JP5678616B2 - レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 - Google Patents
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Description
[4]環状アミンが1,4−ビス(2−アミノエチル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)−1,4−ピペラジンジエタンアミンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
具体的な一般式(1)で示される化合物としては、例えば1,4−ビス(2−アミノエチル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)−1,4−ピペラジンジエタンアミンが挙げられ、単独で使用しても混合して使用しても良い。これらの環状アミンは1,2−ジクロロエタンとアンモニアから製造されるトリエチレンテトラミン又はテトラエチレンペンタミン等に分離困難なアミンとして含有されていることから、この方法で製造して市販されているトリエチレンテトラミン又はテトラエチレンペンタミンを用いても何ら差し支えない。
EDA:エチレンジアミン、
AEEA:アミノエチルエタノールアミン、
DETA:ジエチレントリアミン、
PMDETA:N,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、
BAEP:1,4−ビス(2−アミノエチル)ピペラジン、
AEPDEA:N−(2−アミノエチル)−1,4−ピペラジンジエタンアミン、
TETA:BAEPを含有するトリエチレンテトラミン(市販品:東ソー製造、B
AEPを30重量%含有)、
TEPA:AEPDEAを含有するテトラエチレンペンタミン(市販品:東ソー製
造、AEPDEAを24重量%含有)、
EHA:オクチル酸(2−エチルヘキサン酸)、
DMSO:ジメチルスルホキシド、
NMP:N−メチル−2−メチルピロリドン、
BDG:ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
DMAc:ジメチルアセトアミド。
○:剥離性良好(30秒以内に除去可能)、
△:30秒間処理後、一部残存物あり、
×:30秒間処理後、大部分残存していた。
シリコン基板上に銅が成膜された基板、及びシリコン基板上にアルミが成膜された基板を用い、パターニングされたポジ型フォトレジストをマスクとして、そのエッチングを行った。すなわち、これらの基板を表1に示す剥離剤に30℃で30秒間、若しくは15秒間浸漬し、その後、水洗いし、乾燥した。基板上のレジストの有無を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡で観察して、レジストの剥離性を評価した。また、これらの基板を表1に示す剥離剤に50℃で30分間浸漬し、エッチング速度を測定して、銅、アルミの腐食を評価した。
オクチル酸、環状アミンを用いずエチレンアミンを単独使用した比較例3は、銅、アルミのエッチング速度が大きかった。
Claims (8)
- n−オクチル酸、メチルヘプタン酸、ジメチルヘキサン酸、エチルヘキサン酸、トリメチルペンタン酸、エチルメチルペンタン酸、プロピルペンタン酸、テトラメチルブタン酸、ジエチルブタン酸、エチルジメチルブタン酸のいずれかのオクチル酸、非環状エチレンアミン及び環状アミンを含むレジスト剥離剤。
- 非環状エチレンアミンが、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、アミノエチルエタノールアミン、N,N−ジメチルアミノエチルエタノールアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、及びN,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載のレジスト剥離剤。
- 環状アミンが1,4−ビス(2−アミノエチル)ピペラジン、N−(2−アミノエチル)−1,4−ピペラジンジエタンアミンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- レジスト剥離剤中の非環状エチレンアミンの量が0.1重量%以上80重量%以下の範囲であり、かつオクチル酸の量が0.1重量%以上30重量%以下の範囲であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- さらに水及び/又は水溶性有機溶媒を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- さらに水溶性有機溶媒として、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−プロピル−2−ピロリドン、N−ヒドロキシエチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する請求項1〜6のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のレジスト剥離剤を用いて銅配線用レジスト又はアルミ配線用レジストを剥離することを特徴とするレジスト剥離方法。
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