KR100293044B1 - 반응성염료,이들의제조방법및이들을사용한염색또는날염방법_ - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 일반식(I)의 신규한 반응성 염료, 이들의 제조방법 및 OH 그룹 및 NH 그룹을 함유하는 섬유 물질을 염색하기 위한 이들의 용도에 관한 것이다.
상기식에서,
D는 모노아조, 폴리아조, 금속 착물 아조, 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 포르마잔, 아조메틴, 디옥사진, 페나진, 스틸벤, 트리페닐메탄, 크산텐, 티옥산톤 또는 니트로아릴 계열 화합물로부터 선택된 유기 염료의 라디칼이며,
나머지 치환체들은 명세서에서 정의한 바와 같다.

Description

[발명의 명칭]
반응성 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용한 염색 또는 날염방법
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 신규한 2관능가 및 다관능가 반응성 염료, 이들의 제조방법 및 용도에 관한 것이다.
2관능가 반응성 염료는, 예를 들면, DE-A 제2 614 550호, EP-A 제70 807호, EP-A 제70 806호 및 EP-A 제74 928호에 공지되어 있고, 3관능가 및 4관능가 반응성 염료는, 예를 들면, EP-A 제395 951호에 공지되어 있으나, 공지된 반응성 염료는 여전히 이들의 용도 면에서 여러 가지 단점들(예: 너무 낮은 고착율)을 갖고 있다.
본 발명은 하기 일반식(I)의 신규한 반응성 염료에 관한 것이다.
상기 식에서,
D는 모노아조, 폴리아조, 금속 착염 아조, 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 포르마잔, 아조메틴, 디옥사진, 페나진, 스틸벤, 트리페닐메탄, 크산텐, 티옥산톤 또는 니트로아릴계 화합물로부터의 유기 염료의 라디칼이고,
W는 직접 결합 또는 브릿지 구성원, 특히, 직접 결합이고,
R1은 H이거나, OR, OSO3H, SO3H, COOH 또는 할로겐에 의해 치환될 수 있는 C1-C4알킬이고,
R은 H, CH3또는 C2H5이고,
R2는 C1-C4알킬, 특히 메틸이고,
Z는 -CH2-CH2-OSO3H 또는 -CH=CH2이고,
X는 F, Cl 또는 Br이며,
n은 1 또는 2이다.
본원에서 언급된 알킬, 아릴, 아르알킬, 헤트아릴, 알콕시, 할로겐 및 아실아미노 라디칼과 브릿지 구성원에 대해 하기 사항이 적용된다.
알킬 그룹은 특히 치환체, 예를 들어 할로겐(예; Cl 또는 Br), OH, CN, CO2H, SO3H 또는 OSO3H를 임의로 함유할 수 있는 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹을 의미하는 것으로 이해한다.
알콕시 라디칼은 특히 탄소수 1 내지 4의 알콕시 라디칼을 의미하는 것으로 이해한다.
할로겐은 특히 염소 또는 불소를 의미하는 것으로 이해한다.
아실아미노 라디칼은 특히 포르밀아미노, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노 및 n-부티릴아미노와 같은 탄소수 1 내지 4의 아실아미노 라디칼을 의미하는 것으로 이해한다.
적합한 브릿지 구성원 W는 예를 들면 하기와 같다:
[여기서, RW는 수소 또는 알킬이고, 알킬렌은 탄소수 1 내지 6의 알킬렌 라디칼이며, ＊는 발색단 D에 결합된 원자 또는 그룹이다]
언급될 수 있는 알킬렌 라디칼은 -CH2-, -CH2-CH2-,, -(CH2)3-, -(CH2)4- 또는 -(CH2)6이다.
본 발명은 또한
a) 하기 일반식(II)의 염료를 하기 일반식(III)의 트리할로게노트리아진 n몰과 축합시켜 하기 일반식(IV)의 화합물을 수득하고, 일반식(IV)의 화합물을 하기 일반식(V)의 성분 n몰과 추가로 축합시키거나,
b) 이와는 역순으로, 하기 일반식(III)의 트리할로게노트리아진을 하기 일반식(V)의 성분과 축합시켜 하기 일반식(VI)의 1차 축합 생성물을 수득하고, 일반식(VI)의 화합물 n몰을 하기 일반식(II)의 염료와 추가로 축합시키거나,
c) 적합한 전구체를 트리할로게노트리아진(III) 및 하기 일반식(V)의 성분과 축합시키거나, 적합한 전구체를 하기 일반식(VI)의 1차 축합 생성물과 축합시킨 후 염료를 합성시켜, 일반식(I)의 반응성 염료를 제조하는 방법에 관한 것이다.
상기식에서,
D, W, R1, R2, n 및 Z는 위에서 정의한 바와 같다.
본 발명은 또한 일반식의 3-알킬-2-옥소-옥사졸리디논을 2-머캅토에탄올과 반응시켜 수득한 일반식 R2-NH-C2H4-S-C2H4-OH의 화합물을 산화시켜, 특히 H2O2를 사용하여 일반식 R2-NH-C2H4-SO2-C2H4-OH의 화합물로 전환시킨 후, 이를 통상적인 방법으로 하기 일반식(V)의 화합물로 전환시킴을 특징으로 하여, 하기 일반식(V)의 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
R2-NH-CH2CH2-SO2-Z (V)
출발 성분들과 트리할로게노트리아진과의 축합 반응은 산 결합제의 존재하에, 순서와는 상관없이, 수성 또는 유성-수성 매질 중에서 수행된다. 출발 성분의 특성에 따라서, 본원에서 축합 반응의 제1 단계는 pH 2 내지 8, 바람직하게는 3 내지 7의 범위에서, 0 내지 40℃, 바람직하게는 0 내지 25℃에서 수행한다. 트리아진의 제2 할로겐 원자의 치환은 pH 4 내지 10, 바람직하게는 5 내지 9에서, 0 내지 60℃, 바람직하게는 0 내지 30℃에서 수행한다.
산 결합제는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 수산화나트륨 희석 용액, 인산 이나트륨 또는 삼나트륨 또는 불화나트륨과 같은 탄산염, 수산화물 또는 인산염이다.
축합 반응 또는 염료 합성 반응이 직접적으로 염료 용액 또는 액체 염료 제제를 유도하는 경우, 탄산리튬 또는 수산화리튬을 필요한 경우 가용화제 및/또는 안정화 완충 시스템과 함께 사용하는 것이 유리할 수 있다. 금속화 반응, 설폰화 반응 또는 아실아미노 그룹의 도입 반응과 같은, 염료 또는 이의 전구체들의 기타의 전환 반응은 일반적으로 염료 합성 중의 어떠한 목적하는 단계에서도 수행될 수 있다.
안트라퀴논, 프탈로시아닌, 포르마잔, 아조메틴, 디옥사진, 페나진, 스틸벤, 트리페닐메탄, 크산텐, 티옥산톤 또는 니트로아릴계 화합물 중에서 특히 유용한 염료는 수용성 포르마잔, 안트라퀴논 및 프탈로시아닌 염료, 특히 설폰산 및/또는 카복실산 그룹을 함유하는 염료이다. 염료는 금속이 부재하거나 금속을 함유할 수 있으며, 구리, 니켈, 크롬 및 코발트 착염이 금속 착염 중에서 바람직한 착염이다.
적합한 염료 라디칼 D 또는 일반식(I)의 염료의 기본이 되는 아미노 그룹을 함유하는 이러한 염료는 대다수의 문헌에 기재되어 있다. 본원에서 언급할 수 있는 예는 하기와 같다:
EP-A 제 54 515호, EP-A 제69 703호, EP-A 제70 807호, DE 제3 222 726호, DE-A 제2 650 555호, DE-A 제3 023 855호, DE-A 제2 847 938호, DE-A 제2 817 780호, GB-A 제2 057 479호, DE-A 제2 916 715호, DE-A 제2 814 206호, DE-A 제3 019 936호, EP-A 제45 488호 및 문헌[참조: The Chemistry of Synthetic Dyes, Volume VI, Chapter II, pages 211-325, New York, London; 1972].
당해 라디칼은 수용성을 제공하는 하나 이상의 그룹, 특히 설포 그룹을 함유하나, 다른 섬유 반응성 라디칼은 이들 계열의 유기 염료의 특히 적합한 라디칼을 함유하지 않는다.
하기 일반식(1) 내지 (8)의 염료가 바람직하다.
상기식에서,
B′는 일반적으로 일반식(VIb)의 라디칼을 포함하고,
R3은 H, 메틸, 메톡시 또는 염소이고,
R4는 H 또는 SO3H이며,
R5는 H, 메틸 또는 에틸이고,
B는 일반식(VIa)의 라디칼이고,
A는 임의로 치환된 페닐렌 또는 임의로 치환된 방향족-지방족 브릿지 구성원을 나타내거나, NR6, O 또는 S와 같은 헤테로 원자를 함유하는 그룹으로 임의로 차단되고, C1-C6알콕시, OSO3H, SO3H, COOR 또는 할로겐으로 치환될 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬렌을 나타내며, 특히 그룹 NR6은 브릿지 구성원 A 내에서 그룹 NR1과 함께 헤테로사이클릭 지방족 환을 형성할 수도 있으며,
T1및 T2는 서로 독립적으로 H, Cl, Br, C1-C2알킬, OCH3, OC2H5, 아실아미노 또는 C1-C2알콕시카보닐이고,
R6및 R7은 각각 독립적으로 H, 또는 OR, OSO3H, SO3H, COOR 또는 할로겐으로 치환될 수 있는 C1-C4알킬이고,
R은 H, CH3또는 C2H5이고,
Me는 Cu 또는 Ni이고,
Pc는 프탈로시아닌 라디칼이고,
u+v+w는 3.4 내지 4.0이며, 단 u는 0.8 내지 2.0이고, v는 0 내지 1.0이고, w는 1.0 내지 3.0이고,
R8및 R9는 각각 H이거나, HO, OSO3H 또는 COOH로 임의로 치환된 C1-C2알킬이고,
v1 및 w1은 각각 0 또는 1이며, w1은 v1과 동일하지 않으며,
R10및 R11은 서로 독립적으로 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, OH, 할로겐, COOH, NO2, SO3H, 설폰아미도, C1-C4알킬카보닐아미노, 임의로 치환된 페닐카보닐아미노, C1-C4알킬설포닐아미노 또는 임의로 치환된 페닐설포닐아미노이다.
