, 상기 투명도전층이 금속산화물인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제5항에 있어서, 상기 투명도전층이 금속산화물/금속/금속산화물의 3층 이상의 반복구조인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제7항에 있어서, 상기 투명도전층의 금속층이, 은 또는 금 및 그들을 포함하는 화합물인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 적외선 필터의 가장 바깥층에 하드코팅처리층을 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 적외선 필터의 가장 바깥층에 반사방지층을 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 적외선 필터의 가장 바깥층에 방현처리층을 적층하고 있는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 플라즈마디스플레이의 앞면에 설치되는 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 파장 800~1100㎚의 근적외선 영역의 투과율이 30% 이하이고, 더욱이 온도 60℃, 습도 95%의 공기분위기하에서 1000시간 방치한 후의, 파장 800~1100㎚의 근적외선 영역의 투과율이 30% 이하인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제13항에 있어서, 파장 450~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내이며, 또한 파장 550㎚에서의 투과율이 50% 이상이고, 더욱이, 온도 60℃, 습도 95%의 공기분위기하에서 1000시간 방치한 후의, 파장 450~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 온도 80℃의 공기분위기하에서 1000시간 방치한 후의, 파장 800~1100㎚의 근적외선 영역의 투과율이 30% 이하인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
- 제15항에 있어서, 온도 80℃의 공기분위기하에서 1000시간 방치한 후의, 파장 450~650㎚의 가시영역에서의 투과율의 최대값과 최소값의 차가 10% 이내인 것을 특징으로 하는 적외선 흡수필터.
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US6680009B2 (en) * | 2000-07-06 | 2004-01-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical filter comprising transparent support and filter layer having three absorption maximums |
JP3517210B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2004-04-12 | 日清紡績株式会社 | 近赤外線吸収材料 |
JP3893533B2 (ja) * | 2001-02-09 | 2007-03-14 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
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KR100481090B1 (ko) * | 2002-09-05 | 2005-04-07 | (주)해빛정보 | 근적외선(nir) 흡수필터 |
US7245079B2 (en) * | 2003-05-28 | 2007-07-17 | Solutia Incorporated | Plasma display panel filters comprising multiple layers |
US20040239251A1 (en) * | 2003-05-28 | 2004-12-02 | D'haene Pol | Plasma display panel filters |
KR100515594B1 (ko) * | 2003-07-11 | 2005-09-21 | 주식회사 엘지화학 | 근적외선 흡수필름 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이필터 |
EP1656572A1 (en) * | 2003-08-19 | 2006-05-17 | LG Chem, Ltd. | Film for plasma display filter and plasma display filter comprising the same |
KR20060111471A (ko) * | 2003-11-10 | 2006-10-27 | 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 | 디이모늄염 화합물 및 그의 용도 |
EP1723448A1 (en) * | 2004-03-12 | 2006-11-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Light-absorbing member |
KR100658852B1 (ko) * | 2004-05-17 | 2006-12-15 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 장치 |
CN101018824B (zh) * | 2004-07-15 | 2011-05-04 | 大阪瓦斯株式会社 | 树脂组合物及其成型体 |
US20060051586A1 (en) * | 2004-08-28 | 2006-03-09 | Park Sang H | Film for PDP filter, PDP filter comprising the same and plasma display panel produced by using the PDP filter |
EP1787978B1 (en) * | 2004-09-06 | 2011-06-22 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Diimmonium compound and use thereof |
JP5033632B2 (ja) | 2005-02-04 | 2012-09-26 | 株式会社日本触媒 | ホウ酸塩および近赤外線吸収材料 |
WO2006090705A1 (ja) * | 2005-02-22 | 2006-08-31 | Asahi Glass Company, Limited | 粘着剤組成物および粘着フィルムならびに光学フィルタ |
JP2006310195A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Tdk Corp | 透明導電体 |
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US7510456B2 (en) * | 2005-06-30 | 2009-03-31 | Solutia Incorporated | Method of making impact resistant, direct contact plasma display panel filters |
US20070001566A1 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-04 | D Haene Pol | Impact resistant, direct contact plasma display panel filters |
KR100768200B1 (ko) * | 2006-02-01 | 2007-10-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 광학 필터 및 이를 채용한 플라즈마 디스플레이 패널 |
