JPWO2020175185A1 - 化合物、液晶組成物、硬化物、光学異方体、反射膜 - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、露光によるＨＴＰの変化率に優れる化合物を提供することである。また、本発明の他の課題は、上記化合物を用いた組成物、硬化物、光学異方体、及び反射膜を提供することである。本発明の化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。

Description

本発明は、化合物、液晶組成物、硬化物、光学異方体、及び反射膜に関する。

液晶性を示す化合物（以後、「液晶性化合物」ともいう。）は、種々の用途に適用できる。例えば、液晶性化合物は、位相差膜に代表される光学異方体の製造、又はコレステリック液晶相を固定してなる反射膜の製造に適用される。
一般的に、コレステリック液晶相は、ネマチック液晶にキラル化合物を添加することにより形成される。特許文献１には、液晶性化合物に対する螺旋捻じり力（ＨＴＰ：Helical twisting power）を有するキラル化合物が開示されている。

特開２００４−２５０３４１号公報

一方、近年、一定の処理をすることで任意にＨＴＰを変化させられるキラル化合物が求められている。例えば、紫外線等の光照射による露光によってＨＴＰの強度を大きく変化させるキラル化合物が望まれている。

本発明者らは、特許文献１に記載されたキラル化合物について検討したところ、特許文献１に記載されたキラル化合物は、紫外線等の光照射による露光によって生じるＨＴＰの強度変化の程度（以下、「ＨＴＰの変化率」ともいう）が現在望まれるレベルに達していないことを知見した。

そこで、本発明は、露光によるＨＴＰの変化率に優れる化合物を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記化合物を用いた液晶組成物、硬化物、光学異方体、及び反射膜を提供することを課題とする。

本発明者らは、後述する一般式（１）で表される化合物によれば上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を解決することができることを見出した。

〔１〕 後述する一般式（１）で表される化合物。
〔２〕 上記一般式（１）中、Ｘ¹及びＸ²が、それぞれ独立に、一般式（２）で表される置換基を表すか、又は、Ｘ³及びＸ⁴が、それぞれ独立に、一般式（２）で表される置換基を表す、〔１〕に記載の化合物。
〔３〕 上記一般式（１）中、Ｘ³及びＸ⁴が、それぞれ独立に、一般式（２）で表される置換基を表す、〔１〕又は〔２〕に記載の化合物。
〔４〕 上記一般式（１）中、Ｘ¹及びＸ²が、それぞれ独立に、一般式（２）で表される置換基を表す、〔１〕又は〔２〕に記載の化合物。
〔５〕 上記一般式（２）中、Ａ¹が、芳香族炭化水素環基を表す、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の化合物。
〔６〕 上記一般式（２）中、ｍが１又は２を表す、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の化合物。
〔７〕 上記一般式（１）中、Ｘ⁵及びＸ⁶が、それぞれ独立に、後述する一般式（３）で表される置換基を表す、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の化合物。
〔８〕 上記一般式（２）中、−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹で表される部位と、＊−で表される結合位置とが、上記一般式（２）中の−ＣＨ＝ＣＨ−においてシス型に配置されている、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の化合物。
〔９〕 〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の化合物と、液晶性化合物と、を含む、液晶組成物。
〔１０〕 上記液晶性化合物が、２以上の重合性基を含む、〔９〕に記載の液晶組成物。
〔１１〕 〔９〕又は〔１０〕に記載の液晶組成物を硬化してなる硬化物。
〔１２〕 〔９〕又は〔１０〕に記載の液晶組成物を硬化してなる光学異方体。
〔１３〕 〔９〕又は〔１０〕に記載の液晶組成物を硬化してなる反射膜。

本発明によれば、露光によるＨＴＰの変化率に優れる化合物を提供できる。
また、本発明によれば、上記化合物を用いた液晶組成物、硬化物、光学異方体、及び反射膜を提供できる。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に制限されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートの両方を表す表記である。

本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基と共に置換基を有する基をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本明細書において、単に置換基という場合、置換基としては、例えば、下記置換基Ｔが挙げられる。

（置換基Ｔ）
置換基Ｔとしては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等）、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基及びアニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、及び重合性基を含む基（例えば、好適な具体例として、以下の一般式（Ｔ）で表される基等）等が挙げられる。

一般式（Ｔ）：＊−Ｌ_T−Ｐ_T
一般式（Ｔ）中、Ｌ_Tは、単結合又は２価の連結基を表す。Ｐ_Tは、後述する一般式（Ｐ−１）〜（Ｐ−２０）で表される重合性基を表す。
Ｌ_Tで表される２価の連結基としては、特に制限されないが、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましく、酸素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基がより好ましく、酸素原子を含んでいてもよい炭素数１〜６のアルキレン基が更に好ましい。

なお、以下に示す一般式（Ｐ−１）〜（Ｐ−２０）において、＊は、結合位置を表す。また、Ｒａは、水素原子又はメチル基を表す。また、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を表す。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、置換基中の水素原子の部分が、更に、上記いずれかの置換基で置換されていてもよい。

本明細書において表記される二価の基の結合方向は、特に断らない限り制限されない。例えば、「Ｌ−Ｍ−Ｎ」なる一般式で表される化合物中の、Ｍが−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＮ）＝ＣＨ−である場合、Ｌ側に結合している位置を＊１、Ｎ側に結合している位置を＊２とすると、Ｍは、＊１−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＮ）＝ＣＨ−＊２であってもよく、＊１−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）−ＣＯＯ−＊２であってもよい。また、例えば、Ｍが−ＣＯＯ−である場合、Ｌ側に結合している位置を＊１、Ｎ側に結合している位置を＊２とすると、Ｍは、＊１−ＣＯＯ−＊２であってもよく、＊１−ＯＣＯ−＊２であってもよい。