상기식에서,
R1, R2, X 및 Z는 제1항에서 정의한 바와 같다.
이들 계열의 특히 유용한 기타 염료는 수용성 아조 염료, 특히 설폰산 및/또는 카복실산 그룹을 함유하는 염료이다. 당해 염료는 금속을 함유하거나 함유하지 않으며, 구리, 니켈, 크롬 및 코발트 착염이 금속 착염 중에서 바람직한 착염이다.
적합한 염료 라디칼 D 또는 일반식(I)의 염료의 기본이 되는 아미노 그룹을 함유하는 상기 계열의 염료는 대다수의 문헌에 기술되어 있다. 언급될 수 있는 예는 하기와 같다:
EP-A 제 54 515호, EP-A 제69 703호, EP-A 제70 807호, EP-A 제497 174호, DE 제3 222 726호, DE-A 제2 650 555호, DE-A 제3 023 855호, DE-A 제2 847 938호, DE-A 제2 817 780호, GB-A 제2 057 479호, DE-A 제2 916 715호, DE-A 제2 814 206호, DE-A 제3 019 936호, EP-A 제45 488호 및 문헌[참조: The Chemistry of Synthetic Dyes, Volume VI, Chapter II, pages 211-325, New York, London; 1972].
유기 아조 염료의 바람직한 라디칼은 예를 들면 하기 그룹에 상응한다.
Di-N=N-(M-N=N)0 또는 1K-
-Di-N=N-(M-N=N)0 또는 1K
-Di-N=N-(M-N=N)0 또는 1K-
[여기서, Di는 아조 화학계에 통상적인 치환체, 특히 하이드록실, 메틸, 에틸, 메톡시 또는 에톡시 그룹, 탄소수 2 내지 4의 임의로 치환된 벤조일아미노 그룹 또는 할로겐 원자 및 SO2-Z로 임의로 치환된 벤젠 또는 나프탈렌계 디아조 성분의 아디칼이고; K는 아조 화학계에서 통상적인 치환체, 특히 하이드록실, 아미노, 메틸, 에틸, 메톡시 또는 에톡시 그룹, 탄소수 2 내지 4의 임의로 치환된 알카노일아미노 그룹, 임의로 치환된 벤조일아미노 그룹 또는 할로겐 원자에 의해 임의로 치환된 벤젠, 나프탈렌 또는 케토메틸렌계 커플링 성분의 라디칼이고; M은 아조 화학계에 통상적인 치환체, 특히 하이드록실, 메틸, 에틸, 메톡시 또는 에톡시 그룹, 탄소수 2 내지 4의 임의로 치환된 알카노일아미노 그룹, 임의로 치환된 벤조일아미노 그룹 또는 할로겐 원자에 의해 임의로 치환된 벤젠 또는 나프탈렌계 중간 성분의 라디칼이며; Di, M 및 K는 함께 두 개 이상의 설폰산 그룹, 바람직하게는 3 내지 4개의 설폰산 그룹을 함유한다]
중요한 아조 염료는, 예를 들면, 벤젠-아조-나프탈렌계, 비스-(벤젠-아조)-나프탈렌계, 벤젠-아조-5-피라졸론계, 벤젠-아조-벤젠계, 나프탈렌-아조-벤젠계, 벤젠-아조-아미노나프탈렌계, 나프탈렌-아조-나프탈렌계, 나프탈렌-아조-5-피라졸론계, 벤젠-아조-피리돈계, 벤젠-아조-아미노피리딘계, 나프탈렌-아조-피리돈계, 나프탈렌-아조-아미노-피리딘계 및 스틸벤-아조-벤젠계의 염료이며, 설폰산 그룹을 함유하는 염료가 본원에서 바람직하다. 상기 금속 착염 아조 염료의 경우에 있어서, 금속 착염 결합된 그룹은 바람직하게는 아조 그룹에 대해 o-위치인, 예를 들면 o,o′-디하이드록시-, o-하이드록시-o′-카복시, o-카복시-o′-아미노- 및 o-하이드록시-o′-아미노-아조 그룹이다.
하기 일반식(9) 내지 (50)의 염료가 바람직하다.
하기 일반식(20) 내지 (50)의 염료의 금속 착염:
(Cu(1:1 착염) 또는 Cr 및 Co(1:2 착염)가 바람직한 금속 원자이다. Cr 및 Co 착염은 전술한 일반식의 아조 화합물을 한 개 또는 두 개 함유할 수 있다. 즉, 이들은 특정의 다른 목적하는 리간드 그룹에 의해 대칭 또는 비대칭적으로 형성될 수 있다)
상기식에서,
B는 일반적으로 일반식(VIa)의 라디칼이고,
아실은, 예를 들면, 아세틸 또는 임의로 치환된 벤조일이고,
R17은 H이거나, SO3H 또는 NH2로 임의로 치환된 C1-C2알킬이고,
R1은 H, CH3또는 C2H5이고,
R19는 H 또는 설포이고,
R13은 H, CH3, OCH3또는 Cl이고,
R12는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br, COOH 또는 SO3H이고,
R14는 H, OH, NH2, NHCOCH3, NHCOPh, Cl, C1-C4알콕시 또는 C1-C4알킬이고,
R16은 H, SO3H, CH2SO3H, Cl, C1-C4알킬설포닐, CN 또는 카복스아미드, 특히 CONH2이고,
R15는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br, 아실아미노, 특히 C1-C4알킬카보닐아미노 또는 아릴카보닐아미노(예: 임의로 치환된 페닐카보닐아미노), C1-C4알킬설포닐아미노, 아미노카보닐아미노, C1-C4알킬설포닐아미노 또는 아릴설포닐아미노이며,
R18은 H, C1-C4-알킬, C1-C4알콕시, OH 또는 SO3H이며,
파선으로 나타낸 축합 환은 또 다른 가능한 나프탈렌 시스템을 나타낸다.
상기식에서,
X, R2및 Z는 상기 일반식(I)에서 정의한 바와 같다.
추가로 바람직한 반응성 염료는, 바람직하게는 모노아조 또는 폴리아조계의 유기 염료의 라디칼인 라디칼 D가 다음 일반식
[여기서, Z′는 -CH=CH2, -CH2-CH2-OSO3H, -CH2-CH2-Cl, -CH2-CH2-Br, -CH2-CH2-S2O3H, -CH2-CH2-O-CO-CH3, -CH2-CH2-OPO3H2또는 -CH2-CH2-OH이다]의 그룹에 의해 1회 또는 2회 치환된 일반식(I)의 반응성 염료이다.
특히 바람직한 반응성 염료는, 바람직하게는 모노아조 또는 폴리아조계로부터의 유기 염료의 라디칼인 라디칼 D가 다음 일반식의 그룹
Z′-O2S-(CH2)0-1
[여기서, Z′는 위에서 정의한 바와 같고, n은 1이다]에 의해 1회 또는 2회 치환된 일반식(I)의 반응성 염료이다.
추가로, 보다 특히 바람직한 반응성 염료는, n이 1이고, w가 직접 결합이며, D가 일반식(IX)의 라디칼인 일반식(I)의 반응성 염료이다.
상기식에서,
R20은 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br, 아실아미노, 특히 C1-C4알킬카보닐아미노 또는 아릴카보닐아미노(예: 임의로 치환된 페닐카보닐아미노), C1-C4알킬설포닐아미노, 아미노카보닐아미노, C1-C4알킬설포닐아미노 또는 아릴설포닐아미노이고,
R21은 H, C1-C4알킬, Cl, Br, C1-C4알콕시 또는 COOH이고,
R22는 H C1-C4알킬, C1-C4알콕시, SO3H, Cl 또는 Br이고,
Z′는 특히 바람직하게는 -CH=CH2또는 -C2H4-OSO3H이며,
K는 하기 일반식(Xa) 내지 (Xd)의 2가 라디칼이다.
