KR100216324B1 - 박막 자기 기록 디스크 및 그 제조방법, 자기 기록 강체 디스크 드라이브, 자기 기록 접촉 시동/정지 강체 디스크 드라이브 - Google Patents

박막 자기 기록 디스크 및 그 제조방법, 자기 기록 강체 디스크 드라이브, 자기 기록 접촉 시동/정지 강체 디스크 드라이브 Download PDF

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Abstract

박막 코발트 합금 자기 기록 디스크는 헤드-디스크 인터페이스에 디스크의 텍스쳐링을 제공하기 위해 디스크 기판과 디스크의 상면 사이에 위치된 금속 질화물층을 갖는다. 텍스쳐링층은 기판의 상부에서 종래의 Cr 하부층 아래에 형성되는 둥근 상면을 가진 알루미늄 질화물(AlN)의 대체로 연속적 클러스터로 구성된다. AlN 텍스쳐링은 N2가스의 존재하에 Al 타겟을 스퍼터링하므로써 형성된다. 후속적으로 스퍼터 증착되는 Cr 하부층, 코발트 합금 자기층 및 보호 비정질 탄소 오버 코팅은 연속적으로 AlN 클러스터의 상면을 복사하고, 그 결과 헤드-디스크 인터페이스에 텍스쳐링된 표면을 형성된다. AlN 텍스쳐링층은 또한 보호 탄소 오버코팅의 중앙에서 자기층 위에 스퍼터 증착될 수는 있다. 텍스쳐링층내의 AlN 클러스터의 밀도 및 크기와 헤드-디스크 인터페이스에서의 완성된 디스크의 텍스쳐는 N2의 양, 스퍼터링 전력 및 압력, 기판 온도에 의해 제어된다.

Description

박막 자기 디스크 및 그 제조 방법, 자기 지록 강체 디스크 드라이브, 자기 기록 접촉 시동/정지 강체 디스크 드라이브
제1도는 종래 기술의 CSS 디스크 드라이브의 개략 단면도.
제2도는 제1도에 개략적으로 도시된 종래 기술의 디스크 드라이브의 상부가 개방된, 상태의 평면도.
제3도는 텍스쳐링층이 디스크 기판상에 형성되는 본 발명의 실시예에 따른 박막 디스크를 형성하는 층을 설명하는 단면도.
제4도는 텍스쳐링층이 디스크 기판상에 스퍼터 증착된 본 발명의 실시예에 따른 박막 디스크의 외부 표면의 토포그래피(topography)의 원자력 현미경 사진.
제5도는 텍스쳐링층이 자기층 위에 형성되는 본 발명의 실시예에 따른 박막 디스크를 형성하는 층을 설명하는 단면도.
제6도는 텍스쳐링층이 자기층 위에 스퍼터 증착된 본 발명의 실시예에 따른 박막 디스크의 외부 표면의 토포그래피(topography)의 원자력 현미경 사진.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
12 : 모터 14 : 작동기
16 : 디스크 20 : 슬라이더
22 : 아암 24 : 현수장치
25 : 변환기 40 : 윤활막
50 : 박막 디스크 51 : 기판
52 : 텍스쳐링층 54 : 하부층
56 : 자기층 58 : 윤활막
60 : 보호 오버코팅 61 : 제1 탄소층
62 : 제2 탄소층
[기술분야]
본 발명은 자기 기록 디스크에 관한 것으로서, 특히 텍스쳐링된 표면(a textured surface)을 가진 디스크와 상기 디스크의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 그러한 디스크를 포함하고 개량된 헤드-디스크 인터페이스와 데이타 리드백(readback) 신호를 가진 강체 디스크 드라이브에 관한 것이다.
[발명의 배경]
한가지 형태의 회전 자기 기록 강체 디스크 드라이브 에서, 각각의 판독/기록 변환기(또는 헤드)는 디스크가 작동 속도로 회전될 때 관련된 디스크의 표면 위에서 공기 쿠션 또는 베어링상에서 주행하는 캐리어(또는 슬라이더)상에 지지된다. 슬라이더는 통상적으로 다수의 레일의 형태를 가진 공기 베어링 표면(air-bearing surface)(ABS)을 가지며, 현수 장치에 의해 선형 또는 회전 작동기에 연결된다.
디스크 드라이브내에 디스크의 스택을 두고, 작동기가 다수의 슬라이더를 지지하게 할 수도 있다. 작동기는 슬라이더를 반경방향으로 이동시켜, 각각의 헤드가 관련된 디스크 표면의 기록 영역에 액세스할 수 있게 한다.
이러한 종래의 디스크 드라이브내의 슬라이더는 현수 장치로부터의 작은 힘에 의해 디스크 표면으로 향해 편향된다. 따라서, 슬라이더의 ABS 는 디스크 드라이브가 시동될 때부터 디스크가 슬라이더를 공기 베어링상에서 주행하게 할 정도로 충분한 속도에 도달할 때까지 디스크 표면과 접촉된다. 슬라이더의 ABS 는 디스크 드라이브가 정지되고 디스크의 회전 속도가 공기 베어링을 발생시키는데 필요한 속도 아래로 떨어질 때 디스크 표면과 다시 접촉된다. 이러한 형태의 디스크 드라이브는 접촉 시동/정지(contact start/stop)(CSS) 디스크 드라이브라고 불리워진다. CSS 디스크 드라이브에서의 ABS 에 내마모성을 제공하기 위해서, 보호 오버코팅(protective overcoat)이 슬라이더 레일상에 놓일 수도 있다. 아이비엠(IBM)의 미국 특허 제5,159,508호는 실리콘 접착층(adhesion layer)에 의해 레일에 접착되는 비정질 탄소 오버코팅을 가진 공기 베어링 레일을 가진 슬라이더를 기술한다.
