KR100348164B1 - 스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금형성방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 리드프레임의 도금형성방법에 관한 것으로서, 특히, 리드프레임의 도금부위 번짐으로 인한 불량을 방지하도록 하기 위하여 리드프레임에 스크린 메쉬 마스크를 대고서 스퀴지로 도금레지스트를 문질러서 리드프레임 상에 도금을 하므로 도금액 누수에 의한 도금면 번짐현상을 방지할 뿐만아니라 리드프레임의 측면에 위치한 감광막 제거가 용이하지 않은 단점을 해결하므로 도금 수율을 증대하고 반도체장치의 불량을 방지하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명에 관한 것이다.

Description

스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금형성방법 { Method For Forming The Lead Frame Using The Squeeze }

본 발명은 리드프레임에 관한 것으로, 특히, 리드프레임의 도금부위 번짐으로 인한 불량을 방지하도록 하기 위하여 리드프레임에 스크린 메쉬 마스크를 대고서 스퀴지로 도금레지스트를 문질러서 리드프레임 상에 도금을 하도록 하는 스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금 형성방법에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 리드프레임은, 반도체칩과 함께 반도체패키지를 이루는 핵심구성요소의 하나로서 반도체패키지의 내부와 외부를 연결하여 주는 도선(Lead)의 역할과 반도체 칩을 지지해주는 역할을 동시에 수행하는 반도체 소재이다.

이러한 반도체 프레임은 기억소자인 칩을 탑재하여 정적인 상태를 유지하여 주는 패드(Pad)와. 칩을 패드에 연결하여 주는 내부 리드선(Internal Lead Line) 및 외부 리드선(External Lead Line)을 포함하는 구조로 이루어진다.

이와 같은 구조를 가지는 반도체 리드프레임은 통상 스템핑 공정(Stamping)과, 에칭 공정(Etching Process)이라는 두가지 방법에 의하여 제조된다.

상기 스템핑 공정은 순차적으로 이송되는 프레스 금형장치를 이용하여 박판의 소재를 소정형상으로 펀칭하여 성형하는 것으로서, 이는 반도체 리드프레임을 대량으로 생산하는 경우에 주로 이용되는 방법이다.

상기 에칭 공정은 화학약품을 이용하여 소재의 국소 부위를 부식시킴으로써 제품을 형성하는 화학적 식각 방법으로서, 소량 생산하는 방법에 주로 이용하는 방법이다.

통상, 상기 두가지 제조방법 중에 어느 하나의 방법에 의해 제조되는 반도체 리드프레임은 다른 부품, 예를 들면 기억소자인 칩등과 조립과정을 거쳐 반도체 패키지를 이루게 된다.

반도체패키지의 과정중에 리드프레임의 내부 리드의 와이어 본딩성과 다이패드부의 다이 특성을 좋도록 하기 위하여, 다이패드부와 리드프레임의 내부리드에 은(Ag)과 같은 금속 소재를 도금하는 경우가 많다.

이와 같이, 반도체리드프레임에 부분적인 선택도금을 행하는 경우에 있어서, 종래의 통상적인 도금방법은 도금하고자 하는 부위 이외의 영역을 마스크를 이용하여 차단한 후 소정 소재의 도금을 수행한다.

그러나, 도금마스크가 리드프레임에 적절하게 압착되지 않으면, 리드프레임부재와 마스크 사이에 도금액이 흘러 들어가서 도금되는 경우가 발생된다.

이와 같이, 도금하고자 하는 이외의 부위에 도금이 되는 경우에는 리드간의 전기적인 단락을 유발시키거나 외부리드의 기판고정을 위한 솔더링시 그리고, 수지보호막 몰딩시에 각각 밀착불량을 유발시키는 문제점을 지닌다.

한편, 이러한 점을 감안하여 특허 등록번호 183646호로 "반도체 리드프레임의 도금방법"이 제안되어져 있으나, 이러한 방법은, 도금면의 번짐 현상을 방지할 수 있으나 리드프레임의 후도금시 전면(모든면)에 감광물질을 도포한 후 노광장치를 사용하여 도금면 감광패턴을 형성하는 방법으로, 노광시 이물질이 패턴 글래스마스크(Pattern Glass Mask)에 부착되는 경우, 도금면 이외에 국소도금 형상이 발생될 우려가 있을 뿐만아니라 감광막을 제거하는 공정이 디벨로핑 공정(Developing Process) 및 감광막 제거공정(Photo Resist Removing Process)등 두가지 공정으로 나누어지며, 리드프레임 측면에 위치한 감광막의 제거가 용이하지 않은 문제점을 지닌다.

본 발명은 이러한 점을 감안하여 안출한 것으로서, 리드프레임의 도금부위 번짐으로 인한 불량을 방지하도록 하기 위하여 리드프레임에 스크린 메쉬 마스크를 대고서 스퀴지로 도금레지스트를 문질러서 리드프레임 상에 도금을 하므로 도금면의 번짐현상을 방지하여 리드프레임의 수율을 증대하는 것이 목적이다.