[여기서, ＊으로 나타낸 결합은 그룹 -NR1-B(여기서, B는 일반식(VIa)에서 정의한 바와 같다)에 결합된다]
일반식(I)의 염료에 대한, 일반식(IX)의 라디칼 D의 기본이 되는 적합한 디아조 성분은, 예를 들면, 하기와 같다:
아닐린-4--설페이토에틸설폰,
아닐린-4--티오설페이토에틸설폰,
아닐린-4-비닐설폰,
아닐린-3--설페이토에틸설폰,
아닐린-3-비닐설폰,
2-메톡시-아닐린-5--설페이토에틸설폰,
2-메톡시-아닐린-5--티오설페이토에틸설폰,
2-메톡시-아닐린-5-비닐설폰,
4-메톡시-아닐린-3--설페이토에틸설폰,
4-메톡시-아닐린-3--비닐설폰,
2,5-디메톡시아닐린-4--설페이토에틸설폰,
2,5-디메톡시-아닐린-4-비닐설폰,
2-메톡시-5-메틸-아닐린-4--설페이토에틸설폰,
아닐린-2--설페이토에틸설폰,
3-(3- 또는 4-아미노벤조일)-아미노페닐--설페이토에틸-설폰,
2-메톡시-5-메틸-아닐린-4-비닐설폰,
6-카복시-아닐린-3--설페이토에틸설폰,
6-카복시아닐린-3-비닐설폰,
2-설포아닐린-4--설페이토에틸설폰,
2-설포아닐린-4-비닐설폰,
2,4-디설포아닐린-5-비닐설폰,
2-나프틸아민-8--설페이토에틸설폰,
2-나프틸아민-6--설페이토에틸설폰,
1-설포-2-나프틸아민-6--설페이토에틸설폰,
1-나프틸아민-4--설페이토에틸설폰,
1-설포-2-나프틸아민-5--설페이토에틸설폰,
6-설포-2-나프틸아민-8--설페이토에틸설폰,
2-아미노-3-설포-나프탈렌-6,8-비스(-설페이토에틸설폰),
1-나프틸아민-5--설페이토에틸설폰,
2-나프틸아민-5--설페이토에틸설폰,
2-나프틸아민-8--설페이토에틸설폰,
8-설포-2-나프틸아민-6--설페이토에틸설폰,
4-아미노벤질--설페이토에틸설폰,
3-아미노벤질--설페이토에틸설폰,
4-아미노벤질비닐설폰,
3-아미노벤질비닐설폰,
3-아미노-4-설포벤질--설페이토에틸설폰,
4-아미노-3-설포벤질비닐설폰,
2´-(-설페이토에틸설포닐)-3-설포-4-아미노아조벤젠,
3´-(-설페이토에틸설포닐)-3-설포-4-아미노아조벤젠,
4´-메톡시-3´-(-설페이토에틸설폰)-3-설포-4-아미노아조벤젠,
4´-비닐설포닐-2´,3-디설포-4-아미노아조벤젠,
2´-(-설페이토에틸설포닐)-6-메틸-3-설포-4-아미노-아조벤젠,
3´-(-설페이토에틸설포닐)-6-메틸-3-설포-4-아미노-아조벤젠,
4´-(-설페이토에틸설포닐)-6-메틸-3-설포-4-아미노-아조벤젠,
4´-(-설페이토에틸설포닐)-2,6-디메틸-3-설포-4-아미노아조벤젠,
3´-(-설페이토에틸설포닐)-6-메톡시-3-설포-4-아미노아조벤젠,
3´,4´-비스-(-설페이토에틸설포닐)-6-메톡시-3-설포-4-아미노아조벤젠,
4´-(-설페이토에틸설포닐)-6-메톡시-3-설포-4-아미노아조벤젠,
4´-(-설페이토에틸설포닐)-2-메틸-5-메톡시-3-설포-4-아미노아벤젠,
4´-(-설페이토에틸설포닐)-2,5-디메톡시-3-설포-4-아미노아조벤젠,
3´-(-설페이토에틸설포닐)-2,5-디메톡시-3-설포-4-아미노아조벤젠,
2-(4´-아미노-3´-설포페닐아조)-6-(-설페이토에틸-설포닐)-나프탈렌,
2-(4´-아미노-6´-메틸-3´-설포페닐아조)-1-설포-6-(-설페이토에틸설포닐)-나프탈렌,
2-(4´-아미노-6´-메틸-3´-설포페닐아조)-6(-설페이토에틸설포닐)-나프탈렌,
2-(4´-아미노-3´-설포레닐아조)-8-설포-6-(-설페이토에틸설포닐)-나프탈렌,
2-(4´-아미노-6´-메틸-3´-설포페닐아조)-1,7-디설포-5-(-설페이토에틸설포닐)-나프탈렌.
라디칼 K의 기본이 되는 적합한 커플링 성분 H-K-NHR1의 예는 하기와 같다.
상기식에서,
＊는 커플링 부위를 나타내고,
m 및 p는 아조 그룹에 대한 아미노 그룹의 메타- 및 파라-위치를 나타낸다.
일반식(IX)의 염료 라디칼 D를 갖는 일반식(I)과 관련하여 바람직한 염료는 하기 일반식(51) 내지 (58)의 염료이다.
상기식에서,
B는 일반적으로 일반식(VIa)의 라디칼을 포함하고,
R1은 H, CH3또는 C2H5이고,
R20은 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br, 아실아미노, 특히 C1-C4알킬카보닐아미노 또는 아릴카보닐아미노(예: 임의로 치환된 페닐카보닐아미노), C1-C4알킬설포닐아미노, 아미노카보닐아미노, C1-C4알킬설포닐아미노 또는 아릴설포닐아미노이고,
R21은 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br 또는 COOH이며,
R22는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br 또는 SO3H이다.
상기식에서,
X, R2및 Z는 위에서 정의한 바와 같다
이와 유사하게 특히 유용한 상기 계열의 염료는 하기 일반식(XI)의 반응성 염료이다.
상기식에서,
DK는 벤젠 또는 나프탈렌계 화합물의 디아조 성분의 라디칼이고,
KK는 일반식(XII)의 커플링 성분의 라디칼이고, 일반식(XII)의 라디칼 및 아조 그룹은 ＊으로 나타낸 결합을 통해 서로 결합되고,
B는 일반식(VIa)의 라디칼이고,
Y는 B와는 상이한 헤테로사이클릭 섬유 반응성 라디칼이며,
R0및 R1은 서로 독립적으로 H이거나, 치환체, 예를 들어 OH, COOH, SO3H 또는 OSO3H로 임의로 치환된 C1-C6알킬이다.
상기식에서,
R2, X 및 Z는 위에서 정의한 바와 같다.
적합한 섬유 반응성 라디칼 Y, 즉 염색 조건하에서 섬유의 OH 또는 NH 그룹과 반응하여 공유 결합을 형성하는 라디칼은, 바람직하게는 5원 또는 6원 방향족-헤테로사이클릭 환, 예를 들어 모노아진, 디아진 또는 트리아진 환, 특히 피리딘, 피리미딘, 피리다진, 티아진, 옥사진, 비대칭 또는 대칭 트리아진 환, 또는 한 개 이상의 축합된 방향족-카보사이클릭 환을 함유하는 환 시스템, 예를 들면, 퀴놀린, 프탈라진, 신놀린, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 아크리딘, 페나진 또는 페난트리딘 환 시스템에 결합된 한 개 이상의 반응성 치환체를 함유하고, 추가의 발색단에는 결합되지 않는 라디칼이다.
언급할 수 있는 헤테로사이클 환의 반응성 치환체에는, 예를 들어 할로겐(Cl, Br 또는 F), 암모늄, 하이드라지늄, 피리디늄, 피콜리늄, 카복시피리듐, 설포늄, 설포닐, 아지도(N3), 티오시아네이토, 티오에테르, 옥시-에테르, 설핀산 및 설폰산이 있다.
특히, 예를 들어 Y에 대해 다음 라디칼을 언급할 수 있다: 알킬, 아릴, 아미노, 모노알킬아미노, 디알킬아미노, 아르알킬아미노, 아릴아미노, 모르폴리노, 피페리디노, 피롤리디노, 피페라지노, 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오 또는 아릴티오로 치환된 2,4-디플루오로트리아진-6-일, 2,4-디클로로트리아진-6-일 및 모노-할로게노-대칭-트리지닐 라디칼, 특히 모노클로로- 및 모노플루오로트리아지닐 라디칼(여기서, 알킬은 바람직하게는 임의로 치환된 C1-C4알킬이고, 아르알킬은 바람직하게는 임의로 치환된 페닐-C1-C4알킬이며, 아릴은 바람직하게는 임의로 치환된 페닐 또는 나프틸이고; 알킬에 대한 바람직한 치환체는 할로겐, 하이드록실, 시아노, 디알킬아미노, 모르폴리노, C1-C4-알콕시, 카복실, 설포 또는 설페이토이고, 페닐 및 나프틸에 대한 바람직한 치환체는 설포, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복실, 할로겐, 아실아미노, 하이드록실 및 아미노이다). 추가로 언급할 수 있는 라디칼은 2-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-메틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-이소프로필아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-디메틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2-디에틸아미노-4-플루오로트리아진-6-일, 2--메톡시-에틸아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2--하이드록시에틸아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-디(-하이드록시-에틸아미노)-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-카복시메틸아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-디-(카복시메틸아미노)-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-설포메틸-메틸아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2--시아노에틸아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-벤질아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-페닐에틸아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-벤질-메틸아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(4´-설포벤질)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-사이클로헥실아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(o-,m-,p-메틸페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(o-,m-,p-설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(2´,5´-디설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(o-,m-,p-클로로페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(o-,m-,p-메톡시페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(2´-메틸-4´-설포페닐)아미노-4-플루오로-트리아진-6-일,2-(2´-메틸-5´-설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(2´-클로로-4´-설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(2´-클로로-5´-설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(2´-메톡시-4´-설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(o-,m-,p-카복시페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(2´,4´-디설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(3´,5´-디설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(2´-카복시-4´-설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(2´-카복시-5´-설포페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(6´-설포나프트-2´-일)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(4´,8´-디설포나프트-2´-일)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(6´,8´-디설포나프트-2´-일)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(N-메틸-N-페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(N-에틸-N-페닐)-아미노4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(N--하이드록시에틸-N-페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(N-이소프로필-N-페닐)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-모르폴리노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-피페리디노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(4´,6´,8´-트리설포나프트-2´-일)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일,2-(3´,6´,8´-트리설포나프트-2´-일)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(3´,6´-디설포나프트-1´-일)-아미노-4-플루오로-트리아진-6-일, N-메틸-N-(2-메틸-아미노-4-클로로트리아진-6-일)-카바밀, N-메틸-N-(2-디메틸아미노-4-클로로트리아진-6-일)-카바밀, N-메틸- 또는 N-에틸-N-(2,4-디클로로트리아지닐-6)-아미노아세틸, 2-메틸옥시-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-에톡시-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-페녹시-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(o-,m- 또는 p-메틸 또는 -메톡시-페녹시)-4-플루오로-트리아진-6-일, 2--하이드록시-에틸머캅토-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-페닐머캅토-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-(4´-메틸페닐)-머캅토-4-플루오로트리아진-6-일, 2-(2´,4´-디니트로페닐)-머캅토-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-메틸-4-플루오로-트리아진-6-일, 2-페닐-4-플루오로-트리아진-6-일 및 상응하는 4-클로로- 및 4-브로모-트리아지닐 라디칼, 및 할로겐을 3급 염기, 예를 들어 트리메틸아민, 트리에틸아민, 디메틸--하이드록시에틸아민, 트리에탄올아민, N,N-디메틸하이드라진, 피리딘,-,- 또는-피콜린, 니코틴산 또는 이소니코틴산, 설피네이트, 특히 벤젠설핀산 또는 아황산 수소로 치환시킴으로써 수득가능한 라디칼, 및 디- 또는 트리할로게노 피리미딘 라디칼, 예를 들어 2,4-디클로로피리미딘-6-일, 2,4,5-트리클로로피리미딘-6-일, 4,5-디클로로피리미딘-6-일, 2,4-디플루오로피리미딘-6-일 및 4,5-디플루오로-5-클로로피리미딜, 및 2,3-디클로로퀴녹살린-5-카보닐 및 2,3-디클로로퀴녹살린-6-카보닐이다.