US7655306B2 (en) | 2006-05-23 | 2010-02-02 | Cheil Industries, Inc. | Optical film, optical filter and display device including the same |
US7833660B1 (en) | 2006-09-07 | 2010-11-16 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Fluorohaloborate salts, synthesis and use thereof |
US7820323B1 (en) | 2006-09-07 | 2010-10-26 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Metal borate synthesis process |
KR100854689B1 (ko) * | 2007-05-28 | 2008-08-27 | 손세모 | 근적외선 흡수색소 및 그를 이용한 근적외선 차단 필터 |
FR2935585B1 (fr) | 2008-09-01 | 2015-04-24 | Sagem Comm | Facade d'appareil electonique adaptee contre les rayonnements de type rayonnements infrarouges. |
EP2608778B1 (en) | 2010-08-26 | 2017-11-01 | University of Louisville Research Foundation, Inc. | Compositions and methods for treating bone defects |
US20130063602A1 (en) * | 2011-09-12 | 2013-03-14 | Bruce Scapier | System and method for remote monitoring of equipment moisture exposure |
JP5224203B1 (ja) | 2012-07-11 | 2013-07-03 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および表示装置 |
US10046090B2 (en) | 2013-10-08 | 2018-08-14 | Vivorte, Inc. | Processed bone particle compositions and related methods |
KR102305998B1 (ko) * | 2014-12-08 | 2021-09-28 | 엘지이노텍 주식회사 | 영상 처리 장치 |
WO2017034870A1 (en) | 2015-08-21 | 2017-03-02 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductors including metal traces and methods of making same |
WO2018163766A1 (ja) * | 2017-03-09 | 2018-09-13 | 富士フイルム株式会社 | 構造体、キットおよび光センサ |
CN112467391B (zh) * | 2020-11-16 | 2021-12-31 | 北京航空航天大学 | 一种吸透一体可控电磁防护材料 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3251881A (en) | 1963-05-16 | 1966-05-17 | American Cyanamid Co | N, n, n', n'-tetrakis(p-nitro- or amino-substituted-phenyl)-p-arylenediamines |
US4223974A (en) | 1978-08-02 | 1980-09-23 | American Optical Corporation | Enhanced bonding of silicon oxides and silver by intermediate coating of metal |
JPS5721458A (en) | 1980-07-11 | 1982-02-04 | Mitsubishi Electric Corp | Near infrared absorbing plastic film |
JPS57198413A (en) | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Optical filter having spectral characteristic close to visibility |
DE3316548C2 (de) | 1983-03-25 | 1985-01-17 | Flachglas AG, 8510 Fürth | Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates |
ZA842139B (en) | 1983-03-25 | 1984-10-31 | Flachglas Ag | Process for coating a transparent substrate |
JPH0638124B2 (ja) | 1983-08-22 | 1994-05-18 | 日本化薬株式会社 | 近赤外線吸収フイルタ− |
DE3414682C2 (de) | 1984-04-18 | 1986-04-24 | Schott Glaswerke, 6500 Mainz | Alkali- und erdalkalireiches Phosphatglas mit CuO als färbender Komponente für optisches Farb- und Filterglas |
JPS62153144A (ja) | 1985-12-25 | 1987-07-08 | Toshiba Glass Co Ltd | 近赤外カツトフイルタガラスおよびその製造法 |
US4816386A (en) * | 1986-01-13 | 1989-03-28 | Toray Industries, Inc. | Near-infrared sensitive phthalocyanine-polymer compositions |
SG52477A1 (en) * | 1991-04-26 | 1998-09-28 | Mitsui Chemicals Inc | Optical recording medium |
US5466755A (en) | 1992-08-20 | 1995-11-14 | Kureha, Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Optical filter |
JPH06324213A (ja) | 1993-04-28 | 1994-11-25 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 複合光学フィルター |
JP2698544B2 (ja) | 1993-11-10 | 1998-01-19 | 呉羽化学工業株式会社 | 近赤外線カットフィルター |
JPH07314626A (ja) | 1994-05-24 | 1995-12-05 | Diafoil Co Ltd | 複合化ポリエステルフィルム |
JP2876998B2 (ja) * | 1994-10-06 | 1999-03-31 | オリンパス光学工業株式会社 | 内視鏡用光源光学系 |
US5804102A (en) | 1995-12-22 | 1998-09-08 | Mitsui Chemicals, Inc. | Plasma display filter |
JP3308545B2 (ja) | 1996-04-18 | 2002-07-29 | カネボウ株式会社 | 近赤外線吸収フィルム及び当該フィルムを含む多層パネル |
JP3674146B2 (ja) | 1996-05-07 | 2005-07-20 | 株式会社富士通ゼネラル | 光学フィルタ装置 |
JPH1078509A (ja) | 1996-07-12 | 1998-03-24 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | プラズマディスプレー用のフィルター |
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