KR0141075B1 - 필름 형성용 실리콘 유제 조성물 - Google Patents

필름 형성용 실리콘 유제 조성물

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KR0141075B1 KR1019940020622A KR19940020622A KR0141075B1 KR 0141075 B1 KR0141075 B1 KR 0141075B1 KR 1019940020622 A KR1019940020622 A KR 1019940020622A KR 19940020622 A KR19940020622 A KR 19940020622A KR 0141075 B1 KR0141075 B1 KR 0141075B1
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Abstract

본 발명은 1분자당 하나 이상의 아미노 그룹 또는 에폭시 그룹을 함유하는 특정의 유기 폴리실록산(a), 유화제(b) 및 물(c)을 포함하는 실리콘 유제(A)와 1분자당 하나 이상의 작용성 그룹을 함유하는 특정의 가수분해 가능한 실란(B)이 혼합 분산되어 포함되어 있으며, 각종 기재에 대한 접착성, 발수성(water repellency)과 이형성이 우수한 필름을 형성하는 필름 형성 실리콘 유제 조성물에 관한 것이다.

Description

필름 형성용 실리콘 유제 조성물
본 발명은 고무, 플라스틱, 천 등에 대한 접착성이 탁월하고 광택성, 발수성(water repellency), 이형성 및 슬립 특성(slip property)이 우수한 필름을 형성하는 필름 형성용 실리콘 유제 조성물(film-forming silicone emulsion composition)에 관한 것이다.
지금까지, 실리콘 유제는 가정용품, 가방, 천, 선박 또는 자동차용 비닐 제품, 스포츠용품 등을 위한 이형제, 광택제 또는 섬유 처리제로서 사용되어 왔다. 그러나, 통상의 실리콘 유제는 내구성이 불충분하여 재적용되어야 한다는 점에서 단점이 있다. 내구성이 충분한 실리콘 유제로서 아미노 작용성 실리콘의 유제가 공지되어 있다[참조: JP-A 제60-127382호, JP-A 제62-116633호, JP-A 제63-66265호](여기서, 용어 JP-A는 심사되지 않고 공개된 일본국 특허원을 의미한다). 그러나 이들 유제의 적용은 모두 접착성과 투과성이 우수한 천 또는 낮은 접착성을 요구하는 물질에 한정된다. 따라서, 내구성이 우수하고 고무 및 플라스틱과 같은 물질에 대한 접착성이 우수한 실리콘 유제가 요구되고 있다.
섬유 처리제로서 아미노실록산과 에폭시실록산과 혼합물[참조: JP-B 제48-17514호: 여기서, JP-B는 심사된 일본국 특허공보를 의미한다] 또는 아미노 실록산과 에폭시실란의 반응 생성물(참조: JP-B 제1-22390호)을 사용하는 것이 공지되어 있다. 그러나, 이러한 섬유 처리제의 접착성 및 내구성에 있어서 추가의 개선이 요구되고 있다.
또한, 고무, 플라스틱 등을 위한 표면 처리제로서 에폭시실록산과 아미노실란의 반응 생성물 또는 혼합물을 사용하는 것이 공지되어 있다[참조: JP-A 제52-123394호, JP-A 제54-43891호, JP-A 제54-90375호, JP-A 제56-78960호, JP-A 제61-159427호, JP-A 제2-233763호]. 그러나, 이들 문헌에 기술된 조성물은 통상 유기 용매중의 용액 형태이며 유제 형태로 사용되지 않았다. 유기 용매중의 이러한 용액으로 제조된 조성물이 사용되는 경우, 연소 뿐만 아니라 고무 및 플라스틱과 같은 기재(substrate)의 변성과 같은 환경 위생 문제 또는 안전 문제를 야기시킨다. 더우기, 이러한 조성물을 단순히 유제로 대체시킨다고 해서 특성이 우수한 유제 조성물이 수득되기는 어렵다.
따라서, 본 발명의 목적은 각종 물질에 대한 접착성, 발수성, 이형성 및 슬립 특성이 우수한 필름을 형성하는 필름 형성용 실리콘 유제 조성물을 제공하는 것이다.
위에서 기술한 목적을 달성하기 위해 집중적으로 연구한 결과, 아미노 그룹 또는 에폭시 그룹을 함유하는 유기 폴리실록산의 유제에 에폭시 그룹 또는 아미노 그룹을 함유하는 실란과 임의로 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹을 함유하는 유기 폴리실록산의 유제를 가함으로써, 섬유, 고무, 플라스틱 등과 같은 물질에 대한 접착성이 탁월하며 이의 표면 위에 부점착성(non-tackiness), 이형성, 광택성, 발수성, 내마모성 및 슬립 특성이 우수한 필름을 형성하는 유제 조성물을 수득할 수 있는 것으로 밝혀졌다. 따라서, 본 발명은 이러한 발견에 기초하여 완성되었다.
본 발명의 필름 형성용 실리콘 유제 조성물은 1분자당 하나 이상의 아미노 그룹 또는 에폭시 그룹을 함유하는 일반식의 유기 폴리실록산(a)[여기서, R1은 각각 동일하거나 상이한 C1-201가 탄화수소 그룹 또는 수소원자 이고; R2는 각각 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹이며; R3은 각각 아미노 함유 그룹 또는 에폭시 함유 그룹이고; a, b 및 c는, 각각 a가 0 초과 3 미만(0＜a＜)이며 b가 0 이상 2 미만(0≤b＜2)이고 c가 0 초과 1 이하(0＜c≤1)인 관계를 만족시킨다]; 유화제(b) 및 물(c)을 포함하는 실리콘 유제(A)와 1분자당 하나 이상의 관능 그룹(functional group)을 함유하는 가수분해 가능한 실란(B)[여기서, 관능 그룹은, 성분(A)에서의 R3이 에폭시 함유 그룹인 경우, 아미노 함유 그룹이거나, R3이 아미노 함유 그룹인 경우, 에폭시 함유 그룹이다] 및 임의로 1분자당 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹을 함유하는 일반식의 유기 폴리실록산(d)[여기서, R4는 각각 동일하거나 상이한 C1-201가 탄화수소 그룹 또는 수소원자 이고; R5는 각각 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹이며; d 및 e는, d가 0 초과 3 미만(0＜a＜3)이고 e가 0 초과 2 미만(0＜e＜2)이며 d와 e의 합이 1.9 초과 2.2 미만(1.9＜d+e＜2.2)인 관계를 만족시킨다]; 유화제(e) 및 물(f)을 포함하는 실리콘 유제(C)를 포함하며, 이러한 성분들은 혼합되고 분산되어 있다.