일반식(XI)의 반응성 염료는 하기의 두 개의 가능한 형태를 갖는다.
바람직한 일반식(XI)의 반응성 염료는, KK가 일반식(XIIa) 또는 (XIIb)의 커플링 성분의 2가 라디칼을 나타내고, DK가 일반식(XIIIa) 내지 (XIIId)의 디아조 성분의 라디칼을 나타내는 염료이다:
상기식에서,
라디칼(XIIa) 또는 (XIIb)와 아조 그룹은 ＊로 표시된 결합을 통해 서로 연결되고,
R25는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, OH 또는 SO3H이고,
R26은 H, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 아실아미노, 특히 C1-C4-알킬카보닐아미노, C1-C4-알킬설포닐아미노 또는 아미노카보닐아미노이고,
R24및 R27은 독립적으로 H, CH3, C2H5또는 OCH3이며,
B, R, Y 및 R1은 위에서 정의한 바와 같다.
추가로 바람직한 본 발명에 따르는 반응성 염료는, Y가 섬유 반응성 불소 함유 피리미딘-6-일 라디칼 또는 일반식(XIV)의 라디칼인 일반식 (XI) 또는 (XIa) 내지 (XIb)의 염료이다.
상기식에서,
R28및 R29는 서로 독립적으로 H, 치환체, 예를 들어, 할로겐, 시아노, C1-C4알콕시, 하이드록실, 페닐, 카복실, 설포 또는 설페이토로 임의로 치환된 C1-C4-알킬 및 C5-C6-사이클로알킬, 예를 들어 벤질, 펜에틸 또는 사이클로헥실, 또는, 치환체, 예를 들어 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-알카노일아미노, 벤조일아미노, 우레이도, 하이드록실, 카복실, 설포메틸 또는 설포로 치환된 C6-C10-아일, 특히 페닐 또는 나프틸이거나,
R28및 R29는 아미노 질소원자와 함께 모르폴리노, 피페리디노 또는 피페라지노 라디칼을 형성하고,
X1은 Cl, F 또는, 예를 들어, COOH 또는 SO3H에 의해 임의로 치환된 피리디늄 라디칼이다.
특히 바람직한 반응성 염료는 하기 일반식(61) 내지 (72)의 염료이다:
상기식에서,
R0는 H, CH3또는 에틸이고,
R1, R25, R26, B 및 Y는 위에서 정의한 바와 같다.
특히 바람직한 일반식(61) 내지 (72)의 반응성 염료는, Y가 -NR28R29[여기서, -NR4R5는 바람직하게는 -NH2, 모노폴리노, N--하이드록시에틸아미노, N,N-디--하이드록시에틸아미노,-설포에틸아미노, 페닐 핵에서 염소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 아세틸아미노, 하이드록실, 카복실, 설포메틸 또는 설포로 임의로 치환된 페닐아미노, 페닐 핵에서 염소, 메틸 또는 에틸로 임의로 치환된 N-C1-C4-알킬-페닐아미노, 페닐 핵에서 염소, 메틸 또는 에틸로 임의로 치환된 N-(설포-C1-C4-알킬)-페닐아미노, N-(하이드록시-C1-C4-알킬)-페닐아미노, 또는 설포나프틸아미노를 나타낸다]에 의해 치환된 플루오로-s-트리아진 라디칼인 염료이다.
본 발명은 하기 일반식(XV)의 염료를 각각의 경우에 하기 일반식(XVI)의 반응성 성분 및 하기 일반식(VIII)의 반응성 성분 1몰 당량과 임의의 필요 순서로 반응시키거나, 일반식
R1-NH-[DK]-NH2및 H-[KK]-NHR
의 상응하는 염료 전구체를 각각의 경우에 일반식(VII) 또는 (VIII)의 반응성 성분 1몰 당량과 각각 반응시킴을 목적으로 하는, 일반식(XI)의 반응성 염료의 제조방법에 관한 것이고, 또한 당해 생성물을 디아조화 및 커플링, 및 경우에 따라 추가의 전환 반응에 의해 일반식(I)의 반응성 염료(여기서, 라디칼 R, R1, R2, Hal, B, p 및 M은 위에서 정의한 바와 같다)로 전환시킨다.
바람직한 아조 염료의 제조에서, 디아조 성분 및 커플링 성분은 함께 두 개의 아미노 그룹 -N(R0)H 및 -N(R1)H, 경우에 따라 기타 아실화 가능한 아미노 그룹을 갖는다. 경우에 따라, 상응하는 아세틸아미노 또는 니트로 화합물이 사용되고, 이때 아세틸아미노 또는 니트로 그룹은 가수분해 또는 환원에 의해 NH2그룹으로 전환된 후, 이어서 할로게노트리아진, 할로게노피리미딘 등과 축합한다. 반응성 라디칼 B 및 Y는 아실화가능한 아미노 그룹을 함유하는 염료 또는 염료 전구체를 섬유 바능성 할로겐화 아실화제와 축합시킴으로써 도입한다.
상기한 개별적인 반응 단계는 상이한 순서로 수행될 수 있으므로, 다양한 방법 변형이 가능하다. 일반적으로, 반응을, 특정 조건에 따라 유리하게 개개의 반응 성분간의 일련의 단순한 반응을 연속해서 단계적으로 수행한다.
할로게노트리아진 또는 할로게노피리미딘 라디칼 등의 가수분해는 특정 예비조건하에서 발생하므로, 아세틸아미노 그룹을 함유하는 중간체 생성물을 가수분해시켜, 아미노디플루오로트리아진 또는 트리플루오로트리아진 등과의 축합을 수행하기 전에 아세틸 그룹을 제거하여야 한다. 또 다른 가능한 전환 반응은, 예를 들어 디할로게노트리아지닐 라디칼과 아민과의 후속적 반응이다. 이 반응은 편리하게는 아민 HNR25R29, 2,5,6-트리할로게노-s-트리아진 및 디아미노벤젠설폰산의 2급 축합 생성물의 제조시에 우선 수행되며, 트리할로게노트리아진과 아민 또는 디아미노벤젠설폰산과의 반응은 경우에 따라 상이하고, 모두 참여하는 아미노 화합물의 용해도 및 아실화되는 아미노 그룹의 염기되에 좌우된다. 가장 중요한 방법 변형은 실시예에 기술되어 있다.
모노 또는 폴리아조 염료(XI)를 제조하기 위한 적합한 출발 화합물은, 예를 들어 하기와 같다:
디아조 성분(R1-NH-[DK]-NH2)
1,3-디아미노벤젠, 1,4-디아미노벤젠, 1,3-디아미노-4-메틸벤젠, 1,3-디아미노-4-에틸벤젠, 1,3-디아미노-4-메톡시벤젠, 1,3-디아미노-4-에톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-메틸벤젠, 1,4-디아미노-2-메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-에톡시벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디메틸벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디에틸벤젠, 1,4-디아미노-2-메틸-5-메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2,5-디에톡시벤젠, 2,6-디아미노-나프탈렌, 1,3-디아미노-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-디아미노-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 1,3-디아미노-4-니트로벤젠, 4,4′-디아미노스틸벤, 4,4′-디아미노디페닐메탄, 2,6-디아미노나프탈렌-4,8-디설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2-설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2,5-디설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2,6-디설폰산, 1,3ㅍ디아미노벤젠-4-설폰산, 1,3-디아미노벤젠-4,6-디설폰산, 1,4-디아미노-2-메틸벤젠-5-설폰산, 1,5-디아미노-6-메틸벤젠-3-설폰산, 1,3-디아미노-6-메틸벤젠-4-설폰산, 3-(3′- 또는 4′-아미노벤조일아미노)-1-아미노벤젠-6-설폰산, 1-(4′-아미노벤조일아미노)-4-아미노벤젠-2,5-디설폰산, 1,4-디아미노벤젠-2-카복실산, 1,3-디아미노벤젠-4-카복실산, 1,2-디아미노벤젠-4-카복실산, 1,3-디아미노벤젠-5-카복실산, 1,4-디아미노벤젠-2-메틸벤젠, 4,4′-디아미노디페닐 옥사이드, 4,4′-디아미노디페닐우레아-2,2′-디설폰산, 4,4′-디아미노디페닐옥시에탄-2,2′-디설폰산, 4,4′-디아미노스틸벤-2,2′-디설폰산, 4,4′-디아미노디페닐에탄-2,2′-디설폰산, 2-아미노-5-아미노메틸-나프탈렌-1-설폰산, 2-아미노-5-아미노메틸나프탈렌-1,7-디설폰산, 1-아미노-4-메톡시-5-아미노메틸벤젠-6-설폰산, 1-아미노-3-(N-메틸)-아미노메틸벤젠-6-설폰산, 1-아미노-4-(N-메틸)-아미노메틸벤젠-3-설폰산, 1-아미노-4-아미노메틸벤젠-3-설폰산, 1,3-디아미노벤젠-4-(아조페닐-4′-설폰산), 1,3-디아미노벤젠-4-(아조페닐-2′,4′-디설폰산), 1,3-디아미노벤젠-6-설폰산-4-(아조페닐-4′-설폰산), 1,3-디아미노벤젠-6-설폰산-4-(아조페닐-3′,6′-디설폰산)
변현 방법의 설명에서 위에서 기술한 바와 같이, 아세틸 그룹이 가수분해에 의해 후속적으로 재분리되는 아미노아세틸 화합물을 디아민 대신에 디아조 성분으로서 사용하는 경우, 상기한 디아조 성분의 모노아세틸 화합물, 예를 들어 1-아세틸아미노-3-아미노벤젠-4-설폰산 또는 1-아세틸아미노-4-아미노벤젠-3-설폰산이 가능하다.
