KR100221557B1 - 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법 - Google Patents
산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100221557B1 KR100221557B1 KR1019960022504A KR19960022504A KR100221557B1 KR 100221557 B1 KR100221557 B1 KR 100221557B1 KR 1019960022504 A KR1019960022504 A KR 1019960022504A KR 19960022504 A KR19960022504 A KR 19960022504A KR 100221557 B1 KR100221557 B1 KR 100221557B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- acid
- halide
- carboxylic acid
- amino group
- producing
- Prior art date
Links
- -1 sulfonic acid halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 43
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 title claims abstract description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 28
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 27
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 20
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- BNGPVKSKKYIJCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,3-dimethylimidazolidine;hydrochloride Chemical group [Cl-].CN1CC[NH+](C)C1Cl BNGPVKSKKYIJCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- JEZJSNULLBSYHV-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2,4,6-triiodobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound NC1=C(I)C(C(O)=O)=C(I)C(C(O)=O)=C1I JEZJSNULLBSYHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 41
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 7
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 241000350481 Pterogyne nitens Species 0.000 description 6
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 5
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NQGIJDNPUZEBRU-UHFFFAOYSA-N dodecanoyl chloride Chemical compound CCCCCCCCCCCC(Cl)=O NQGIJDNPUZEBRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FBJVWRITWDYUAC-UHFFFAOYSA-N 5-amino-2,4,6-triiodobenzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound NC1=C(I)C(C(Cl)=O)=C(I)C(C(Cl)=O)=C1I FBJVWRITWDYUAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 3
- ZMGMDXCADSRNCX-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydroxy-1,3-diazepan-2-one Chemical compound OC1CNC(=O)NCC1O ZMGMDXCADSRNCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N beta-methyl-butyric acid Natural products CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N terephthaloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 LXEJRKJRKIFVNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJSOFNCYXJUNBT-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC(C(O)=O)=CC(OC)=C1OC SJSOFNCYXJUNBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKFMTSFTLSYCKS-UHFFFAOYSA-N 3,5-dichloro-4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=C(Cl)C=C(S(O)(=O)=O)C=C1Cl BKFMTSFTLSYCKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IZZIWIAOVZOBLF-UHFFFAOYSA-N 5-methoxysalicylic acid Chemical compound COC1=CC=C(O)C(C(O)=O)=C1 IZZIWIAOVZOBLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 2
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 2
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- SIEILFNCEFEENQ-UHFFFAOYSA-N dibromoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Br)Br SIEILFNCEFEENQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CKMXAIVXVKGGFM-UHFFFAOYSA-N p-cumic acid Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 CKMXAIVXVKGGFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 2
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 1-chlorododecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCl YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTUDGPVTCYNYLK-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylglutaric acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)CCC(O)=O BTUDGPVTCYNYLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZIDTOHMJBOSOX-UHFFFAOYSA-N 2,3,6-TBA Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C=CC(Cl)=C1Cl XZIDTOHMJBOSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FODBVCSYJKNBLO-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=CC(C(O)=O)=C1OC FODBVCSYJKNBLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHZLVSBMXZSPNN-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 CHZLVSBMXZSPNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUTICWRXMKBOSF-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibromoterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(Br)=C(C(O)=O)C=C1Br VUTICWRXMKBOSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDNSFOFOQZDA-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C=CC=C1Cl MRUDNSFOFOQZDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGDFVCHPSXLTIV-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,3-di(propan-2-yl)imidazolidin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(C)N1CC[NH+](C(C)C)C1Cl IGDFVCHPSXLTIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTOXWOFRSWVJGC-UHFFFAOYSA-M 2-chloro-1,3-dimethyl-5,6-dihydro-4h-pyrimidin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CN1CCC[N+](C)=C1Cl DTOXWOFRSWVJGC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPXGNBIFHQKREO-UHFFFAOYSA-N 2-chloroterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(Cl)=C1 ZPXGNBIFHQKREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAUQLHHARJUJEH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-5-methoxybenzoic acid Natural products COC1=CC=CC(O)=C1C(O)=O AAUQLHHARJUJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxynaphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(Cl)=O)C(O)=CC=C21 WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 description 1