CSS 강체 디스크 드라이브내의 자기 기록 디스크는 통상적으로 니켈-인(NiP) 표면 코팅을 가진 유리, 세라믹, 유리 탄소 또는 알루미늄-마그네슘(AlMg) 합금으로 제조된 디스크 블랭크(disk blank)와 같은 기판과, 상기 기판 위에 스퍼터 증착에 의해 형성된 코발트기 자기 합금 막(a cobalt-based magnetic alloy film)을 포함하는 박막 디스크이다. 스퍼터 증착된 비정질 탄소막과 같은 보호 오버코팅은 슬라이더의 ABS 로부터의 내부식성 및 내마모성을 제공하기 위해 자기층 위에 형성된다. 액체 플루오로에테르 윤활제가 또한 디스크의 시동 및 정지 동안에 헤드와 디스크에의 손상을 방지하기 위해 보호 디스크 오버코링의 표면상에 유지된다.
박막 디스크 및 슬라이더 공기 베어링 표면을 위한 보호 탄소 오버코팅은 공지되어 있다. 그것들은 통상적으로 흑연 타겟(graphite target)으로부터 스퍼터 증착에 의해 형성되며, 일반적으로 보호 탄소 오버코팅, 다이아몬드형(diamondlike) 탄소 오버코팅, 비정질 탄소 오버 코팅, 또는 수소함유 가스의 존재하에 스퍼터 증착에 의해 형성된 오버코팅일 경우에는 수소화 탄소 오버코팅이라고 불리워 진다.
1988년 7월/8월 발행된 제이. 박. 사이언스 테크놀로지(J. Vac. Science Technology) 에이 6(4)의 2307-2314 페이지의 강체 자기매체 디스크상의 스퍼터된 탄소 오버코팅의 구조 및 성질에서 차이(Tsai) 등은 그러한 보호 탄소 오버코팅을 기술하고, 그것들을 비정질 다이어몬드형 탄소막으로 지칭하는데, 여기 에서 다이어몬드형이라는 용어는 결정 구조를 뜻하기보다 경도를 뜻하는 것이다. 아이비엠의 미국 특허 제4,778,582호는 Ar 과 수소(H2)의 존재하에 흑연 타겟을 스퍼터링 하므로써 형성된 보호, 수소화 디스크 탄소 오버코팅을 기술한다. 탄소 오버코팅은 또한 플라즈마 강화(plasma-enhanced) 화학증착법(CVD)에 의해 형성 될 수도 있으며, 1989년 6월 피즈. 레브. 비.(Phys. Rev. B) 볼륨 39, 13053 페이지에서 카우프만 등에 의해 기술된 바와 같이 수소에 추가하여 질소를 포함할 수도 있다.
자기층 및 보호 오버코팅에 추가하여, 박막 디스크는 또한 기판과 자기층 사이에 크롬(Cr) 또는 크롬-바나듐(CrV) 합금의 층과 같은 스퍼터 증착 하부층을 포함할 수도 있고, 자기층과 보호 오버코팅 사이에 Cr, 텅스텐(W) 또는 티탄(Ti) 층과 같은 스퍼터 증착 접착층을 포함할 수도 있다.
일정한 자기 성질을 유지하고 또한 디스크의 내마모성을 개량하기 위해서, 디스크 표면을 가능한 유인하게 하는 것이 바람직하다. 그러나, CSS 디스크 드라이브내의 매우 유연한 디스크 표면은 소위 스틱션(stiction)을 발생시킨다. 이것은 슬라이더 ABS 가 어떤 기간동안 디스크와 고정 접촉(stationary contact)하고 난 후에는 그 슬라이더는 병진 운동에 저항하거나 디스크 표면에 스틱(stick)하려 하는 것을 뜻한다. 이 스틱션 힘은 시간이 감에 따라 증가될 수 있다는 것이 알려졌다. 따라서, CSS 사이클 뒤에 비교적 빨리 측정된 스틱션 힘은 CSS 스틱션이라고 불리우고, CSS 사이클 뒤 여러 시간이 경과된 후에 측정된 스틱션 힘은 레스트 스틱션(rest stiction)이라고 불리운다. 스틱션은 윤활제에 의해서 또는 대기의 수증기의 모세관 응축(capillary condensation)에 의해서 발생되는 디스크와 슬라이더 사이의 정적 마찰 및 접착력 을 포함하여 여러가지 인자에 기인한다.
CSS 디스크 드라이브내의 스틱션은 디스크 회전이 시작될 때 슬라이더가 디스크 표면으로부터 갑자기 분리될 때 헤드, 또는 디스크에 손상을 발생시킬 수 있다. 작동기와 슬라이더 사이의 현수 장치는 슬라이더가 디스크 표면 위로 비상하도록 허용하도록 비교적 약하기(fragile) 때문에, 디스크의 갑작스런 회전도 현수장치를 손상시킬 수 있다.
CSS 디스크 드라이브와 관련된 스틱션 문제를 피하기 위해서, 어떤 디스크 드라이브는 로드/언로드(load/unload)형 이다. 이러한 형태의 드라이브에서, 슬라이더는 통상적으로 전력이 나갔을때 작동기가 철수되었을(retracted)때 현수장치와 접촉되는 램프(ramp)에 의해 디스크로부터 기계적으로 언로드 되고, 다음에는 전력이 들어오고 디스크가 공기 베어링을 발생시킬 정도로 충분한 속도에 도달했을 때에 디스크에 다시 로드된다. 그러나 로드/언로드, 디스크 드라이브에서도, 로드/언로드 시스템의 고장의 경우에는 스틱션이 문제가 될 수 있다.
