JPWO2022044941A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2022044941A5
JPWO2022044941A5 JP2022520915A JP2022520915A JPWO2022044941A5 JP WO2022044941 A5 JPWO2022044941 A5 JP WO2022044941A5 JP 2022520915 A JP2022520915 A JP 2022520915A JP 2022520915 A JP2022520915 A JP 2022520915A JP WO2022044941 A5 JPWO2022044941 A5 JP WO2022044941A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
ink film
general formula
group
compound represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2022520915A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2022044941A1 (https=
JP7416227B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2021/030321 external-priority patent/WO2022044941A1/ja
Publication of JPWO2022044941A1 publication Critical patent/JPWO2022044941A1/ja
Publication of JPWO2022044941A5 publication Critical patent/JPWO2022044941A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7416227B2 publication Critical patent/JP7416227B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2022520915A 2020-08-25 2021-08-19 プラスチック積層体をリサイクル原料に再生するために用いるインキ洗浄剤、インキ膜剥離方法、及び剥離したインキ膜の分離回収方法 Active JP7416227B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020141783 2020-08-25
JP2020141783 2020-08-25
JP2020177226 2020-10-22
JP2020177226 2020-10-22
PCT/JP2021/030321 WO2022044941A1 (ja) 2020-08-25 2021-08-19 プラスチック積層体をリサイクル原料に再生するために用いるインキ洗浄剤、インキ膜剥離方法、及び剥離したインキ膜の分離回収方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2022044941A1 JPWO2022044941A1 (https=) 2022-03-03
JPWO2022044941A5 true JPWO2022044941A5 (https=) 2022-08-05
JP7416227B2 JP7416227B2 (ja) 2024-01-17

