KR100436175B1 - 방사방향으로편광회전하는광학장치및이를갖는마이크로리소그래피투사형노출장치 - Google Patents

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Abstract

광학장치는 전체 횡단면에서 방사방향으로 직선 편광된 광으로 입사하는 광 빔을 선택이 아닌 회전에 의해 나가는 광 빔으로 변형시킨다.
이를 위해 반파장 플레이트 (41, 42, 4i) 로 된 래스터, 방사 방향 압축 스트레인 하에 있는 스트레인 복굴절 1/4 파장 플레이트 (420) 와 원 복굴절하는 45°회전하는 플레이트 (430) 로 이루어진 결합물이 원추 편광기 (21') 와 연결되어서도 제공된다. 마이크로리소그래피 투사노출장치에서 이 장치는 바람직하게는 조명부재에 배열되어 있다. 모든 비대칭 또는 편광하는 소자 (103a) 뒤에 배열하는 것이 중요하다.

Description

방사방향으로 편광회전하는 광학장치 및 이를 갖는 마이크로리소그래피 투사형 노출장치
본 발명은 입사 광빔을 전체 횡단면에 있어서 방사방향으로 직선 편광된 광을 가지고 출사 광 빔으로 변형시키는 광학장치에 관한 것이다.
마이크로리소그래피에서 최고의 해상도를 얻기 위해, 매우 높은 어퍼처수를 갖는 투사형 노출장치를 제공할 필요가 있다. 매우 큰 각도 하에서 이루어지는 레지스트 층과 광과의 결합 시에 외측의 레지스트-경계층에서 반사로 인한 광 손실 그리고 웨이퍼 및 공기에 대해 상기 레지스트의 양 경계층에서 반사에 의해 제약을 받아 광의 측면 드리프트로 인한 해상도의 악화가 나타난다 (정재파의 형성).
이 경우 이 프레넬 반사율은 편광방향과 반사면 사이의 각도에 의존한다. 입사면에 대해 평행하게 진동하는 전계를 갖는 브루스터 각도 하에서 입사하는 광에 대해 반사가 사라지는 경우 레지스트에서의 광학 결합과, 동시에 정재파의 최대 억제가 이루어진다.
EP 0 602 923 호와 EP 0 608 572 호에 설명된 것처럼, 전부 한 방향으로 직선 편광된 광에 있어서 장애가 발생한다. 그러므로 상기 양 공보는 레지스트와의 결합 전에 편광되지 않은 광에 대한 등가물로서 원편광된 광을 만들고 있다. 따라서 전체 화상에 대한 동질성이 얻어지지만, 효율 손실을 감수해야 하는데, 각각 국부적으로 수직 편광된 광 성분이 상당히 반사되기 때문이다.
그와 달리 EP 0 602 923 에는, DE-OS 15 72 195 에 공지된 것처럼, 모사되는 샘플의 방향 설정과 관련하여 전부 한 방향으로 직선 편광된 광의 방향을 설정하는 것이 제안되어 있다. 다중 반사에 의한 드리프트가 상기 구조의 종방향으로 이루어지지만, 임계 해상도의 방향으로는 이루어지지 않는다. 그러나 상기 레지스트 표면에서 반사 및 상기 결합의 효율은 동질적이지 않다.
레지스트 층에서 반사에 대한 편광의 작용과 프레넬 계수의 중요성은 얇은 필름의 두께 측정하는 방법을 위한 US 4,899,055 호에 설명되어 있다.
US 5,365,371 호에는 마이크로리소그래피를 위한 투사노출장치가 공지되어 있고, 이에서 방사방향으로 향해 있는 광의 직선 편광이 도입되어, 레지스트에서의 정재파에 의해 레지스트에서 화상 형성시에 장애를 억제할 수 있다. 두 개의 다른 편광하는 엘리먼트가 제공된다; 먼저 포지티브형 원추와 네가티브형 원추로 이루어진 방사형 편광 필터가 전송 시에 이용되고 또한 상기 반사를 위한 프레넬 등식에의거 방사상 편광을 일으킨다. 전송되는 광의 완전한 편광이 어떻게 얻어지는지는 제공되어 있지 않다. 상세한 설명에서 그리고 청구항 3에서 두 부분이 다른 굴절율을 가질 것을 요구하고 있다. 그러나 전송된 부분은 굴절되어야 하며 직선으로 통과할 수 없다. 해당 CIP-특허 US 5,436,761 호에서 동일한 청구항에 굴절율을 위한 어떠한 조건도 제공되어 있지 않다. 또한 US 4,286,843 호 (도 19 및 상세한 설명 9 째단, 라인 60-68) 에 공지된 것처럼, 예를 들어 청구항 4 에 방사방향을 향한 편광 필터 막으로 된 세그먼트를 갖는 플레이트가 제공된다.
