KR100234159B1 - 리드 프레임의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
리드 프레임 제조방법을 개시한다. 이 방법은 펀칭 또는 에칭하여 복수의 인너 리드와 아우터 리드를 구비하도록 갖도록 박판부재 소정의 형상으로 형성하는 성형단계와, 상기 성형된 박판부재를 도금단계와, 도금된 박판부재의 인너리드부를 상부 또는 하부측으로 절곡하는 절곡단계와, 상기 절곡이 완료된 리드 박판부재의 인너리드부에 테이프를 부착하는 테이핑 공정과, 상기 테이핑이 완료된 박판부재를 고압의 기체를 이용하여 세정하는 세정단계를 포함하여 된 것에 그 특징이 있으며, 이는 리드 프레임의 제조에 따른 작업공수와 불량율을 줄일 수 있는 이점을 가진다.
Description
본 발명은 리드 프레임의 제조방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 리드 프레임에 부착된 이물을 제거하여 반도체 칩과의 접합시 불량율을 줄일 수 있는 리드프레임의 제조방법에 관한 것이다.
통상적으로 리드 프레임(lead frame)은 반도체 소자(IC 칩)의 기능을 외부회로에 전달해줌과 아울러 독립된 하나의 부품으로써 지지해주는 역할을 한다.
이러한 리드 프레임은 통상 IC 칩이 안착되는 패드부와, 주변에 이 IC 칩과 와이어 본딩되는 인너 리드(inner lead)와, 이 인너 리드와 연결되고 외부회로와 연결되는 아우터 리드(outter lead)로 구성되어 진다.
상기와 같이 구성된 리드 프레임의 제조방법은 크게 두가지로 분류되는데, 스템핑(STAMPING)에 의한 방법과, 에칭(ETCHING) 즉, 식각에 의한 방법이다. 스템핑 방식은 순차 이송형 프레스 금형장치에 의해 소재를 순차적으로 이송시키면서 타발함으로써 소정 형상의 제품을 제작하는 것으로, 주로 리드의 수가 많지 않은 리드 프레임의 대량생산에 많이 이용된다. 그리고 상기 에칭방식은 식각에 의한 화학적 부식방법에 의한 것으로 미세한 리드 패턴의 리드 프레임의 제조에 적합하다.
리드 프레임의 제조공정중 에칭방식에 의한 리드 프레임 제조공정은 리드 프레임의 설계가 완료된 상태에서 소재를 전처리하는 세정단계, 포토레지스트 코팅단계, 노광단계, 현상단계, 에칭단계, 박리단계 그리고 후처리단계로서 프레이팅 단계(Plating step), 프레이팅 단계에서 리드에 부착된 이물 또는 에칭 상태 등을 검사하는 제1육안 검사단계와, 리드 프레임의 종류에 따라 인너리드를 상측 또는 하측으로 절곡하는 절곡단계(up-set, down-set)와, 테이핑 단계(taping step)와, 테이핑이 완료된 리드 프레임을 최종검사하는 제2육안 검사단계를 연속적으로 수행하여 제조하게 되다.
그리고 상기 스템핑에 의한 제조방법 또한 리드 프레임의 펀칭이 완료된 단계에서 상기 플레이팅 단계 이후의 공정을 연속하여 수행함으로써 리드 프레임을 제조하게 된다.
상술한 방법들에 의해 리드 프레임을 제조하는 것은 도금이 완료된 후 1차적으로 도금이 잘되었는지 또는 도금시 발생된 이물이 리드 프레임에 부착되었는지의 여부를 검사하는 제1육안 검사단계를 수행한 후 절곡 공정과 테이핑 공정을 수행한 후 제2육안 검사단계를 수행하게 되는데, 상기 검사는 스코프(scope)를 이용하여 검사하게 되므로 이에 따른 많은 작업공수가 소요되어 생산성의 향상을 도모할 수 없다.
또한 상기 제1, 2육안검사단계는 작업자가 전수검사를 수행하게 되므로 작업자에 의해 오히려 리드 프레임이 오염되는 문제점이 내재되어 있다.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로, 리드 프레임에 부착된 이물을 제거하고 리드 프레임의 검사에 따른 작업공수를 대폭 줄일 수 있는 리드 프레임의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 리드 프레임의 검사 및 이물의 제거에 따른 작업공수를 줄여 생산성의 향상을 도모할 수 있는 리드 프레임 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 리드 프레임의 제조방법에 있어서, 펀칭 또는 에칭하여 복수의 인너리드와 아우터리드를 구비하도록 갖도록 박판부재 소정의 형상으로 형성하는 성형단계와, 상기 성형된 박판부재를 도금단계와, 도금된 박판부재의 인너리드부를 상부 또는 하부측으로 절곡하는 절곡단계와, 상기 절곡이 완료된 리드 박판부재의 인너리드부에 테이프를 부착하는 테이핑 공정과, 상기 테이핑이 완료된 박판부재를 고압의 기체를 이용하여 세정하는 세정단계를 포함하여 된 것을 그 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 절곡단계 전에 테이핑 단계를 수행하여도 무방하며, 상기 박판부재를 펀칭하여 제작하는 경우에는 도금단계 전 또는 후에 절단단계를 수행한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 한 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 리드 프레임의 제조방법은 띠상의 박판부재를 이용하여 인너리드부와 아우터 리드부를 형성하는 성형단계와, 상기 성형된 박판부재를 도금단계와, 도금된 박판부재의 인너리드부를 상부 또는 하부측으로 절곡하는 절곡단계와, 상기 절곡이 완료된 리드 박판부재의 인너리드부에 테이프를 부착하는 테이핑 단계와, 상기 테이핑이 완료된 박판부재를 고압의 기체를 이용하여 세정하는 세정단계를 포함하여 이루어진다.