- IWPZKOJSYQZABD-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trimethoxybenzoic acid Natural products COC1=CC(OC)=CC(C(O)=O)=C1 IWPZKOJSYQZABD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYCOJIVDCGJKDB-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1C WYCOJIVDCGJKDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWQBZEFLFSFEOS-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(O)=O)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 ZWQBZEFLFSFEOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJHPGXZOIAYYDW-UHFFFAOYSA-N 3-(2-cyanophenyl)-2-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonylamino]propanoic acid Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)NC(C(O)=O)CC1=CC=CC=C1C#N AJHPGXZOIAYYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEGFNJRAUMCZMY-UHFFFAOYSA-N 3-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 NEGFNJRAUMCZMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 3-Methylbutanoic acid Natural products CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)C(O)=O RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropionic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1 XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALYNCZNDIQEVRV-PZFLKRBQSA-N 4-amino-3,5-ditritiobenzoic acid Chemical compound [3H]c1cc(cc([3H])c1N)C(O)=O ALYNCZNDIQEVRV-PZFLKRBQSA-N 0.000 description 1
- TUXYZHVUPGXXQG-UHFFFAOYSA-N 4-bromobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 TUXYZHVUPGXXQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIPHYCQSJTXLFM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoyl chloride Chemical compound OC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 YIPHYCQSJTXLFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDVYCTOWXSLNNI-UHFFFAOYSA-N 4-t-Butylbenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KDVYCTOWXSLNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethyl-4-(3-oxobutyl)dihydro-2(3H)-furanone Chemical compound CC(=O)CCC1CC(=O)OC1(C)C AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical class O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012359 Methanesulfonyl chloride Substances 0.000 description 1
- WVMBPWMAQDVZCM-UHFFFAOYSA-N N-methylanthranilic acid Chemical compound CNC1=CC=CC=C1C(O)=O WVMBPWMAQDVZCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000008431 aliphatic amides Chemical class 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N alpha-phenylbenzeneacetic acid Natural products C=1C=CC=CC=1C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 WRUAHXANJKHFIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000002872 contrast media Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- HCUYBXPSSCRKRF-UHFFFAOYSA-N diphosgene Chemical compound ClC(=O)OC(Cl)(Cl)Cl HCUYBXPSSCRKRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000004213 low-fat Nutrition 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QARBMVPHQWIHKH-UHFFFAOYSA-N methanesulfonyl chloride Chemical compound CS(Cl)(=O)=O QARBMVPHQWIHKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- ILUJQPXNXACGAN-UHFFFAOYSA-N ortho-methoxybenzoic acid Natural products COC1=CC=CC=C1C(O)=O ILUJQPXNXACGAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical class ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/04—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D233/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/78—Halides of sulfonic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
- C07C303/22—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof from sulfonic acids, by reactions not involving the formation of sulfo or halosulfonyl groups; from sulfonic halides by reactions not involving the formation of halosulfonyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/60—Preparation of carboxylic acid halides by conversion of carboxylic acids or their anhydrides or esters, lactones, salts into halides with the same carboxylic acid part
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
본 발명에 의하면, 카르복시산 또는 술폰산과, 일반식(1)
[화학식 1]
(식중, R1및 R2는 동일 또는 상이한 저급알킬기이고, X는 할로겐원자, n은 2 또는 3의 정수임)로 표시된 할로이미늄염을 해당 카르복시산 또는 술폰산에 대해서 화학량론량이상 사용해서 반응시키는 것으로 이루어진 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법이 제공된다.
Description
본 발명은 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법에 관한 것이다.
근년, 산할로겐화물은, 내열성수지, 의약 및 농약제조용의 중간물로서 공업상 중요해지고 있다. 예를 들면, 염화라우로일은 과산화물 및 계면활성제를 제조할 때에 중간물로서 공업상 사용되며, 또한, 염화테레프탈로일은 공업상 폴리에스테르의 제조에 사용된다.
또한, 5-아미노-2, 4, 6-트리요도이소프탈산(이하, "TIPA"라 칭함)의 산부분을 할로겐화하여 얻어진 5-아미노-2, 4, 6-트리요도이소프탈산디할라이드는 X선조영제의 원료로서 중요한 화합물이다.
또한, 술폰산할로겐화물 역시 의약 및 농약제조용의 중간물로서 공업상 중요해졌다.
산할로겐화물은 일반적으로, 카르복시산을, 염화티오닐, 5염화인, 3염화인, 염화포스포릴 및 포스겐 등의 염소화제로 염소화시켜 제조된다. 그러나, 염화티오닐, 5염화인, 3염화인 및 염화포스포릴은 고가이고, 반응으로 형성된 황산화물, 인산화합물 및 기타 부산물을 처리할 때에 문제점이 있다. 즉, 공업적 규모로의 생산은 경제성 및 환경보호면에서 보아 각종 불이익과 무제점을 수반하고 있다. 더욱이, 포스겐은 상기 염소화제보다 반응성이 낮아, 촉매의 사용을 필요로 한다.
이 때 사용할 수 있는 촉매의 예로는 디메틸포름아미드, 4급암모늄염 및 술포늄염을 들 수 있고, 높은 활성을 지니는 저렴한 촉매로서, 일반적으로, 디메틸포름아미드 및 기타 저급 지방족 아미드가 사용된다.
그러나, 이들 촉매가 사용되더라도, 포스겐, 디메틸포름아미드 및 기타 저급 지방아미드로부터 형성된 활성종이 고온에서 불안정하여 100℃이상의 고온에서 타르물질의 형성속도가 급격하게 증가하는 문제점을 일으킨다.