커플링 성분 (H-[KK]-NR0H)
1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-6-설폰산, 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-2,4-디설폰산, 2-하이드록시-3-아미노-나프탈렌-5,7-디설폰산, 1-아미노-8-하이드록시-나프탈렌-2,4,6-트리설폰산, 1-하이드록시-8-아세틸아미노나프탈렌-3-설폰산, 2-아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-메틸- 또는 2-에틸아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-(N-아세틸-N-메틸아미노)-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-아세틸아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 2-아미노-5-하이드록시나프탈렌-1,7-디설폰산, 2-아미노-8-하이드록시나프탈렌-6-설폰산, 2-(N-아세틸-N-메틸아미노)-8-하이드록시나프탈렌-6-설폰산, 2-아세틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-6-설폰산, 2-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산, 2-아세틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산, 1-아미노-5-하이드록시나프탈렌-7-설폰산, 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산, 1-아세틸아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산, 1-(4′-아미노벤조일아미노)-8-하이드록시-나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산, 1-(4′-니트로벤조일아미노)-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산, 1-(3′-니트로벤조일아미노)-8-하이드록시나프탈렌-3,6 또는 -4,6-디설폰산, 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-4-설폰산.
디아조화가능한 아미노 그룹을 함유한 디아조 성분 또는 중간체 생성물은 대체로 저온에서 무기산 수용액중에서 아질산의 작용으로 디아조화시킨다. 커플링 성분에 대한 커플링 반응은 약한 산성, 중성 내지는 약한 알칼리성 pH 값에서 수행된다.
반응성 성분과 디아조 성분 및 커플링 성분과의 축합반응, 반응성 성분과 아민과의 축합반응, 반응성 성분과 아실화 가능한 모노아조 또는 디아조 중간체 생성물과의 축합 반응 또는, 반응성 성분과 아미노 그룹을 함유하는 염료와의 축합 반응은 바람직하게는, 저온의, 약한 산성, 중성 내지는 약한 알칼리성 pH 값의 수용액 또는 현탁액중에서 수행한다. 바람직하게는, 축합 동안 유리되는 할로겐화 수소는 수성 알칼리 금속 수산화물, 중탄산염 또는 탄산염을 가해 계속해서 중화시킨다.
도시된 일반식은 유리 산의 일반식이다. 일반적으로, 염, 특히 알칼리 금속염, 예를 들어 나트륨, 칼륨 또는 리튬 염이 제조시에 수득된다. 피리딘을 사용한 4급화에 의해 형성된 전하가 분리 조건에 따라 대이온, 예를 들어 클로라이드, 플루오라이드 또는 설페이트에 의해 상쇄되거나, 염료가 설포 또는 카복실 그룹과 불활성 염을 형성한다. 염료는 또한 농축된 용액으로서 사용될 수 있다.
일반식(I)의 반응성 염료는 하이드록실 그룹 또는 아미드 그룹을 함유하는 천연 또는 합성 물질, 예를 들어 견직물, 가죽, 모직물 및 합성 폴리아미드 섬유, 특히, 린넨, 셀룰로오즈, 재생 셀룰로오즈, 무엇보다도 면직물과 같은 섬유 구조를 갖는 셀룰로오즈 함유 물질을 염색하고 날염하기에 적합하다. 이는 흡진 공정(exhaust process) 및 통상의 패트-염색 공정에 의해 염색하는 데에 적합하며, 이 방법에서는 제품을 수용액에, 경우에 따라 염 함유 염료 용액에 함침시키고, 염료를 알칼리 처리 후에 또는 알칼리 존재하에, 경우에 따라 열의 작용하에 고착시킨다.
일반식(I)의 반응성 염료는 높은 반응성과 우수한 고착력이 두드러진다. 또한 상기 염료는 이러한 3관능가로 인하여, 장액(long liquor) 중에서 높은 고착율을 갖는다. 상기 염료의 수율은 비교적 염색 온도에 무관하므로, 적당히 낮은 염색 온도에서 흡진 공정에 사용될 수 있다. 패드-스팀 공정에서는, 짧은 스팀 시간이 소요된다. 상기 염료에 의해 색상 강도가 우수하고 광 견뢰성이 우수하며 습윤견뢰성이 우수한 염색물이 생성된다.
또한 본 발명은 일반식(I)의 염료로 염색된 하이드록실 그룹 또는 아미드 그룹을 함유하는 물질을 포함하는 직물 제품에 관한 것이다.
하기 실시예로부터 염료의 λmax값은 달리 언급이 없는한 수중에서 측정한다.
[실시예 1]
A) 1-아미노-8-하이드록시-3,6-나프탈렌-디설폰산(H산) 0.1mol을 얼음 150부와 물 150부에 현탁시키고 수산화리튬 용액(pH 6)으로 용해시킨다. 2,4,6-트리 클로로-1,3,5-트리아진 0.11mol을 가하고, pH를 4로 강하시킨 후, 축합 반응이 종결될때까지 탄산리튬을 사용하여 이 수준으로 유지한다.
B) 상기 용액을 pH 8 및 20℃에서 물 50부 중의 일반식(Va)의 화합물 0.11mol의 용액에 10분에 걸쳐 적가하고, 이 동안 pH는 수산화리튬 용액을 사용하여 일정하게 유지한다.
C) 2-아미노-1-나프탈렌설폰산 0.1mol을 통상의 방법으로 디아조화시키고, pH 7.5 내지 8.5에서 H산 축합 생성물에 커플링시킨다. 염료를 염화칼륨을 가해 염석시켜 분리한다. 건조시켜 염 함유 염료 분말 약 35g을 수득한다. 이 염료는 다음 구조를 갖고, 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 또는 날염 공정에 의해 면직물을 적색으로 염색한다.
λmax= 522nm, 545nm(물)
[실시예 2]
A) 1-아미노-5-하이드록시-2-나프탈렌-설폰산(I산) 0.1mol을 얼음 300부와 물 300부에 현탁시키고 수산화리튬 용액(pH 6)을 사용하여 용해시킨다. 2,4,6-트리 플루오로-1,3,5-트리아진 0.15mol을 10분에 걸쳐 pH 4.5에서 적가하고, 이 동안 pH는 탄산리튬으로 일정하게 유지한다.
B) 상기 현탁액을 pH 8 및 20℃에서 10분에 걸쳐 물 50부 중의 일반식(Va)의 화합물 0.12mol의 용액에 적가하고, 이 동안 pH는 수산화리튬 용액을 사용하여 일정하게 유지한다.
C) 2-아미노-1,5-나프탈렌디설폰산 0.1mol을 0℃에서 물 200부와 얼음 100부에 현탁시키고, 농축 염산 28부를 가한다. 물 70부 중의 아질산나트륨 7부의 용액을 15분에 걸쳐 적가한다. 30분 동안 연속적으로 교반한 후, 디아조화가 종결된다. 담황색 현탁액을 수득한다. 과량의 아질산염은 아미도설폰산으로 제거한다.
이 현탁액을 15분 내지 20분에 걸쳐 I산 축합 생성물 0.1mol 중에서 계량하여 가한다. 커플링 반응을 20℃, pH 7 내지 8에서 수행한다. 에탄올을 가해 염료를 침전시킨 후 분리한다. 건조시켜 염료 분말 약 40g을 수득한다. 이 염료는 다음 구조를 갖고, 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 및 날염 공정으로 면직물을 오렌지색으로 염색한다.
λmax= 484nm
기타 반응성 염료는 다음 성분들을 축합 반응시켜 수득한다:
[실시예 19]
다음 구조의 모노아조 화합물 0.1mol을 물 500부와 얼음 200부에 수산화리튬용액(pH 6)과 함께 용해시킨다.
2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 0.15mol을 10분에 걸쳐 pH 4.5에서 적가하고, 이 동안 pH는 탄산리튬으로 일정하게 유지한다.
상기 용액을 pH 8 및 20℃에서 10분에 걸쳐 물 50부 중의 일반식(Va)의 화합물 0.12mol의 용액에 적가하고, 이 동안 pH는 수산화리튬 용액으로 일정하게 유지한다.
염화칼륨을 가해 염료를 염석시켜, 분리한 후, 건조시킨다. 염 함유 염료 약 72g은 다음 구조를 갖고, 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 날염 공정으로 면직물을 오렌지색으로 염색한다.
λmax= 483nm
기타 반응성 염료를 실시예 19에서와 유사하게 트리플루오로트리아진과 다음 성분들을 축합 반응시켜 수득한다:
[실시예 32]
다음 구조의 모노아조 염료 0.1mol을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
다음 구조의, 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 또는 날염 공정으로 면직물을 황색으로 염색하는 염 함유 염료 약 105g을 수득한다.
λmax= 421nm
기타 황색 반응성 염료를 다음 성분들을 축합시켜 수득한다.