［一般式（１）で表される化合物］
一般式（１）で表される化合物（以下、「特定化合物」ともいう。）の特徴点として、Ｘ¹〜Ｘ⁴のうち少なくとも一つが、後述する一般式（２）で表される置換基である点が挙げられる。言い換えると、特定化合物は、後述する一般式（２）で表される置換基を含むことにより、分子中に、一般式（１）中のビナフチル骨格（なお、本明細書において「ビナフチル骨格」とは、後述する一般式（１）中のＸ¹〜Ｘ⁶以外の構造を意図する。）と一般式（２）中の「−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹」で表される基とが一般式（２）中の「−ＣＨ＝ＣＨ−」を介して結合した構造部位を含む。この構造部位は、紫外線等のエネルギー照射を受けると光異性化して構造変化を生じ得る。特定化合物は、光異性化を生じ得る上記構造部位が不斉中心であるビナフチル骨格に直接結合する形で存在するため、光異性化による構造変化が大きく、且つ、光異性化によってビナフチル骨格部位の二面角を変化させ易く、この結果として、優れたＨＴＰ変化率が達成されていると推測される。なお、例えば、特定化合物が、一般式（１）中のビナフチル骨格と一般式（２）中の「−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹」で表される基とが一般式（２）中の「−ＣＨ＝ＣＨ−」においてシス型に配置されたシス型構造を有する場合、特定化合物は、紫外線等のエネルギー照射を受けるとトランス型構造に光異性化し得る。

なお、本明細書中、「ビナフチル骨格」とは、上述したとおり、後述する一般式（１）中のＸ¹〜Ｘ⁶以外の構造（以下に示す構造部位）を意図する。つまり、後述する一般式（１−１）及び一般式（１−２）中のＸ¹〜Ｘ⁶以外の構造部位を総称したものに該当する。

以下、特定化合物について詳述する。

特定化合物は、一般式（１）で表される化合物である。

一般式（１）中、実線と破線が平行している部分は、一重結合又は二重結合を表す。例えば、一般式（１）で表される化合物は、実線と破線とが平行している部分が一重結合の場合には、下記一般式（１−１）で表される化合物に該当し、実線と破線とが平行している部分が二重結合の場合には、下記一般式（１−２）で表される化合物に該当する。
なかでも、特定化合物は一般式（１−２）で表される化合物であることが好ましい。
なお、一般式（１−１）及び一般式（１−２）中のＸ¹〜Ｘ⁶は、一般式（１）中のＸ¹〜Ｘ⁶と、それぞれ同義である。

一般式（１）中、Ｘ¹〜Ｘ⁶は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。
Ｘ¹〜Ｘ⁶で表される置換基としては特に制限されず、例えば、上述した置換基Ｔとして例示された基が挙げられる。但し、Ｘ¹〜Ｘ⁴のうち少なくとも一つは、下記一般式（２）で表される置換基を表す。

＊−ＣＨ＝ＣＨ−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹ （２）
一般式（２）中、Ａ¹及びＡ²は、それぞれ独立に、炭化水素環基又は複素環基を表す。
Ｒ¹は、水素原子又は置換基を表す。Ｚ¹は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＲ^A−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｓ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＣＦ₂Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＮ）＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡ＣＣＯＯ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｒ^Aは、水素原子又はアルキル基を表す。ｍは、０〜２の整数を表す。＊は、一般式（１）中のビナフチル骨格との結合位置を表す。なお、ｍが２である場合、複数存在するＺ¹同士、及び複数存在するＡ²同士は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、一般式（１）中、一般式（２）で表される置換基が複数存在する場合、複数存在する一般式（２）で表される置換基は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。

なお、一般式（２）において、「−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹」で表される基と「−＊」で表される結合位置との位置関係は特に制限されず、「−ＣＨ＝ＣＨ−」においてトランス型に配置（「−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹」で表される基と「−＊」で表される結合位置とが、二重結合に対して反対側に配置）されていてもよいし、シス型に配置（「−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹」で表される基と「−＊」で表される結合位置とが、二重結合に対して同じ側に配置）されていてもよい。

但し、特定化合物は、下記条件（Ａ）〜（Ｃ）をいずれも満たす。
条件（Ａ）：一般式（２）中、Ｒ¹が−ＮＲ^BＲ^Cで表される置換基である場合、Ｒ^B及びＲ^Cの少なくとも一方が、水素原子又はアルキル基を表す。
条件（Ｂ）：Ｘ¹〜Ｘ⁴のうちの二つ以上が一般式（２）で表される置換基を表す場合、複数存在するＲ¹同士は、互いに連結して環を形成せず、また、複数存在するＡ¹同士、及び複数存在するＡ²同士は、互いに連結して環を形成しない。
条件（Ｃ）：Ｘ³及びＸ⁴のうち少なくとも一方が一般式（２）で表される置換基を表す場合、Ｘ¹及びＸ²は互いに連結して環を形成する。

特定化合物が上記条件（Ｃ）を満たす場合において、Ｘ¹及びＸ²が互いに連結して形成する環としては特に制限されず、芳香環及び非芳香環のいずれでもよいが、非芳香環であることが好ましい。
Ｘ¹及びＸ²が互いに連結して環を形成する場合、Ｘ¹及びＸ²が互いに連結する基としては、例えば、＊−Ｌ^S1−２価の芳香族炭化水素環基−Ｌ^S2−＊、又は＊−Ｌ^S3−２価の脂肪族炭化水素基−Ｌ^S4−＊が好ましい。なお、＊は、一般式（１）中のビナフチル骨格との結合位置を表す。
上記芳香族炭化水素環基としては特に制限されず、後述する一般式（２）中のＡ¹で表される炭化水素環基の一例として挙げた芳香族炭化水素環基と同様のものが挙げられる。なかでも、ベンゼン環基が好ましい。
上記脂肪族炭化水素基としては特に制限されず、例えば、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。