또한, 술폰산할로겐화물은 일반적으로, 예를 들면, 술폰산을, 염화티오닐 및 5염화인 등의 염소화제로 염소화시켜서 제조된다. 예를 들어, 메탄술포닐클로라이드는 메탄술폰산과 염화티오닐로부터 제조된다. 그러나, 염화티오닐, 5염화인 및 기타 염소화제는 고가이고, 반응으로 형성된 황산화물, 인산화합물 및 기타 부산물을 취급할 때에 문제점이 있다. 즉, 공업적 규모로의 생산은 경제성 및 환경보호면에서 보아 각종 불이익과 문제점을 수반하고 있다. 클로로술폰산은 종종 술포닐클로라이드의 공업적 제조에 사용된다.
예를 들어, p-톨루엔술포닐클로라이드는 톨루엔과 클로로술폰산으로부터 공업적으로 제조되고, 벤젠술포닐클로라이드는 벤젠과 클로로술폰산으로부터 공업적으로 제조된다. 그러나, 클로로술폰산은 물과 격렬한 분해반응을 일으켜 염산과 황산을 형성한다.
따라서, 클로로술폰산의 취급은 혹독한 부식성과 강한 독성으로 인해 상당한 불이익과 어려움을 수반한다.
2-클로로-1, 3-디메틸이미다졸리늄클로라이드는 1차 수산기의 할로겐화제로서 알려져 있다(일본국 특개평 4-308538호 공보). 그러나, 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물제조용의 화합물을 이용하는 예는 아직 알려진 바가 없었다.
본 발명은, 종래의 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법상의 문제를 해결하기 위해 행해진 것이다. 본 발명의 제1목적은, 경제적으로 우수한 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 제2목적은, 환경보호면에서 보아 우수한 방법을 제공하는 것이다.
이들 목적을 달성하기 위하 예의 연구결과, 본 발명자들은 이하의 구성으로 이루어진 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명의 양상은 다음과 같다.
1) 카르복시산 또는 술폰산에, 일반식(1)
(식중, R1및 R2는 동일 또는 상이한 저급알킬기이고, X는 할로겐원자, n은 2 또는 3의 정수임)로 표시된 할로이미늄염을 해당 카르복시산 또는 술폰산에 대해서 화학량론량이상 사용해서 반응시키는 것으로 이루어진 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법, 및
2) 포스겐을, 일반식(2)
(식중, R1및 R2는 동일 또는 상이한 저급알킬기이고, n은 2 또는 3의 정수임)로 표시된 환상 우레아화합물의 존재하에 카르복시산 또는 술폰산내로 불어 넣어, 일반식(1)
(식중, R1, R2및 n은 상기와 동일하고, X는 할로겐원자임)로 표시된 할로이미늄염을 형성하고, 상기 카르복시산 또는 술폰산을 해당 할로이미늄염과 반응시키는 것으로 이루어진 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
본 발명에 사용할 수 있는 할로이미늄염은 일반식(1)로 표시된다. 일반식(1)에서 R1및 R2로 표시된 저급알킬기의 예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기 및 이소부틸기 등의 탄소수 1∼4의 저급알킬기를 들 수 있고, X로 표시된 할로겐원자의 예로는 불소원자, 염소원자, 브롬원자 및 요드원자를 들 수 있으며, 특히 염소원자가 바람직하다. 일반식(1)로 표시된 할로이미늄염의 바람직한 예로는 2-클로로-1, 3-디메틸이미다졸리늄클로라이드(이하, 간단히 "DMC"라 칭함), 2-클로로-1, 3-디이소프로필이미다졸리늄클로라이드 및 2-클로로-1, 3-디메틸-3, 4, 5, 6-테트라히드로피리미디늄클로라이드를 들 수 있다.
할로이미늄염은, 쉽게 입수할 수 있는 용매로 알려져 있는, 식(2)
(식중, R1, R2및 n은 상기와 동일함)로 표시된 환상 우레아화합물을, 할로겐화옥살릴, 3할로겐화인, 5할로겐화인, 옥시할로겐화인, 포스겐 및 트리클로메틸클로로포르메이트 등의 공지의 할로겐 화제와 반응시킴으로써 손쉽게 얻을 수 있다. 포스겐은, 현재, 폴리우레탄공업에서 대량 생산되고 있고, 저렴하며, 인화합물 등의 공업폐기물의 발생이 없기 때문에 가장 바람직하다.
반응은, 4염화탄소 등의 적합한 용매에 일반식(2)의 화합물 또는 할로겐화제를 용해시키고, 얻어진 용액에 다른 제제를 분할첨가하여 실온∼70℃에서 수 시간∼수십 시간 반응시킴으로써 행해진다. 이렇게 얻어진 일반식(1)의 할로이미늄염은 단리한 후 사용할 수 있다. 그러나, 반응혼합물은 또한 하로이미늄염을 단리하는 일없이 본 발명의 반응에 그대로 사용할 수도 있다.
