JP5533383B2 - レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法 - Google Patents
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Description
本発明のレジスト剥離剤は、エチレンアミンとオクチル酸を含む。
EDA:エチレンジアミン、
AEEA:アミノエチルエタノールアミン、
DETA:ジエチレントリアミン、
AEP:N−アミノエチルピペラジン、
PMDETA:N,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン、
EHA:オクチル酸(2−エチルヘキサン酸)、
AA:酢酸、
DMSO:ジメチルスルホキシド、
NMP:N−メチル−2−ピロリドン、
BDG:ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド、
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド。
○:剥離性良好(30秒以内に除去可能)、
△:30秒間処理後、一部残存物あり、
×:30秒間処理後、大部分残存していた。
シリコン基板上に銅が成膜された基板、及びシリコン基板上にアルミが成膜された基板を用い、パターニングされたポジ型フォトレジストをマスクとして、そのエッチングを行った。すなわち、これらの基板を表1に示す剥離剤に30℃で30秒間(レジスト剥離性○、△の場合)、15秒間(レジスト剥離性◎の場合)浸漬し、その後、水洗いし、乾燥した。基板上のレジストの有無を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡で観察して、レジストの剥離性を評価した。また、これらの基板を表1に示す剥離剤に50℃で30分間浸漬し、エッチング速度を測定して、銅、アルミの腐食を評価した。
Claims (6)
- オクチル酸とエチレンアミンを含むレジスト剥離剤。
- エチレンアミンが、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、ピペラジン、N−アミノエチルピペラジン、N−ヒドロキシエチルピペラジン、アミノエチルエタノールアミン、N,N−ジメチルアミノエチルエタノールアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、及びN,N,N’,N’’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミンからなる群より選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載のレジスト剥離剤。
- レジスト剥離剤中のエチレンアミンの量が0.1重量%以上80重量%以下の範囲であり、かつオクチル酸の量が0.1重量%以上30重量%以下の範囲であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- さらに水及び/又は水溶性有機溶媒を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- 水溶性有機溶媒が、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N−プロピル−2−ピロリドン、N−ヒドロキシエチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、及びジプロピレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のレジスト剥離剤。
- 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のレジスト剥離剤を用いて銅配線用レジスト又はアルミ配線用レジストを剥離することを特徴とするレジスト剥離方法。
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