Ｌ^S1及びＬ^S2は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｌ^S1及びＬ^S2で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、２価の脂肪族炭化水素基（直鎖状、分岐鎖状、又は環状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が挙げられる。）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ^D−、−ＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、及びこれらを２種以上組み合わせた基（２種以上組み合わせた基としては、例えば、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ₂Ｏ−、及び−ＣＯＯ−等が挙げられる。）が挙げられる。ここで、Ｒ^Dは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。
なお、上記２価の連結基中の水素原子は、ハロゲン原子等の他の置換基で置換されていてもよい。
Ｌ^S1及びＬ^S2としては、単結合、２価の脂肪族炭化水素基（直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が挙げられる。）、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＨ₂Ｏ−、又は−ＣＯＯ−が好ましい。

Ｌ^S3及びＬ^S4は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｌ^S3及びＬ^S4で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ^D−、−ＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、及びこれらを２種以上組み合わせた基（２種以上組み合わせた基としては、例えば、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−Ｓ−、及び−ＣＯＯ−等が挙げられる。）が挙げられる。ここで、Ｒ^Dは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。
なお、上記２価の連結基中の水素原子は、ハロゲン原子等の他の置換基で置換されていてもよい。
Ｌ^S3及びＬ^S4としては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、又は−ＣＯＯ−が好ましい。

以下において、一般式（１）について詳述する。

一般式（１）中、Ｘ¹〜Ｘ⁶で表される置換基としては、なかでも、上記一般式（２）で表される置換基、下記一般式（３）で表される置換基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アルキル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、炭化水素環基、又は複素環基が好ましく、上記一般式（２）で表される置換基、下記一般式（３）で表される置換基、又はハロゲン原子がより好ましい。

＊−Ｚ²−（Ａ³−Ｚ³）_n−Ｒ² （３）
一般式（３）中、Ａ³は、炭化水素環基又は複素環基を表す。Ｒ²は、置換基を表す。Ｚ²及びＺ³は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＬ_A−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｓ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＣＦ₂Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＮ）＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｎ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡ＣＣＯＯ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ_Aは、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、０〜２の整数を表す。＊は、一般式（１）中のビナフチル骨格との結合位置を表す。なお、ｎが２である場合、複数存在するＡ³同士、及び複数存在するＺ³同士は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。

一般式（１）においては、なかでも、露光によりＨＴＰを変化させる前のＨＴＰ（以後、「初期ＨＴＰ」ともいう）がより優れる点、及び／又はＨＴＰの変化率がより優れる点で、Ｘ¹及びＸ²がいずれも上記一般式（２）で表される置換基を表すか、又は、Ｘ³及びＸ⁴がいずれも上記一般式（２）で表される置換基を表すことが好ましく（なお、一般式（１）において、Ｘ³及びＸ⁴がいずれも上記一般式（２）で表される置換基を表す場合、上述した条件（Ｃ）に記載したとおり、Ｘ¹及びＸ²は互いに連結して環を形成する。）、Ｘ¹及びＸ²がいずれも上記一般式（２）で表される置換基を表すことがより好ましい。

また、一般式（１）において、Ｘ⁵及びＸ⁶が置換基を表す場合、置換基としては、上記一般式（３）で表される置換基が好ましい。初期ＨＴＰがより優れる点で、なかでも、Ｘ⁵及びＸ⁶がいずれも上記一般式（３）で表される置換基を表すことがより好ましい。

次に、以下において、上述した一般式（２）について詳述する。

一般式（２）中、Ａ¹及びＡ²は、それぞれ独立に、炭化水素環基又は複素環基を表す。
上記炭化水素環基としては、例えば、脂肪族炭化水素環基及び芳香族炭化水素環基が挙げられる。炭化水素環基を構成する炭化水素環の環員数は、特に制限されないが、５〜１０が好ましい。
脂肪族炭化水素環基を構成する脂肪族炭化水素環としては、単環構造及び多環構造のいずれであってもよい。なお、脂肪族炭化水素環が多環構造の場合、多環構造に含まれる環の少なくとも１つが５員環以上であることが好ましい。
上記脂肪族炭化水素環の炭素数は特に制限されないが、５〜１０が好ましく、５又は６がより好ましい。脂肪族炭化水素環の具体例としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、ノルボルネン環、及びアダマンタン環が挙げられる。なかでも、シクロペンタン環又はシクロヘキサン環が好ましい。
芳香族炭化水素環基を構成する芳香族炭化水素環としては、単環構造及び多環構造のいずれであってもよい。なお、芳香族炭化水素環が多環構造の場合、多環構造に含まれる環の少なくとも１つが５員環以上であることが好ましい。
上記芳香族炭化水素環の炭素数は特に制限されないが、６〜１８が好ましく、６〜１０がより好ましい。芳香族炭化水素環の具体例としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、及びフルオレン環が挙げられる。なかでも、ベンゼン環又はナフタレン環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。

上記複素環基としては、脂肪族複素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。複素環基を構成する複素環の環員数は特に制限されないが、５〜１０の場合が多い。
脂肪族複素環基を構成する脂肪族複素環としては、単環構造及び多環構造のいずれであってもよい。なお、脂肪族複素環が多環構造の場合、多環構造に含まれる環の少なくとも１つが５員環以上であることが好ましい。
上記脂肪族複素環が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子が挙げられる。上記脂肪族複素環の環員数は特に制限されないが、５〜１０が好ましい。上記脂肪族複素環の具体例としては、例えば、オキソラン環、オキサン環、ピぺリジン環、及びピペラジン環が挙げられる。なお、脂肪族複素環としては、環を構成する−ＣＨ₂−が−ＣＯ−で置換されたものであってもよく、例えば、フタルイミド環等が挙げられる。
芳香族複素環基を構成する芳香族複素環としては、単環構造及び多環構造のいずれであってもよい。なお、芳香族複素環が多環構造の場合、多環構造に含まれる環の少なくとも１つが５員環以上であることが好ましい。
上記芳香族複素環基が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子が挙げられる。芳香族複素環の環員数は特に制限されないが、５〜１０が好ましい。上記芳香族複素環の具体例としては、例えば、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、チオフェン環、チアゾール環、及びイミダゾール環が挙げられる。