첫째로, 할로이미늄염과 카르복시산을 반응시키는 방법에 대해 설명한다.
할로이미늄염의 양은 카르복시산의 당량에 대해 화학량론량이상, 바람직하게는 1.0∼2.0배이고, 보다 바람직하게는 1.1∼1.3배이다.
반응종료후, 할로이미늄염은 식(2)로 표시된 화합물로 되돌아가, 할로겐화제와 반응시킴으로써 할로이미늄염으로 다시 변환될 수 있다.
본 발명은, 일반식(1)에서 X가 염소원자인 이미늄클로라이드를 제조하는 동안, 형성된 이미늄클로라이드와 카르복시산을 반응시키는 실시예를 포함한다. 즉, 포스겐을, 카르복시산원료와 일반식(2)의 환상 우레아화합물을 함유하는 용액내로 불어넣음으로써 소정의 산클로라이드를 얻을 수 있다. 반응식, 일반식(2)의 환상 우레아는 첫 번째로 포스겐과 반응하여 일반식(1)에서 X가 염소원자인 이미늄클로라이드를 형성하고, 계속해서, 카르복시산을 이미늄클로라이드에 의해 할로겐화시켜 소정의 염화카르보닐을 형성한다. 이 단계에서, 일반식(1)에서 X가 염소원자인 이미늄클로라이드는 일반식(2)의 원래의 환상 우레아로 되돌아간다.
따라서, 본 반응에서 일반식(2)의 환상 우레아의 사용량은, 바람직하게는 카르복시산의 당량에 대해 0.01당량이상, 보다 바람직하게는, 0.05∼0.1당량이다. 환상 우레아의 더이상의 사용은 반응속도를 증가시키지는 않는다.
반응시 포스겐의 사용량은 카르복시산의 당량에 대해 1.0∼2.0 당량이며, 바람직하게는 1.0∼2.0당량이며, 이 양은 6∼10시간, 바람직하게는 7∼8시간에 걸쳐 주입하는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용할 수 있는 대표적인 카르복시산의 예를 들면, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 이소부탄산, 펜탄산, 3-메틸부탄산, 피발산, 헥산산, 헵탄산, 옥탄산, 노난산, 데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 페닐아세트산, 디페닐아세트산, 이세토아세트산, 페닐프로피온산, 신남산, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 클로로프로피온산, α-브로모아세트산, 디브로모아세트산, α-브로모프로피온산 등의 지방족 모노카르복시산류; 옥살산, 말론산, 숙신산, 메틸숙신산, 글루타르산, 아디프산, 1,1-디메틸-1, 3-디카르복시프로판, 1,5-펜탄디카르복시산, 1,6-헥산디카르복시산, 1,7-헵탄디카르복시산, 1,8-옥탄디카르복시산 등의 지방족 디카르복시산류; 벤조산, 톨루엔산. 4-이소프로필벤조산, 4-tert-부틸벤조산, 메톡시벤조산, 디메톡시벤조산, 3,4,5-트리메톡시벤조산, o-클로로벤조산, 2,6-디클로로벤조산, 3,4-디클로로벤조산, 2,3,6-트리클로로벤조산, 4-브로모벤조산 등의 방향족 모노카르복시산류; 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 2-클로로테레프탈산, 2,5-디브로모테레프탈산 등의 방향족 디카르복시산류; 락산, 부티르산, 3-히드록시-2, 2-디메틸프로피온산 등의 분자내에 2차수산기를 지니는 지방족 카르복시산류; 살리실산, 5-메톡시살리실산, 2-옥시-m-톨루엔산, 3,5-디-tert-부틸살리실산, p-히드록시벤조산 등의 분자내에 수산기를 지닌 방향족 카르복시산류; β-알라닌 등의 분자내에 아미노기를 지닌 지방족 카르복시산류; 4-아미노벤조산, 3-아미노벤조산, N-메틸아미노벤조산, m-디메틸아미노벤조산, 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈산 등의 분자내에 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산류; 3-메르캅토프로피온산, o-메르캅토벤조산 등의 분자내에 메르캅토기를 지니는 카르복시산류를 들 수 있다. 그러나, 카르복시산류는 이들 화합물로 한정되는 것은 아니다. 분자내에 아미노기를 지니는 카르복시산은, 하이드로클로라이드를 사용해서 반응시키는 것이 바람직하다.
