KR100253363B1 - 반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 랜드 그리드 어레이반도체 패키지 및 그들의 제조 방법 - Google Patents
반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 랜드 그리드 어레이반도체 패키지 및 그들의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100253363B1 KR100253363B1 KR1019970065209A KR19970065209A KR100253363B1 KR 100253363 B1 KR100253363 B1 KR 100253363B1 KR 1019970065209 A KR1019970065209 A KR 1019970065209A KR 19970065209 A KR19970065209 A KR 19970065209A KR 100253363 B1 KR100253363 B1 KR 100253363B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- semiconductor package
- wiring pattern
- insulator
- conductive
- conductive wiring
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49805—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers the leads being also applied on the sidewalls or the bottom of the substrate, e.g. leadless packages for surface mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/13—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/16235—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a via metallisation of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49838—Geometry or layout
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00015—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed as prior art
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1515—Shape
- H01L2924/15153—Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15172—Fan-out arrangement of the internal vias
- H01L2924/15174—Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15192—Resurf arrangement of the internal vias
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Abstract
열방출 및 솔더 조인트 신뢰성을 향상시키고, 적층가능하도록 된 LGA 반도체 패키지에 관한 것으로, 상,하면을 가지고 도전성 내부배선들(20a)이 내설된 절연체(20)와; 상기 절연체(20)의 상면 중앙에 형성된 캐비티(Cavity)부(22)와; 상기 절연체(20)의 상면의 상기 캐비티부(22)의 양측에 형성된 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과; 상기 절연체(20)의 하면에 상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과 대응되도록 형성된 제 2 도전성 배선 패턴층(26)과; 상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과 제 2 도전성 배선 패턴층(26) 사이를 전기적으로 연결하는 제 3 도전성배선 패턴층(30)과; 상기 캐비티부(22)의 저면에 형성된 복수개의 도전성 본드패드들(32)과; 상기 본드패드들(32)의 상면에 제 1 접착부재(40)를 매개로하여 부착된 반도체 칩(55)과; 상기 캐비티부(22)를 덮도록 상기 반도체 칩(55)의 상면에 제 2 접착부재(60)를 매개로하여 부착된 열방출부재(65)와; 그리고, 상기 캐비티부(22)내에 채워진 몰딩부(70)를 포함하여 구성된다
Description
본 발명은 반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : 이하 LGA) 반도체 패키지 및 그들의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 열방출 및 솔더 조인트 신뢰성을 향상시키고, 적층가능하도록 된 LGA 반도체 패키지에 관한 것이다.
최근 다핀 패키지의 하나로써 각광 받는 쿼드 플래트 패키지(QUAD FLAT PACKAGE : 이하 QFP라 칭함)는, 다핀화 추세로 인하여 아웃리드의 폭이 점점 얇아짐과 아울러 리드간의 피치가 미세화되기 때문에 리드의 휨이 쉽게 발생되며, 또한 인쇄회로기판(PRINTED CIRCUIT BOARD : PCB)에 표면실장할때 그 인쇄회로기판과 패키지 간의 정렬 및 솔더의 양 조절이 어려운 단점을 가지고 있었다. 따라서, 다핀화 추세에 부응하면서 상기와 같은 QFP의 단점을 해결하는 BGA 반도체 패키지가 개발되어 사용되고 있는 바, 그 BGA 반도체 패키지는 아웃리드가 없고 그대신 솔더볼이 아웃리드의 역할을 하기 때문에 상기 QFP의 단점을 해소할 수 있게 되었다.
도 1은 종래 BGA 반도체 패키지의 구성을 보인 종단면도로서, 이에 도시된 바와 같이, 패턴화된 도전성 배선들(미도시)이 내설되어 있는 기판(1)이 있고, 상기 기판(1)의 상부에 반도체 칩(2)이 접착제(3)를 매개로 하여 부착되어 있으며, 상기 반도체 칩(2)과 (상기 기판(1)에 내설된) 각 배선의 일단이 다수의 도전성 와이어(4)에 의해 전기적으로 연결되어 있다. 또한, 상기 기판(1)의 상부에 상기 반도체 칩(2)과 와이어들(4)을 밀봉하고 있는 몰딩부(5)가 형성되어 있고, 상기 기판(1)의 하면에는 그 기판(1)에 내설된 각 배선의 타단에 연결되도록 다수개의 솔더볼(6)이 부착되어 있다. (여기서, 상기 배선들은 기판의 상,하부를 전기적으로 연결하여 주는 전기적 경로가 된다.)