[실시예 45]
다음 구조의 모노아조 염료 0.1mol을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
다음 구조의, 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 또는 날염 공정으로 면직물을 황색으로 염색하는 염 함유 염료 약 105g을 수득한다.
하기 아미노페닐아조피라졸론을 불화시아노르 및 하기 일반식(V)의 화합물과 축합반응시켜, 유사한 특성을 갖는 기타 황색 염료를 수득한다:
[실시예 53]
다음 구조의 모노아조 염료 0.1mol을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
pH 6의 인산염 완충액 1.5g을 생성 용액에 가하고, 혼합물을 35 내지 40℃에서 진공하에 증발하거나 분무 건조한다. 다음 구조의, 생성 염료는 장액 중에서 면직물을 황금색으로 염색한다.
λmax= 389nm
적황색 염색물을 만드는 기타 염료를 하기 p-아미노아조 화합물과 불화시아누르 또는 염화시아누르산 및 일반식(V)의 화합물을 축합반응시켜 수득한다:
[실시예 69]
다음 구조의 모노아조 염료 0.1mol을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
축합 반응이 종결되면, 염료를 염화시켜 분리하고 흡인 여과하며, pH를 6.5로 완충시킨후, 45℃에서 진공하에 건조시킨다. 이는 다음 구조를 갖고, 장액 중에서 우수한 고착율로 면직물을 청적색으로 염색시킨다.
λmax= 520nm, 544nm
유사한 적색 염료를 하기 성분들을 반응시켜 수득한다:
[실시예 83]
공지된 경로로 제조된 다음 구조의 아미노-디아조 화합물 36.7g을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
다음 구조의 생성 염료를 염화나트륨으로 염석하고, 흡인 여과한 후, pH 6에서 완충시키고, 45℃에서 진공하에 건조한다. 이는 반응성 염료에 대한 공지된 공정으로 면직물을 고수율로 갈색으로 염색한다.
λmax= 463nm
[실시예 83a]
실시예 83의 아미노디스아조 화합물 대신에, 다음 구조
의 화합물을 사용하는 경우, 면직물을 마찬가지로 고수율로 갈색으로 염색하는 다음 구조
의 염료가 수득된다.
기타 갈색 반응성 염료를 하기 성분들을 축합시켜 수득한다:
[실시예 88]
다음 구조의 아미노아조 화합물(0.1mol) 50.3g을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
이어서, 다음 구조의 염료를 염석시켜 분리하고 흡인 여과한다.
약하게 건조시킨 후, 면직물을 통상의 방법으로 고수율로 주홍색으로 염색하는 분말을 수득한다.
아미노아조나프톨 화합물을 기본으로 한 기타의 반응성 염료를 하기 성분들을 축합반응시켜 수득한다:
[실시예 93]
다음 구조의 공지된 화합물 0.1mol을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
축합 반응이 종결되면, pH 6으로 완충시킨 후, 직접적으로 분무건조하거나 염석하여 염료를 분리하고, 흡인 여과한 후, 40℃에서 진공건조한다.
염료는 다음 구조를 갖고, 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 공정에 의해 면직물을 매우 우수한 감색으로 염색한다.
다음 표에 나타낸 다음 구조의 아미노디스아조 성분을 트리할로게노트리아진 및 일반식(V)의 화합물과 축합반응시키는 경우, 셀룰로오즈 섬유를 감색 내지 흑색으로 염색하는 기타 유사한 반응성 염료를 수득한다.
[실시예 101]
다음 구조의 구리 착염 화합물 0.1mol을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
반응이 종결되면, 다음 구조의 염료를 염석시켜 분리하고 pH를 6으로 완충시킨 후, 45℃에서 진공하에 건조시킨다.
생성물은 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 기술에 의해 셀룰로오즈 섬유를 매우 우수한 고착율로 감청색으로 염색한다.
다음 표에 나타낸 공지된 구리 착염 화합물을 실시예 101에 기술된 공정으로 트리할로게노트리아진 및 일반식(V)의 성분과 축합반응시키는 경우, 통상의 염색 기술로 면직물을 매우 우수한 수율로 염색하는 기타 반응성 염료를 수득한다.
예를 들면, 오르토-디스아조 금속 착염계 화합물로 부터의 다른 유용한 염료는 다음과 같다:
[실시예 113]
예를 들면, 오르토-아미노아조 금속 착염계 화합물로부터의 위의 구조의 염료는 면직물을 올리브색으로 염색시킨다.
λmax= 468nm, 590nm
[실시예 114]
당해 염료는 면직물을 녹색으로 염색시킨다.
[실시예 115]
1-아미노-8-하이드록시-3,6-나트탈렌디설폰산 0.1mol을 실시예 2A)에서와 같이 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진과 반응시키고 실시예 2B)와 유사하게 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
1-설포-2-나프틸아민-6--설페이토에틸설폰 0.1mol을 통상적인 방법으로 디아조화하고 pH 7.5 내지 8.5에서 H산 축합 생성물에 커플링시킨다. 염화칼륨을 가하여 염료를 염석시켜 분리한다. 건조하여 다음 구조의 염 함유 염료 약 35g을 수득하며, 이는 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 또는 날염법에 의해 면직물을 적색으로 염색시킨다.
λmax= 519nm, 541nm
다른 적색 반응성 염료를 하기 성분의 축합 반응에 의해 수득한다:
[실시예 116]
4-(-설페이토에틸설포닐)아닐린 0.1mol을 0℃에서 물 200부와 얼음 100부에 현탁시킨다. 농축 염산 28부를 가한다. 물 70부 중의 아질산나트륨 7부 용액을 15분에 걸쳐 적가한다. 연속해서 혼합물을 30분 동안 교반한 후, 디아조화 반응이 완결된다. 담황색 현탁액이 생성된다. 과량의 아질산염을 아미노설폰산으로 제거한다.
이 현탁액을 15 내지 20분에 걸쳐 실시예 115로부터의 H산 축합 생성물 0.1mol 중에 계량하여 가한다. 20℃ 및 pH 7 내지 8에서 커플링시킨다. 에탄올을 가하여 염료를 침전시켜 분리한다. 건조하여 다음 구조의 염료 분말 약 40g을 수득하며, 이는 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 및 날염법에 의해 면직물을 적색으로 염색시킨다.
λmax= 515nm
다른 적색 반응성 염료를 하기 성분의 축합 반응에 의해 수득한다:
[실시예 130]
다음 구조의 모노아조 화합물 0.1mol을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 성분과 반응시킨다.
염화칼륨을 가하여 염료를 염석시켜 분리하고 건조한다. 다음 구조의 염 함유 염료 약 82g을 수득하고, 이는 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 및 날염법에 의해 면직물을 오렌지색으로 염색한다.
λmax= 492nm
[실시예 131]
(4-아미노페닐--설페이토에틸)설폰 0.1mol을 실시예 116에서와 같이 디아조화하고 실시예 2A) 및 2B)에서의 H산 축합 생성물과 커플링시킨다.
NaCl을 가하여 다음 구조의 염료를 염석시켜 분리한다. 건조하여 약 105g의 염료 분말을 수득하고, 이는 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 또는 날염법에 의해 면직물을 주홍색으로 염색한다.
λmax= 479nm
다른 반응성 염료를 실시예 130 또는 131에서와 유사하게 하기 성분의 축합반응에 의해 수득한다.
[실시예 139]
하기의 공지된 화합물 0.1mol을 실시예 19에서와 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 성분과 반응시킨다.
축합 반응이 완결되면, pH 6으로 완충시킨 후 직접적으로 분무 건조하거나 염석시켜 분리하고, 흡인 여과한 후 40℃에서 진공 건조한다. 염료는 다음 구조를 갖고, 이는 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 기술에 의해 면직물이 매우 우수한 수율로 감청색으로 염색시킨다.
λmax= 612nm
하기 표에 나타낸 다음 구조의 아미노디스아조 성분을 트리할로게노트리아진 및 일반식(V)의 성분과 축합 반응시키는 경우, 셀룰로오즈 섬유를 감청색 내지 흑색으로 염색하는 다른 유사한 반응성 염료를 수득한다.
[실시예 147]
A) 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산 0.1mol을 pH 6.5의 물 250ml에 용해시키고, 당해 용액을 250g의 얼음으로 0℃까지 냉각시킨다. 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진(불화시아누르) 0.1mol을 가하고 탄산나트륨 용액으로 pH를 3.5 내지 4로 유지한다. 5분 후 모르폴린 0.1mol을 가하고 탄산나트륨 용액으로 pH를 7까지 증가시킨다. 이로써 온도가 약 10℃까지 상승한다.
B) 2,4-디아미노벤젠설폰산 0.1mol을 물 100ml와 얼음 100g 중에서 교반하고 중성 조건하에서 용해시킨다. 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 0.1mol을 가하고 초기 축합반응을 pH 4 내지 5에서 수행하고, pH를 탄산나트륨 용액으로 유지한다. 1차 축합 반응이 완결되면 일반식(Va)의 화합물 0.1mol을 가한다. 2차 축합반응을 30℃ 및 pH 8에서 수행한다. 다음 구조의 생성물이 수득된다.
이 디아조 성분을 0℃ 및 pH 3 내지 3.5에서 디아조화시키고, 상기 기술한 커플링 성분 용액에 가하고 탄산나트륨 용액으로 pH를 6 내지 7로 맞추고 유지한다.
커플링 반응이 완결되면, NaCl로 염석시켜 분리하고, 건조한다. 다음 구조의 염 함유 염료 81g를 분말로서 수득하고, 이는 면직물을 담적색으로 염색시킨다.
λmax= 514nm, 533nm
하기 실시예의 염료를 유사하게 제조한다.
[실시예 160]
1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산 0.2mol 을 pH 8 내지 9의 수산화나트륨 용액과 함께 물 450ml에 용해시키고, 2,4,6-트리플루오로피리미딘 0.22mol을 가한다. 축합반응을 35 내지 40℃에서 수행하고, pH를 탄산나트륨 용액으로 유지한다.