なお、Ａ^１及びＡ²で表される炭化水素環基及び複素環基は、上述した炭化水素環及び複素環の環上の水素原子が２つ除かれることにより構成される。
Ａ¹及びＡ²で表される炭化水素環基及び複素環基としては、更に置換基を有していてもよい。置換基としては特に制限されないが、例えば、上述した置換基Ｔとして例示された基が挙げられる。

一般式（２）中、Ａ¹としては、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基が好ましく、芳香族炭化水素環基がより好ましく、ベンゼン環基又はナフタレン環基が更に好ましく、ベンゼン環基が特に好ましい。Ａ^１が芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基である場合、特定化合物は、一般式（１）中のビナフチル骨格を含む共役長がより長くなり、この結果として、長波長の光（特に波長３６５ｎｍの光）の吸収効率が向上し、露光された際に光異性化が生じやすくなり、ＨＴＰ変化率により優れる。
なお、Ａ¹で表される芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては特に制限されないが、例えば、上述した置換基Ｔとして例示された基が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ¹は、水素原子又は置換基を表す。
Ｒ¹で表される置換基としては特に制限されず、例えば、上述した置換基Ｔとして例示された基が挙げられる。但し、上述したとおり、一般式（２）において、Ｒ¹が−ＮＲ^BＲ^Cで表される置換基である場合、Ｒ^B及びＲ^Cの少なくとも一方は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^B及びＲ^Cで表される上記アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずであってもよい。また、その炭素数としては、例えば１〜１０であり、１〜６が好ましい。なお、Ｒ^B及びＲ^Cが、各々独立にアルキル基以外のその他の置換基を表す場合、上記置換基としては、例えば、上述した置換基Ｔとして例示された基が挙げられる。

Ｒ¹で表される置換基としては、なかでも、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アルコキシ基、アルキル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、炭化水素環基、複素環基、−ＮＲ^BＲ^C（Ｒ^B及びＲ^Cは、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、好適態様については既述のとおりである。）、又は上述した一般式（Ｔ）で表される基が好ましい。
なお、Ｒ¹で表される置換基としての炭化水素環基及び複素環基の定義は、上述したＡ¹で説明した炭化水素環基及び複素環基の定義と同じである。

一般式（２）中、Ｚ¹は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＲ^A−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｓ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＣＦ₂Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＮ）＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡ＣＣＯＯ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。
Ｒ^Aは、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒ^Aで表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。Ｒ^Aで表されるアルキル基の炭素数としては、例えば、１〜１０が挙げられ、１〜６が好ましい。

Ｚ¹としては、なかでも、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−がより好ましい。

一般式（２）中、ｍは、０〜２の整数を表す。
ｍとしては、なかでも、ｍが１又は２が好ましい。ｍが１又は２である場合、特定化合物と液晶性化合物との相互作用がより優れることから、初期ＨＴＰがより一層優れる。

一般式（２）中、＊は、一般式（１）中のビナフチル骨格との結合位置を表す。

なお、一般式（２）においてｍが２である場合、複数存在するＺ¹同士、及び複数存在するＡ²同士は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。
また、一般式（１）中、一般式（２）で表される置換基が複数存在する場合、複数存在する一般式（２）で表される置換基は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。

また、ＨＴＰの変化率がより優れる点で、一般式（２）において、「−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹」で表される基と「−＊」で表される結合位置との位置関係がシス型に配置されていることが好ましい。

次に、以下において、上述した一般式（３）について詳述する。

一般式（３）中、Ａ³は、炭化水素環基又は複素環基を表す。Ａ³で表される炭化水素環基又は複素環基としては、一般式（１）中のＡ¹で表される炭化水素環基又は複素環基と同義であり、好適態様も同じである。

一般式（３）中、Ｒ²は、置換基を表す。
Ｒ²で表される置換基としては特に制限されず、例えば、上述した置換基Ｔとして例示された基が挙げられる。なかでも、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アルコキシ基、アルキル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、炭化水素環基、又は複素環基が好ましい。
なお、Ｒ²で表される置換基としての炭化水素環基及び複素環基の定義は、上述したＡ¹で説明した炭化水素環基及び複素環基の定義と同じである。

一般式（３）中、Ｚ²及びＺ³は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＬ_A−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｓ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＣＦ₂Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＮ）＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｎ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡ＣＣＯＯ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。
Ｌ_Aは、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｌ_Aで表されるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。Ｌ_Aで表されるアルキル基の炭素数としては、例えば、１〜１０が挙げられ、１〜６が好ましい。

Ｚ²及びＺ³としては、なかでも、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−がより好ましく、単結合、又は−ＣＨ＝ＣＨが更に好ましい。

ｎは、０〜２の整数を表す。
ｎとしては、なかでも１又は２が好ましい。

＊は、一般式（１）中のビナフチル骨格との結合位置を表す。

なお、ｎが２である場合、複数存在するＡ³同士、及び複数存在するＺ³同士は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。
また、一般式（１）中、一般式（３）で表される置換基が複数存在する場合、複数存在する一般式（３）で表される置換基は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。

特定化合物としては、初期ＨＴＰがより優れる点、及び／又はＨＴＰの変化率がより優れる点で、なかでも、下記一般式（１−１Ｘ）で表される化合物か、又は、下記一般式（１−１Ｙ）で表される化合物が好ましい。