상기 분자내에 수산기 또는 아미노기를 지니는 카르복시산이 일반식(1)의 할로이미늄염에 의해 효율적으로 할로겐화될 수 있는 것은 놀라운 일이다. 예를 들어, 공기의 디메틸포름아미드촉매존재하에 포스겐에 의한 카르복시산의 염소화반응을 분자내에 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산의 염소화에 사용할 경우, 포름아미딘유도체가 형성되어, 소정의 카르보닐클로라이드는 얻을 수 없다. 반면, 본 발명에 의하면, 소정의 카르보닐할로겐화물은 아미노기가 보호되어 있지 않더라도 분자내에 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산에서 제조될 수 있다.
본 발명에 사용될 수 있는 용매는 일반식(1)의 할로이미늄염과 반응하지 않고, 산할로겐화물의 제조에 사용되는 공지의 용매이기만 하면 되고 특히 한정되지는 않는다. 용매의 예를 들면, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 헥산, 헵탄, 시클로헥산 등의 탄화수소류; 1,2-디클로로에탄, 클로로포름, 4염화탄소, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류; 및 에틸아세테이트, 부틸아세테이트 등의 에스테르를 들 수 있다. 그러나, 이들 용매로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 반응온도는 반응기질과 용매에 의존하며, 일반적으로 실온∼120℃ 범위이다. 예를 들어, 1,2-디클로로에탄인 경우는 75∼80℃가 바람직하고, 톨루엔인 경우는 105∼110℃가 바람직하다. 그러나, 이들 온도로 한정되는 것은 아니다.
또한, 반응은 염기존재하에 행할 수 있고, 이런 방법은 반응속도를 가속시키고, 반응온도를 하락시킬 수 있다. 사용할 수 있는 염기의 예를 들면, 피리딘, 트리에틸아민, 트리부틸아민을 들 수 있다.
형성된 산할로겐화물은 증류 및 결정화 등의 통상의 후처리방법에 의해 반응 혼합물로부터 단리할 수 있다.
TIPA와 할로이미늄염의 반응은 상기 방법으로 행할 수 있고, 바람직할 실시예를 하기 설명한다.
할로이미늄염의 양은 TIPA의 양에 대해 화학량론량이상, 바람직하게는 2.4∼4.0몰배, 보다 바람직하게는 2.1∼2.5몰배이다. 반응종료후, 할로이미늄염은 상기 일반식(2)의 화합물로 되돌아가, 할로겐화제와 반응함으로써 할로이미늄염으로 다시 전환될 수 있다.
TIPA와 할로이미늄염의 반응온도는 바람직하게는 50℃이상이고, 보다 바람직하게는 90∼110℃이다.
얻어진 반응매스로부터 용매를 제거하고, 잔류물에 헥산을 첨가하여 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈산디할로겐화물을 단리시킬 수 있다.
다음에, 술폰산과 할로이미늄염을 반응시키는 방법에 대해 설명한다.
할로이미늄염의 양은 술폰산양에 대해 화학량론량이상, 바람직하게는 1.0∼1.5당량배, 보다 바람직하게는 1.1∼1.3당량배이다.
반응종료후, 할로이미늄염은 식(2)의 화합물로 되돌아가며, 할로겐화제와 반응함으로써 할로이미늄염으로 다시 전환될 수 있다.
본 발명에 사용할 수 있는 술폰산은, 예를 들면, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산, 2,5-디메틸벤젠술폰산, 3,4-디메틸벤젠술폰산, m-크실렌술폰산, o-디클로로벤잰-4-술폰산, 2,6-디클로로톨루엔-4-술폰산, 및 벤젠-1,3-디술폰산을 들 수 있으나, 이들 술폰산으로 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 사용될 수 있는 용매는 일반식(1)의 할로이미늄염과 반응하지 않고, 산할로겐화물의 제조에 사용되는 공지의 용매이기만 하면 되고 특히 한정되지는 않는다. 용매의 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 헥산, 헵탄, 시클로헥산 등의 탄화수소류; 1,2-디클로로에탄, 클로로포름, 4염화탄소, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 할로겐화탄화수소류; 및 에틸아세테이트, 부틸아세테이트 등의 에스테르를 들 수 있다. 그러나, 이들 용매로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 실시예의 반응온도는 반응기질 및 용매에 의존하나, 일반적으로 실온∼120℃이다. 예를 들어, 용매로 톨루엔을 사용하는 경우, 온도범위는 105∼110℃가 바람직하다.
이렇게 형성된 술폰산할로겐화물은, 증류 및 결정화 등의 통상의 후처리법에 의해 반응혼합물로부터 단리시킬 수 있다.
산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물을 본 발명으로 제조한 경우, 종래법과 비교하여 볼 때 경제성 및 환경보호면에서 보아 일반식(1)의 할로이미늄염을 사용함으로써 소정의 제품을 효율적으로 얻을 수 있다. 일반식(1)의 할로이미늄염과 카르복시산 또는 술폰산의 반응으로 형성된 일반식(2)의 환상 우레아화합물은, 일반식(1)의 할로이미늄염을 제조하는데 회수하여 다시 사용할 수 있다. 따라서, 본 발명의 방법은 경제성면에서 큰 이점을 지닌다.