그러나, 도 1에 도시된 종래의 BGA 패키지는 반도체 칩이 몰딩부에 의해 완전히 밀봉되어 있기 때문에 열방출이 어렵다. 또한, 반도체 패키지의 하면으로만 전기적 신호의 입출력단자가 되는 솔더볼들이 형성되어 있기 때문에, 다층의 반도체 패키지 모듈을 만들지 못하는 단점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 그 목적은 열방출 효율을 높이고, 적층이 가능하도록 하며, 솔더조인트 신뢰성을 향상시키도록 된 반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 LGA 반도체 패키지 및 그들의 제조방법을 제공하고자 한다.
도 1 은 종래 볼 그리드 어레이(BGA) 반도체 패키지의 구성을 보인 종단면도.
도 2 는 본 발명에 따른 반도체 패키지용 기판의 평면도.
도 3 은 도 2의 I-I선 종단면도.
도 4 는 본 발명에 따른 반도체 패키지용 기판을 이용한 LGA 반도체 패키지의 종단면도.
도 5a - 도 5c는 도 3의 반도체 패키지용 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 순차적인 평면도
도 6a - 도 6c는 도 5a - 도 5c의 II-II선 종단면도.
도 7a - 도 7d는 본 발명에 따른 LGA 반도체 패키지의 제조방법을 설명하기 위한 순차적인 종단면도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
20 : 절연체 20a : 내부배선
22 : 캐비티 24 : 제 1 도전성 배선 패턴층
26 : 제 2 도전성 배선 패턴층 28 : 제 2 도전성 배선 패턴층
29 : 비아홀 30 : 제 3 도전성 배선 패턴층
31 : 홀 32 : 본드패드
40 : 제 1 접착부재 50 : 범프
55 : 반도체 칩 60 : 제 2 접착부재
65 : 열방출부재 70 : 몰딩부
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 반도체 패키지용 기판은:
상,하면을 가지고 도전성 내부배선들이 내설된 절연체와; 상기 절연체의 상면 중앙에 형성된 캐비티(Cavity)부와; 상기 절연체의 상면의 상기 캐비티부의 양측에 형성된 제 1 도전성 배선 패턴층과; 상기 절연체의 하면에 상기 제 1 도전성 배선 패턴층과 대응되도록 형성된 제 2 도전성 배선 패턴층과; 상기 제 1 도전성 배선 패턴층과 제 2 도전성 배선 패턴층 사이를 전기적으로 연결하는 제 3 도전성배선 패턴층과; 그리고, 상기 캐비티부의 저면에 형성된 복수개의 도전성 본드패드들을 포함하여 구성된다.
상기 도전성 내부배선들의 일단은 상기 본드패드들에 연결되고 타단은 상기 제 1 내지 제 3 도전성 배선 패턴층 중의 하나에 연결되어, 반도체 칩의 전기적인 경로를 형성한다.
상기 절연체의 상,하면의 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴들이 형성되지 않은 부위에는 솔더 마스크층이 부가 형성되어, 외부와의 전기적 경로가 되는 각 배선들 간의 전기적인 단락(short)을 방지한다.
상기 제 3 도전성 배선 패턴층은 상기 절연체의 측면에 형성되어, 전기적인 외부단자가 되는 제 2 도전성 배선패턴층과 연결되어 있다. 따라서, 인쇄회로기판에 실장하여 솔더링할 때 그 외부단자의 솔더링 면적을 넓혀주기 때문에 솔더 조인트 신뢰성이 향상된다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 LGA 반도체 패키지는:
상기 반도체 패키지용 기판과; 상기 기판의 캐비티의 저면에 형성된 본드패드들의 상면에 제 1 접착부재를 매개로하여 부착된 반도체 칩과; 상기 캐비티를 덮도록 상기 반도체 칩의 상면에 제 2 접착부재를 매개로하여 부착된 열방출부재와; 그리고, 상기 캐비티내에 채워진 몰딩부를 포함하여 구성된다.
이와 같은 LGA 반도체 패키지는, 상기 반도체 패키지용 기판이 가지는 장점을 모두 가지고 있고, 상기 반도체 칩의 상면에 열방출부재를 부착하여 열방출 효율을 높이는 장점이 있다.
상기 제 1 접착부재는 이방성 전도성 접착제이다. 상기 이방성 전도성 접착제는 반도체 칩의 전기적 경로를 일정한 방향으로만 형성하여 전기적 신호 흐름을 정확하게 한다.
상기 제 2 접착부재는 열전도성 에폭시이다. 상기 열전도성 에폭시는 반도체 칩으로부터 발생되는 열의 방출 효율을 더욱 좋게 한다.