一般式（１−１Ｘ）中、Ｘ^1X及びＸ^2Xは、それぞれ独立に、上述した一般式（２）で表される置換基を表す。
Ｘ^5X及びＸ^6Xは、それぞれ独立に、水素原子又は上述した一般式（３）で表される置換基を表し、いずれも上述した一般式（３）で表される置換基を表すことが好ましい。

一般式（１−１Ｙ）中、Ｘ^3Y及びＸ^4Yは、それぞれ独立に、上述した一般式（２）で表される置換基を表す。
Ｘ^5Y及びＸ^6Yは、それぞれ独立に、水素原子又は上述した一般式（３）で表される置換基を表し、いずれも上述した一般式（３）で表される置換基を表すことが好ましい。
Ｔは、連結基を表す。Ｔで表される連結基としては、＊−Ｌ^S1−２価の芳香族炭化水素環基−Ｌ^S2−＊、又は＊−Ｌ^S3−２価の脂肪族炭化水素基−Ｌ^S4−＊が好ましい。なお、＊は、一般式（１−１Ｘ）又は一般式（１−１Ｙ）中のビナフチル骨格との結合位置を表す。

上記芳香族炭化水素環基としては特に制限されず、後述する一般式（２）中のＡ¹で表される炭化水素環基の一例として挙げた芳香族炭化水素環基と同様のものが挙げられる。なかでも、ベンゼン環基が好ましい。
上記脂肪族炭化水素基としては特に制限されず、例えば、炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。

Ｌ^S1及びＬ^S2は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｌ^S1及びＬ^S2で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、２価の脂肪族炭化水素基（直鎖状、分岐鎖状、又は環状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が挙げられる。）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ^D−、−ＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、及びこれらを２種以上組み合わせた基（２種以上組み合わせた基としては、例えば、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＨ₂Ｏ−、及び−ＣＯＯ−等が挙げられる。）が挙げられる。ここで、Ｒ^Dは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。
なお、上記２価の連結基中の水素原子は、ハロゲン原子等の他の置換基で置換されていてもよい。
Ｌ^S1及びＬ^S2としては、単結合、２価の脂肪族炭化水素基（直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が挙げられる。）、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＨ₂Ｏ−、又は−ＣＯＯ−が好ましい。

Ｌ^S3及びＬ^S4は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｌ^S3及びＬ^S4で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ^D−、−ＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、及びこれらを２種以上組み合わせた基（２種以上組み合わせた基としては、例えば、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−Ｓ−、及び−ＣＯＯ−等が挙げられる。）が挙げられる。ここで、Ｒ^Dは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。
なお、上記２価の連結基中の水素原子は、ハロゲン原子等の他の置換基で置換されていてもよい。
Ｌ^S3及びＬ^S4としては、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、又は−ＣＯＯ−が好ましい。

特定化合物は、公知の方法で合成できる。
なお、特定化合物は、Ｒ体であってもＳ体であってもよく、Ｒ体とＳ体との混合物であってもよい。

以下に、特定化合物の具体例を例示するが、特定化合物はこれに制限されない。

特定化合物は、種々の用途に適用でき、いわゆるキラル化合物として好適に用いられる。例えば、特定化合物と液晶性化合物とを混合して得られる液晶組成物を使用することにより、コレステリック液晶相を形成できる。
以下では、液晶組成物について詳述する。

［液晶組成物］
次に、本発明の液晶組成物（以下、単に「特定液晶組成物」ともいう。）について説明する。
特定液晶組成物は、特定化合物と、液晶性化合物と、を含む。
以下に、特定液晶組成物に必須又は任意で含まれる各種成分について説明する。

〔特定化合物〕
特定液晶組成物は、特定化合物を含む。特定化合物は、上述したとおりである。
特定液晶組成物中での特定化合物の含有量は特に制限されないが、組成物中の液晶性化合物の全質量に対して、１〜２０質量％が好ましく、２〜１５質量％がより好ましく、２〜１０質量％が更に好ましい。
特定液晶組成物は、特定化合物を１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。２種以上使用する場合は、その合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

〔液晶性化合物〕
特定液晶組成物は、液晶性化合物を含む。なお、液晶性化合物は、特定化合物以外の化合物であり、且つ、液晶性を示す化合物を意味する。
また、「化合物が液晶性を示す」とは、温度を変化させたときに、結晶相（低温側）と等方相（高温側）の間に中間相を発現する性質を化合物が有することを意図する。具体的な観察方法としては、メトラートレド社製ホットステージシステムＦＰ９０等で化合物を加熱又は降温しながら、偏光顕微鏡下で観察することで、液晶相に由来する光学性異方性と流動性を確認できる。

液晶性化合物としては、液晶性を有していれば特に制限されず、例えば、棒状ネマチック液晶性化合物等が挙げられる。
棒状ネマチック液晶性化合物としては、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が挙げられる。なお、低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も使用できる。

液晶性化合物は、重合性であっても非重合性であってもよく、重合性であることが好ましい。
液晶性化合物としては、コレステリック液晶相を固定できる点で、１つ以上の重合性基を有する液晶性化合物が好ましく、２つ以上の重合性基を有する液晶性化合物がより好ましく、２つの重合性基を有する液晶性化合物が更に好ましい。

重合性基を有しない棒状液晶性化合物については、様々な文献（例えば、Y. Goto et.al., Mol. Cryst. Liq. Cryst. 1995, Vol. 260, pp.23-28）に記載がある。
一方、重合性棒状液晶性化合物は、重合性基を棒状液晶性化合物に導入することで得られる。重合性基としては、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が挙げられ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基がより好ましい。重合性基は種々の方法で、棒状液晶性化合物の分子中に導入できる。重合性棒状液晶性化合物が有する重合性基の個数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、２が更に好ましい。２種類以上の重合性棒状液晶性化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性棒状液晶性化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。