이하 본 발명을 상세하게 기술한다.
성분(A)에서 성분(a)로서의 유기 폴리실록산은 1분자당 하나 이상의 아미노 그룹 또는 에폭시 그룹을 함유하며 성분(b)로서의 유화제 및 성분(c)로서의 물과 함께 실리콘 유제를 형성한다.
성분(a)를 나타내는 일반식에서, R1은 각각 동일하거나 상이한 C1-201가 탄화수소 그룹 또는 수소원자이다. C1-201가 탄화수소 그룹의 구체적인 예는 알킬 그룹(예: 메틸 그룹, 에틸 그룹, 프로필 그룹 또는 부틸 그룹); 알케닐 그룹(예; 비닐 그룹 또는 프로페닐 그룹; 아릴 그룹(예: 페닐 그룹) 및 아르알킬 그룹(예: β-페닐에틸 그룹)을 포함한다. 이들 R1중에서 수소원자, 메틸 그룹, 비닐 그룹 및 페닐 그룹이 바람직하며, 이들은 특성이 탁월한 조성물을 제공할 수 있다. 이들 탄화수소 그룹 중에서 메틸 그룹이 특히 바람직하다.
R2는 각각 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹이다. 가수분해 가능한 그룹의 예는 알콕시 그룹(예: 메콕시 그룹, 에톡시 그룹, 프로폭시 그룹 또는 부톡시 그룹), 아실옥시 스룹, 아미노 그룹, 아미녹시 그룹, 옥심 그룹, 케톡심 그룹, 아미드 그룹 및 알케닐옥시 그룹을 포함한다. 이들 중에서 하이드록실 그룹 및 알콜시 그룹이 바람직하며, 하이드록실 그룹 및 메톡시 그룹이 특히 바람직한데, 이는 이들의 취급성 때문이다.
R3는 각각 아미노 함유 그룹 또는 에폭시 함유 그룹이다. 아미노 함유 그룹의 예는 아미노메틸 그룹, β-아미노에틸 그룹, γ-아미토프로필 그룹, δ-아미노부틸 그룹, γ-(메틸아미노)프로필 그룹, γ-(에틸아미노)프로필 그룹, γ-(β-아미노에틸아미노)프로필 그룹 및 이들 아미노 함유 그룹의 아미노 그룹을 4급 암모늄으로 완전 전환시키거나 부분 전환시켜 수득한 염을 포함한다. 저장 동안의 안정성의 견지에서, 3개 이상의 탄소원자를 통해 규소원자에 결합된 아미노 그룹을 갖는 아미노 함유 그룹(예: γ-아미노프로필 그룹)이 바람직하다. 에폭시 함유 그룹의 예는 글리시독시 그룹 또는 에폭시사이클로헥실 그룹에 의해 치환된 탄화수소 그룹이다. 치환되는 탄화수소 그룹의 탄소수는 1 내지 10, 특히 2 내지 4이다. 기재에 대한 접착성이 우수한 조성물을 제공할 필요가 있는 경우, R3은 바람직하게는 아미노 함유 그룹이다. 또는, 기재, 특히 고무 또는 플라스틱에 대한 피복 특성이 우수하고 이형성이 우수한 조성물을 제공할 필요가 있는 경우, R3은 바람직하게는 에폭시 함유 그룹이다. R3은 바람직하게는 아미노 함유 그룹 및 에폭시 함유 그룹의 혼합물이기 보다는 모두 아미노 함유 그룹 및 에폭시 함유 그룹 중의 하나이다.
위에서 기술한 일반식에서, a, b 및 c는 각각, a가 0 초과 3 미만이고 b가 0 이상 2 미만이며 c가 0 초과 1 이하인 관계, 바람직하게는 a가 1.0 초과 2 미만이고 b가 0 이상 0.5 미만이며 c가 0.1 이상 0.5 이하이며, a, b 및 c의 합이 1.9 초과 2.2 미만인 관계를 만족시키는 수이다. R2로 나타낸 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹이 과다하게 존재하는 경우, 즉 b가 2 이상인 경우, 수득되는 경화된 필름은 불리하게도 경질이고 취성(brittle)이다.
성분(a)로서 사용되는 유기 폴리실록산의 분자량은 500 내지 500,000, 보다 바람직하게는 1,000 내지 100,000이다.
성분(a)로서의 유기 폴리실록산은 사이클릭 폴리실록산 단량체(예: 옥타메틸 사이클로테트라실록산)와 물의 유화제의 존재하에서, 및 산 또는 염기 촉매를 사용하여 아미노 관능성 실란 또는 에폭시 관능성 실란과 중합시킴으로써 1단계로 용이하게 하합성할 수 있다.
유기 폴리실록산은 물과 중합 촉매의 존재하에서 사이클릭 폴리실록산 단량체를 중합시키고 반응 시스템에 아미노 관능성 실란 또는 에폭시 관능성 실란을 가한 다음, 중합반응을 추가로 수행함으로써 수득할 수도 있다. 또한, 유기 폴리실록산은 촉매의 존재하에서 폴리실록산 오일을 아미노 관능성 실란 또는 에폭시 관능성 실란과 평형시킴으로써 수득할 수 있다.
본 발명에서 성분(b)로서 사용되는 유화제는 성분(a) 로서의 유기 폴리실록산을 유화시킴으로써 안정한 균질 실리콘 유제를 제공한다.
유화제의 예는 비이온성 계면화성제, 음이온성 계면활성제 및 양이온성 계면 활성제를 포함한다. 성분(a)로서의 유기 폴리실록산이 아미노 함유 그룹인 경우, 비이온성 계면활성제 또는 양이온성 계면활성제가 유화제로서 바람직하게 사용된다. 특히, 비이온성 계면활성제는 R3에 관계없이 바람직하게 사용된다.
비이온성 계면활성제의 예는 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 폴리옥시알킬렌알킬 페놀, 폴리옥시알킬렌 알킬 에스테르, 폴리옥시알킬렌 소르비탄 에스테르, 포릴에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜, 및 디에틸엔 글리콜 트리메틸 노난올의 에틸렌 옥사이드 부가 생성물을 포함한다.