상기 반도체 칩과 상기 이방성 전도성 접착제의 사이에는 복수개의 범프들이 형성되어 있다. 상기 범프들은 상기 본드패드들과 대응되도록 형성되어 있다. 상기 범프들은 반도체 칩의 전기적 경로를 정확하게함과 아울러 완충 작용을하여 준다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 반도체 패키지용 기판의 제조 방법은:
상,하면을 가지고 내부에 도전성 내부배선들이 패터닝되어 있는 절연체를 제공하는 공정과; 상기 절연체의 상면에 복수개의 캐비티들을 형성하는 공정과; 상기 절연체의 상면의 각 캐비티의 양측에 제 1 도전성 배선패턴층을 형성하는 공정과; 상기 절연체의 하면에 상기 제 1 도전성 배선패턴층과 대응하는 제 2 도전성 배선패턴층을 형성하는 공정과; 상기 절연체내에 비아홀(Via Hole)들을 상기 제 1 도전성 배선 패턴층과 제 2 도전성 배선패턴층이 연결되도록 형성하는 공정과; 상기 비아홀들의 벽면에 도전성 물질을 도금하는 공정과; 상기 절연체내에 상기 비아홀들의 반쪽면이 제거되도록 하는 홀들을 형성하는 공정과; 그리고, 상기 각 캐비티의 저면에 복수개의 도전성 본드패드들을 형성하는 공정으로 구성된다.
상기 도전성 내부배선들의 일단은 상기 본드패드들에 연결되고 타단은 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선 패턴층 중의 하나에 연결되도록 형성한다.
상기 절연체의 상,하면의 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴들이 형성되지 않은 부위에 솔더 마스크층을 부가 형성하도록 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 LGA 반도체 패키지의 제조 방법은:
상기 공정들에 의해 형성된 반도체 패키지용 기판을 제공하는 공정과; 상기 기판의 캐비티의 저면에 형성된 본드패드들의 상면에 제 1 접착부재를 매개로하여 반도체 칩을 부착하는 공정과; 상기 캐비티를 덮도록 상기 반도체 칩의 상면에 제 2 접착부재를 매개로하여 열방출부재를 부착하는 공정과; 그리고, 상기 캐비티내에 몰딩부를 채우는 공정을 포함하여 구성된다.
상기 제 1 접착부재는 이방성 전도성 접착제를 사용한다.
상기 제 2 접착부재는 열전도성 에폭시를 사용한다.
상기 이방성 전도성 접착제와 접착되는 상기 반도체 칩의 표면에는 복수개의 범프들을 형성한다.
상기 범프들은 상기 본드패드들과 대응되도록 형성한다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 LGA 반도체 패키지 및 그들의 제조 방법에 대하여 상세히 설명하기로 한다.
도 2 는 본 발명에 따른 반도체 패키지용 기판의 평면도이고, 도 3은 도 2의 I-I선 종단면도로, 도시된 바와 같이, 상하면을 가지고 도전성 내부배선들(20a)이 내설된 절연체(20)가 있고, 상기 절연체(20)의 상면 중앙에는 캐비티(Cavity)부(22)가 형성되어 있다. 상기 캐비티부(22)는 전,후 양측이 뚫려져 있다. 상기 절연체(20) 상면의 상기 캐비티부(22)의 양측에는 제 1 도전성 배선 패턴층(24)이 형성되어 있고, 상기 절연체(20)의 하면에는 상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과 대응되도록 제 2 도전성 배선 패턴층(26)이 형성되어 있다. 상기 절연체(20)의 상,하면에서 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴층들(24)(26)이 형성되지 않은 부위에는 솔더 마스크층(28)이 형성되어 있다. 상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과 제 2 도전성 배선 패턴층(26) 사이는 제 3 도전성배선 패턴층(30)에 의해 전기적으로 연결되어 있으며, 상기 제 3 도전성배선 패턴층(30)은 상기 절연체(20)의 양측면에 형성되어 있다. 상기 캐비티부(22)의 저면에는 복수개의 도전성 본드패드들(32)이 형성되어 있다. 상기 도전성 내부배선들(20a)의 일단은 상기 본드패드들(32)에 전기적으로 연결되고 타단은 상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24), 제 2 도전성 배선패턴층(26) 및 제 3 도전성 배선패턴층(30) 중의 하나에 전기적으로 연결되어 있다.
도 4는 도 3의 반도체 패키지용 기판을 이용한 LGA 반도체 패키지의 종단면도로, 도시된 바와 같이, 도 3의 반도체 기판의 캐비티(22)의 저면에 형성된 본드패드들(32)의 상면에 이방성 전도성 접착제로 된 제 1 접착부재(40)가 부착되어 있고, 상기 제 1 접착부재(40)의 상면에는 범프들(50)이 형성된 반도체 칩(55)이 부착되어 있다. 상기 범프들(50)은 상기 본드패드들(32)과 대응되도록 형성되어 있다. 상기 반도체 칩(55)의 상면에는 열전도성 에폭시로 된 제 2 접착부재(60)를 매개로하여 열방출부재(65)가 부착되어 있다. 상기 열방출부재(65)는 상기 캐비티(22)의 상부를 덮고 있다. 그리고, 상기 캐비티(22)내에는 상기 본드패드들(32), 제 1 접착부재(40), 범프들(50)이 형성된 반도체 칩(55) 및 제 2 접착부재(60)를 밀봉하고 있는 몰딩부(70)가 형성되어 있다.