液晶性化合物としては、下記一般式（ＬＣ）で表される化合物が好ましい。

一般式（ＬＣ）中、Ｐ¹¹及びＰ¹²は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基を表す。ただし、Ｐ¹¹及びＰ¹²の少なくとも一方が重合性基を表す。Ｌ¹¹及びＬ¹²は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ａ¹¹〜Ａ¹⁵は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基を表す。Ｚ¹¹〜Ｚ¹⁴は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。ｍ³及びｍ⁴は、それぞれ独立に、０又は１の整数を表す。

一般式（ＬＣ）中、Ｐ¹¹及びＰ¹²で表される重合性基としては特に制限されないが、好適な具体例として、上述した一般式（Ｐ−１）〜（Ｐ−２０）で表される重合性基が挙げられる。なお、Ｐ¹¹及びＰ¹²で表される重合性基が上述した一般式（Ｐ−１）〜（Ｐ−２０）を表す場合、一般式（Ｐ−１）〜（Ｐ−２０）中の＊は、Ｌ¹¹又はＬ¹²との結合位置を表す。

Ｐ¹¹及びＰ¹²は、少なくともいずれか１つが重合性基を表すことが好ましく、Ｐ¹¹及びＰ¹²がいずれも重合性基を表すことがより好ましい。

一般式（ＬＣ）中、Ｌ¹¹及びＬ¹²で表される２価の連結基としては特に制限されないが、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、及び炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−ＣＯ−、又は−ＣＯＯ−で置換された基からなる群から選択される連結基が挙げられる。Ｌ¹¹及びＬ¹²で表される２価の連結基としては、炭素数１〜２０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基において１つ又は２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−で置換された基が好ましい。

一般式（ＬＣ）中、Ａ¹¹〜Ａ¹⁵は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基を表す。

上記芳香族炭化水素環基の環員数は特に制限されないが、例えば５〜１０である。
芳香族炭化水素環基を構成する芳香族炭化水素環としては、単環構造及び多環構造のいずれであってもよい。
上記芳香族炭化水素環の炭素数は特に制限されないが、６〜１８が好ましく、６〜１０がより好ましい。芳香族炭化水素環の具体例としては、例えば、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、及びフルオレン環が挙げられる。なかでも、ベンゼン環が好ましい。なお、上記芳香族炭化水素環は、環上の水素原子が２つ除かれることにより、芳香族炭化水素環基を構成する。

上記芳香族複素環基の環員数としては、例えば、５〜１０である。
芳香族複素環基を構成する芳香族複素環としては、単環構造及び多環構造のいずれであってもよい。
上記芳香族複素環基が含むヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が挙げられる。芳香族複素環の炭素数は特に制限されないが、５〜１０が好ましい。上記芳香族複素環の具体例としては、例えば、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、チオフェン環、チアゾール環、及びイミダゾール環が挙げられる。なお、上記芳香族複素環は、環上の水素原子が２つ除かれることにより、芳香族複素環基を構成する。
芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の種類は特に制限されず、公知の置換基が挙げられる。例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アシル基、アシルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。上記各基は、更に置換基で置換されていてもよい。例えば、アルキル基中の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい。また、置換基の数は特に制限されず、芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基は１つの置換基を有していてもよいし、複数の置換基を有していてもよい。
なかでも、一般式（ＬＣ）で表される化合物の溶解性がより向上する点で、置換基が、フッ素原子、塩素原子、フルオロアルキル基、アルコキシ基、又はアルキル基であることが好ましく、フルオロアルキル基、アルコキシ基、又はアルキル基であることがより好ましい。
上記フルオロアルキル基及びアルキル基中の炭素数、並びに、アルコキシ基中のアルキル基の炭素数は特に制限されないが、１〜１０が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３が更に好ましく、１が特に好ましい。
なお、フルオロアルキル基とは、アルキル基中の少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された基であり、全ての水素原子がフッ素原子で置換されていることが好ましい（いわゆる、ペルフルオロアルキル基が好ましい）。

Ａ¹¹〜Ａ¹⁵は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環基が好ましく、１位と４位とで結合するフェニレン基がより好ましい。

一般式（ＬＣ）中、Ｚ¹¹〜Ｚ¹⁴で表される２価の連結基としては特に制限されず、例えば、２価の脂肪族炭化水素基（直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、例えば、アルキレン基が挙げられる。それ以外にも、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ¹−、−ＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、及びこれらを２種以上組み合わせた基（２種以上組み合わせた基としては、例えば、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−Ｓ−、及び−ＣＯＯ−等が挙げられる。）が挙げられる。ここで、Ｒ¹は、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。なお、上記２価の連結基中の水素原子は、ハロゲン原子等の他の置換基で置換されていてもよい。
Ｚ¹¹〜Ｚ¹⁴としては、なかでも、−ＣＯＯ−、又は−ＣＨ＝ＣＨ−が好ましい。

一般式（ＬＣ）中、ｍ³及びｍ⁴は、それぞれ独立に、０又は１の整数を表し、０が好ましい。

一般式（ＬＣ）で表される化合物は、公知の方法で合成できる。
以下に、上記一般式（ＬＣ）で表される化合物の具体例を示すが、これに制限されるものではない。

一般式（ＬＣ）で表される化合物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
特定液晶組成物中の液晶性化合物の含有量は、組成物の全質量に対して、５〜９９質量％が好ましく、２５〜９８質量％がより好ましく、７５〜９８質量％が更に好ましい。
特定液晶組成物は、液晶性化合物を１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。２種以上使用する場合は、その合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

〔重合開始剤〕
特定液晶組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。
重合開始剤としては、光重合開始剤及び熱重合開始剤等が挙げられ、なかでも、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、例えば、アルキルフェノン化合物、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、フェナジン化合物、及びオキサジアゾール化合物が挙げられる。アルキルフェノン化合物として、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７等が用いられる。
特定液晶組成物が重合開始剤を含む場合、組成物中での重合開始剤の含有量は特に制限されないが、液晶性化合物の全質量に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、１〜８質量％がより好ましい。
特定液晶組成物は、重合開始剤を１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。２種以上使用する場合は、その合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