[실시예]
이하, 본 발명을 실시예를 통해 보다 상세히 설명하나, 이들 실시예로 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
[염화라우로일의 합성]
2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄 클로라이드 9.30g(0.055몰)에, 톨루엔50.1g을 첨가하고, 계속해서 라우르산 10.02g(0.05몰)을 첨가하였다. 얻어진 혼합물을 110℃에서 4시간 반응시키고, 이 반응매스를 가스크로마토그라피 및 액체크로마토그라피로 분석한 바, 라우르산의 전환율은 100%였고, 염화라우릴의 수율은 100%였다.
[실시예 2]
[염화벤조일의 합성]
2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄 클로라이드 9.30g(0.055몰)에, 톨루엔 50.1g을 첨가하고, 계속해서 벤조산 6.11g(0.05몰)을 첨가하였다. 얻어진 혼합물을 110℃에서 7시간 반응시키고, 이 반응매스를 가스크로마토그라피 및 액체크로마토그라피로 분석한 바, 벤조산의 전환율은 100%였고, 염화벤조일의 수율은 100%였다.
[실시예 3]
[염화벤조일의 합성]
2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄 클로라이드 9.72g(0.0575몰)에 1,2-디클로로에탄 90ml와 벤조산 6.11g(0.05몰)을 첨가하였다. 얻어진 혼합물의 온도를 15∼20℃로 유지하면서, 트리에틸아민 5.06g(0.05몰)을 30분에 걸쳐 적하하고, 계속해서 실온에서 4시간 반응시켰다. 이 반응혼합물을 가스크로마토그라피로 분석한바, 염화벤조일의 수율은 93%였다.
[실시예 4]
[염화벤조일의 합성]
교반기, 가스유입관, 온도계 및 딤로쓰(Dimroth)응축기가 구비된 4입구 플라스크에, 촉매로서 1,3-디메틸이미다졸리딘-2-온 3.4g(0.03몰), 벤조산 36.64g(0.3몰) 및 톨루엔 146.56g을 주입하였다. 이 혼합물을 교반하면서 4.2g/h의 속도로 포스겐을 불어넣고, 110℃에서 7시간 반응시켰다. 이 반응매스를 가스크로마토그라피로 분석한 바, 염화벤조일의 수율은 95%였다.
[실시예 5]
[염화테레프탈로일의 합성]
2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드 18.6g(0.11몰)에, 톨루엔 83g을 첨가하고, 계속해서 테레프탈산 8.31g(0.05몰)을 첨가하였다. 혼합물을 110℃에서 4시간 반응시켰다. 이 반응매스를 가스크로마토그라피로 분석한 바, 염화테레프탈로일의 수율은 98%였다.
[실시예 6]
[2염화숙신일의 합성]
2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드 19.44g(0.115몰)에, 톨루엔 83g을 첨가하고, 계속해서 숙신산 5.90g(0.05몰)을 첨가하였다. 혼합물을 110℃에서 11시간 반응시켰다. 이 반응매스를 가스크로마토그라피로 분석한 바, 2염화숙신일의 수율은 90%였다.
[실시예 7]
[5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈로일 디클로라이드의 합성]
반응플라스크에, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드 4.23g(0.025몰), 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈산 5.58g(0.01몰) 및 톨루엔 80g을 주입하고, 105∼110℃에서 4시간 반응시켰다. 그후, 이 반응매스를 냉각하고, 감압하에 톨루엔을 제거하였다. 얻어진 농축액에 헥산 100ml를 첨가하여 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈로일디클로라이드를 결정화시켰다. 침전물을 감압하에 여과건조하여 백색결정으로서 5-아미노-2,4,6-트리요도프탈로일 디클로라이드 5.65g(수율95%)을 얻었다.
[실시예 8]
[5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈로일 디클로라이드의 합성]
5-아미노-2,4,6-트리요도이소크탈산과 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드의 반응을 90∼95℃에서 6시간 행한 이외에는 실시예 7과 동일한 공정을 행하였다. 얻어진 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈로일디클로라이드는 5.53g이었다(수율 93%).
[실시예 9]
[히드록시벤조일클로라이드의 합성]
2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄 클로라이드 9.72g(0.0575몰)에, 1,2-디클로로에탄 90ml와 4-히드록시벤조산 6.91g(0.05몰)을 첨가하였다. 이 혼합물의 온도를 15∼20℃로 유지하면서 트리에틸아민 5.06g(0.05몰)을 30분간에 걸쳐 적하하였다. 그후, 반응을 15∼20℃에서 24시간 행하였다. 이 반응매스를 가스크로마토그라피 및 액체크로마토그라피로 분석한 바, 미반응의 4-히드록시벤조산이 1.79g(0.013몰) 남아 있었다. 얻어진 4-히드록시벤조일클로라이드의 수율은 72%였다.