스틱션 문제에 대한 보다 일반적인 해결책은 디스크를 텍스쳐링 하는 것이다. 통상적으로, 이것은 디스크 기판의 연마제 연마에 의해 수행되며, 그것은 기판 위에 증착된 정합층(conforming layer)을 텍스쳐링 시킨다. 마그네틱 페리페럴즈, 인코포레이티드에 양도된 미국 특허 제5,108,781호는 기판 표면 내에 피트의 패턴을 형성하기 위해 레이저 가열에 의해 디스크 기판을 텍스쳐링 하는 것을 기술한다. 디스크 오버코팅은 기판의 텍스쳐(texture)를 복사(replicate)하며, 슬라이더가 디스크 오버코팅상에 정지될 때 스틱션을 감소시킨다. 그러나, 기판의 연마제 연마(abrasive polishing)와 레이저 텍스쳐링은 종래의 스퍼터 증착 프로세스 챔버내에서 정위치(in situ)에 수행될 수 없기 때문에 디스크 제작비 및 복잡성을 더욱 크게 한다.
아이 비 엠의 미국 특허 제5,053,250호는 디스크 기판 상에 텍스쳐링된 하부층을 형성하기 위한 인-사이투(정위치)(in-situ) 방법을 기술한다. 상기 특허는 가열된 기판상에 스퍼터 증착될 때 불연속 액체 구면(sphere)을 형성하는 저융점 금속 재료의 사용을 교시한다. 응고된 구면 위에 증착된 자기층 및 오버코팅은 이 불연속 토폴로지(topology)를 따르고, 그 결과 헤드-디스크 인터페이스에 텍스쳐링된 표면을 형성한다.
연마제 연마, 레이저 텍스쳐링 또는 인-사이투 방법 어느 것에 의하더라도, 전체 디스크 표면의 텍스쳐링은 텍스쳐링이 조심스럽게 제어되지 않으면 자기층의 결정 성장이 악영향을 받을 수 있다는 추가적 단점을 갖는다. 이것은 높은 신호 대노이즈비(signal-to-noise ratio)(SNR)와 낮은 소프트 에러율(soft error rate)(SER)이 요구되는 높은 기록밀도에서 특히 저하된 자기 성질을 발생시킨다. 이러한 문제를 피하기 위해서, 디스크 기판의 텍스쳐링은 디스크 드라이브가 정지될 때 슬라이더가 이동되는 랜딩 구역(landing zone)이라고 지칭되는 비데이타 밴드(nondata band)에 국한될 수 있다. 드라이브 전자 장치에 복잡성을 더하는 랜딩 구역은 기판의 텍스쳐링이 데이타 영역내의 디스크의 자기성질에 악영향을 주는 것을 방지하기 위해 요구된다.
기판을 텍스쳐링 하는 것에 대한 대안으로서, 디스크 보호 오버코팅의 텍스쳐링이 제안되었다. 이것은 연마제연마 또는 다른 기계적 방법, 또는 1989년 10월자 아이 비 엠 기술 공개 불레틴 264 페이지에 기술된 화학적 또는 레이저 에칭에 의해 달성될 수 있다. 아이 비 엠의 미국 특허 제5,030,494호에 기술된 다른 형태의 오버코팅 텍스쳐링은 비교적 평탄한 탄소 오버코팅 표면 위로 돌출되고 불연속 헤드-디스크 인터페이스를 제공하는 첨가제(additive)의 클러스터를 형성하기 위해 텅스텐 탄화물과 같은 다른 재료의 첨가제와 탄소를 공동 스퍼터링(cosputtering)하는 것을 포함한다. 이러한 형태의 종래의 디스크 오버코팅 텍스쳐링 기술은 추가적인 복잡하고 비싼 엑스-사이투(ex-situ) 공정 단계를 포함하거나, 또는 비정질 탄소의 양호한 연속막이 아닌 오버코팅을 발생시킨다.
필요한 것은 헤드 캐리어에 연속적인 텍스쳐링된 표면을 제공하고 종래의 방법들을 사용하여 정위치(in situ)에 가공될 수 있는 박막 자기 기록 디스크이다.
디스크는 스틱션이 감소 되어야만 하고 자기 기록 성능에 저하가 없어야만 한다.
[발명의 요약]
본 발명은 디스크의 디스크 기판과 상면 사이에 위치된 금속 질화물 텍스쳐링층을 가진 박막 자기 기록 디스크이다. 양호한 실시예에서, 텍스쳐링층은 기판상에 하부층 아래에 형성된 알루미늄 질화물(AlN)의 클러스터를 포함한다. AlN 텍스쳐링층은 N2가스의 존재하에 Al 타겟을 스퍼터링 하므로써 형성된다. 이것은 기판상에 증착된, 대체로 둥근 상면을 가진 AlN 의 대체로 연속적인 클러스터를 형성한다.
후속 스퍼터-증착된 하부층, 자기층 및 디스크 오버코팅은 이 표면을 복사하며, 그 결과 헤드-디스크 인터페이스에 텍스쳐링된 디스크 표면을 형성한다. 다른 실시예에서, 금속 질화물 텍스쳐링층은 자기층 위에 형성되는데, 자기층 바로 위에 형성되기나 또는 보호 탄소 오버코팅의 중앙에 형성된다. 텍스쳐링층내의 AlN 클러스터의 밀도와 크기, 따라서 헤드-디스크 인터페이스에서의 완성된 디스크의 텍스쳐는 N2의 양, 스퍼터링 전력 및 압력, 기판 온도에 의해 제어된다.