〔界面活性剤〕
特定液晶組成物は、安定的又は迅速な液晶相（例えば、ネマチック相、コレステリック相）の形成に寄与する界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、例えば、含フッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、ＷＯ２０１１／１６２２９１号に記載の一般式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される化合物、特開２０１４−１１９６０５号の段落００８２〜００９０に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物、及び特開２０１３−４７２０４号（特許第５７７４５１８号）の段落００２０〜００３１に記載の化合物が挙げられる。これらの化合物は、層の空気界面において、液晶性化合物の分子のチルト角を低減させる、又は、液晶性化合物を実質的に水平配向させることができる。
なお、本明細書で「水平配向」とは、液晶性化合物の分子軸（液晶性化合物が棒状液晶性化合物である場合、液晶性化合物の長軸に該当。）と組成物の層の表面（膜面）が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、膜面とのなす傾斜角が２０度未満の配向を意味するものとする。液晶性化合物が空気界面付近で水平配向する場合、配向欠陥が生じ難いため、可視光領域での透明性が高くなる。一方、液晶性化合物の分子が膜面に対して大きなチルト角で配向すると、例えば、コレステリック相とする場合は、その螺旋軸が膜面法線からずれるため、反射率が低下したり、フィンガープリントパターンが発生し、ヘイズの増大又は回折性を示したりするため好ましくない。
界面活性剤として利用可能な含フッ素（メタ）アクリレート系ポリマーとしては、特開２００７−２７２１８５号の段落００１８〜００４３に記載されるポリマーも挙げられる。
特定液晶組成物が界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は特に制限されないが、液晶性化合物の全質量に対して、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０５〜３質量％がより好ましい。
特定液晶組成物は、界面活性剤を１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。２種以上使用する場合は、その合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

〔溶剤〕
特定液晶組成物は、溶剤を含んでいてもよい。溶剤は、組成物の各成分を溶解できることが好ましい。例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びこれらの混合溶剤などが挙げられる。
特定液晶組成物が溶剤を含む場合、特定液晶組成物中の溶剤の含有量は、組成物の固形分濃度を５〜５０質量％とする量が好ましく、１０〜４０質量％とする量がより好ましい。
なお、固形分とは、組成物中の溶剤以外の成分を意図する。溶剤以外であれば、その性状が液体状の成分であっても固形分とみなす。
特定液晶組成物は、溶剤を１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。２種以上使用する場合は、その合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

上記以外にも、特定液晶組成物は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、安定剤、可塑剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、増粘剤、難燃剤、分散剤、重合性モノマー、並びに、染料及び顔料等の色材等の他の添加剤を含んでいてもよい。

［硬化物］
本発明は、特定液晶組成物を硬化してなる硬化物も含む。

〔硬化方法及び硬化物〕
特定液晶組成物を硬化（重合硬化）する方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、所定の基板と特定液晶組成物とを接触させて、基板上に組成物層を形成する工程Ｘと、組成物層に露光を行う工程Ｙと、組成物層に硬化処理を施す工程Ｚとを有する態様が挙げられる。
本態様によれば、液晶性化合物を配向させた状態で固定化することができ、いわゆる光学異方体、又は、コレステリック液晶相を固定化してなる層を形成できる。
以下、工程Ｘ〜Ｚの手順について詳述する。

工程Ｘは、基板と特定液晶組成物とを接触させて、基板上に組成物層を形成する工程である。使用される基板の種類は特に制限されず、公知の基板（例えば、樹脂基板、ガラス基板、セラミック基板、半導体基板、及び金属基板）が挙げられる。
基板と特定液晶組成物とを接触させる方法は特に制限されず、例えば、基板上に特定液晶組成物を塗布する方法、及び特定液晶組成物中に基板を浸漬する方法が挙げられる。
なお、基板と特定液晶組成物とを接触させた後、必要に応じて、基板上の組成物層から溶剤を除去するために、乾燥処理を実施してもよい。また、液晶性化合物の配向を促し液晶相の状態とするために、加熱処理を実施してもよい。

工程Ｙは、組成物層に対して、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等を用いた露光処理を行う工程である。
特定化合物は、露光処理によって光異性化を生じ、そのＨＴＰに変化が生じることが好ましい。この露光処理において、露光量及び／又は露光波長等を適宜調整することで、ＨＴＰの変化の程度も調整できる。
露光後は、更に、液晶性化合物の配向を促し液晶相の状態とするために、加熱処理を実施してもよい。
ここで得られる液晶相の螺旋ピッチ（ひいては選択反射波長等）は、上述の露光処理において調整されたＨＴＰが反映される。

工程Ｚは、工程Ｙを経た組成物層に硬化処理を施す工程である。
硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、光硬化処理及び熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光硬化処理が好ましい。
硬化処理として光硬化処理を行う場合、特定液晶組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光硬化処理における照射される光の波長は、上述の露光処理に用いられた光の波長とは異なることが好ましく、また、光重合開始剤は、露光処理に用いられた光の波長に感応性を示さないことが好ましい。

上記硬化処理により、コレステリック液晶相を固定化してなる層が形成される。なお、コレステリック液晶相を固定化してなる層は、もはや液晶性を示す必要はない。より具体的には、例えば、コレステリック液晶相を「固定化した」状態は、コレステリック液晶相となっている液晶性化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様である。より具体的には、通常０〜５０℃、より過酷な条件下では−３０〜７０℃の温度範囲において、層に流動性が無く、また外場又は外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。