도 5a - 도 5c는 도 3의 반도체 패키지용 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 순차적인 평면도이고, 도 6a - 도 6c는 도 5a - 도 5c의 II-II선 종단면도이다.
먼저, 도 5a 및 도 6a에 도시된 바와 같이, 상,하면을 가지고 내부에 도전성 내부배선들(20a)이 패터닝되어 있는 절연체(20)를 제공한다. 상기 절연체(20)의 상면에 복수개의 캐비티들(22)을 형성한다. 상기 절연체(20)의 상면의 각 캐비티(22)의 양측에 제 1 도전성 배선패턴층(24)을 형성하며, 상기 절연체(20)의 하면에 상기 제 1 도전성 배선패턴층(24)과 대응하는 제 2 도전성 배선패턴층(26)을 형성한다. 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴층들(24)(26)이 형성되지 않은 상기 절연체(20)의 상,하면에 솔더 마스크층(28)을 형성한다. 상기 도전성 내부배선들(20a)의 일단은 상기 캐비티(22)의 저면으로 노출되도록 하고, 타단은 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴층(24)(26) 중의 하나에 전기적으로 연결되도록 패터닝되어 있다.
이어, 도 5b 및 도 6b에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선 패턴(24)(26)과 절연체(20)내에 비아홀(Via Hole)들(29)을 형성하여 상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과 제 2 도전성 배선패턴층(26)이 연결되도록 한 후, 상기 비아홀들(29)내에 도전성 물질(30)을 도금하거나 채워서 상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과 이에 대응하는 제 2 도전성 배선패턴층(26)이 전기적으로 연결되도록 한다.
마지막으로, 도 5c 및 도 6c에 도시된 바와 같이, 상기 절연체(20)내에 상기 비아홀들(29)의 반쪽면이 제거되도록 하는 사각형의 홀들(31)을 형성하고, 상기 각 캐비티(22)의 저면에 복수개의 도전성 본드패드들(32)을 형성하여 본 발명의 반도체 패키지용 기판의 제작 공정을 마치도록 한다. 도 6c의 반도체 패키지용 기판은 도 3의 반도체 패키지용 기판과 동일하게 구성되었다.
도 7a - 도 7d는 본 발명에 따른 LGA 반도체 패키지의 제조방법을 설명하기 위한 순차적인 종단면도이다.
먼저, 도 7a에 도시된 바와 같이, 도 6c의 반도체 패키지용 기판을 제공한다.
도 7b에 도시된 바와 같이, 상기 기판(20)의 캐비티(22)의 저면에 형성된 본드패드들(32)의 상면에 이방성 전도성 접착제로 된 제 1 접착부재(40)를 매개로하여 범프들(50)이 형성된 반도체 칩(55)을 부착한다. 상기 범프들(50)은 상기 반도체 칩(55)의 하면에 형성된 칩패드들(미도시)에 부착되어 있고, 그 범프들(50)과 상기 본드패드들(32)은 상호 대응되도록 형성되어 있다.
도 7c에 도시된 바와 같이, 상기 반도체 칩(55)의 상면에 열전도성 에폭시로 된 제 2 접착부재(60)를 매개로하여 열방출부재(65)를 부착한다. 상기 열방출부재(65)는 상기 캐비티(22)의 상부를 덮고 있다.
마지막으로, 도 7d에 도시된 바와 같이, 상기 캐비티(22)내에 에폭시몰딩물을 채워서 몰딩부(70)를 형성한다. 상기 몰딩부(70)는 상기 본드패드들(32), 제 1 접착부재(40), 범프들(50)이 형성된 반도체 칩(55) 및 제 2 접착부재(60)를 밀봉하고 있다.
이상, 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 패키지용 기판은 적층가능한 LGA 반도체 패키지의 제작용으로 사용할 수 있고, 본 발명에 따른 LGA 반도체 패키지는, 패키지의 상.하면에 상호 전기적으로 연결된 외부단자들(제 1 도전성 배선패턴 및 제 2 도전성 배선패턴)이 형성되어 있기 때문에 적층할 수 있으며, 반도체 칩의 상면에 히트싱크(Heat Sink) 역할을 하는 열방출부재를 형성하여 그 반도체 칩으로부터 발생되는 열의 방출이 용이하고, 반도체 칩의 전기적 신호를 외부로 전달하는 외부단자들(제 2 도전성 배선패턴과 제 2 도전성 배선패턴)이 반도체 패키지의 하면에서 측면으로 연결 형성되어 있기 때문에 인쇄회로기판에 실장할 때 그 외부단자들과 인쇄회로기판간의 결합력(솔더조인트 신뢰성)이 향상되는 효과가 있다.