상기 성형단계은 박판의 부재를 스템핑에 의한 방법 즉, 펀치와 다이를 이용하여 성형하거나 화학적 에칭법을 이용하여 성형한다. 상기 스템핑에 의한 성형은 연속적으로 공급되는 박판 부재를 펀칭하여 형성하는 이물의 제거를 위하여 크린룸에서 이루어 진다. 그리고 상기 에칭 방법은 통상적으로 감광막을 도포하고 이를 노광, 현상, 에칭단계등의 단계를 거쳐 제작된다.
상기 도금단계는 인너리드의 단부를 금, 은 또는 동 등을 이용하여 도금을 행하는 것은 칩의 단자와 와이에에 의한 본딩시 전도성 및 용접성을 좋게 하기 위한 것이다.
상기 절곡단계는 리드 프레임의 특성에 인너리드의 단부를 상방 또는 하방으로 절곡하여 칩이 안착될 수 있도록 절곡하는 공정이다.
상기 테이핑 단계는 상기 인너리드의 단부가 쇼트되는 것을 방지하고 인너리드의 단부가 일정한 간격을 유지하도록 하거나 칩과 인너리드를 부착하기 위하여 인너리드에 테이프를 부착하는 것이다. 이 테이핑 단계는 상기 절곡단계와 그 순서가 바뀌어도 무방하다.
상술한 바와 같이 단계가 완료되면 상기 박판부재를 세정하는 세정단계를 수행하게 되는데, 이 세정단계는 고압의 기체를 상기 인너리드와 아우터리드가 형성된 박판부재측으로 분사하여 박판부재에 부착된 이물을 제거한다. 상기 고압기체의 분사는 기체의 분사노즐을 다양한 각도에서 분사하되 상기 칩이 안차되는 인너리드의 단부 및 패드에 집중적으로 분사되도록 함이 바람직하다.
상술한 바와 같은 공정이 이루어지는 상기 형성공정이 펀치를 이용한 방법인 경우에는 연속적으로 다발되는 박판부재를 소정의 간격으로 절단하는 절단단계를 도금단계 전에 수행함이 바람직하다.
상술한 바와 같은 단계를 거쳐 리드 프레임을 제조하는 것은 다음과 같은 효과를 가진다.
첫째 ; 리드 프레임을 제조하는 과정에서 박판부재에 이물의 부착 또는 버(burr) 등이 발생되는 단계 예컨대, 절곡단계, 테이핑 단계등이 끝난 후에 세정이 이루어지게 되므로 종래와 같이 육안검사를 반복하여 실시할 필요가 없다.
둘째 ; 리드 프레임의 제조공정이 단순화되어 생산성을 향상시킬 수 있고 제조원가를 줄일 수 있다.
셋째 ; 세정공정에 따른 불량율을 작업자가 작업한 것에 비하여 상대적으로 낮출 수 있다.
이상에서와 같이 본 발명 리드 프레임의 제조방법은 IC 타입, 리드 온 타입(lead on type) 등의 각종 리드 프레임에 적용이 가능하다. 그리고 본 발명은 상술한 실시예에 의해 한정되지 않고 본원 발명이 속하는 기술적 범위내에서 당업자에 의해 변형 가능함은 물론이다.
Claims (5)
- 리드 프레임의 제조방법에 있어서, 펀칭 또는 에칭하여 복수의 인너리드와 아우터리드를 구비하도록 박판부재를 소정의 형상으로 형성하는 성형단계와, 상기 성형된 박판부재를 도금단계와, 도금된 박판부재의 인너리드부를 상부 또는 하부측으로 절곡하는 절곡단계와, 상기 절곡이 완료된 리드 박판부재의 인너리드부에 테이프를 부착하는 테이핑 공정과, 상기 테이핑이 완료된 박판부재를 고압의 기체를 이용하여 세정하는 세정단계를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 리드 프레임의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 절곡단계 전에 테이핑 단계를 수행하는 것을 특징으로 하는 리드 프레임 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 박판부재를 펀칭하여 제작하는 경우에는 도금단계 전 또는 후에 수행하는 절단단계를 더 구비하여 된 것을 특징으로 하는 리드 프레임의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 도금공정 또는 절곡공정 후에 수행되는 세정단계를 더 구비하여 된 것을 특징으로 하는 리드 프레임 제조방법.
- 제1항 또는 제4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정단계가 고압의 기체를 여러 각도에서 분사함으로써 이루어진 것을 특징으로 하는 리드 프레임 제조방법.
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| KR1019960004677A KR100234159B1 (ko) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | 리드 프레임의 제조방법 |
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| KR1019960004677A KR100234159B1 (ko) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | 리드 프레임의 제조방법 |
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Family Applications (1)
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| KR1019960004677A KR100234159B1 (ko) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | 리드 프레임의 제조방법 |
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| KR (1) | KR100234159B1 (ko) |
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1996
- 1996-02-26 KR KR1019960004677A patent/KR100234159B1/ko not_active IP Right Cessation
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| KR970063701A (ko) | 1997-09-12 |
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