[실시예 10]
[p-톨루엔술포닐클로라이드의 합성]
2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄 클로라이드 9.72g(0.0575몰)에, 톨루엔 83g을 첨가하고, 계속해서 p-톨루엔술폰산 8.61g(0.05몰)을 첨가하였다. 이 혼합물을 110℃에서 4시간 반응시켰다. 이 반응매스를 가스크로마토그라피로 분석한바, p-톨루엔술포닐클로라이드의 수율은 93.2%였다.
[실시예 11]
[염화라우로일의 합성]
2-클로로-1,3-디메틸이미다졸라늄클로라이드 93g(0.55몰)에, 톨루엔 500g과 라우르산 100.2g(0.5몰)을 첨가하였다. 이 혼합물을 110℃에서 4시간 반응시켰다.
이 반응매스를 가스크로마토그라피 및 액체크로마토그라피로 분석한 바, 라우르산의 전환률은 100%였고, 염화라우로일의 수율은 100%였다.
이 반응매스로부터 감압하에 톨루엔을 증류시키고, 계속해서 1,3-디메틸이미다졸리딘-2-온 56.5g(0.495몰)을 17mmHg의 감압하 106∼108℃에서 증류하여 회수하였다. 계속해서, 15mmHg의 감압하 142∼144℃에서 염화라우로일 102.8g(0.47몰)을 얻었다. 수율은 94%였다.
[비교예 1]
반응플라스크에, TIPA 11.3g(0.02몰), 디메틸포름아미드 0.15g(0.002몰) 및 톨루엔 100ml를 주입하고, 70℃로 승온시켰다. 이 혼합물의 온도를 70∼80℃로 유지하면서 4g/h의 속도로 포스겐을 2시간 동안 불어넣었다. 그후, 반응매스를 70∼80℃에서 질소가스로 대략 1시간동안 퍼지시켰다. 냉각후, 반응매스를 감압하에 여과건조하여 결정 9.53g을 얻었다. 결정은 미반응의 TIPA와 2,4,6-트리요도-5-(N,N-디메틸아미노메틸리덴)아미노이소프탈로일디클로라이드의 혼합물이었다.
Claims (20)
- 카르복시산 또는 술폰산과, 일반식(1)[화학식 1](식중, R1및 R2는 동일 또는 상이한 저급알킬기이고, X는 할로겐원자, n은 2 또는 3의 정수임)로 표시된 할로이미늄염을 해당 카르복시산 또는 술폰산에 대해서 화학량론량이상 사용해서 반응시키는 것으로 이루어진 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 카르복시산은 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제2항에 있어서, 상기 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물은 수산기를 지니는 방향족 카르복시산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제2항에 있어서, 상기 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물을 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제4항에 있어서, 상기 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산은 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 할로이미늄염은 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드인 것을 특징으로 하는 산할로겐하물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제6항에 있어서, 상기 카르복시산은 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물을 수산기를 지니는 방향족 카르복시산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물은 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 상기 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산은 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 일반식(2)[화학식 2](식중, R1및 R2는 동일 또는 상이한 저급알킬기이고, n은 2 또는 3의 정수임)로 표시된 환상 우레아화합물의 존재하에 카르복시산 또는 술폰산내로 포스겐을 불어넣어, 일반식(1)(식중, R1, R2및 n은 상기와 동일하고, X는 할로겐원자임)로 표시된 할로이미늄염을 형성하고, 상기 카르복시산 또는 술폰산을 이 할로이미늄염과 반응시키는 것으로 이루어진 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제11항에 있어서, 상기 카르복시산은 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제12항에 있어서, 상기 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물은 수산기를 지니는 방향족 카르복시산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제12항에 있어서, 상기 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물은 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제14항에 있어서, 상기 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산은 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제11항에 있어서, 상기 환상 우레아화합물은 1,3-디메틸이미다졸리딘-2-온인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제16항에 있어서, 상기 카르복시산은 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제17항에 있어서, 상기 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물은 수산기를 지니는 방향족 카르복시산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제17항에 있어서, 상기 수산기 및/또는 아미노기를 지니는 화합물은 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 아미노기를 지니는 방향족 카르복시산은 5-아미노-2,4,6-트리요도이소프탈산인 것을 특징으로 하는 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP95-152826 | 1995-06-20 | ||
JP15282695 | 1995-06-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970001318A KR970001318A (ko) | 1997-01-24 |
KR100221557B1 true KR100221557B1 (ko) | 1999-09-15 |
Family
ID=15548994
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960022504A KR100221557B1 (ko) | 1995-06-20 | 1996-06-20 | 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5750779A (ko) |