Claims (13)
- 상,하면을 가지고, 내부에 도전성 내부배선들(20a)이 패터닝되어 있는 절연체(20)와;상기 절연체(20)의 상면 중앙에 형성된 캐비티(Cavity)부(22)와;상기 절연체(20)의 상면의 상기 캐비티부(22)의 양측에 형성된 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과;상기 절연체(20)의 하면에 상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과 대응되도록 형성된 제 2 도전성 배선 패턴층(26)과;상기 제 1 도전성 배선 패턴층(24)과 제 2 도전성 배선 패턴층(26) 사이를 전기적으로 연결하는 제 3 도전성배선 패턴층(30)과; 그리고상기 캐비티부(22)의 저면에 형성된 복수개의 도전성 본드패드들(32)을 포함하여 구성된 반도체 패키지용 기판.
- 제1항에 있어서, 상기 절연체(20)의 상,하면의 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴들(24)(26)이 형성되지 않은 부위에는 솔더 마스크층(28)이 부가 형성된 반도체 패키지용 기판.
- 제1항에 있어서, 상기 제 3 도전성 배선 패턴층(30)은 상기 절연체(20)의 측면에 형성된 반도체 패키지용 기판.
- 제1항 기재의 반도체 패키지용 기판과;상기 캐비티부(22)의 저면에 형성된 본드패드들(32)의 상면에 부착된 제 1 접착부재(40)와;상기 제 1 접착부재(40)의 상면에 상기 본드패드들(32)에 대응되도록 부착된 범프들(50)과;상기 범프들(50)의 상면에 부착된 반도체 칩(55)과;상기 캐비티부(22)를 덮도록 상기 반도체 칩(55)의 상면에 제 2 접착부재(60)를 매개로하여 부착된 열방출부재(65)와; 그리고상기 캐비티부(22)내에 채워진 몰딩부(70)를 포함하여 구성된 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : LGA) 반도체 패키지.
- 제4항에 있어서, 상기 절연체(20)의 상,하면의 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴들(24)(26)이 형성되지 않은 부위에는 솔더 마스크층(28)이 부가 형성된 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : LGA) 반도체 패키지.
- 제4항에 있어서, 상기 제 3 도전성 배선 패턴층(30)은 상기 절연체(20)의 측면에 형성된 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : LGA) 반도체 패키지.
- 제4항에 있어서, 상기 제 1 접착부재(40)는 이방성 전도성 접착제인 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : LGA) 반도체 패키지.
- 제4항에 있어서, 상기 제 2 접착부재(60)는 열전도성 에폭시인 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : LGA) 반도체 패키지.
- 상,하면을 가지고 내부에 도전성 내부배선들(20a)이 패터닝되어 있는 절연체(20)를 제공하는 공정과;상기 절연체(20)의 상면에 복수개의 캐비티들(22)을 형성하는 공정과;상기 절연체(20)의 상면의 각 캐비티(22)의 양측에 제 1 도전성 배선패턴층(24)을 형성하는 공정과;상기 절연체(20)의 하면에 상기 제 1 도전성 배선패턴층(24)과 대응하는 제 2 도전성 배선패턴층(26)을 형성하는 공정과;상기 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴층(24)(26)과 상기 절연체(20)내에 상기 제 1 도전성 배선 패턴층과 제 2 도전성 배선패턴층이 연결되도록하는 비아홀(Via Hole)들(29)을 형성하는 공정과;상기 비아홀들(29)내에 도전성 물질(30)을 형성하는 공정과;상기 절연체(20)내에 상기 비아홀들(29)의 반쪽면이 제거되도록 하는 홀들(31)을 형성하는 공정과; 그리고상기 각 캐비티(22)의 저면에 복수개의 도전성 본드패드들(32)을 형성하는 공정으로 구성된 반도체 패키지용 기판의 제조 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 절연체(20)의 상,하면의 상기 제 1 및 제 2 도전성 배선패턴층(24)(26)들이 형성되지 않은 부위에 솔더 마스크층(28)을 부가 형성하는 반도체 패키지용 기판의 제조 방법.