음이온성 계면 활성제의 예는 알킬벤젠설폰산(예: 헥실벤젠설폰산, 옥틸벤젠설폰산, 데실벤젠설폰산, 도데실벤젠 설폰산, 세틸벤젠폰산 또는 미리스틸벤젠설폰산); 폴리옥시 에틸렌 모노알킬 에테르의 황산 에스테르[예: CH3(CH2)6CH2O(C2H4O)2SO3H, CH3(CH2)8CH2O(C2H4O)8SO3H, CH3(CH2)19 CH2O(C2H4O)2SO3H 또는 CH3(CH2)8CH2C6H4O(C2H4O)2SO3H)] 및 알킬나프틸설폰산을 포함한다.
양이온성 계면 활성제의 예는 4급 수산화암모늄(예: 옥틸트리메틸암모늄 하이드록사이드, 도데실트리메틸암모늄 하이드록사이드, 헥사데실트리메틸암모늄 하이드록사이드, 옥틸디메틸벤질암모늄 하이드록사이드, 데실디메틸벤질암모늄 하이드록사이드, 디옥타데실디메틸암모늄 하이드록사이드, 우지(beef tallow) 트리메틸암모늄 하이드록사이드 또는 야자유 트리메틸암모늄 하이드록사이드) 및 이들의 염을 포함한다.
유화제(b)는 성분(a)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 5 내지 100중량부, 바람직하게는 10 내지 50중량부의 양으로 사용되어, 우수한 유화 상태를 제공한다.
본 발명에서 성분(c)로서 사용되는 물은, 유기 폴리실록산(a)를 유화제(b)로 분산시키는 경우, 분산제로서 작용한다. 성분(c)로서의 물은 물인 이상 특별히 한정되지 않는다. 사용되는 물의 양은 성분(a)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 50 내지 500중량부, 바람직하게는 100 내지 300중량부이어서, 우수한 유화상태를 제공한다.
본 발명의 성분(A)로서의 실리콘 유화제는 유화제(b)를 사용하여 물(c)에서 유기 폴리실록산(a)를 유화시킴으로써 수득할 수 있다.
성분(a)를 유화 중합에서와 같이 유제의 형태로 합성하는 경우, 유화제 또는 물을 성분(a)에 임의로 가하여 조성물(A)를 제조할 수 있다. 특히, 사이클릭 실록산 단량체의 유화 중합에 의해 수득된 유제는 직경이 작고 안정성이 우수한 입자(grain)를 포함한다. 따라서, 생성된 조성물은 탁월한 특성을 나타낸다. 따라서, 이러한 유제는 본 발명에 사용하기에 바람직하다. 유화 공정은 유제 분산장치, 예를 들면, 콜로이드 밀, 단일 혼합기, 균질기, 복합 혼합기 또는 모래 분쇄기를 사용하여 수행할 수 있다.
본 발명의 성분(B)는 1분자당 하나 이상의 관능 그룹을 함유하는 가수분해 가능한 실란이며 본 발명의 조성물에 대해 우수한 접착성을 부여한다. 관능 그룹은 아미노 함유 그룹 또는 에폭시 함유 그룹이다. 성분(a)로서의 유기 폴리실록산에서의 R3이 아미노 함유 그룹인 경우, 관능 그룹은 에폭시 함유 그룹이다. 한편, R3이 에폭시 함유 그룹인 경우, 관능 그룹은 아미노 함유 그룹이다. 성분(B)에서 관능 그룹으로서의 아미노 함유 그룹과 에폭시 함유 그룹의 예는 R3에서 기술한 예를 포함한다. 유사하게, 관능 그룹의 바람직한 예는 R3에서 기술한 예를 포함한다. 성분(B)는 가수분해 가능한 그룹을 함유하는 가수분해 가능한 실란이다. 가수분해 가능한 그룹의 예는 성분(a)에서 R2로 나타낸 바와 동일한 가수분해 가능한 그룹을 포함한다. 이는 하이드록실 그룹을 부분적으로 함유할 수 있다. 이들 가수분해 가능한 그룹 중에서 알콕시 그룹, 특히 메톡시 그룹 및 에폭시 그룹이 바람직하다.
성분(B)로서의 가수분해 가능한 실란의 구체적인 예는 에폭시 함유 알콕시실란[예: γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리 에톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸메틸디메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 또는 β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸메틸디에톡시실란] 및 아미노 함유 알콕시실란[예: γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필메틸 디에톡시실란, N-(β-아미노에틸)아미노메틸트리메톡시실란, γ-[N-(β-아미노에틸)아미노]프로필트리메톡시실란, γ-[N-(β-아미노에틸)아미노]프로필메틸디메톡시실란, N-(β-아미노에틸)아미노메틸트리부톡시실란 또는 γ-[N-(β-(N-(β-아미노에틸)아미노)에틸)아미노]프로필트리메톡시실란]등을 포함한다.
이들 가수분해 가능한 실란 중에서 가수분해 가능한 그룹으로서 디알콕시 그룹 또는 트리알콕시 그룹, 특히 트리메톡시 그룹을 함유하는 것이 바람직하며, 이는 접착성과 내구성이 우수한 필름을 제공할 수 있다.
성분(B)은 성분(a)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 5 내지 300중량부, 바람직하게는 10내지 200중량부의 양으로 사용된다. 성분(B)의 양이 5중량부 미만인 경우, 접착성이 불충분할 수 있다. 성분(B)의 양이 300중량부를 초과하는 경우, 생성된 필름은 경질이고 치성이어서 불충분한 내구성을 나타낸다.
성분(B)는 성분(A)로서의 실리콘 유제와 그 자체로 혼합하지만 유제에서의 이의 분산성과 안정성을 향상시키기 위해 적절한 유화제와의 혼합물 형태로 실리콘 유제와 혼합할 수 있다. 유화제의 예는 성분(b)에서 기술한 예를 포함한다.
성분(A)와 성분(B)를 혼합하고 분산시킴으로써, 고무, 플라스틱, 천 등에 대한 접착성이 탁원하고 광택성, 발수성 및 이형성이 우수한 필름을 형성하는 실리콘 유제 조성물을 수득할 수 있다. 자동차 등에서 웨더스트립(weatherstrip)에 대한 표면 처리제로서 사용되는 경우, 보다 나은 슬립 특성을 나타내는 실리콘 유제 조성물이 요구된다.