실시예 147 B)에 기술되어 있는 디아조 성분 0.2mol을 디아조하고 상기 기술된 커플링 성분으로 커플링시킨다. 염석시키고, 분리하고 건조하여 다음 구조의 염료를 수득하고, 이는 면직물을 적색으로 염색시킨다.
[실시예 161]
8-(4′-아미노-벤조일아미노)-1-나프톨-3,6-디설폰산 0.2mol을 pH 7의 탄산나트륨 용액(20g/100ml)과 함께 물 800ml에 용해시킨다. pH를 10% 농도의 HCl 용액으로 4.5로 조절한다. 2,4,6-트리플루오로피리미딘 0.2mol을 가하고 혼합물을 30℃까지 가열한다. 탄산나트륨 용액으로 pH를 4.5 내지 6으로 유지한다. 반응은 4시간 후 완결된다.
실시예 147로부터의 디아조늄염 0.2mol을 가하는 동시에 탄산나트륨 용액을 적가하여 pH를 7.5 내지 8로 유지한다. 커플링 반응이 완결되면, 생성물을 NaCl로 염석시키고, 분리하고 건조한다. 다음 구조의 염료는 면직물을 적색으로 염색시킨다.
λmax= 520nm, 537nm
실시예 163 내지 174의 염료를 실시예 160 및 161과 유사하게 제조한다.
[실시예 175]
N-에틸아닐린 0.22mol을 pH 5의 염산과 함께 물 200ml에 용해시킨다. 얼음 200g을 가하고 염화시아누르 0.24mol을 이에 분무시킨다. 탄산나트륨 용액으로 pH를 5 내지 6이 되도록 한다. 0℃에서 1시간 후 축합반응이 완결된다. 2,4-디아미노-벤젠설폰산 0.2mol을 농축 수산화나트륨 용액을 가하여 물 250ml 중에 용해시키고, 이 용액을 축합 반응의 제1 단계에 가한다. 탄산나트륨 용액으로 pH를 6 내지 7로 유지한다. 혼합물을 25 내지 30℃까지 가열한다. 축합이 완결되면, 혼합물을 0℃로 냉각한다. 30% 염산 56ml를 가한다. 아질산나트륨 용액 (30g/100ml) 47ml을 적가하고, 혼합물을 0℃에서 1시간 동안 교반한다. 아질산나트륨을 아미도설폰산으로 제거시키고, 이로써 수득된 디아조화 반응 혼합물을 실시예 1로부터의 커플링 성분에 가한다. 탄산나트륨 용액(20g/100ml)으로 pH를 7 내지 8로 유지한다. T=10-15℃, 커플링 반응이 완결되면, NaCl로 염석시키고, 분리하고 건조한다. 생성된 다음 구조의 염료는 면직물을 적색으로 염색한다.
λmax= 515nm, 533nm
실시예 176 내지 178의 염료를 실시예 175와 유사하게 제조한다.
[실시예 179]
6-플루오로-5-클로로-4-(3′-아미노-4′-설포페닐)-아미노-피리미딘(2,4-디아미노벤젠설폰산 및 4,6-디플루오로-5-클로로피리미딘으로부터 제조) 0.2mol을 물에 현탁시키고, 30% 농도의 염산 65ml와 얼음 300g을 가한다. 이후 30% 농도의 아질산나트륨 용액 46ml를 가하고, 혼합물을 0℃에서 1시간 동안 교반한다. 과량의 아질산나트륨을 아미노설폰산으로 제거시키고 이로써 수득된 디아조화 반응 혼합물을 실시예로부터의 커플링 성분의 용액에 가한다. 탄산나트륨 용액으로 pH를 7 내지 8로 유지한다. T=10-15℃, 커플링 반응이 완결되면, NaCl로 염석시키고, 분리하고 건조한다. 다음 구조의 염료는 면직물을 적색으로 염색한다.
실시예 180 내지 182의 염료를 실시예 179와 유사하게 제조한다.
N-(2-카복시-5-설포페닐)-N′-(2′-하이드록시-3′-아미노-5′-설포페닐)-ms-페닐-포르마잔 이나트륨 염의 구리 착염 0.1mol을 물 600ml에 용해시킨다. 0℃까지 냉각한 후 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 0.12mol을 적가하고 탄산나트륨 용액을 가하여 pH를 7.0으로 유지한다. 일반식(Va)의 화합물 0.11mol을 가한 후 탄산나트륨 용액으로 pH를 8로 유지시키고, 온도를 20℃까지 서서히 상승한다. 축합 반응이 완결되면, 염료를 염석시키고, 분리하고, pH를 6으로 완충시킨 후 45℃에서 진공 건조한다.
당해 염료는 다음 구조에 상응하고, 이는 면직물을 장액 중에서 우수한 고착율로 청색으로 염색한다.
λmax= 609nm
다른 청색의 포르마잔 염료를 하기 성분의 축합 반응으로 수득한다:
[실시예 195]
다음 구조의 안트라퀴논 0.1mol을 pH 12 내지 13의 수산화칼륨 용액과 함께 물 약 1000부에 용해시킨다.
염료 용액을 청정화시키고 헥사하이드로-2H-아제핀-2-온 200부를 가한다. 개시 축합반응을 0℃에서 염화시아누르 0.11mol로 수행한다. 2차 축합 반응을 일반식(Na)의 화합물 0.1mol을 가한후 pH 8 및 30℃에서 수행한다.
염료를 에탄올로 침전시키고, 분리하고 건조한다. 다음 구조의 반응성 염료 약 200g를 수득하며, 이는 반응성 염료에 대한 통상적인 염색 또는 날염법에 의해 면직물을 청색으로 염색시킨다.
λmax= 593nm, 640nm
유사한 특성을 갖는 다른 청색의 안트라퀴논 염료를, 다음 표에 나타낸 다음 구조의 안트라퀴논 성분을 일반식(Va)의 성분및 트리할로게노트리아진과 상기되어 있는 방법중의 하나로 축합반응시킴으로써 수득한다.
[실시예 204]
유럽 특허 명세서 제0 073 267호에 따라 제조된 다음 구조의 구리 프탈로시아닌 성분 32g을 pH 7.0 내지 7.5의 물 300ml에 용해시키고, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 실시예 195와 유사하게 반응시킨다.
반응이 완결되면, 생성물을 용액 중에서 염석시키고, 흡입 여과하고, 소량의 pH 6.0의 인산염 용액으로 완충시키고, 45℃에서 진공하에 건조한다. 당해 염료는 다음 구조에 상응하고, 이는 반응성 염료에 대한 공지된 방법에 의해 우수한 수율로 면직물을 바래지 않는 청록색으로 염색 및 날염시킨다.
λmax= 663nm, 622nm
다른 프탈로시아닌 반응성 염료를, 하기의 표에 나타난 바와 같은 프탈로시아닌 성분, 트리할로게노트리아진 및 일반식(Va)의 성분을 실시예 183 및 195에 기술된 방법으로 서로 축합반응시킴으로써 수득한다.
[실시예 209]
다음 구조의 트리펜디옥사진 화합물 22.1g을, pH 11.5 내지 12의 수산화나트륨 용액을 적가하여 물 300ml에 용해시키고, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 실시예 195와 유사하게 반응시킨다.
염료를 염석시키고, 흡인 여과하고 pH 6.7로 완충시킨 후 45℃에서 진공하에 건조시킨다. 이는 다음 구조를 갖고, 통상적인 방법에 의해 우수한 고착율로 면직물을 선명한 청색으로 염색시킨다.
λmax= 622nm
[실시예 210]
다음 구조의 트리펜디옥사진 화합물 50g을, pH 7.0 내지 10%의 농도의 수산화리튬과 함께 물 2000ml에 용해시키고, 실시예 183과 유사하게 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진 및 일반식(Va)의 화합물과 반응시킨다.
축합 생성물을 염석시키고, 분리하고 건조한다.
생성된 염료는 다음 구조를 갖고, 면직물을 장액 중에서 선명한 적청색으로 염색시킨다.
λmax= 580nm
다른 트리펜디옥사진 반응성 염료를 실시예 183 및 195에서와 유사한 방법으로 하기 성분의 축합 반응에 의해 제조한다:

Claims (19)

  1. 하기 일반식(I)의 반응성 염료.
    상기식에서,
    D는 모노아조, 폴리아조, 금속 착염 아조, 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 포르마잔, 아조메틴, 디옥사진, 페나진, 스틸벤, 트리페닐메탄, 크산텐, 티옥산톤 및 니트로아릴계 화합물로부터 선택된 유기 염료의 라디칼이며,
    W는 직접 결합 또는 브릿지 구성원이고,
    R1은 H이거나, OH, COOH, SO3H 또는 OSO3H, OCH3, OC2H5또는 염소 또는 불소를 포함하는 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C4알킬이며,
    R2는 C1-C4알킬이고,
    X는 F, Cl 또는 Br이며,
    Z는 -CH=CH2또는 CH2-CH2-OSO3H이고,
    n은 1 또는 2이다.
  2. 제1항에 있어서, R2가 메틸이고, Z가 CH2CH2OSO3H임을 특징으로 하는 반응성 염료.
  3. 제1항에 있어서, D가 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 포르마잔, 아조메틴, 디옥사진, 페나진, 스틸벤, 트리페닐메탄, 크산텐, 티옥산톤 및 니트로아릴계 화합물로부터 선택된 유기 염료의 라디칼임을 특징으로 하는 반응성 염료.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 하기 일반식(1) 내지 (8) 중의 하나에 상응함을 특징으로 하는 반응성 염료.