Family

ID=80355154

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022520915A Active JP7416227B2 (ja) 2020-08-25 2021-08-19 プラスチック積層体をリサイクル原料に再生するために用いるインキ洗浄剤、インキ膜剥離方法、及び剥離したインキ膜の分離回収方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20230295539A1 (https=)
EP (1) EP4205935A4 (https=)
JP (1) JP7416227B2 (https=)
WO (1) WO2022044941A1 (https=)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7215625B1 (ja) 2022-05-24 2023-01-31 東洋インキScホールディングス株式会社 再生プラスチック製造方法および当該製造方法で製造されてなる再生プラスチック
JP7448756B2 (ja) * 2022-06-01 2024-03-13 artience株式会社 再生ポリエチレンの製造方法
JP7318775B1 (ja) 2022-06-30 2023-08-01 東洋インキScホールディングス株式会社 再生プラスチック製造方法
JP7284903B1 (ja) 2022-07-01 2023-06-01 東洋インキScホールディングス株式会社 積層体の分離回収方法
JP7284904B1 (ja) 2022-07-01 2023-06-01 東洋インキScホールディングス株式会社 積層体の分離回収方法
ES2978361A1 (es) 2023-02-06 2024-09-11 Cadel Recycling Lab S L Procedimiento para la separacion de recubrimientos siliconados de film plastico
JP7292543B1 (ja) 2023-02-07 2023-06-16 大日精化工業株式会社 ラミネートフィルムからインキ層を脱離させる方法
JP7666768B1 (ja) * 2023-08-01 2025-04-22 Dic株式会社 プラスチックフィルムの分離回収方法、及び再生プラスチックペレットの製造方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2949270B2 (ja) * 1994-09-28 1999-09-13 シヤチハタ工業株式会社 インキ消し液及びそれによる拭き取り方法
JPH08123043A (ja) 1994-10-27 1996-05-17 Sumitomo Chem Co Ltd フォトレジスト用剥離液
JPH08245989A (ja) 1995-03-10 1996-09-24 Toho Chem Ind Co Ltd 洗浄剤組成物
JPH0987668A (ja) 1995-09-27 1997-03-31 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 洗浄剤組成物、及びこれの再処理方法
JP2938840B2 (ja) 1997-02-04 1999-08-25 花王株式会社 鋼板用アルカリ洗浄剤組成物
JP2000127419A (ja) * 1998-10-23 2000-05-09 Seiko Epson Corp インクジェット記録ヘッド用ノズル洗浄液および洗浄方法
JP3776264B2 (ja) 1999-07-21 2006-05-17 大日精化工業株式会社 脱離性インキ組成物及び該インキ組成物を印刷物から脱離する方法
JP2001350411A (ja) * 2000-06-05 2001-12-21 Fuji Seal Inc 熱収縮性ラベルからのインキ層の除去方法
JP4160309B2 (ja) * 2002-02-27 2008-10-01 日華化学株式会社 磁気カードの剥離洗浄法
JP2005046770A (ja) * 2003-07-30 2005-02-24 Ohashi Kagaku Kogyo Kk 塗膜剥離方法、プラスチック成形品のリサイクル方法およびこれらの方法に使用する剥離液
JP2006083351A (ja) 2004-09-17 2006-03-30 Toyota Motor Corp 水性塗料用洗浄液およびその利用
KR20110008210A (ko) 2008-05-09 2011-01-26 로디아 오퍼레이션스 그린 용매를 포함하는 세정 조성물 및 사용 방법
JP5788258B2 (ja) * 2011-07-29 2015-09-30 王子ホールディングス株式会社 脱墨パルプの製造方法
ES2427019B2 (es) * 2012-03-26 2014-05-09 Universidad De Alicante Procedimiento para la eliminación de tinta impresa en film de plástico
CA2871633C (en) * 2012-04-24 2020-03-24 Stepan Company Aqueous hard surface cleaners based on terpenes and fatty acid derivatives
DE102012208219A1 (de) * 2012-05-16 2013-11-21 Leibniz-Institut Für Polymerforschung Dresden E.V. Verfahren zur reinigung von partikeln aus einem altpapierrecyclingprozess
JP6374740B2 (ja) * 2014-09-19 2018-08-15 サカタインクス株式会社 洗浄液および洗浄方法
EP3259079A4 (en) * 2015-02-21 2018-09-26 Geo-tech Polymers LLC Coating removal from polyethylene terephthalate thermal printer film
JP6607763B2 (ja) * 2015-10-30 2019-11-20 ライオン株式会社 衣料用液体洗浄剤
ES3033297T3 (en) 2018-09-25 2025-08-01 Dainippon Ink & Chemicals Separation/recovery method for laminated film
WO2021230032A1 (ja) * 2020-05-15 2021-11-18 Dic株式会社 プラスチック積層体をリサイクル原料に再生するために用いるインキ洗浄剤、インキ膜剥離/除去方法、及び剥離又は除去されたインキ膜の分離回収方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2022044941A5 (https=)
JP2006503972A5 (https=)
TWI288777B (en) Detergent composition
KR101710171B1 (ko) 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 박리방법
JP2004536910A5 (https=)
WO2005043250B1 (en) Process for the use of bis-choline and tris-choline in the cleaning of quartz-coated polysilicon and other materials
TW200736857A (en) Chemical rinse composition for removing resist stripper
WO2012157696A1 (ja) 感光性シロキサン樹脂組成物
CA2544198A1 (en) Alkaline, post plasma etch/ash residue removers and photoresist stripping compositions containing metal-halide corrosion inhibitors
WO2004107056B1 (en) Compositions suitable for removing photoresist, photoresist byproducts and etching residue, and use thereof
CN106062638B (zh) 回收废光刻胶剥离剂的方法
WO2009044668A1 (ja) 感放射線性組成物
JP2009096177A5 (https=)
JP2008286881A5 (https=)
TWI564679B (zh) 用於移除光阻的剝離劑組成物及使用其的光阻剝離方法
JP2007264611A5 (https=)
JP2013084680A (ja) 透明導電性薄膜積層体のエッチング液
JP2009155708A5 (https=)
WO2005040931A1 (ja) フォトレジスト剥離用組成物及び剥離方法
CN104662202A (zh) 用于去除和防止金属线表面形成氧化物的组合物
JP2006152303A5 (https=)
TW201732914A (zh) 半導體元件用處理液的保管方法、處理液收容器
JP5678616B2 (ja) レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法
TW200705121A (en) Developing liquid composition, manufacturing method thereof and method for resist pattern
TW200518140A (en) Driving electrolyte and electrolytic capacitor using the same