추가의 조사 결과, 성분(C)로서의 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹을 함유하는 유기 폴리실록산의 유제를 첨가하는 것이 우수한 슬립 특성을 제공하기에 효과적인 것으로 밝혀졌다.
성분(C)에서 성분(d)로서의 유기 폴리실록산은 1분자당 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹을 함유하는 아미노 및 에폭시를 함유하지 않는 유기 폴리실록산이다. 이는 성분(e)로서의 유화제 성분(f)로서의 물과 함께 실리콘 유제를 형성한다.
성분(d)를 나타내는 일반식에서, R4는 각각 동일하거나 상이한 C1-201가 탄화수소 그룹 또는 수소원자이다. 1가 탄화수소 그룹의 구체적인 예는 R1에서 기술한 예를 포함한다. 이들 중에서 수소원자, 메틸 그룹, 비닐 그룹 및 페닐 그룹, 특히 메틸 그룹이 바람직하며 이는 특성이 우수한 조성물을 제공한다.
R5는 각각 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹이다. 가수분해 가능한 그룹의 예는 R2에서 기술한 예를 포함한다. 이들 그룹 중에서 하이드록실 그룹 및 알콕시 그룹, 특히 하이드록실 그룹 및 메톡시 그룹이 바람직한데, 이는 이들의 취급성 때문이다.
위에서 기술한 일반식에서, d 및 e는 각각, d가 0 초과 3 미만이고 e가 0 초과 2 미만이며 d와 e의 합이 1.9 초과 2.2 미만인 관계, 바람직하게는 d가 1.0 초과 2.0 미만이고, e가 0 초과 0.5 미만이며 d와 e의 합이 1.9 초과 2.1 미만인 관계를 만족시키는 수이다. e가 0인경우, 생성된 필름의 경화성이 불충분하다. 한편, e가 2 이상인 경우, 생성된 경화 필름은 경질이고 취성이어서, 우수한 슬립 특성을 나타내지 못한다. 우수한 슬립 특성 또는 내마모성을 수득하기 위하여, d와 e는, d와 e의 합이 1.9 초과 2.2 미만인 관계를 만족시킬 필요가 있다.
성분(d)로서의 유기 폴리실록산의 분자량은 바람직하게는 500 내지 500,000, 더욱 바람직하게는 1,000 내지 100,000이다.
일반적으로, 성분(d)는 바람직하게는 성분(a)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 5 내지 200중량부, 특히 20 내지 100중량부의 양으로 사용된다. 우수한 슬립 특성 및 내마모성을 수득하기 위해서는 성분(d)의 양이 5중량부 이상인 것이 바람직하며, 기재에 대한 접착성의 저하를 방지하기 위해서는 200 중량부인 것이 바람직하다.
본 발명에서 성분(e)로서 사용되는 유화제의 예는 성분(b)에서 기술한 예를 포함한다. 이들 유화제 중에서 비이온성 계면활성제와 양이온성 계면활성제가 바람직하다.
유화제(e)는 성분(b)와 유사하게 성분(d)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 5 내지 100중량부, 바람직하게는 10 내지 50중량부의 양으로 사용된다.
본 발명에서 성분(f)로서 사용되는 물을 성분(c)와 유사하게 성분(d)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 50 내지 100중량부, 바람직하게는 100 내지 300중량부의 양으로 사용된다.
본 발명의 성분(C)로서의 실리콘 유제는 성분(A)에서와 동일한 방법으로 수득될 수 있다. 유화 중립에 의해 수득되는 실리콘 유제도 바람직하게 사용할 수 있다.
본 발명의 유제 조성물은 성분(A)와 실리콘 유제(C)를 혼합하고 임의로 성분(B)로서의 가수분해 가능한 실란과 혼합한 다음 이들을 분산시킴으로써 수득할 수 있다. 지금까지 표면 처리제로서 에폭시 실란과 아미노 실란의 반응 생성물을 사용하는 것이 공지되어 있다. 본 발명에 있어서, 성분(A)와 성분(B)는 반응시키는 것이 아니라 혼합하고 분산시킨다. 예를 들면, 에폭시 그룹과 아미노 그룹과 반응 생성물의 사용은 본 발명의 효과를 달성시킬 수 없다.
본 발명의 조성물은 각종 기재의 처리에 사용되기 전에 피복을 용이하게 하는 물로 추가로 희석시킬 수 있다. 일반적으로, 본 발명의 조성물은 바람직하게는 실리콘 함량이 5 내지 60중량%, 특히 10 내지 50중량%로 되도록 희석한다.
본 발명의 조성물은 강화, 매트 효과(matte effect) 또는 슬립 특성의 향상등의 목적을 위해 무기 물질[예: 열분해법 실리카(fumed silica), 침강 실리카, 석영 분말 또는 규조토]의 분말 또는 유기 물질(예: 아크릴 수지, 스티렌 수지, 에틸렌 수지, 나일론 수지, 벤조구안아민 수지, 멜라닌 수지, 폴리테트라플루오로에틸렌 수지 또는 폴리메틸실세스퀴옥산과 같은 실리콘 수지)의 구형 또는 무정형 분말을 추가로 포함할 수 있다.
특히, 슬립 특성의 향상 목적을 위해, 평균 입자 직경이 0.01 내지 100μm, 특히 0.05 내지 20μm인 분말이 바람직하게 사용된다. 위에서 기술한 수지 중에서, 나일론 수지, 폴리테트라플루오로에틸렌 수지 및 실리콘 수지의 미세 분말이 바람직하다. 입자 형태로서 구형이 바람직하다. 특히, 구형 실리콘 수지 미세 분말이 바람직하다. 배합되는 분말의 양은 바람직하게는 성분(a)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 0.1 내지 200중량부, 특히 5 내지 50중량부이다. 분말은 그 자체로 성분(A)로서의 실리콘 유제와 배합할 수 있다. 분말은 유제에서의 분산성과 안정성을 향상시키기 위하여 적절한 유화제와의 혼합물 형태로 실리콘 유제와 배합할 수 있다. 유화제의 예는 성분(b)에서 기술한 예를 포함한다.
조성물의 슬립 특성을 추가로 향상시키기 위하여, 치환되지 않은 폴리디메틸실록산의 유제를 조성물에 가할 수 있다. 특히, 점도가 1000 내지 100,000cps 정도로 큰 실록산의 유제가 바람직하다. 또한, 각종 첨가제[예: 착색용 염료 및 안료 또는 자외선에 의한 열화(deterioration)를 방지하기 위한 자외선 흡수제 또는 자외선 차단제]를 본 발명의 조성물의 특성을 손상시키지 않는 한 조성물과 배합할수 있다.