- 제9항 기재의 공정들에 의해 제조된 반도체 패키지용 기판을 제공하는 공정과;상기 본드패드들(32)의 상면에 제 1 접착부재(40)를 부착하는 공정과;상기 제 1 접착부재(40)의 상면에 상기 본드패드들에 대응하도록 범프들(50)을 형성하는 공정과;상기 범프들(50)의 상면에 반도체 칩(55)을 부착하는 공정과;상기 캐비티(22)를 덮도록 상기 반도체 칩(55)의 상면에 제 2 접착부재(60)를 매개로하여 열방출부재(65)를 부착하는 공정과; 그리고,상기 캐비티(22)내에 몰딩부(70)를 채우는 공정을 포함하여 구성된 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : LGA) 반도체 패키지의 제조 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 제 1 접착부재(40)는 이방성 전도성 접착제를 사용하는 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : LGA) 반도체 패키지의 제조 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 제 2 접착부재(60)는 열전도성 에폭시를 사용하는 랜드 그리드 어레이(Land Grid Array : LGA) 반도체 패키지의 제조 방법.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019970065209A KR100253363B1 (ko) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 랜드 그리드 어레이반도체 패키지 및 그들의 제조 방법 |
US09/095,570 US6441498B1 (en) | 1997-12-02 | 1998-06-11 | Semiconductor substrate and land grid array semiconductor package using same |
JP10333478A JP3088396B2 (ja) | 1997-12-02 | 1998-11-25 | 半導体パッケージ用基板とそれを用いたlga半導体パッケージ及びその製造方法 |
US10/157,116 US6682957B2 (en) | 1997-12-02 | 2002-05-30 | Semiconductor substrate and land grid array semiconductor package using same and fabrication methods thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019970065209A KR100253363B1 (ko) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 랜드 그리드 어레이반도체 패키지 및 그들의 제조 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19990047010A KR19990047010A (ko) | 1999-07-05 |
KR100253363B1 true KR100253363B1 (ko) | 2000-04-15 |
Family
ID=19526220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970065209A KR100253363B1 (ko) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 랜드 그리드 어레이반도체 패키지 및 그들의 제조 방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6441498B1 (ko) |
JP (1) | JP3088396B2 (ko) |
KR (1) | KR100253363B1 (ko) |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11289023A (ja) * | 1998-04-02 | 1999-10-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
DE10047213A1 (de) * | 2000-09-23 | 2002-04-11 | Philips Corp Intellectual Pty | Elektrisches oder elektronisches Bauteil und Verfahren zum Herstellen desselben |
KR100429856B1 (ko) * | 2001-11-15 | 2004-05-03 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 스터드 범프가 있는 웨이퍼 레벨 칩 스케일 패키지 및 그 제조 방법 |
US6891276B1 (en) * | 2002-01-09 | 2005-05-10 | Bridge Semiconductor Corporation | Semiconductor package device |
US6968637B1 (en) * | 2002-03-06 | 2005-11-29 | Nike, Inc. | Sole-mounted footwear stability system |
US7205647B2 (en) * | 2002-09-17 | 2007-04-17 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module having package stacked over ball grid array package and having wire bond interconnect between stacked packages |
US20040061213A1 (en) * | 2002-09-17 | 2004-04-01 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module having package stacked over die-up flip chip ball grid array package and having wire bond interconnect between stacked packages |
US7064426B2 (en) * | 2002-09-17 | 2006-06-20 | Chippac, Inc. | Semiconductor multi-package module having wire bond interconnect between stacked packages |
US20050012225A1 (en) * | 2002-11-15 | 2005-01-20 | Choi Seung-Yong | Wafer-level chip scale package and method for fabricating and using the same |
US20040191955A1 (en) * | 2002-11-15 | 2004-09-30 | Rajeev Joshi | Wafer-level chip scale package and method for fabricating and using the same |
US7204859B2 (en) * | 2002-12-06 | 2007-04-17 | L'oreal S.A. | Composition for the oxidation dyeing of keratin fibers, comprising at least one fatty alcohol, at least one oxidation dye, at least one associative polymer, and at least one compound chosen from fatty acid esters and metal oxides |
JP4137659B2 (ja) * | 2003-02-13 | 2008-08-20 | 新光電気工業株式会社 | 電子部品実装構造及びその製造方法 |
JP4266717B2 (ja) * | 2003-06-13 | 2009-05-20 | 三洋電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US7061096B2 (en) * | 2003-09-24 | 2006-06-13 | Silicon Pipe, Inc. | Multi-surface IC packaging structures and methods for their manufacture |
