JPWO2023282211A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2023282211A5
JPWO2023282211A5 JP2023533109A JP2023533109A JPWO2023282211A5 JP WO2023282211 A5 JPWO2023282211 A5 JP WO2023282211A5 JP 2023533109 A JP2023533109 A JP 2023533109A JP 2023533109 A JP2023533109 A JP 2023533109A JP WO2023282211 A5 JPWO2023282211 A5 JP WO2023282211A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
pattern
substrate
light modulator
spatial light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2023533109A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7700860B2 (ja
JPWO2023282211A1 (https=
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2022/026497 external-priority patent/WO2023282211A1/ja
Publication of JPWO2023282211A1 publication Critical patent/JPWO2023282211A1/ja
Publication of JPWO2023282211A5 publication Critical patent/JPWO2023282211A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7700860B2 publication Critical patent/JP7700860B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2023533109A 2021-07-05 2022-07-01 露光装置、露光方法、デバイス製造方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法 Active JP7700860B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021111777 2021-07-05
JP2021111777 2021-07-05
PCT/JP2022/026497 WO2023282211A1 (ja) 2021-07-05 2022-07-01 露光装置、デバイス製造方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2023282211A1 JPWO2023282211A1 (https=) 2023-01-12
JPWO2023282211A5 true JPWO2023282211A5 (https=) 2024-03-12
JP7700860B2 JP7700860B2 (ja) 2025-07-01

Family

ID=84800651

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023533109A Active JP7700860B2 (ja) 2021-07-05 2022-07-01 露光装置、露光方法、デバイス製造方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7700860B2 (https=)
KR (1) KR20240019240A (https=)
CN (1) CN117795423A (https=)
TW (1) TW202309672A (https=)
WO (1) WO2023282211A1 (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN118732416B (zh) * 2024-07-26 2025-01-14 东莞市桓灿微纳米科技有限公司 自动uv曝光拼模设备

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000267294A (ja) * 1999-03-12 2000-09-29 Orc Mfg Co Ltd 露光装置
JP2005266779A (ja) * 2004-02-18 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置及び方法
JP2018060001A (ja) * 2016-10-04 2018-04-12 東京エレクトロン株式会社 補助露光装置及び露光量分布取得方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3198310B2 (ja) 露光方法及び装置
US5715037A (en) Scanning exposure apparatus
JP4362999B2 (ja) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP5741868B2 (ja) パターン形成方法及びパターン形成装置、並びにデバイス製造方法
TWI453547B (zh) An exposure apparatus, an exposure method, and an element manufacturing method
CN102834780B (zh) 曝光方法及曝光装置
JP2004335864A (ja) 露光装置及び露光方法
JPWO2023282211A5 (https=)
JP3265512B2 (ja) 露光方法
CN114063393A (zh) 调整方法、曝光方法、曝光装置以及物品制造方法
JP2013238670A (ja) 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法及び開口板
US8072580B2 (en) Maskless exposure apparatus and method of manufacturing substrate for display using the same
WO2009088004A1 (ja) 露光方法及び露光装置
JPWO2009150901A1 (ja) 露光装置および露光方法
JP7700860B2 (ja) 露光装置、露光方法、デバイス製造方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法
JP4396032B2 (ja) 露光方法および走査型露光装置
JP5397748B2 (ja) 露光装置、走査露光方法、およびデバイス製造方法
JP2010085793A (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JP2001215717A (ja) 走査露光方法および走査型露光装置
US20040125331A1 (en) Liquid crystal display substrate fabrication
JP2001022098A (ja) 露光装置におけるアライメント装置、被露光基板、及びアライメントマーク
JP6825204B2 (ja) デバイス製造方法および露光方法
JP2001109169A (ja) 露光装置、露光方法およびマスク
CN114911135B (zh) 一种防焊油墨的曝光方法
JP2012027271A (ja) 露光装置、露光方法、カラーフィルタの製造方法。