본 발명의 유제 조성물은 실리콘의 축합 경화반응에 사용되는 경화 촉매를 추가로 포함할 수 있다. 경화 촉매의 예는 지방족 산 금속염, 아민 및 암모늄을 포함한다. 이들 화합물은 혼합물로 사용될 수 있다. 지방족 산의 금속염의 예는 금속원자에 직접 결합된 유기 그룹을 갖는 화합물(예: 디부틸틴 디아세테이트, 디부틸틴 디옥테이트, 디부틸틴 디라우레이트, 디부틸틴 디올레에이트, 디부틸틴 디스테아레이트, 트리부틸틴 아세테이트, 트리부틸틴 옥토에이트, 트리부틸틴 라우레이트, 디옥틸틴 다이세테이트, 디옥틸틴 디라우레이트, 디에틸틴 디올레에이트 또는 모노메틸틴 디올레이이트)과 금속원자에 결합된 유기 그룹을 함유하지 않는 화합물(예: 아연 옥테네이트, 철 옥테네이트 또는 주석 옥테네이트)을 포함한다.
아민의 예는 유기 아민(예: 모노메틸아민, 디메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 에틸렌디아민 또는 헥사메틸 테트라아민) 및 이들의 염을 포함한다. 암모늄의 예는 테트라메틸암모늄, 디메틸벤질암모늄 및 이들의 염을 포함한다. 본 발명의 유제 조성물은 경화 촉매를 함유하지 않은 경우에도 우수한 경화성을 갖는다. 또한, 본 발명의 유제 조성물은 각종 기제에 대한 접착성 및 내구성이 우수한 경화 필름을 형성한다. 그런, 기재에 대한 접착성 및 내구성은 기재의 종류, 기재에 함유된 충전제의 종류 및 기재의 표면 상태에 따라 변할 수 있다. 또한, 목적하는 접착성과 내구성은 이렇게 처리되는 기재의 목적에 따라 좌우된다. 본 발명의 유제 조성물은 바람직하게는 우수한 접착성과 내구성을 특히 목적하는 경우 경화 촉매를 추가로 포함한다. 가해지는 경화 촉매의 양은 성분(a)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 바람직하게는 0.1 내지 10중량부, 특히 0.5 내지 5중량부이다. 한편, 가사시간(可使時間; pot life)이 긴 유제 조성물을 필요로하는 경우, 위에서 기술한 경화 촉매를 함유하지 않는 것이 바람직하다.
경화 촉매는 성분(A)로서의 실리콘 유제와 그 자체로 혼합되거나 적합한 유화제와의 혼합물 형태로 실리콘 유제에 가할 수 있다. 유화제의 예는 성분(b)에 대하여 기술한 예를 포함한다.
본 발명의 유제 조성물은 기재에 대한 이의 적용성을 향상시키기 위해, 성분(b)로서의 유화제, 성분(e)로서의 유화제 및 임의의 성분(B)와 혼합되는 유화제 이외의 유화제를 추가로 포함할 수 있다. 이러한 유화제는 본 발명의 유제 조성물의 제조 동안 다른 성분과 유사하게 혼합될 수 있다. 유화제의 예는 성분(b)에서 기술한 예를 포함한다. 이들 유화제 중에서 비이온성 계면활성제가 바람직하다. 본 발명의 유제 조성물은 유화제를 함유하지 않는 경우에도 우수한 피복성을 나타낸다. 그럼에도 불구하고, 처리되는 기재의 발수성이 높은 경우, 본 발명의 유제 조성물은 바람직하게는 위에서 기술한 추가의 유화제를 함유하여 조성물의 농도 변화와 피복량의 변화 및 피복장치의 변화에 대해서도 우수한 피복성을 유지한다.
배합되는 추가의 유화제의 양은 바람직하게는 성분(a)로서의 유기 폴리실록산 100중량부당 5 내지 50중량부, 특히 10 내지 30중량부이다.
본 발명의 조성물을 사용한 기재의 처리는 조성물을 다양한 방법(예; 침지 피복, 분무 피복, 브러쉬 피복, 나이프 피복 또는 롤 피복)에 의해 각종 기재(예; 종이, 고무, 천, 플라스틱, 금속 또는 세라믹) 위에 피복하여 물을 건조 제거하고 피막을 실온에서 10분 내지 수시간 동안 정치시키거나 기재의 유형에 따라 약간 가열하여 피막을 경화시킴으로써 수행한다.
통상의 실리콘 유제 조성물에 비해, 본 발명의 실리콘 유제 조성물은 처리되는 각종 기재에 대한 접착성과 내구성이 우수한 경화 필름을 제공한다. 특히, 본 발명의 실리콘 유제 조성물은 고무, 플라스틱 및 통상의 실리콘 유제가 충분한 접착성을 제공할 수 없는 기타 기재에 대한 접착성이 우수한 경화 필름을 제공할 수 있다. 본 발명의 실리콘 유제 조성물은 실제로 각종 기재에 적용될 수 있고 외관, 이형성, 발수성, 슬립 특성 및 내마모성이 우수한 경화 필름을 제공하는 것이 특징이다.
본 발명의 실리콘 유제 조성물은 자동차 부품, 가구 및 건축재의 표면을 보호하거나 광택을 내기 위한 목적 또는 발수성 또는 슬립 특성을 갖는 이들 물질을 제공하기 위한 목적으로 사용될 수 있다. 또한, 본 발명의 실리콘 유제 조성물은 섬유, 종이, 필름 또는 금속박의 표면 처리용으로 또는 신발 또는 가방에 광택을 내기 위해 사용할 수 있다. 특히, 본 발명의 실리콘 유제 조성물은 자동차 웨더스트립(automobile weatherstrip)과 같은 고무에 대한 슬립 특성을 제공하는 것으로 가장 바람직하다.
본 발명의 조성물로 처리되는 웨더스트립은 우수한 슬립 특성을 나타내므로, 문을 개폐하거나 저속으로 운전하는 경우, 비정상적인 소음을 야기시키지 않는다. 또한, 이러한 웨더스트립은 유리, 피복판 또는 서로간에 부착되지 않는다. 더우기, 이러한 웨더스트립은 저온에서 동결되기 때문에 다른 물질에 부착되지 않는다.