US7732904B2 (en) | 2003-10-10 | 2010-06-08 | Interconnect Portfolio Llc | Multi-surface contact IC packaging structures and assemblies |
US7280372B2 (en) * | 2003-11-13 | 2007-10-09 | Silicon Pipe | Stair step printed circuit board structures for high speed signal transmissions |
US7652381B2 (en) | 2003-11-13 | 2010-01-26 | Interconnect Portfolio Llc | Interconnect system without through-holes |
US7278855B2 (en) | 2004-02-09 | 2007-10-09 | Silicon Pipe, Inc | High speed, direct path, stair-step, electronic connectors with improved signal integrity characteristics and methods for their manufacture |
US7728437B2 (en) * | 2005-11-23 | 2010-06-01 | Fairchild Korea Semiconductor, Ltd. | Semiconductor package form within an encapsulation |
US20070117268A1 (en) * | 2005-11-23 | 2007-05-24 | Baker Hughes, Inc. | Ball grid attachment |
US7893545B2 (en) * | 2007-07-18 | 2011-02-22 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device |
US8334590B1 (en) | 2008-09-04 | 2012-12-18 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device having insulating and interconnection layers |
US8138587B2 (en) * | 2008-09-30 | 2012-03-20 | Infineon Technologies Ag | Device including two mounting surfaces |
US8432022B1 (en) | 2009-09-29 | 2013-04-30 | Amkor Technology, Inc. | Shielded embedded electronic component substrate fabrication method and structure |
KR101227735B1 (ko) * | 2011-04-28 | 2013-01-29 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 및 그 제조 방법 |
US8767408B2 (en) * | 2012-02-08 | 2014-07-01 | Apple Inc. | Three dimensional passive multi-component structures |
JP2015162609A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US10784149B2 (en) | 2016-05-20 | 2020-09-22 | Qorvo Us, Inc. | Air-cavity module with enhanced device isolation |
US10773952B2 (en) | 2016-05-20 | 2020-09-15 | Qorvo Us, Inc. | Wafer-level package with enhanced performance |
US11355427B2 (en) * | 2016-07-01 | 2022-06-07 | Intel Corporation | Device, method and system for providing recessed interconnect structures of a substrate |
US10109550B2 (en) | 2016-08-12 | 2018-10-23 | Qorvo Us, Inc. | Wafer-level package with enhanced performance |
US10109502B2 (en) | 2016-09-12 | 2018-10-23 | Qorvo Us, Inc. | Semiconductor package with reduced parasitic coupling effects and process for making the same |
US10749518B2 (en) | 2016-11-18 | 2020-08-18 | Qorvo Us, Inc. | Stacked field-effect transistor switch |
US10068831B2 (en) | 2016-12-09 | 2018-09-04 | Qorvo Us, Inc. | Thermally enhanced semiconductor package and process for making the same |
US10755992B2 (en) | 2017-07-06 | 2020-08-25 | Qorvo Us, Inc. | Wafer-level packaging for enhanced performance |
US10784233B2 (en) | 2017-09-05 | 2020-09-22 | Qorvo Us, Inc. | Microelectronics package with self-aligned stacked-die assembly |
US11152363B2 (en) | 2018-03-28 | 2021-10-19 | Qorvo Us, Inc. | Bulk CMOS devices with enhanced performance and methods of forming the same utilizing bulk CMOS process |
US10804246B2 (en) | 2018-06-11 | 2020-10-13 | Qorvo Us, Inc. | Microelectronics package with vertically stacked dies |
US11069590B2 (en) | 2018-10-10 | 2021-07-20 | Qorvo Us, Inc. | Wafer-level fan-out package with enhanced performance |
US10964554B2 (en) | 2018-10-10 | 2021-03-30 | Qorvo Us, Inc. | Wafer-level fan-out package with enhanced performance |
US11646242B2 (en) * | 2018-11-29 | 2023-05-09 | Qorvo Us, Inc. | Thermally enhanced semiconductor package with at least one heat extractor and process for making the same |
EP3915134A1 (en) | 2019-01-23 | 2021-12-01 | Qorvo US, Inc. | Rf semiconductor device and manufacturing method thereof |
US11387157B2 (en) | 2019-01-23 | 2022-07-12 | Qorvo Us, Inc. | RF devices with enhanced performance and methods of forming the same |
US20200235040A1 (en) | 2019-01-23 | 2020-07-23 | Qorvo Us, Inc. | Rf devices with enhanced performance and methods of forming the same |
US20200235066A1 (en) | 2019-01-23 | 2020-07-23 | Qorvo Us, Inc. | Rf devices with enhanced performance and methods of forming the same |
US11646289B2 (en) | 2019-12-02 | 2023-05-09 | Qorvo Us, Inc. | RF devices with enhanced performance and methods of forming the same |