도 1 내지 도 7은 본 발명에 따른 스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금형성방법을 순차적으로 보인 도면으로서,

도 1은 리드프레임에 스크린 메쉬를 이동시키는 상태를 보인 도면이고,

도 2는 리드프레임에 스크린 메쉬를 접촉시킨 상태를 보인 도면이며,

도 3은 스크린 메쉬 상에 스퀴지를 사용하여 도금레지스트를 문지르기 전의 상태이고,

도 4는 스크린 메쉬 상에 스퀴지를 사용하여 도금레지스트를 문지른 후의 상태를 보인 도면이며,

도 5는 리드프레임 상에 도금레지스트가 형성된 상태를 보인 도면이고,

도 6은 도금레지스트가 없는 부분의 리드프레임 상에 도금을 형성하는 상태를 보인 도면이고,

도 7은 리드프레임 상에 형성된 도금레지스트를 제거한 상태를 보인 도면이다.

-도면의 주요부분에 대한 부호의 설명-

10 : 리드프레임 20 : 스크린 메쉬 마스크

22 : 메쉬부 24 : 마스크부

30 : 스퀴지 40 : 도금레지스트

50 : 도금부위 60 : 비도금부위

이러한 목적은 반도체 리드프레임의 상부면에 투과성을 갖는 메쉬부와 차단성을 갖는 마스크부를 접촉하는 단계와; 상기 스크린 메쉬마스크 상에 스퀴지 및도금레지스트를 대는 단계와; 상기 스퀴지로 도금레지스트를 문질러서 마스크 사이의 공간부에 도금레지스트를 매립하는 단계와; 상기 스크린메쉬마스크를 분리하여 리드프레임 상에 도금레지스트를 노출하는 단계와; 상기 리드프레임 상에 도금을 하여 도금레지스트가 형성되지 않은 부분에 도금부위를 형성하는 단계와; 상기 리드프레임 상의 도금레지스트를 제거하는 단계를 포함하여 이루어진 스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금형성방법을 제공함으로써 달성된다.

그리고, 상기 리드프레임의 도금부위는, 다이패드부와 내부리드의 내측에 형성되는 것이 바람직 하다.

그리고, 상기 도금시 사용되는 소재는, Ag, Au, Ni, Cu, Pd등의 금속중에 어느 하나를 선택하여 사용하도록 한다.

이하, 첨부한 도면에 의거하여 본 발명에 따른 스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금형성방법의 실시예를 순차적으로 보인 도면이다.

우선, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 반도체 리드프레임(10)의 상부면에 투과성을 갖는 메쉬부(22)와 차단성을 갖는 마스크부(24)를 접촉하도록 한다.

도 3에 도시된 바와 같이, 상기 스크린 메쉬마스크(20) 상에 스퀴지(30) 및 도금레지스트(40)를 접촉하도록 한다.

도 4에 도시된 바와 같이, 상기 스퀴지(30)로 도금레지스트(40)를 문질러서 마스크부(24) 사이의 공간부(26)에 도금레지스트(40)를 매립하도록 한다.

그리고. 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 스크린메쉬마스크(20)를 분리하여 리드프레임(10) 상에 도금레지스트(40)를 노출하도록 한다.

그리고, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 리드프레임(10) 상에 도금을 하여 도금레지스트(40)가 형성되지 않은 부분에 도금부위(50)를 형성하도록 한다.

상기 리드프레임(10)의 도금부위(50)는, 다이패드(Die Pad)부와 내부리드 (Internal Lead)의 내측에 형성되도록 한다.

상기 도금시 사용되는 소재는, Ag, Au, Ni, Cu, Pd등의 금속중에 어느 하나를 사용하도록 한다.

도 7에 도시된 바와 같이, 상기 리드프레임(10) 상의 도금레지스트(40)를 제거하여 리드프레임(10) 상의 비도금 부위(60)를 노출하도록 한다.

따라서, 상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 리드프레임의 도금형성방법을 이용하게 되면, 리드프레임의 도금부위 번짐으로 인한 불량을 방지하도록 하기 위하여 리드프레임에 스크린 메쉬 마스크를 대고서 스퀴지로 도금레지스트를 문질러서 리드프레임 상에 도금을 하므로 도금액 누수에 의한 도금면 번짐현상을 방지할 뿐만아니라 리드프레임의 측면에 위치한 감광막 제거가 용이하지 않은 단점을 해결하므로 도금 수율을 증대하여 리드프레임의 불량을 방지하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.

Claims (3)

1. 반도체 리드프레임의 상부면에 투과성을 갖는 메쉬부와 차단성을 갖는 마스크부를 접촉하는 단계와;

   상기 스퀴지로 도금레지스트를 문질러서 마스크부 사이의 공간부에 도금레지스트를 매립하는 단계와;

   상기 스크린메쉬마스크를 분리하여 리드프레임 상에 도금레지스트를 노출하는 단계와;

   상기 리드프레임 상에 도금을 하여 도금레지스트가 형성되지 않은 부분에 도금부위를 형성하는 단계와;

   상기 리드프레임 상의 도금레지스트를 제거하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금형성방법.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 리드프레임의 도금부위는, 다이패드부와 내부리드의 내측에 형성되는 것을 특징으로 하는 스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금형성방법.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 도금시 사용되는 소재는, Ag, Au, Ni, Cu, Pd등의 금속중에 어느 하나인 것을 특징으로 하는 스퀴지를 이용한 리드프레임의 도금형성방법.