본 발명은 다음의 실시예에서 추가로 기술될 것이며 이들 실시예에 한정되지는 않는다. 이후 사용되는 용어 부와 %는 각각 중량부와 중량%를 뜻한다. 점도는 25%의 온도에서 측정하였다.
[합성 실시예 1]
물 600부, 옥타데실디메틸암모늄 클로라이드 50부와 KOH 4부를 반응 용기 속에 충전시킨다. 이들 성분을 골고루 혼합한다. 이후에, 혼합물을 옥타메틸사이클로테트라실록산 400부와 혼합한다. 100mil의 간격으로 위치하는 밀(mill)을 갖는 콜로이드 밀을 통해 혼합물을 통과시켜 유제를 제조한다. 유제를 4시간 동안 90℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 중합 생성물과 γ-[N-(β-아미노에틸)아미노]프로필트리메톡시실란 30부 중의 옥타데실디메틸암모늄 클로라이드 4부의 용액을 혼합하고 2시간 동안 50℃의 온도에서 계속 중합반응시킨다. 아세트산을 반응 혼합물에 가하여 촉매를 중화시킨다. 실리콘 유제 A를 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 약 40% 이다.
[합성 실시예 2]
물 800부, 디헥사데실메틸암모늄 클로라이드 70부 및 옥타메틸사이클로테트라실록산 500부를 반응 용기 속에 충전시킨다. 이들 성분을 충분히 혼합한다. 혼합물을 KOH 3부와 혼합한다. 이어서, 혼합물을 합성 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유화시킨다. 이어서 유제를 4시간 동안 95℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 중합 생성물과 γ-[N-(β-아미노에틸)아미노]프로필트리메톡시실란 30부와 γ-[N-(β-아미노에틸)아미노]프로필메틸디메톡시실란 30부 중의 디헥사데실메틸암모늄 클로라이드 7부의 용액을 혼합한다. 2시간 동안 50℃의 온도에서 계속 중합반응시킨다. 이어서, 아세트산을 반응 혼합물에 가하여 촉매를 중화시킨다. 실리콘 유제 B를 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 약 40%이다.
[합성 실시예 3]
물 600부, 옥타데실디메틸암모늄 클로라이드 50부 및 KOH 4부를 반응 용 속기에 충전시킨다. 이어서, 이들 성분을 골고루 혼합한다. 혼합물을 옥타메틸사이클로테트라실록산 400부 및 γ-[N-(β-아미노에틸)아미노]프로필트리메톡시실란 30부와 혼합한다. 이어서, 혼합물을 합성 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유화시킨다. 이어서, 유제를 4시간 동안 90℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 아세트산을 반응 혼합물에 가하여 촉매를 중화시킨다. 실리콘 유제 C를 수득한다. 유제중의 실리콘 함량은 약 40%이다.
[합성 실시예 4]
옥타메틸사이클로테트라실록산 1000부, 헥사메틸 디실록산 20부 및 칼륨 실란올레이트 6부를 반응 용기 속에 충전시킨다. 이들 성분을 골고루 혼합한다. 이어서, 혼합물을 2시간 동안 교반하면서 165℃의 온도로 가열하여 중합시키고 평형시킨다. 중합 생성물에 γ-[N-(β-아미노에틸)아미노]프로필 트리메톡시실란 150부를 가한다. 이어서, 반응 혼합물을 교반하면서 6시간 동안 165℃의 온도로 가열하여 중합시키고 평형시킨다. 이어서, 혼합물을 냉각한다. 이어서, 혼합물과 물 40부를 교반하면서 혼합하여 남아있는 메톡시 그룹이 완전히 가수분해되도록 한다. 반응 시스템에 KOH 0.5부를 가한다. 반응 혼합물을 메탄올의 증류가 완결될 때까지 160℃의 온도에서 평형시킨다. 반응 혼합물에 아세트산을 가하여 촉매를 중화시킨다. 반응 혼합물을 30분 동안 5mmHg 및 200℃에서 스트리핑시켜 아미노 함유 폴리실록산을 수득한다. 이렇게 수득된 폴리실록산의 점도는 150cps이다.
폴리실록산 100부, 디헥사데실메틸암모늄 클로라이드 30부와 물 120부를 혼합한다. 이어서, 혼합물을 1에서와 동일한 방법으로 유화시켜 실리콘 유제D를 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 40%이다.
[합성 실시예 5]
물 600부, 옥타데실디메틸암모늄 클로라이드 50부 및 KOH 4부를 반응 용기 속에 충전시킨다. 이들 성분을 골고루 혼합한다. 이어서, 혼합물을 옥타메틸사이클로테트라실록산 400부와 혼합한다. 10mil의 간격으로 위치하는 밀을 갖는 콜로이드 밀을 통해 혼합물을 통과시켜 유제를 제조한다. 유제를 4시간 동안 90℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 중합 생성물을 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 30부 중의 옥타데실디메틸 암모늄 클로라이드 4부의 용액과 혼합하고 2시간 동안 50℃의 온도에서 계속 중합반응시킨다. 이어서, 아세트산을 반응 혼합물에 가하여 촉매를 중화시킨다. 따라서, 실리콘 유제 E를 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 약 40%이다.
[합성 실시예 6]
물 800부, 디헥사데실메틸암모늄 클로라이드 70부 및 옥타메틸사이클로테트라실록산 500부를 반응 용기 속에 충전시킨다. 이어서, 이들 성분을 골고루 혼합한다. 이어서, 혼합물을 KOH 3부와 혼합한다. 이어서, 혼합물을 합성 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유화시킨다. 이어서, 유제를 4시간 동안 95℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 중합 생성물을 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 30부 및 γ-글리시독시프로필메틸디메톡시실란 30부 중의 디헥사데실메틸 암모늄 클로라이드 7부의 용액과 혼합하고 2시간 동안 50℃의 온도에서 계속 중합반응시킨다. 따라서, 아세트산을 반응 혼합물에 가하여 촉매를 중화시킨다. 따라서, 실리콘 유제 F를 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 40%이다.
[합성 실시예 7]
물 600부, 옥타데실디메틸암모늄 클로라이드 50부 및 KOH 4부를 반응 용기 속에 충전시킨다. 이어서, 이들 성분을 골고루 혼합한다. 혼합물을 옥타메틸사이클로테트라실록산 400부 및 γ-글리시독시 프로필트리메톡시실란 30부와 혼합한다. 이어서, 혼합물을 합성 실싱예 1에서와 동일한 방법으로 유화시킨다. 이어서, 유제를 4시간 동안 90℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 이어서, 아세트산을 반응 혼합물에 가하여 촉매를 중화시킨다. 따라서, 실리콘 유제 G를 수득한다. 유제중의 실리콘 함량은 40%이다.
[합성 실시예 8]
평균 구조식
의 엑폭시 함유 폴리실록산 100부, 디헥사데실메틸암모늄 클로라이드 20부, 폴리옥시에틸렌(9) 노닐페닐에테르 10부 및 물 120부를 혼합한다. 이어서, 혼합물을 합성 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유화시켜 실리콘 유제 H를 수득한다. 유체 중의 실리콘 함량은 40%이다.
[합성 실시예 9]
물 600부 및 도데실벤젠설폰산 6부를 반응 용기 속에 충전시킨다. 이들 성분을 골고루 혼합한다. 이어서, 혼합물을 옥타메틸사이클로테트라실록산 400부와 혼합한다. 혼합물을 합성 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유화시킨다. 유제를 4시간 동안 90℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 중합 생성물을 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 30부 중의 폴리옥시에틸렌(9) 노닐페닐에테르 4부의 용액과 혼합하고 1.5시간 동안 50℃의 온도에서 계속 중합반응시킨다. 탄산수소나트륨의 수용액을 반응 혼합물에 가하여 촉매를 중화시켜 실리콘 유제 1를 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 약 40%이다.
[합성 실시예 10]
물 600부, 옥타데실디메틸암모늄 클로라이드 50부 및 KOH 4부를 반응 용기속에 충전시킨다. 이어서, 이들 성분을 골고루 혼합한다. 이어서, 혼합물을 옥타메틸사이클로테트라실록산 400부 및 메틸트리 메톡시실란 10부와 혼합한다. 이어서, 혼합물을 합성 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유화시킨다. 이어서, 유제를 4시간 동안 90℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 이어서, 반응 혼합물에 아세트산을 가하여 촉매를 중화시켜 실리콘 유제 J를 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 40%이다. 실리콘의 평균 분자량은 15,000이다.
[합성 실시예 11]
물 700부와 도데실베젠설폰산 50부를 반응 용기 속에 충전시킨다. 이들 성분을 골고루 혼합한다. 이어서, 혼합물을 옥타메틸사이클로테트라실록산 400부와 혼합한다. 이어서, 혼합물을 합성 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유화시킨다. 유제를 4시간 동안 90℃의 온도로 가열하여 중합시킨다. 이어서, 트리에탄올 아민을 반응 혼합물에 가하여 촉매를 중화시켜 실리콘 유제 K를 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 약 30%이다. 실리콘의 평균 분자량은 20,000이다.
[합성 실시예 12]
평균 분자량이 50,000이며 양 말단에서 디메틸하이드로 실릴 그룹에 의해 종결된 폴리디메틸실록산 100부, 폴리옥시에틸렌(9) 노닐페닐에테르 30부 및 물 120부를 혼합한다. 이어서, 혼합물을 합성 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유화시켜 실리콘 유제 L을 수득한다. 유제 중의 실리콘 함량은 40%이다.
[실시예 1]
실리콘 유제 A 100부를 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 30부 및 물 100부와 교반하면서 혼합하여 본 발명의 유제 조성물을 제조한다. 조성물을 시험편으로서의 나일론 천에 침지 피복하고 5분 동안 110℃의 온도에서 가열하여 경화시킨다. 피복 시험편을 실온에서 1일 동안 방치시킨다. 피복 천의 특성을 다음에 기술한 바와 같이 평가한다. 수득된 결과를 표 1에 나타내었다.
외관 : 시험편의 광택 비교를 피복 전과 후에 수행한다. 평가 기준은 다음과 같다.
1 - 우수한 광택
2 - 약간의 광택
3 - 광택 없음.
접착성 : 피복 시험편을 격렬하게 문지른다. 이어서, 시험편의 접착성은 다음과 같이 이의 표면 상태로부터 평가한다;
1 - 떨어짐 없음, 우수한 접착성
2 - 약간의 떨어짐 또는 포그(fog)
3 - 떨어짐.
발수성 : 물 방울을 시험편 위에 떨어뜨리고 3분 동안 방치한다. 발수성은 다음과 같이 물방울 상태로부터 평가한다;
1 - 물방울 형성, 우수한 발수성을 나타냄
2 - 물방울이 약간 퍼지지만 우수한 발수성을 나타냄
3 - 물방울이 퍼짐, 불량한 발수성을 나타냄.
이형성 : 폭이 12mm인 시판용 접착 테이프(제조원 : Nichiban Co., Ltd.)를 시험편에 적용시킨다. 시험편을 1일 동안 1kg/cm2의 하중하에 방치한다. 180℃의 방향으로 테이프를 박리시키기 위해 요구되는 힘을 자동 기록식으로 측정한다. 이형성을 다음의 기준에 따라 평가한다;
1 - 박리력 : 10g/12mm 미만, 이형성이 우수함.
2 - 박리력 : 10 내지 50g/12mm.
3 - 박리력 : 50g/12mm를 초과함.
[비교실시예 1]
γ-글리시독시프로필트리메톡시실란을 배합하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1에서와 동일한 방법으로 유제 조성물을 제조한다. 수득된 유제 조성물을 실시예 1에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과는 표 1에 나타내었다.
[실시예 2]
실시예 1에서 제조된 유제 조성물을 EPDM 발포 고무 시트 위에서 브러시 피복(brush-coating)하고 2분 동안, 150℃의 온도로 가열하여 경화시킨다. 피복 시험편을 1일 동안 실온에서 방치시킨다. 피복 시험편을 특성을 실시예 1에서와 동일한 방법으로 평가한다. 피복 고무를 50g의 하중하에서 유리판 위에서 10cm 수평으로 이동시키는 경우 나타나는 응력을 자동 기록식으로 측정한다. 동적 마찰계수를 평균 응력 수치로부터 측정한다. 수득된 결과는 표 2에 나타내었다.
[비교실시예 2]
비교 실시예 1의 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다.
수득된 결과를 표 3에 나타내었다.
[실시예 3 내지 10]
표 2와 표 3에 나타낸 배합을 갖는 유제 조성물을 제조한다. 이들 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과를 표 2와 표3에 나타내었다.
[비교실시예 3]
실리콘 유제 A 100부와 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 30부를 교반하면서 80℃의 온도로 교반하면서 가열하여 3시간 동안 반응시킨다. 반응 혼합물에 물 100부를 교반하면서 가하여 유제 조성물을 제조한다. 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과를 표 3에 나타내었다.
[비교실시예 4]
합성 실시예 4에서 수득한 아미노 함유 폴리실록산 40부, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 30부, 물 150부 및 옥타데실디메틸암모늄 클로라이드 10부를 교반하면서 혼합한다. 혼합물을 합성 실시예 4에서와 동일한 방법으로 콜로이드 밀을 사용하여 유화시켜 유제 조성물을 제조한다. 수득된 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과는 표 3에 나타내었다.
[비교실시예 5]
γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 대신 합성 실시예 8에서 사용된 에폭시 함유 폴리실록산을 사용하는 것을 제외하고는, 비교실시예 4에서와 동일한 방법으로 유제 조성물을 제조한다. 수득된 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과는 표 3에 나타내었다.
[비교실시예 6]
합성 실시예 8에서 사용된 에폭시 함유 폴리실록산 40부, γ-아미노프로필트리에톡시실란 30부, 물 150부 및 옥타데실디메틸암모늄 클로라이드 10부를 사용하는 것을 제외하고는, 비교실시예 4에서와 동일한 방법으로 유제 조성물을 제조한다. 수득된 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과는 표3에 나타내었다.
[실시예 11]
실리콘 유제 A 100부, 실리콘 유제 J 50부, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 30부 및 물 100부를 교반하면서 혼합하여 유제 조성물을 제조한다. 수득된 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과를 표 4에 나타내었다.
[실시예 12 내지 15]
표 4에 나타낸 배합을 갖는 유제 조성물을 실시예 11에서와 동일한 방법으로 제조한다. 수득된 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과를 표 4에 나타내었다.
[실시예 16]
실리콘 유제 A 100부에 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 30부, 디부틸틴디라우레이트 1.0부 및 물 100부를 교반하면서 가하여 유제 조성물을 제조한다. 수득된 유제 조성물을 실시예 2에서와 동일한 방법으로 평가한다. 유제 조성물의 피복성을 다음의 방법으로 평가한다.
피복성 : 시험편의 외관을 다음과 같이 육안으로 평가한다.
1 - 균일한 피복 외관.
2 - 약간의 피복 박리성, 부분적인 균일하지 않는 피복.
3 - 피복 박리성, 전체적으로 균일하지 않은 피복.
수득된 결과를 표 5에 나타내었다.
[실시예 17 내지 19]
표 5에 나타낸 배합을 갖는 유제 조성물을 실시예 16에서와 동일한 방법으로 제조한다. 수득된 유제 조성물을 실시예 16에서와 동일한 방법으로 평가한다. 수득된 결과를 표 5에 나타내었다.
조성물을 피복성의 평가에 있어서 브러시 피복 대신 기재 위에 분무 피복시키는 것을 제외하고는, 실시예 2에서와 동일한 방법으로 실시예 16 내지 19에서 사용된 동일한 배합을 갖는 시험편을 제조한다. 모든 시험편은 균일한 피복 외관을 나타낸다.
1 : 평균 입자 직경이 2.0μm인 완전 구형 폴리메틸실세스퀴옥산 입자.
본 발명을 이의 특정 양태를 참조하여 상세하게 기술하였지만 당해 기술분야의 숙련가들은 이의 취지와 범위내에서 다양한 변화와 변형을 수행할 수 있을 것이다.

Claims (6)

1분자당 하나 이상의 아미노 그룹 또는 에폭시 그룹을 함유하는 일반식의 유기 폴리실록산(a)[여기서, R1은 각각 동일하거나 상이한 C1-201가 탄화수소 그룹 또는 수소원자이고, R2는 각각 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹이며, R3은 각각 아미노 함유 그룹 ㄸ또는 함유 그룹이고, a, b 및 c는 각각 a가 0 초과 3 미만이며 b가 0 이상 2 미만이고 c가 0 초과 1 이하인 관계를 만족시킨다], 유화제(b) 5 내지 100중량부[성분(a) 100중량부당] 및 물(c) 50 내지 500중량부[성분(a) 100중량부당]를 포함하는 실리콘 유제(A), 1분자당 하나 이상의 관능 그룹을 함유하는 가수분해 가능한 실란(B)[여기서, 관능 그룹은, 성분(A)에서의 R3이 에폭시 함유 그룹인 경우, 아미노 함유 그룹이거나, R3이 아미노 함유 그룹인 경우, 에폭시 함유 그룹이다] 5 내지 300중량부[성분(a) 100중량부당] 및 1분자당 하나 이상의 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹을 함유하는 일반식의 유기 폴리실록산(d)[여기서, R4는 각각 동일하거나 상이한 C1-201가 탄화수소 그룹 또는 수소원자이고, R5는 각각 하이드록실 그룹 또는 가수분해 가능한 그룹이며, d 및 e는, d가 0 초과 3 미만이고 e가 0 초과 2 미만이며 d와 e의 합이 1.9 초과 2.2 미만인 관계를 만족시킨다] 5 내지 200중량부[성분(a) 100중량부당], 유화제(e) 5 내지 100중량부[성분(d) 100중량부당] 및 물(f) 50 내지 300중량부[성분(d) 100중량부당]를 포함하는 실리콘 유제(C)를 포함하는 성분들이 혼합되고 분산되어 있는 필름 형성용 실리콘 유제 조성물.
제1항에 있어서, 성분(a)의 유기 폴리실록산의 분자량이 500 내지 500,000인 필름 형성용 실리콘 유제 조성물.
제1항에 있어서, 성분(b)의 유화제가 비이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제 또는 양이온성 계면활성제인 필름 형성용 실리콘 유제 조성물.
제1항에 있어서, 성분(B)의 가수분해 가능한 실란이 에폭시 함유 알콕시실란 또는 아미노 함유 알콕시실란인 필름 형성용 실리콘 유제 조성물.
제1항에 있어서, 성분(d)의 유기 폴리실록산의 분자량이 500 내지 500,000인 필름 형성용 실리콘 유제 조성물.
제1항에 있어서, 성분(e)의 유화제가 비이온성 계면화성제, 음이온성 계면활성제 또는 양이온성 계면활성제인 필름 형성용 실리콘 유제 조성물.
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