본 발명의 성질 및 이점의 더욱 완전한 이해를 위해서, 첨부된 도면과 관련 하여 다음의 상세한 설명을 참조해야 한다.
[발명의 상세한 기술]
[종래 기술]
제1도를 참조하면, 종래 기술의 CSS 디스크 드라이브의 개략 단면도가 도시되었다. 디스크 드라이브는 디스크 드라이브 모터(12)와 작동기(14)가 고정된 베이스(10)와, 덮개(11)를 포함 한다. 베이스(10)와 덮개(11)는 디스크 드라이브를 위한 실질적 으로 밀봉된 하우징을 제공한다. 가스켓(13)은 베이스(10)와 덮개(11) 사이에 위치되고, 작은 통기 포트(도시되지 않음)는 디스크 드라이브의 내부와 외부 환경 사이의 압력을 동일하게 한다.
자기 기록 디스크(16)는 드라이브 모터(12)에 의한 회전을 위해 허브(18)에 부착되며, 또한 허브(18)로 드라이브 모터(12)에 연결된다. 윤활막(40)은 디스크(16)의 표면상에 유지된다. 디스크(16)를 위한 기판은 통상적으로 유리, 세라믹, 유리 탄소(glassy carbon) 또는 AlMg 합금에 텍스쳐링된 NiP 표면 코팅을 가지게 제조된다. 연마재 연마(abrasive polishing)에 의해 가장 일반적으로 수행되는 기판의 텍스쳐링은 후속 증착된 하부층(underlayer), 자기층 및 보호 오버코팅(protective overcoat) 내에 텍스쳐링된 토포그래피(topography)를 복사하여(causes a replication of the textured topography), 상기 오버코팅은 헤드-디스크 인터페이스에서 텍스쳐링된 외면을 제공한다. CSS 디스크 드라이브에서, 기판은 디스크 드라이브가 정지될 때 슬라이더(20)가 이등되는 랜딩영역(landing zone)으로 지칭되는 비데이타 영역(nondata region)에서만 텍스쳐링될 수 있다.
기록/판독 헤드 또는 변환기(transducer)(25)는 공기 베어링 슬라이더(20)와 같은 캐리어의 후단부(trailing end)상에 형성된다. 변환기(25)는 유도 판독 및 기록 변환기 또는 자기 저항(MR) 판독 변환기를 가진 유도 기록 변환기일 수 있다. 슬라이더(20)는 강체 아암(22)과 현수부(24)에 의해 작동기(14)에 연결된다. 현수장치(24)는 슬라이더(20)를 기록 디스크(16)의 표면에 가압하는 편향력을 제공한다.
디스크 드라이브의 작동 동안에, 드라이브 모터(12)는 디스크(16)를 일정 속도로 회전시키고, 통상적으로 선형 또는 회전식 음성 코일 모터(voice coil motor)(VCM)인 작동기(14)는 슬라이더(20)를 디스크(16)의 표면을 가로질러 반경방향으로 이동시켜 판독/기록 헤드가 디스크(16)상의 다른 데이타 트랙에 접근할 수 있게 한다.
제2도는 덮개(11)가 제거된 디스크 드라이브의 내부를 도시하는 평면도이며, 슬라이더(20)를 디스크(16)로 향해 가압 하는 힘을 슬라이더(20)에 제공하는 현수 장치(24)를 더욱 상세히 설명한다. 현수 장치는 IBM 의 미국 특허 제4,167,765호에 기술된 공지의 와트러스 현수 장치(Watrous suspension)와 같은 종래 형태의 현수 장치일 수 있다. 이러한 형태의 현수 장치는 또한 슬라이더가 공기 베어링상에서 활주할 때 피칭(pitch) 및 롤링(roll)하도록 허용하는 슬라이더의 짐발식 부착(gimbaled attachment)을 제공한다. 변환기(25)에 의해 디스크(16)로부터 검출된 데이타는 아암(22)상에 위치된 집적 회로 칩(15)내의 신호 증폭 및 처리 회로에 의해 데이타 리드백(readback) 신호로 처리된다. 변환기(25)로부터의 신호는 가요성 케이블(17)을 경유하여 칩(15)으로 전송되고, 칩(15)은 출력 신호를 케이블(19)을 경유 하여 전송한다.
[양호한 실시예]
본 발명에 따른 박막 디스크(50)가 제3도에 단면도로 도시되었다. 제1도 및 2도에 도시된 종래 기술의 디스크(16) 대신에 사용될 때, 디스크(50)는 개량된 헤드-디스크 인터페이스를 가지며 그러나 SNR 및 SER 에 대해 역효과를 가지지 않는 디스크 드라이브를 제공한다. 박막 디스크(50)는 기판(51)으로서 작용하는 유리 디스크 블랭크(blank)와, 유리 기판(51) 바로 위에 형성되는 텍스쳐링층(52)과, 상기 기판(51) 상에 형성된 Cr 하부층(54)과, 상기 Cr 하부층(54)상에 형성된 CoPtCr 합금 자기층(56)과, 상기 자기층(56)상에 형성된 보호 오버코팅(60)과, 상기 보호 오버코팅(60)상에 있는 윤활막(58)을 포함한다. 본 발명에 사용 가능한 다른 기판은 실리콘(Si), 실리콘-탄화물(SiC), 세라믹, 유리탄소 또는 AlMg 디스크 블랭크에 NiP 표면 코팅을 가지게끔 제조될 수 있다. 텍스쳐링 층(52)은 대체로 구형(spherically-shaped) 또는 둥근 표면을 가진 알루미늄 질화물(AlN)의 클러스터를 포함한다. 하부층(54)과 자기층(56)은 종래의 스퍼터 증착에 의해 형성된다. 디스크 오버코팅(60)은 어떠한 종래의 디스크 오버코팅 재료로 형성되어도 된다. 그러나, 양호한 실시예에서는 오버코팅(60)은 수소화된 기본적으로 무정형 탄소이다. 오버코팅(60)은 또한 질소로 도우핑될 수 있다.