    상기식에서,
    B′는 일반식(VIb)의 라디칼이며,
    R3은 H, 메틸, 메톡시 또는 염소이고,
    R4는 H 또는 SO3H이며,
    R5는 H, 메틸 또는 에틸이고,
    B는 일반식(VIa)의 라디칼이며,
    A는 한 개 또는 두 개의 설포 그룹으로 치환되거나 치환되지 않은 페닐렌 또는 방향족-지방족 브릿지 구성원을 나타내거나, NR6, O 및 S를 포함한 헤테로 원자를 함유하는 그룹으로 차단되거나 차단되지 않은, C1-C6알콕시, OSO3H, SO3H, COOR 또는 할로겐으로 치환될 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬렌을 나타내며, 그룹 NR6은 브릿지 구성원 A 내에서 그룹 NR1과 함께 헤테로사이클릭 지방족 환을 형성할 수도 있으며,
    T1및 T2는 서로 독립적으로 H, Cl, Br, C1-C2알킬, OCH3, OC2H5, 아실아미노 또는 C1-C2알콕시카보닐이고,
    R6및 R7은 각각 독립적으로 H이거나, OR, OSO3H, SO3H, COOR 또는 할로겐으로 치환될 수 있는 C1-C4알킬이며,
    R은 H, CH3또는 C2H5이고,
    Me는 Cu 또는 Ni이며,
    Pc는 프탈로시아닌 라디칼이고,
    u+v+w는 3.4 내지 4.0이며, 단 u는 0.8 내지 2.0이고, v는 0 내지 1.0이고, w는 1.0 내지 3.0이며,
    R8및 R9는 각각 H이거나, HO, OSO3H 또는 COOH로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C2알킬이고,
    v1 및 w1은 각각 0 또는 1이며, w1은 v1과 동일하지 않고,
    R10및 R11은 서로 독립적으로 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, OH, 할로겐, COOH, NO2, SO3H, 설폰아미도, C1-C4알킬카보닐아미노, 페닐카보닐아미노, C1-C4알킬설포닐아미노 또는 페닐설포닐아미노이다.
    상기식에서,
    R1, R2, X 및 Z는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  5. 제1항에 있어서, D가 모노아조, 폴리아조 및 금속 착염 아조계 화합물로부터 선택된 유기 염료의 라디칼이며, 추가의 섬유 반응성 그룹을 함유하지 않음을 특징으로 하는 반응성 염료.
  6. 제5항에 있어서, 하기 일반식(9) 내지 (50) 중의 하나에 상응함을 특징으로 하는 반응성 염료.
    하기 일반식(20) 내지 (50)의 염료의 금속 착염:
    상기식에서,
    B는 일반식(VIa)의 라디칼이고,
    아실은 아세틸 또는 벤조일이고,
    R1은 H, CH3또는 C2H5이고,
    R12는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br, COOH 또는 SO3H이고,
    R13은 H, CH3, OCH3또는 Cl이고,
    R14는 H, OH, NH2, NHCOCH3, NHCOPh, Cl, C1-C4알콕시 또는 C1-C4알킬이고,
    R15는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br, 아실아미노, C1-C4알킬설포닐아미노, 아미노카보닐아미노, C1-C4알킬설포닐아미노 또는 아릴설포닐아미노이고,
    R16은 H, SO3H, CH2SO3H, Cl, C1-C4알킬설포닐, CN 또는 카복스아미드이고,
    R17은 H이거나, SO3H 또는 NH2로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C2알킬이고,
    R18은 H, C1-C4-알킬, C1-C4알콕시, OH 또는 SO3H이고,
    R19는 H 또는 설포이며,
    파선으로 나타낸 축합 환은 다른 가능한 나프탈렌 시스템을 나타낸다.
    상기식에서,
    X, R2및 Z는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  7. 제1항에 있어서, 모노아조 및 폴리아조계 화합물로부터 선택된 유기 염료의 라디칼 D가 하기 일반식의 그룹으로 1회 또는 2회 치환됨을 특징으로 하는 반응성 염료.
    상기식에서,
    Z′는 -CH=CH2, -CH2-CH2-OSO3H, -CH2-CH2-Cl, -CH2-CH2-Br, -CH2-CH2-S2O3H, -CH2-CH2-O-CO-CH3, -CH2-CH2-OPO3H2또는 -CH2-CH2-OH이다.
  8. 제7항에 있어서, n이 1이고, W가 직접 결합이며, D가 하기 일반식(IX)의 라디칼임을 특징으로 하는 반응성 염료.
    상기식에서,
    R20은 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br 또는 아실아미노이며,
    R21은 H, C1-C4알킬, Cl, Br, C1-C4알콕시 또는 COOH이고,
    R22는 H C1-C4알킬, C1-C4알콕시, SO3H, Cl 또는 Br이며,
    K는 하기 일반식(Xa) 내지 (Xd)의 2가 라디칼이다.
    [여기서, ＊으로 나타낸 결합은 그룹 -NR1-B(여기서, B는 제4항에서 정의한 바와 같다)에 결합된다]
  9. 제7항에 있어서, 하기 일반식(51) 내지 (58) 중의 하나에 상응함을 특징으로 하는 반응성 염료.
    상기식에서,
    B는 일반식(VIa)의 라디칼을 포함하며,
    R1은 H, CH3또는 C2H5이고,
    R20은 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 아실아미노, Cl 또는 Br이며,
    R21은 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br 또는 COOH이고,
    R22는 H C1-C4알킬, C1-C4알콕시, Cl, Br 또는 SO3H이다.
    상기식에서,
    R2, X 및 Z는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  10. 제1항에 있어서, 하기 일반식(XI)의 반응성 염료.
    상기식에서,
    DK는 벤젠 또는 나프탈렌계 화합물의 디아조 성분의 라디칼이며,
    KK는 일반식(XII)의 커플링 성분의 라디칼이고, 일반식(XII)의 라디칼과 아조 그룹은 ＊으로 나타낸 결합을 통해 서로 결합되어 있으며,
    B는 일반식(VIa)의 라디칼이고,
    Y는 B와는 상이한 헤테로사이클릭 섬유 반응성 라디칼이며,
    R0및 R1은 서로 독립적으로 H이거나, OH, COOH, SO3H 또는 OSO3H로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C6알킬이다.
    상기식에서,
    R1, R2, X 및 Z는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  11. 제10항에 있어서, 하기 일반식(61) 내지 (72)의 반응성 염료.
    상기식에서,
    R0은 H, CH3또는 C2H5이며,
    R25는 H, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, OH 또는 SO3H이고,
    R26은 H C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 아실아미노이며,
    X 및 Z는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  12. a) 하기 일반식(II)의 염료를 하기 일반식(III)의 트리할로게노트리아진 n몰과 축합시켜 하기 일반식(IV)의 화합물을 수득하고, 일반식(IV)의 화합물을 하기 일반식(V)의 성분 n몰과 추가로 축합시키거나,
    b) 이와는 역순으로 하기 일반식(III)의 트리할로게노트리아진을 하기 일반식(V)의 성분과 축합시켜 하기 일반식(VI)의 1차 축합 생성물을 수득하고, 일반식(VI)의 화합물 n몰을 하기 일반식(II)의 염료와 추가로 축합시키거나,
    c) 적합한 전구체를 트리할로게노트리아진(III) 및 하기 일반식(V)의 성분과 축합시키거나, 적합한 전구체를 하기 일반식(VI)의 1차 축합 생성물과 축합시킨 후 염료를 합성시킴을 특징으로 하여, 일반식(I)의 반응성 염료를 제조하는 방법.
    상기식에서,
    D는 모노아조, 폴리아조, 금속 착염 아조, 안트라퀴논, 프탈로시아닌, 포르마잔, 아조메틴, 디옥사진, 페나진, 스틸벤, 트리페닐메탄, 크산텐, 티옥산톤 및 니트로아릴계 화합물로부터 선택된 유기 염료의 라디칼이며,
    W는 직접 결합 도는 브릿지 구성원이고,
    R1은 H이거나, OH, COOH, SO3H 또는 OSO3H, OCH3, OC2H5또는 염소 또는 불소를 포함하는 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않은 C1-C4알킬이며,
    R2는 C1-C4알킬이고,
    X는 F, Cl 또는 Br이며,
    Z는 -CH=CH2또는 CH2-CH2-OSO3H이고,
    n은 1 또는 2이다.
  13. 일반식의 3-알킬-2-옥소-옥사졸리디논과 2-머캅토에탄올을 반응시켜 수득한 일반식 R2-NH-C2H4-S-C2H4-OH의 화합물을 산화시켜 일반식 R2-NH-CH2CH2SO2-CH2CH2OH의 화합물로 전환시킨 후, 이를 통상적인 방법으로 하기 일반식(V)의 화합물로 전환시킴을 특징으로 하여, 하기 일반식(V)의 화합물을 제조하는 방법.
    R2-NH-CH2CH2-SO2-Z (V)
    상기식에서,
    R2는 C1-C4알킬이며,
    Z는 -CH2CH2-OSO3H 또는 -CH=CH2이다.
  14. 제1항에 따르는 반응성 염료를 사용함을 특징으로 하여, 하이드록실 그룹 또는 아미드 그룹을 함유하는 천연 물질 또는 합성 물질을 염색 또는 날염하는 방법.
  15. 하이드록실 그룹 또는 아미드 그룹을 함유하는 물질을 제1항에 따르는 염료로 염색시킨 직물 제품.
  16. 제1항에 있어서, R2가 메틸임을 특징으로 하는 반응성 염료.
  17. 제6항에 있어서, R16이 CONH2이고, R15가 C1-C4알킬-카보닐아미노 또는 페닐카보닐아미노를 포함한 아릴카보닐아미노임을 특징으로 하는 반응성 염료..
  18. 제12항에 있어서, R2가 메틸임을 특징으로 하는 방법.
  19. 제13항에 있어서, 산화가 H2O2에 의해 수행되고, R2가 메틸임을 특징으로 하는 방법.
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