US11923238B2 (en) | 2019-12-12 | 2024-03-05 | Qorvo Us, Inc. | Method of forming RF devices with enhanced performance including attaching a wafer to a support carrier by a bonding technique without any polymer adhesive |
CN111312698A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-19 | 通富微电子股份有限公司 | 一种堆叠式封装器件 |
CN111243967A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-05 | 通富微电子股份有限公司 | 一种堆叠式封装方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4498572A (en) | 1981-12-04 | 1985-02-12 | Brems John Henry | Workpiece clamping mechanism for multiple station transfer machines |
US5241133A (en) | 1990-12-21 | 1993-08-31 | Motorola, Inc. | Leadless pad array chip carrier |
US5355283A (en) | 1993-04-14 | 1994-10-11 | Amkor Electronics, Inc. | Ball grid array with via interconnection |
KR970005712B1 (ko) * | 1994-01-11 | 1997-04-19 | 삼성전자 주식회사 | 고 열방출용 반도체 패키지 |
JPH08167691A (ja) | 1994-12-13 | 1996-06-25 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
KR100290993B1 (ko) | 1995-06-13 | 2001-08-07 | 이사오 우치가사키 | 반도체장치,반도체탑재용배선기판및반도체장치의제조방법 |
KR100386061B1 (ko) * | 1995-10-24 | 2003-08-21 | 오끼 덴끼 고오교 가부시끼가이샤 | 크랙을방지하기위한개량된구조를가지는반도체장치및리이드프레임 |
JP3105437B2 (ja) | 1995-11-21 | 2000-10-30 | 沖電気工業株式会社 | 半導体素子パッケージ及びその製造方法 |
JPH09260568A (ja) * | 1996-03-27 | 1997-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
US6020220A (en) * | 1996-07-09 | 2000-02-01 | Tessera, Inc. | Compliant semiconductor chip assemblies and methods of making same |
KR100242393B1 (ko) * | 1996-11-22 | 2000-02-01 | 김영환 | 반도체 패키지 및 제조방법 |
-
1997
- 1997-12-02 KR KR1019970065209A patent/KR100253363B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-06-11 US US09/095,570 patent/US6441498B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-25 JP JP10333478A patent/JP3088396B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-05-30 US US10/157,116 patent/US6682957B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6441498B1 (en) | 2002-08-27 |
US20020151112A1 (en) | 2002-10-17 |
US6682957B2 (en) | 2004-01-27 |
KR19990047010A (ko) | 1999-07-05 |
JPH11233688A (ja) | 1999-08-27 |
JP3088396B2 (ja) | 2000-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100253363B1 (ko) | 반도체 패키지용 기판과 그 기판을 이용한 랜드 그리드 어레이반도체 패키지 및 그들의 제조 방법 | |
KR100391093B1 (ko) | 히트 싱크가 부착된 볼 그리드 어레이 패키지 | |
US6806560B2 (en) | Semiconductor device and method for fabricating same | |
KR100211421B1 (ko) | 중앙부가 관통된 플렉서블 회로기판을 사용한 반도체 칩 패키지 | |
US6833628B2 (en) | Mutli-chip module | |
KR100698526B1 (ko) | 방열층을 갖는 배선기판 및 그를 이용한 반도체 패키지 | |
US6201302B1 (en) | Semiconductor package having multi-dies | |
KR100266637B1 (ko) | 적층형볼그리드어레이반도체패키지및그의제조방법 | |
US6984889B2 (en) | Semiconductor device | |
US6184133B1 (en) | Method of forming an assembly board with insulator filled through holes | |
EP1256980B1 (en) | Ball grid array package with a heat spreader and method for making the same | |
KR100608608B1 (ko) | 혼합형 본딩패드 구조를 갖는 반도체 칩 패키지 및 그제조방법 | |
US7193320B2 (en) | Semiconductor device having a heat spreader exposed from a seal resin | |
US20040070948A1 (en) | Cavity-down ball grid array semiconductor package with heat spreader | |
KR19980068343A (ko) | 가요성 회로 기판을 이용한 칩 스케일 반도체 패키지 및 그 제조 방법 | |
TW201733048A (zh) | 半導體封裝 | |
JP4339032B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR100388211B1 (ko) | 멀티 칩 패키지 | |
KR100192756B1 (ko) | 볼 그리드 어레이 반도체 패키지의 구조 및 제조방법 | |
KR100218633B1 (ko) | 캐리어 프레임이 장착된 볼 그리드 어레이 반도체 패키지 | |
JP2007059430A (ja) | 半導体装置 | |
KR19990027045A (ko) | 랜드 그리드 어레이 패키지 및 그 제조방법 | |
KR19980034141A (ko) | 비아 그리드 어레이 패키지 | |
KR20040045696A (ko) | 반도체 패키지 제조 방법 | |
KR19980056163A (ko) | 패턴 필름 및 이를 이용한 반도체 패키지 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121224 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131223 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141218 Year of fee payment: 16 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151221 Year of fee payment: 17 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161125 Year of fee payment: 18 |
|
EXPY | Expiration of term |