제3도에 도시된 디스크는 복수의 스퍼터링 챔버를 가진 DC 마그네트론 스퍼터링 시스템내에서 유연한 유리 기판(평균 표면조도 Ra=5Å)을 사용하여 제조되었다. 유리 기판은 우선 세척제와 증류수를 사용하여 세척되었다. 통상적인 제조공정의 일부분으로서, 기판은 180℃(±70℃)로 가열되었다. 기판은 코발트 합금 자기층을 후에 증착하는 것을 개량하기 위해 가열 된다. 시판되고 있는 알루미늄(순도 99.99%) 타겟을 포함하는 제1 챔버내에 알곤(Ar) 및 질소(N2) 가스가 도입되었다. Ar/N2체적 유량비(volumetric flow rate ratio)는 약 5 : 1 이고, 양호하게는 10 : 1 내지 3 : 1 범위에 있다. DC 스퍼터링 전력은 500 왓트였고, 양호하게는 200 내지 1000 왓트의 범위에 있다. 스퍼터링 압력은 5 내지 20 밀리토르의 범위에 유지되었다. 이 스퍼터링 단계 동안에, 질소 가스는 스퍼터링 타겟으로부터의 Al 과 반응하며, 기본적으로 화합물 AlN 으로 구성된 클러스터는 유리 기판상에 형성된다. 클러스터는 대체로 연속적이어서 텍스쳐링층(52)은 그 상면 위에 둥근 범프(bump)를 갖는 AlN 층 으로서 기술될 수 있다. 텍스쳐링층(52)의 두께는 증착 시간을 제어하므로써 제어된다. 양호한 실시예에서, 텍스쳐링층(52)은 100 내지 300Å 범위의 평균 두께를 갖는다.
둥근 AlN 클러스터의 형성은 기판 온도, 스퍼터링 압력 및 전력, Ar/N2체적 유량비에 의존한다. 사용된 특정한 인터박 브랜드 스퍼터링 시스템에 대해서(for the specific Intervac brand sputtering system used), 전력이 약 200 왓트 아래이면 AIN 층은 텍스쳐링을 갖지 않으며, 전력이 약 700 왓트 위이면 AlN 층의 외부 표면은 더 이상 원하는 형상인 둥근 범프를 갖지 않고 불연속적인 피크(peak)와 골(valley)을 가진 대체로 무작위 돌출부를 갖는다.
텍스쳐링층(52)의 증착 뒤에는, 디스크는 다음의 연속적인 스퍼터링 챔버로 이동되었으며, 그곳에서 500-1000Å Cr 하부층(54)과 300-700Å CoPtCr 자기층(56)이 Ar 만의 분위기 에서 형성되었다(formed in an Ar-only atmosphere). 마지막으로, 디스크는 최종 스퍼터링 챔버로 이동되었고, 그곳에서 수소화된 탄소 오버코팅(60)은 Ar-H2 분위기에서 100-250Å의 두께로 형성되었다.
디스크가 별도의 격리된 스퍼터링 챔버를 가진 스퍼터링 챔버내에서 제조되었지만, 하나의 단일 진공 챔버만 있고 디스크 들은 연속적으로 다른 스퍼터링 타겟을 지나서 이동되는 인-라인 시스템(in-line system)을 사용하여 디스크를 제조하는 것도 가능하다. 시판중인 울박 및 레이볼드 브랜드 시스템(Ulvac and Leybold brand system)과 같은 이러한 형태의 시스템에서, N2가스는 Al 스퍼터링 타겟의 영역에만 첨가된다.
제4도는 유리 기판(51) 바로 위에 형성된 텍스쳐링층(52)을 가진 디스크의 탄소 오버코팅(60)의 외부 표면의 토포 그래피의 원자력 현미경(AFM) 사진이다. 제4도에 나타나듯이, 오버코팅(60)의 외부 표면은 AlN 의 클러스터에 의해 제공된 텍스쳐링을 복사하였다. 제4도는 클러스터들의 정점(tops) 들의 평면내의 간격(in-plane spacing)이 코발트기 합금(cobalt-based alloy) 자기층(56)의 두께보다 상당히 큰 0.1 마이크론(1000Å)의 크기임을 도시한다.
스퍼터링 챔버내의 N2가스의 양이 변하는 상태에서 제조된 디스크에 대해 3000 플럭스 리버설/㎜에서 측정된 SNR 은 N2가 Ar-N2가스 혼합물의 O 으로부터 20% 로 증가되었을 때 약 32.5dB 로부터 약 35dB 로 대체로 선형 증가하는 것을 보여 주었다. 이러한 값들은 Al 에 N2를 첨가하면 Cr 하부층과 CoPtCr 자기층의 결정학적 양호한 배향과 입자 구조를 양호하게 제어하는 것을 나타낸다. AlN 텍스쳐링층 위에 증착된 Cr 층과 CoPtCr 자기층의 X-레이 회절분석은 Cr 층내의 [110] 양호한 배향과, 따라서 CoPtCr 자기층내의 [0002] 양호한 배향의 상당한 감소를 보여 준다. 또한, 강한(10.0) 피크가 CoPtCr 자기층내에서 관찰되었으며, 이것은 기록 성능을 증진시키는 자기층의 평면 내의 C-축의 정렬을 나타낸다.