EP (1) | EP0751131A1 (ko) |
KR (1) | KR100221557B1 (ko) |
NO (1) | NO312094B1 (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6329529B1 (en) | 1997-08-06 | 2001-12-11 | Mitsui Chemicals, Inc. | Nitrogen-based halogenating agents and process for preparing halogen-containing compounds |
DE19753773A1 (de) * | 1997-12-04 | 1999-06-10 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Chlorcarbonsäurechloriden |
CN101415668B (zh) * | 2006-03-31 | 2013-06-19 | 味之素株式会社 | 羧酸酰氯化合物的制造方法 |
CN101376627B (zh) * | 2008-09-26 | 2012-05-09 | 上海应用技术学院 | 4-羟基苯甲酰氯的制备方法 |
CN105646191B (zh) * | 2014-12-05 | 2018-05-18 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种制备芳香二甲酰氯的方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3282924A (en) * | 1963-08-22 | 1966-11-01 | Gerhard H Alt | Method of preparing haloiminium salts |
JPS5925375A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-09 | Shiratori Seiyaku Kk | 1,3−ジアルキル−2−ハロゲノ−イミダゾリニウム・ハロゲニド |
JPS5939851A (ja) * | 1982-08-26 | 1984-03-05 | Shiratori Seiyaku Kk | エステル化方法 |
JPH04308547A (ja) * | 1991-04-04 | 1992-10-30 | Shiratori Seiyaku Kk | 3−ハロゲノ−2,3−不飽和ケトンの製造法 |
JPH04308538A (ja) * | 1991-04-04 | 1992-10-30 | Shiratori Seiyaku Kk | ハロゲン化方法 |
DE4324605A1 (de) * | 1993-07-22 | 1995-01-26 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Carbonsäurechloriden |
-
1996
- 1996-05-31 US US08/655,929 patent/US5750779A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-04 NO NO19962292A patent/NO312094B1/no unknown
- 1996-06-04 EP EP96108936A patent/EP0751131A1/en not_active Withdrawn
- 1996-06-20 KR KR1019960022504A patent/KR100221557B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0751131A1 (en) | 1997-01-02 |
NO962292D0 (no) | 1996-06-04 |
US5750779A (en) | 1998-05-12 |
NO962292L (no) | 1996-12-23 |
KR970001318A (ko) | 1997-01-24 |
NO312094B1 (no) | 2002-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100221557B1 (ko) | 산할로겐화물 또는 술폰산할로겐화물의 제조방법 | |
JP3433319B2 (ja) | 塩化o−(カルボアルコキシ)フェニルメタンスルホニル誘導体の製造方法 | |
JP3223112B2 (ja) | 酸ハロゲン化物の製造方法 | |
US4806286A (en) | Process for the preparation of acid chlorides by phosgenation of acids, and catalysts for this process | |
AU629580B2 (en) | Preparation of 2-(chloro, bromo or nitro)-4-(alkylsulfonyl)benzoic acids and intermediates | |
US5130478A (en) | Process for the preparation of chlorides of chlorinated carboxylic acids | |
JP3234766B2 (ja) | スルホン酸ハロゲン化物の製造方法 | |
US4076941A (en) | Process for the preparation of 1-carbamoyl-3-(3,5-dichlorophenyl)-hydantoins | |
KR100217355B1 (ko) | 5-(3-부티릴-2,4,6-트리메틸)-2-(1-(에톡시이미노)프로필)-3-하이드록시싸이클로헥스-2-엔-1-온 제조방법 | |
JP3495072B2 (ja) | 1,2−ベンズイソチアゾール−3−オン類の製造方法 | |
EP0853077B1 (en) | Process for producing alkyl 3-amino-4-substituted benzoates | |
JP2520298B2 (ja) | チオフェンジカルボン酸ジエステルの製造方法 | |
JP3309202B2 (ja) | ニトロベンゼンスルホニルハライド類の製造方法 | |
RU2152926C1 (ru) | Способ получения галогенметилбензоилцианидов | |
JP3808908B2 (ja) | α,α’−ジクロロアジピン酸ジエステルの製造方法 | |
JPH04308538A (ja) | ハロゲン化方法 | |
KR800001589B1 (ko) | 클로로 술포닐 벤조일 클로리드의 제조방법 | |
US5157150A (en) | Preparation of 2-(chloro, bromo or nitro)-4-(alkylsulfonyl)benzoic acids and intermediates | |
JP3373271B2 (ja) | アルキルチオベンズアミド類の製造方法 | |
KR100573651B1 (ko) | 카르복실산 염화물의 제조 방법 | |
JPH04208270A (ja) | フェノチアジンの2位に直接メルカプト基を導入する 方法 | |
KR950001406B1 (ko) | 메틸 말로노니트릴의 제조방법(ii) | |
JPH0586383B2 (ko) | ||
JPH0789924A (ja) | カルバマート類の製造法 | |
KR970004410B1 (ko) | 메틸말로노니트릴의 제조방법(ⅰ) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
N231 | Notification of change of applicant | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20020621 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |