JPWO2023286586A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2023286586A5
JPWO2023286586A5 JP2023535214A JP2023535214A JPWO2023286586A5 JP WO2023286586 A5 JPWO2023286586 A5 JP WO2023286586A5 JP 2023535214 A JP2023535214 A JP 2023535214A JP 2023535214 A JP2023535214 A JP 2023535214A JP WO2023286586 A5 JPWO2023286586 A5 JP WO2023286586A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
sensitive
compound
atom
radiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023535214A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2023286586A1 (https=
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2022/025662 external-priority patent/WO2023286586A1/ja
Publication of JPWO2023286586A1 publication Critical patent/JPWO2023286586A1/ja
Publication of JPWO2023286586A5 publication Critical patent/JPWO2023286586A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2023535214A 2021-07-12 2022-06-28 Pending JPWO2023286586A1 (https=)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021115277 2021-07-12
PCT/JP2022/025662 WO2023286586A1 (ja) 2021-07-12 2022-06-28 パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2023286586A1 JPWO2023286586A1 (https=) 2023-01-19
JPWO2023286586A5 true JPWO2023286586A5 (https=) 2024-04-09

Family

ID=84919989

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023535214A Pending JPWO2023286586A1 (https=) 2021-07-12 2022-06-28

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPWO2023286586A1 (https=)
TW (1) TW202307568A (https=)
WO (1) WO2023286586A1 (https=)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3751065B2 (ja) * 1995-06-28 2006-03-01 富士通株式会社 レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
JP5573356B2 (ja) * 2009-05-26 2014-08-20 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP5685919B2 (ja) * 2010-12-13 2015-03-18 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
US11681218B2 (en) * 2018-02-14 2023-06-20 Sumitomo Chemical Company, Limited Compound, resist composition and method for producing resist pattern

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009258722A5 (https=)
TW200421019A (en) Multilayer photoresist systems
JP2003043682A (ja) 感放射線性誘電率変化性組成物、誘電率変化法
CN103988128A (zh) I线光刻胶组合物以及使用该组合物形成精细图案的方法
JP3968885B2 (ja) 感光性組成物
JP5941559B2 (ja) 低誘電性光画像形成性組成物及びそれから製造した電子デバイス
JP5245407B2 (ja) （メタ）アクリルアミド誘導体、重合体、化学増幅型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法
JP7637137B2 (ja) 化学増幅型フォトレジスト
CN1967289A (zh) 含硅聚合物以及由其形成的光波导
JPWO2023068075A5 (https=)
WO2009099083A1 (ja) アクリルアミド系ポリマー、アクリルアミド化合物、化学増幅型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法
JP5459211B2 (ja) 第１膜の改質方法及びこれに用いる酸転写樹脂膜形成用組成物
WO2018199247A1 (ja) 感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
JPWO2023286586A5 (https=)
TW202124569A (zh) 正型光敏材料
JPWO2010001779A1 (ja) 感光性絶縁樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JPWO2023017728A5 (https=)
JP5423367B2 (ja) 酸転写用組成物、酸転写用膜及びパターン形成方法
JP4221988B2 (ja) ３層レジスト中間層用樹脂組成物
JPH08193167A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2007164045A (ja) 感光性レリーフパターン形成材料
JP5071314B2 (ja) 酸転写樹脂膜形成用組成物、酸転写樹脂膜及びパターン形成方法
JPWO2010087195A1 (ja) ポジ型感光性絶縁樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
JP2010122535A (ja) 酸転写樹脂膜形成用組成物、酸転写樹脂膜及びパターン形成方法
JP4300464B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたレリーフパターンの製造方法、電子部品