디스크에 대한 측정된 SER 은 종래의 기계적으로 텍스쳐링된 디스크와 비교하여 높은 선형 기록 밀도(4000-6000 플럭스 리버설/㎜)에서의 상당한 개량을 보여주었다. 이러한 개량은 기계적으로 텍스쳐링된 디스크내에 존재하는 소위 텍스쳐-유발 노이즈(texture-induced noise)가 없다는 것에 기인한다.
AlN 클러스터의 밀도 및 크기는 N2의 양, 스퍼터링 전력 및 압력, 기판 온도에 의해 제어될 수 있다. 주어진 스퍼터링 전력에서, 클러스터 크기는 N2가 증가됨에 따라 감소 된다. 클러스터 밀도는 기판 온도, 스퍼터링 압력 및 기판의 표면 에너지에 의해 제어된다. 예로서, 기판 온도의 증가는 클러스터의 밀도를 감소시킨다. 상기 실험예에서, 기판은 가열 되었다. 그러나, AlN 클러스터는 열을 적용하지 않고도 기판 상에 성공적으로 형성되었다. 상기 방법은 유리 기판을 가진 디스크에 대해 기술되었으나, AlN 클러스터는 세라믹(예로서, 코닝 글라스로부터의 멤코 브랜드 기판), 유리 탄소(예로서, 고베 정밀(Kobe Precision)로부터 시판되는 무정형 탄소 기판), 반도체 등급 Si 웨이퍼, NiP 표면 코팅을 가진 AlMg 의 기판상에도 성공적으로 형성되었다. 이러한 기판의 각각에 대해서, N2농도, 스퍼터링 전력 및 압력, 기판 온도의 상이한 공정 파라메터들은 AlN 클러스터를 원하는 크기 및 밀도로 증착시키기 위해서 실험적으로 선택되어야만 한다.
박막 디스크는 상기와 같이 가공되였으나, 텍스쳐링층(52)은 자기층(56) 바로 위에 형성되었거나, 또는 제5도의 실시예에 도시된 바와 같이 50Å 두께의 제1 탄소층(61)상에 형성되고 100Å 두께의 제2 탄소층(62)은 텍스쳐링층(52) 바로 위에 증착된다. 따라서, 제5도의 실시예에서, 탄소 오버코팅은 제1 탄소층(61), 텍스쳐링층(52) 및 제2 탄소층(62)을 포함 한다. 공정은 자기층(56)이 증착된 스퍼터링 챔버의 하류에 있는 스퍼터링 챔버내로 N2가스가 도입된다는 것을 제외하고는 앞에서 기술된 바와 같다. 텍스쳐링층(52)이 자기층(56) 바로 위에 증착된 실시예에서, Al 타겟을 포함하는 스퍼터링 챔버는 자기층 챔버와 탄소 오버코팅 챔버 사이에 위치된다.
제5도의 실시예의 제1 탄소층(61) 및 제2 탄소층(62)은 또한 기판 바이어스(-400 Vdc)가 인가된 상태에서 RF CVD 를 사용하여 증착될 수 있다. RF 전력은 양호하게 300 왓트 이고, 가스는 C-펜탄(4sccm), Ar(2sccm) 및 N2(14sccm)이다. CVD 동안의 전체 압력은 33 밀리토르이다. RF CVD 를 사용하여 제조된 탄소층의 수소 함량은 27(±3) 원자 퍼센트이고, 질소 함량은 4(±1) 원자 퍼센트이다.
텍스쳐링층(52)이 자기층(56) 바로 위에서 탄소 오버코팅(60)의 중앙에 있는 상태로 가공된 디스크는 시동 및 정지 성능에 대하여 테스트 되었고, 그 결과는 동일한 조건하에서 테스트된 콘트롤 디스크(control disk)(텍스쳐링층이 없음)에 대한 결과와 비교되었다. 디스크 드라이브는 탄소 코팅된 레일을 가진 슬라이더가 장착된 시판되는 드라이브였다. 시동/ 정지 측정을 위한 합격/불합격 스틱션 조건(pass/fail stiction condition)은 디스크 드라이브 모터가 시동된 후에 처음 60 밀리초 동안에 슬라이더에 작용된 최대의 힘이 8gm 아래로 유지될 것을 요구하였다. 그러나, 다른 드라이브는 다른 드라이브 모터를 사용하며, 따라서, 이 기준은 드라이브 디자인에 따라 변할 수 있다. 표준 CSS 사이클은 최대 회전속도 3600rpm 에서 0.17 분의 정지 주기와 0.10 분의 비상 주기로 구성되었다. 여러개의 CSS 사이클 뒤의 측정된 스틱션은 텍스쳐링층을 가진 모든 디스크에 대해서 2gm 과 4gm 사이에 있었고, 모든 콘트롤 디스크에 대해서 80gm 보다 컸다.
허용 가능한 스틱션 레벨을 보이는 것에 추가하여, 텍스쳐링층(52)이 자기층(56) 상부에 형성되거나 또는 탄소층(60)의 일부로서 형성된 디스크 역시 내구성이 있고 내부식성이 있었다. 또한, 약 250Å 의 전체 오버코팅 두께는 판독/기록 헤드와 디스크상의 자기층 사이의 간격을 최소화 하는데에 필요한 범위(즉, 약 350Å보다 작다)의 중간 부근에 있다(is well within the range).
상기 실험적 디스크에서, 텍스쳐링층은 Ar-N2가스 분위기의 존재하에서 Al을 스퍼터링하므로써 형성되었다. 티탄(Ti)과 니오브(Nb)는 또한 각각의 금속 질화물의 대체로 둥근 클러스터를 가진 텍스쳐링층을 제공하기 위해 실험적으로 결정되었다. 이러한 클러스터의 밀도는 AlN 클러스터보다 대체로 높았고, 그 높이는 AlN 클러스터보다 대체로 낮았다. 화합물의 형성이 금속 원자가 기판을 때릴때 금속 원자의 표면 이동도를 감소시키기 때문에, 질소와 화합물을 형성하는 어떠한 금속도 그러한 텍스쳐링층을 제공할 것으로 믿어진다. 이러한 표면 이동도의 감소가 적절한 스퍼터링 전력과 Ar/N2비가 주어졌을 때에 금속 질화물은 대체로 평평한 섬(island)으로서보다 오히려 대체로 둥근 클러스터로서 기판상에 형성되는 이유로 믿어진다 그러한 각각의 금속에 대해서, 스퍼터링 전력과 Ar/N2비는 원하는 밀도 및 크기를 가진 둥근 금속 질화물 클러스터를 가진 층을 제공하기 위해 실험적으로 결정될 것이다. 기판 온도는 Al 보다 높은 용융점을 가진 금속에 대해 클러스터 밀도와 간격을 제어하는데 덜 효과적인 파라메터이다.
비록 본 발명이 특정하게 도시되었고 양호한 실시예를 참조하여 기술되었으나, 본 기술 분야에 익숙한 자는 형상과 상세 사항의 여러가지 변경이 본 발명의 정신, 범위 및 교시로 부터 이탈함이 없이 이루어질 수 있다는 것을 이해할 것이다. 따라서, 기술된 발명은 단지 예시적인 것으로 간주되어야 하고, 그 범위가 첨부된 청구범위에 기술된 바에 의해서만 제한된다고 간주되어야 한다.

Claims (6)

  1. 자기 금속 합금층과, 상기 자기층이 위에 증착된 하부층과, 상기 자기층 위에 있는 보호 오버코팅을 포함하는 복수의 박막을 가진 형태의 자기 기록 디스크에 있어서,
    ① 유리, 실리콘, 실리콘 탄화물 또는 유리 탄소로 제조되고, 상기 복수의 박막이 위에 증착된 대체로 평탄한 표면을 가진 강체 디스크 기판과 상기 기판 표면은 디스크 중심과 디스크 외부 원주(perimeter) 사이에 환형(annular) 영역을 포함하고, 상기 환형 영역은 상기 디스크 기판 표면의 면적보다 작은 면적을 포함함.
    ② 상기 디스크 기판 표면의 상기 환형 영역 전체와 접촉되고 상기 환형 영역 전체를 덮으며 상기 환형 영역 전체의 바로 위에 위치되고, 위에는 상기 하부층이 증착되는 금속 질화물 막과 상기 금속 질화물 막은 상기 금속 질화물막 상에 증착된 상기 하부층의 어느 부분도 상기 디스크 기판 표면의 상기 환형 영역과 접촉되지 않도록 상기 환형 영역 전체를 덮고, 상기 금속 질화물 막은, 상기 환형 영역상에 증착된 후에는 상기 디스크 기판 표면의 상기 환형 영역의 대체로 평탄한 표면에 비하여 텍스쳐링된 (textured) 표면을 제공하는 대체로 둥근 범프(bump)들로된 표면 토포그래피(topography)를 가짐.
    ③ 상기 금속 질화물막 전체와 접촉되고 상기 금속 질화물막 전체를 덮으며 상기 금속 질화물막 전체의 바로 위에 형성되는 하부층과 - 상기 하부층은 상기 금속 질화물막의 상기 표면 토포그래피와 같은 모양을 가져서 상기 질화물막 상에 증착된 후에는 상기 하부 금속 질화물막의 표면 토포그래피를 복제하는(replicates) 텍스쳐링된 표면을 가짐.
    ④ 상기 하부층 전체와 접촉되고 상기 하부층 전체를 덮으며 상기 하부층 전체의 바로 위에 형성되는 코발트와 하나 이상의 다른 원소의 합금을 포함하는 자기층과 - 상기 자기층은 상기 하부층의 상기 표면 토포그래피와 같은 모양을 가져서, 상기 하부층 상에 증착된 후에는 상기 하부 하부층의 표면 토포그래피를 복제하는 텍스쳐링된 표면을 가짐.
    ⑤ 상기 자기층 전체와 접촉하고 상기 자기층 전체를 덮으며 상기 자기층 전체의 바로 위에 형성되는 보호 오버 코팅을 포함하며, 상기 오버 코팅은, 상기 자기층의 상기 표면 토포그래피와 같은 모양을 가져서, 상기 자기층 상에 증착된 후에는 상기 하부 자기층의 표면 토포그래피를 복제하는 텍스쳐링된 표면을 가지는, 자기 기록 디스크.
  2. 제1항에 있어서, 상기 오버코팅은 기본적으로 비정질 탄소로 구성되는 자기 기록 디스크.
  3. 제2항에 있어서, 상기 기본적으로 비정질 탄소인 오버코팅은 수소와 질소로 구성되는 그룹으로부터 선택된 원소를 포함하는 자기 기록 디스크.
  4. 제1항에 있어서, 상기 하부층은 크롬 또는 크롬 합금인 자기 기록 디스크.
  5. 제1항에 있어서, 상기 금속 질화물막은 기본적으로 알루미늄 질화물로 구성되는 자기 기록 디스크.
  6. 제1항에 있어서, 상기 금속 질화물막은 기본적으로 티탄 질화물 또는 니오븀 질화물로 구성되는 자기 기록 디스크.
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH117622A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Hitachi Ltd 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法
KR100413809B1 (ko) * 1998-11-30 2004-02-14 주식회사 대우일렉트로닉스 브이시알의 구간 반복 재생방법
US6583953B1 (en) 1999-07-12 2003-06-24 Mark Lauer Silicon carbide overcoats for information storage systems and method of making
US6891461B2 (en) 1999-11-23 2005-05-10 Intel Corporation Integrated transformer
US6815220B2 (en) * 1999-11-23 2004-11-09 Intel Corporation Magnetic layer processing
US6856228B2 (en) * 1999-11-23 2005-02-15 Intel Corporation Integrated inductor
US6452247B1 (en) * 1999-11-23 2002-09-17 Intel Corporation Inductor for integrated circuit
US6870456B2 (en) * 1999-11-23 2005-03-22 Intel Corporation Integrated transformer
US6873496B1 (en) 2000-01-03 2005-03-29 Western Digital Fremont, Inc. Side rail slider having improved fly height control
JP2002260218A (ja) * 2001-03-05 2002-09-13 Anelva Corp 磁気記録ディスク、磁気記録ディスク製造方法及び磁気記録ディスク製造装置
KR100434028B1 (ko) * 2001-06-29 2004-06-04 동아화학 주식회사 폴리올 및 이의 제조방법
JP2003067908A (ja) * 2001-08-23 2003-03-07 Fuji Electric Co Ltd 垂直磁気記録媒体およびその製造方法
US7852185B2 (en) * 2003-05-05 2010-12-14 Intel Corporation On-die micro-transformer structures with magnetic materials
US8134548B2 (en) 2005-06-30 2012-03-13 Micron Technology, Inc. DC-DC converter switching transistor current measurement technique
US8900465B1 (en) 2012-06-29 2014-12-02 WD Media, LLC Methods for reducing surface roughness of magnetic media for storage drives
US9449633B1 (en) 2014-11-06 2016-09-20 WD Media, LLC Smooth structures for heat-assisted magnetic recording media

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB289098A (ko) * 1927-04-21 1929-03-07 Berkenhoff & Drebes A.G.
JPS5930230A (ja) * 1982-08-12 1984-02-17 Sony Corp 金属薄膜型磁気記録媒体
JPS6060368A (ja) * 1983-09-13 1985-04-06 Nissan Motor Co Ltd トルクコンバ−タのロツクアツプ制御装置
JP2690948B2 (ja) * 1988-07-04 1997-12-17 株式会社日立製作所 磁気記録媒体の製造方法
JPH0258729A (ja) * 1988-08-24 1990-02-27 Nec Corp 磁気ディスク基板およびその製造方法
US5030494A (en) * 1989-01-26 1991-07-09 International Business Machines Corporation Carbon overcoat for a thin film magnetic recording disk containing discrete clusters of tungsten (W) or tungsten carbide (WC) which project from the surface of the overcoat
US5202810A (en) * 1989-04-27 1993-04-13 Hitachi, Ltd. Magnetic disk having an improved surface configuration
JP2547651B2 (ja) * 1989-05-22 1996-10-23 日本板硝子株式会社 磁気記録媒体
ES2074538T3 (es) * 1989-05-22 1995-09-16 Nippon Sheet Glass Co Ltd Sustrato utilizado para un disco magnetico y medio de gabracion magnetico que utiliza el sustrato.
EP0421120B1 (en) * 1989-10-05 1996-10-30 International Business Machines Corporation Thin film magnetic storage medium and method for the manufacture thereof
US5045165A (en) * 1990-02-01 1991-09-03 Komag, Inc. Method for sputtering a hydrogen-doped carbon protective film on a magnetic disk
JPH0462412A (ja) * 1990-06-29 1992-02-27 Olympus Optical Co Ltd 被写体距離検出装置
JPH0462414A (ja) * 1990-06-29 1992-02-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 角速度センサ
JPH0462413A (ja) * 1990-06-29 1992-02-27 Tdk Corp 傾斜センサ
US5053250A (en) * 1991-03-21 1991-10-01 International Business Machines Corporation Thin film magnetic medium with controlled grain morphology and topology for improved performance
JP2830544B2 (ja) * 1991-10-25 1998-12-02 松下電器産業株式会社 磁気記録媒体
JP2559941B2 (ja) * 1992-03-16 1996-12-04 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置
JPH0620958A (ja) * 1992-04-10 1994-01-28 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 粗いシリコン表面の形成およびその応用
JPH0652536A (ja) * 1992-07-28 1994-02-25 Hitachi Metals Ltd 磁気記録媒体
JP3018762B2 (ja) * 1992-08-06 2000-03-13 富士電機株式会社 磁気記録媒体およびその製造方法
JP2715359B2 (ja) * 1992-08-21 1998-02-18 富士写真フイルム株式会社 フレキシブル磁気記録ディスク及びその製造方法

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