두 편광기는 편광 필터이고, 즉 이것은 높은 광 손실을 야기하며 그리고 편광되지 않은 또는 원편광된 입사하는 광 빔에만 적합한데, 이는 출사 광 빔의 횡단면에서 강한 비동질성 강도가 나타나기 때문이다. 도 1 의 예에서 회전거울 (17) 은 부분적인 편광을 전제로 하고, 또한 편광기(21) 로부터 나오는 광 빔이 비동질적이다. 또한 오직 US 5,365,371 호에, 방사형 편광기가 투사 대물 렌즈의 어퍼처 조리개에 제공된다. 대물렌즈에서 이 방사형 편광기의 위치는 문제가 있는데, 거기에서 최적의 화상 품질을 위한 가장 작은 허용 오차가 엄수되어야 하기 때문이다.
본 발명의 목적은 높은 어퍼처를 갖는 광학 경계면에서 손실이 적고 또한 분산광이 적은 결합을 가능하게 만들며, 이 경우에 출사 광 빔의 효율 및 동질성이 최적화되는 광학장치를 제공하는데 있다.
모사 장애가 최소이고 또한 복잡성이 최소인 경우 상기 방사형 직선 편광의 장점들의 최대 이용을 허용하는 투사노출장치가 제공되어야 한다.
도 1a 는 직선 편광되는 입사광에 대해 반파장 플레이트의 래스터로부터 방사방향으로 편광회전하는 광학장치의 평면도.
도 1b 는 도 1a 에서 나가는 광 빔의 편광 방향을 도시하는 도면.
도 2 는 원편광된 또는 편광되지 않은 입사광에 대해 브루스터 각을 갖는 원추형 반사기를 구비한 방사방향으로 편광하는 광학장치의 횡단면도.
도 3a 는 원편광된 또는 편광되지 않은 광의 완전한 이용을 위해 세그먼트 종류의 반파장 플레이트와 원추형 반사기를 갖는 장치의 횡단면도.
도 3b 는 광의 출구 측면에서 본 장치.
도 4a 는 중앙 대칭적인 스트레인 복굴절이 있는 플레이트를 갖는 방사방향으로 편광회전하는 광학장치의 측면도.
도 4b 는 그에 해당하는 1/4 파장 플레이트를 도시하는 도면.
도 4c 는 그에 해당하는 압축 스트레인 플레이트를 도시하는 도면.
도4d 는 그에 해당하는 원형으로 복굴절하는 45°플레이트를 도시하는 도면.
도 5 는 조명부재 안에 방사방향으로 편광하는 광학장치를 갖는 마이크로리소그래피 투사노출장치.
도 6 은 카타디옵틱 투사형 대물렌즈 및 그 안에 집적된 본 발명에 따른 방사방향으로 편광하는 광학장치.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
11, 12, 1i : 절단면 21, 22, 2i : 편광방향
20 : 원추대 30 : 투명부재
41 : 링빔 51 : 광원
52 : 거울 53 : 조리개
54 : 대물렌즈 55 : 편광기
58 : 레티클
입사 광 빔의 편광방향이 선택 방식이 아닌 회전 방식으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 청구항 1 에 따른 방사방향으로 편광회전하는 광학장치에 의해 상기 목적이 달성된다.
원하던 편광 분배의 다양한 종류의 형성을 제공하는 유리한 실시예들이 청구항 2 내지 청구항 5 의 대상이 된다. 청구항 6 이 특히 선호되는데, 링 어퍼처 노출 시에 입사광은, 상기 반사 성질이 작은 편광 의존성만을 나타내는 작은 각도 하에서 억제되기 때문이다.
마이크로리소그래피 투사노출장치에서 방사상으로 편광하는 광학장치의 집적과 관련한 청구항 7 은 아주 중요하다.
이 광학의 가능성이 완전히 이용되는 장치에 있어서 레지스트 층에서 광 결합의 효율과 동질성의 개선이 이루어지는데, 레지스트에서의 반사는 편광 엘리먼트 뒤에 배열된 모든 렌즈에서 균일하게 감소되기 때문이다. 큰 각도로 (브루스터 각도까지) 입사하는 광을 위해 효과가 최대가 되고, 광 강도 (가장자리의 쇠퇴) 가 가장 작기 때문이다. 레지스트 웨이퍼 경계층에서도 분산광에 의한 해상도의 장애가 동질화되어 감소된다.
빔 경로에서 가능한 한 이른 배열이 유리한데, 그 뒤에 오는 모든 렌즈에서 스트레인 복굴절 (strain double refraction) 로 인한 장애가 최소화되어 대칭되기 때문이다.
그러므로 선호되는 편광회전하는 엘리먼트와 더불어 편광 필터에 대해 선호되는 편광회전하는 엘리먼트들이 노출 시스템에 배열되는 것이 특히 유리하다.
청구항 8 은, 공지된 종래 기술에 비해 개선된 동질성과 훨씬 더 높은 효율성이 우수한 투사노출장치의 임의의 위치에서 청구항 1 내지 청구항 6 에 따른 편광회전하는 엘리먼트에 상기 배열을 제공한다.
청구항 9 와 청구항 10 에 따른 선호되는 실시예는, 본 발명에 따른 방사형 편광방향으로 상기 시스템의 각각의 렌즈에서, - 투사각이 작은 경우에도 - 이용될 수 있는 분산광의 감소와 동질성이 발생하는 것을 고려한다.
다른 한 편으로 비대칭적인 광학 엘리먼트, 특히 회전거울이, 구조 길이의 단축을 위해 또는 카타디옵틱 (catadioptic) 투사 대물렌즈에 제공되는 것처럼, 편광 상태를 변경시켜 반사층이 위상 보정으로 이용되는 경우에만 뒤에 연결된다. 전환 엘리먼트로서 전반사 프리즘이 이용되면, 정확하게 매치되는 위상 지연판이 뒤에 연결되어야 하거나 또는 전반사 경계면이 위상 보정 층으로 덮혀야 한다. 물론 편광 광학 소자, 예를 들어 편광 빔 스플릿터 그리고 1/4 파장 플레이트가 문제가 된다.
유리한 또 다른 실시예가 청구항 11 과 청구항 12 에 설명되어 있다.
특히 벌집형 집속 렌즈와 연결되어 있는 것이 유리한 본 발명에 따른 편광회전하는 장치가 직선으로 편광된 광의 변환에 적합하며, 즉 특히 광원으로서 레이저에 적합하며 도 1a 에서 평면도로 도시되어 있다. 이 광 빔의 횡단면은 복굴절하는 재료로 된 반 파장 플레이트로 이루어진 다수의 절단면 (facet) (11, 12, 1i) 으로 분배되어 있다. 각각의 절단면 (1i) 은 벌집형 집속 렌즈의 별집형 엘리먼트에 일치한다. 이 절단면 (1i) 은 상기 벌집형 엘리먼트에 붙여져, 방사되도록 하거나 또는 극도의 빔 부하 시에는 별도로 수용되어 반사되지 않게 한다. 마이크로리소그래피 투사노출장치에서 일반적인 벌집형 집속 렌즈가 102정도의 벌집형 엘리먼트를 가지며, 또한 이 절단면의 수는 동일하다.
상기 절단면 (11, 1i) 의 주축(21,22,2i)은 입사하는, 전부 동일하게 직선 편광되는 광의 편광방향 (21, 22, 2i) 과 광 빔 및 벌집형 렌즈의 광 축 (A) 을 향해 있는 반경 사이에서 각각의 절단면 (1i) 의 중앙을 통해 각의 이등분선의 방향으로 정렬된다. 그러므로 각각의 반파장 플레이트 절단면 (1i) 은 언급한 반경의 방향으로 편광방향을 회전시킨다. 도 1b 에는 이러한 효과가 도시되어 있고, 이 경우 벌집형 렌즈의 입사면 (41, 42, 4i) 은 모두 방사방향으로 정렬된 각각의 부분 광 빔의 편광방향 (31, 32, 3i) 과 함께 도시되어 있다.
육각형 절단면 (1i)을 가진 래스터는 이 경우 벌집형 집속 렌즈와의 결합에 특히 적합한 실시예이다. 다른 래스터와 특히 반파장 플레이트의 부채꼴 모양의 섹터 분할이 가능하다 (비교 도 3b) . 상기 개별 엘리먼트의 수는 범위 101에 있을 수도 있다.
일반적으로 광의 횡단면에서 처럼 입사면에 대해 수직으로 편광되는 광의 성분이 평행하게 편광된 광의 성분 보다 더 작으면, 편광되지 않은 광에 대해 광의 경계면에서 전체 반사율의 감소가 얻어진다. 반파장 플레이트를 갖는 단지 4개의 90°섹터에 있어 이런 한계 경우가 달성되므로, 바람직하게는 다수의 반파장 플레이트가 특히 10 내지 102단위의 절단면 또는 섹터로서 광 빔의 횡단면에 배열된다.
섹터를 갖는 공지된 방사형 편광기 (US 5,365,371 호 및 US 4,286,843 호) 와의 차이에서 상당한 손실과 함께 편광이 여과되지 않고, 오히려 광이 그의 편광방향에서 복굴절 엘리먼트를 통해 최소의 손실로 바뀐다.
직선 편광의 방사형 정렬에 의해, 입사하는 편광되지 않은 또는 원편광된 광 (40) 을 위해 도 2 에 도시된 광학장치가 작동된다. 이것은 편광 필터이고 US 5,365,371 호에 공지되어 있지만 세부적으로는 신규이다. 이는 브루스터 각과 유전 반사 층에 상응하여 원추각 α를 가지면서 투명 재료, 예를 들어 유리 FK5, 석영 유리 또는 CaF2로 이루어진 중공 드릴된 원추대 (20) 에 관한 것이다. 상기 광 빔 (40) 의 입사면에 수직으로 편광된 부분 (4s) 이 전부 반사되고, 전송된 빔 (4p) 은 입사면에 대해 완전히 평행하게 편광되고, 및 일반적으로 광축 (A) 에 대해 방사방향으로 직선 편광된다. 이 중공 드릴된 원추대 (20) 는 링 어퍼처 노출을 위해 채택되고 그리고 최단의 구조 길이를 가지지만 물론 원추 전체가 제대로 기능한다. 이 원추대 (20) 는 원추면 (21) 에 인접하는 알맞는 중공 원추대를 통해 원통형 링에 보충되어, 반사하는 원추면 (21) 이 보호되고 전체가 더 쉽게 모아질 수 있다. 원추대 (20) 와 중공 원추 (22) 는 동일한 복굴절율을 가지므로, 복굴절 없는 광의 통과가 US 5,365,371 호와는 달리 원추면 (21) 에서 이루어진다.
도 3a 에는 도 2 에 따른 실시예의 보다 개선된 부분의 횡단면이 도시되어 있고, 이에서 반사된 부분 (4s) 역시 이용되므로, 50% 이하의 광 손실을 갖는 배열이 얻어지는데, 이 편광이 효과적으로 회전되고 여과되지 않기 때문이다.
(연속하는 원통형 연장 부분을 갖는) 도 2 에 상응하여 원추 보호면 (21') 를 갖는 원추대 (20') 둘레에 투명 부재 (30) 가 원추 보호면 (21') 에 대해 평행하게 반사하는 원추면 (31) 을 가지고 배열되어 있고, 이의 출구면 (33) 에서 반파장 플레이트의 세그먼트 (5i, 5k) 로 이루어진 링이 배열되고, 이의 주축 (6i, 6k) 은 도 3b 에 도시된 바와 같이 세그먼트 중앙에서 반경에 대해 45°로 있다. 그러므로 도 1 에 설명된 것처럼, 원추 보호면 (21') 에서 반사되는 광 (4s) 의 방사형 직선 편광은 축 병렬 빔 (4r) 으로 야기된다. 광 전도값의 향상은 적어도 레이저 광원에서 수 배로 소원된다. 중요한 것은 이 장치가 편광되지 않고 입사하는 광에 적합하다. 광학 유리의 삽입 또는 생략을 통해 필요한 경우 원추대 (20') 와 투명 부재 (30) 의 광학 경로가 매치된다.
광축의 방향으로 작은 구조 길이를 가지며 그리고 입구에서 직선 또는 원 편광된 광을 위한 마찬가지로 방사방향으로 직선 편광된 광을 만드는 장치가 도4a 내지 도 4d 에 의거한 예를 도시하고 있다. 이것은 특히 링 어퍼처-옵틱에 적합하다.
통일적으로 직선 편광된 광 (41) 의 링빔은 도 4a 에 도시된 것처럼 3개의 평면 플레이트 (410, 420, 430) 의 적층물과 만난다. (410) 은 도 4b 에 도시된 것처럼 관통하는 광을 원 편광시키는 1/4 파장 플레이트이다. 이 입사하는 광 빔이 이미 원편광되어 있으면, 이 플레이트 (410) 는 생략될 수 있다. 그 다음에 플레이트 (420), 예를 들어 유리 또는 석영 유리로 이루어진 플레이트가 오고, 이것은 중앙 대칭인 압축 스트레인하에 있으므로 스트레인 복굴절을 나타낸다. 두께, 재료,및 스트레인이 선택되어 상기 플레이트 (420) 가 링빔 (41) 에 의해 접촉되는 외부 영역에서 국부적으로 1/4 파장 플레이트가 되지만, 방사형 대칭이므로, 원편광되어 입사하는 광이 직선 편광되고, 및 반경에 대해 45°하에서 편광방향을 갖는 횡단면에서 이루어진다.
열 팽창과 온도 변화율과 함께 작용하여 냉각 시에 또는 상쇄 열처리 시에 유리 (또는 석영 유리, 베릴륨 플로라이드, CaF2등) 디스크가 원형인 경우 일반적으로 가능한 한 느린 냉각을 통해 최소화되는 압축 스트레인이 생긴다. 그러나 목표로 하는 냉각을 통해 원하던 압축 스트레인이 그리고 원하는 스트레인 복굴절이 외부 영역에서 만들어질 수 있다.
그 다음에 제 3 의 플레이트 (430) 가 오고, 이것은 원형 복굴절을 가지며 또한 편광방향을 45°회전시킨다. 도 4d 에 도시된 것처럼, 나가는 광의 방사형 편광이 전체 횡단면에 걸처 얻어진다.
이 실시예는 도 1 의 예처럼 특히 얇은 상태인 것을 특징으로 하며 또한 도 2의 예처럼 정확한 방사형 편광을 많은 절단면 또는 세그먼트의 복잡한 조립 없이 만드는 것을 장점으로 한다. 주된 장점은 높은 효율인데, 이 편광이 선택되지 않고 회전되기 때문이다. 상기 링 빔 (41) 대신에 전체 빔이 상기 장치를 통해 보내지면, 상기 코어 부분이 영향을 받지 않는다.
도 5 에는 방사방향으로 편광하는 광학장치 (55) 로서, 이 경우에는 도 2에 따른 원추대 편광기를 갖는 완전한 마이크로리소그래피 투사노출장치가 도시되어있다. 이 엘리먼트와 그의 장치 외에도 모든 부재들과 그의 장치들이 해당 분야에서는 일반적이다. 광원 (51), 예를 들어 거울 (52) 을 가진 I 라인 수은 방전 램프가 조리개 (53) 를 비춘다. 대물 렌즈 (54), 예를 들어 DE 44 21 953 에 따른 줌 액시콘 대물렌즈가 오고 여러가지 조절을, 특히 링 어퍼처의 선택을 가능하게 만든다.
편광되지 않고 입사하는 광에 적합한 원추대 편광기 (55) 다음에 벌집형 렌즈 (56) 와 릴레이 및 필드 옵틱(57)이 온다. 이들 부재들은 레티클 (58) 마스크의 최적화된 노출에 이용되고, 이것은 상기 웨이퍼 (61) 의 레지스트필름 (60) 위에 투사 대물 렌즈 (59) 를 통해 최고의 해상도 (1㎛ 하에서) 로 축소되어 모사된다. 이 시스템의 개구수는 0.5 내지 0.9 이상의 값에 있으며, 이 경우 링 어퍼처는 0.7 과 0.9 사이가 바람직하다. 상기 원추대 편광기 (55) 를 떠난 후에 상기 광의 방사형 편광에 의해, 그 다음의 모든 광학 엘리먼트 (56, 57, 58, 59) 에 스트레인 복굴절의 효과는 광학 축과 관련하여 회전 대칭으로 된다. 최대의 입사각이 발생하여 최적의 전송과 최소의 반사가 달성되는 레지스트 필름 (60) 으로의 입사 시에 상기 효과는 최대가 된다. 투사 대물 렌즈 (59) 에서 민감한 빔 경로가 방해받지 않는다.
물론 편광하는 광학장치 (55) 의 실시는 도 2 의 실시예에 국한되지 않고, 특히 본 발명에 따른 모든 편광회전시키는 장치가 선택되고, 경우에 따라서는 앞에 연결된 편광기 또는 복굴절하는 플레이트로 매치된다. 또한 편광회전시키는 광학장치 (55) 가 전체 구조에서 다른 장소로 옮겨질 수 있다.
이는 특히, 회전거울이 위상 보정 없이 또는 편광 엘리먼트, 예를 들어 편광 빔 스플리터 없이 제공되면, 적용된다. 그 다음, 본 발명에 따른 편광회전하는 광학장치가 그 뒤에 (광의 흐름 방향으로) 배열될 수 있다. 그에 대한 예는 카타디옵틱 투사 대물 렌즈에 의해 도 6 에 도시되어 있다.
도 6 은 편광 빔 스플리터 (103), 오목 거울 (106), 렌즈 그룹 (102, 105, 108) 및 1/4 파장 플레이트 (104) 를 갖는 EP 0 602 923 호의 도 1 에 완전히 상응한다. 그러나 편광회전시키는 광학 엘리먼트 (107) 가 이미 도입부에 설명한 것처럼 EP 0 602 923 호에서 원편광을 위해 그리고 레지스트 (109) 에서 광 결합의 균일한 악화를 위해 1/4 파장 플레이트가 되며, 또한 레티클 (101) 에서 샘플의 우선 방향으로 균일한 직선 편광의 정렬을 위한 수단이 되지 않는다. 오히려 방사방향으로 편광회전하는 광학장치 (107) 가 제공된다.
이용되는 공간이 작기 때문에 이 경우 도 1 및 도 4 에 따른 실시예가 최적이다.
방사방향으로 편광하는 광학장치 (107) 는 가능한 한 빨리 회전거울 (103a) 뒤에 배열되어 거의 콜리메이트된 빔 경로에서, 즉 광 빔의 발산과 적당한 각도의 범위에 있다. 작은 각도들은 복굴절하는 엘리먼트의 아무런 문제없는 기능 작용하는 것에 중요하다. 최상의 효과는 본 발명에 의해 편광회전하는 엘리먼트의 출구면이 화상면에 대해 조명 또는 투사 시스템의 푸리에 변환된 평면에 있거나 또는 그에 상당하는 평면에 있을 때 얻어진다.
방사방향으로 향해있는 직선 편광을 전체 광 빔 횡단면에서 만드는, 본 발명에 따른 편광회전하는 광학장치의 이용은 마이크로리소그래피에 제한되지 않는다.
본 발명의 광학장치는 높은 어퍼처를 갖는 광학 경계면에서 손실이 적고 분산광이 적은 결합이 가능하며, 샘플에 의존하지 않고 최적의 분산광 억제와 레지스트로의 광결합의 균일한 효율을 가질 수 있다.

Claims (7)

  1. 입사 광 빔을 수용하기 위한 광학 소자를 포함하고,
    상기 입사 광 빔은 소정 방향에서의 직선 편광(P)을 가지며,
    상기 광학 소자는 입사 광 빔의 편광을 방사 방향으로 향하는 직선 편광을 가지는 출사 광 빔으로 비공제적으로(non-subtractively) 회전시키도록 적응되고,
    상기 입사 광 빔이 광축(A)을 한정하고 상기 광학 소자가 래스터, 세그먼트 또는 공동 평면에 있는 절단면 형태(facet configuration)에 배치된 네 개 이상의 반파장 플레이트를 포함하며, 반파장 플레이트가 투과하는 직선 편광의 편광 방향을, 대응하는 반파장 플레이트를 통해 절단하여 상기 광축을 향하는 반경 방향으로 회전시키도록 반파장 플레이트가 각각의 바람직한 방향으로 정렬되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 압축 유도 복굴절 1/4파장 플레이트와 45°에서 회전하는 원형 복굴절 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  3. 제 2항에 있어서, 직선 편광된 광이 이용되도록 일반적인 1/4 파장 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 광학소자는 환형의 조명을 제공하는 것을 특징으로하는 광학장치.
  5. 입사 광 빔을 수용하기 위한 광학 소자를 포함하고,
    상기 광학 소자는 상기 입사 광빔을 편광 방향이 회전되는 방사형으로 향하는 직선 편광을 가지는 출사 광빔으로 전환하도록 적응되고,
    상기 입사 광 빔은 광축(A)을 한정하고, 상기 광학 소자는 래스터, 세그먼트 또는 절단면 형태에 배치된 네 개 이상의 반파장 플레이트를 포함하며, 상기 반파장 플레이트는, 각 반파장 플레이트가 투과하는 직선 편광의 편광 방향을 대응하는 반파장 플레이트를 통해 절단하고 상기 광축을 향하는 반경 방향으로 회전시키도록 배열된 바람직한 방향을 가지며,
    원추면 형태의 편광표면 또는 절두원추표면형의 편광표면을 가지는 반사 편광기를 포함하고,
    상기 반파장 플레이트는 상기 반사 편광기에서 반사된 광의 빔 경로에 장착되는 것을 특징으로 하는 광학 장치.
  6. 광원을 포함하고 편광된 광이 횡단면 어디에서나 반경방향으로 향하는 횡절 단면을 가지는 광다발을 형성하는 광축을 가지는 조명계;
    프레임과 절단면 형태에 위치한 네 개 이상의 반파장 플레이트를 포함하는 광학 소자;를 포함하며,
    상기 반파장 플레이트는 각 반파장 플레이트가 투과하는 직선 편광의 편광방향을 대응하는 반파장 플레이트를 통해 절단하고 상기 광축을 향하는 반경 방향으로 회전시키도록 배열된 바람직한 방향을 가지며,
    상기 시스템은 상기 광학 소자에 연결된 벌집형 집속렌즈를 포함하여 상기 벌집형 집속렌즈의 각 벌집 형체가 상기 절단 형태의 절단면에 할당되도록 되고,
    상기 광학 소자의 아래쪽에 있는 광축에 배치된 레티클을 포함하고, 그럼으로써 상기 광원과 레티클 사이에 광학 소자를 위치시키는 레티클과, 및 상기 레티클의 아래쪽에 장착된 투사 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로리소그래피 투사 노출 장치.
  7. 광원을 포함하고 편광된 광이 횡단면 어디에서나 반경방향으로 향하는 횡절 단면을 가지는 광다발을 형성하는 광축을 가지는 조명계;
    절단면에 배치된 네 개 이상의 반파장 플레이트를 포함하고,
    상기 반파장 플레이트는 각 반파장 플레이트가 투과하는 직선 편광의 편광방향을 대응하는 반파장 플레이트를 통해 절단하고 상기 광축을 향하는 반경 방향으로 회전시키도록 배열된 바람직한 방향을 가지며,
    상기 시스템은 상기 광학 소자에 연결된 벌집형 집속렌즈를 포함하여 상기 벌집형 집속렌즈의 각 벌집 형체가 상기 절단 형태의 절단면에 할당되도록 하고,
    상기 광학 소자의 아래쪽에 있는 광축에 배치된 레티클을 포함하고, 그럼으로써 상기 광원과 레티클 사이에 광학 소자를 위치시키는 레티클과, 및
    상기 레티클의 아래쪽에 장착된 투사 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는마이크로리소그래피 투사 노출 장치.
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