［光学異方体、反射膜］
特定液晶組成物は、種々の用途に適用できる。例えば、特定液晶組成物を用いて、光学異方体、又は反射膜を形成できる。なお、例えば、液晶性化合物が重合性基を有する場合、硬化処理（光照射処理又は加熱処理等）を特定液晶組成物に施すことにより硬化物が得られ、硬化物は光学異方体又は反射膜に好適に適用できる。
なお、光学異方体とは、光学異方性を有する物質を意図する。
また、反射膜とは、コレステリック液晶相を固定してなる層に相当し、所定の反射帯域の光を反射できる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により制限的に解釈されるべきものではない。

［化合物の合成］
〔化合物ＣＤ−２の合成〕
下記スキームに従って化合物ＣＤ−２を合成した。なお、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を表す。

＜中間体１の合成＞
（Ｓ）−２、２’−ビス(ブロモメチル)−１、１’−ビナフタレン（ダイセル製）５．４０ｇ、及びＰ（ＯＥｔ）_３（富士フイルム和光純薬社製）１０．３ｍＬを１００ｍＬナスフラスコに入れた。得られた混合物を１１０℃に昇温して９時間撹拌した後、得られた粗生成物を酢酸エチル／メタノール（体積比９：１）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液から溶媒を減圧留去することで中間体１を得た（２．８７ｇ、４２％）。

＜ＣＤ−２の合成＞
上記中間体１を０．５１ｇ、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン、富士フイルム和光純薬社製）６ｍＬ、及びp−メトキシベンズアルデヒド（富士フイルム和光純薬社製）０．５６ｍＬを１００ｍＬ三口フラスコに入れた。得られた混合物を０℃に冷却した後、１．３ＭリチウムビストリメチルシリルアミドのＴＨＦ溶液（ＴＣＩ製）５．６ｍＬを滴下した。滴下後の混合物を７０℃で９時間撹拌した後、室温まで降温し、飽和ＮＨ_４Ｃｌ水６０ｍＬ及び酢酸エチル５０ｍＬを加えて有機層を抽出した。得られた溶液から溶媒を減圧留去し、粗生成物にメタノール２０ｍＬ、酢酸エチル２０ｍＬ、及び飽和重層水１００ｍＬを加えて３０秒間撹拌した後、更に水１００ｍＬ及び酢酸エチル１００ｍＬを加えて有機層を抽出した。得られた溶液を飽和食塩水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比４：６）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液から溶媒を減圧留去することでＣＤ−２を得た（１８８ｍｇ、収率４０％）。

¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ-ｄ₆）:δ８．２２（ｄ, ８．７Ｈｚ, ２Ｈ）, ８．１３（ｄ, ８．７Ｈｚ, ２Ｈ）, ８.０４（ｄ, ８．１Ｈｚ, ２Ｈ）, ７．４６（ｄｄｄ, ８．４Ｈｚ, ８．４Ｈｚ, １.２Ｈｚ, ２Ｈ）, ７．３５（ｄ, １６．５Ｈｚ, ２Ｈ）, ７．２６（ｄｄｄ, ８．４Ｈｚ, ８．４Ｈｚ, １．２Ｈｚ, ２Ｈ）, ７．０２（ｄ, ９．０Ｈｚ, ４Ｈ）, ６．９０（ｄ, ８．１Ｈｚ, ４Ｈ）, ６．４３（ｄ, １６．５Ｈｚ, ２Ｈ）, ３．６６（ｓ, ６Ｈ）

〔化合物ＣＤ−１２の合成〕
下記スキームに従って化合物ＣＤ−１２を合成した。

＜中間体３の合成＞
（Ｓ）−１、１’−ビナフトール（関東化学製）２５．００ｇ、酢酸ブチル（富士フイルム和光純薬社製）３８ｍＬ、及びＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、富士フイルム和光純薬社製）３８ｍＬを２Ｌ三口フラスコに入れた。得られた混合物に炭酸カリウム（富士フイルム和光純薬社製）３６．２７ｇを添加した後、ジブロモメタン（富士フイルム和光純薬社製）７．９ｍＬを滴下した。滴下後の混合物を９０℃で７時間撹拌した後、室温まで降温し無機塩をろ別した。ろ液に酢酸エチル７８ｍＬを加え４５℃まで昇温した後、メタノール（富士フイルム和光純薬社製）２５０ｍＬ、及び水５００ｍＬを加え、氷冷しながら３０分間撹拌した。析出した固体をろ別することで中間体３を得た（１６．６ｇ、収率６４％）。

＜中間体４の合成＞
上記中間体３を２．８４ｇ、及びジエチルエーテル（富士フイルム和光純薬社製）１４０ｍＬを５００ｍＬ三口フラスコに入れた。得られた混合物にテトラメチルエチレンジアミン（富士フイルム和光純薬社製）５．２ｍＬを加えた後、１．６Ｍノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（富士フイルム和光純薬社製）２２ｍＬを滴下し、室温で６時間撹拌して反応液を得た。次いで、ヨウ素（富士フイルム和光純薬社製）９．５ｇをジエチルエーテル（富士フイルム和光純薬社製）７５ｍＬに溶かして得られた溶液を、−７８℃に降温した上記反応液に添加した。得られた反応液を室温まで昇温した後、更に１０時間撹拌した。撹拌後、上記反応液中に、二亜硫酸ナトリウム水溶液（二亜硫酸ナトリウム（富士フイルム和光純薬社製）５．７ｇ、水２４ｍＬ）、及び酢酸エチル３０ｍＬを加えた後、有機層を抽出した。得られた溶液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。粗生成物を酢酸エチル（富士フイルム和光純薬社製）１０ｍＬでリスラリー後ろ別することで中間体４を得た（２．２５ｇ、４３％）。

＜ＣＤ−１２の合成＞
上記中間体４を１．００ｇ、ｐ−メトキシフェノール（富士フイルム和光純薬社製）７．３ｍｇ、トリフェニルホスフィン（ＴＣＩ製）７４．６ｍｇ、ＤＭＦ（富士フイルム和光純薬社製）６ｍＬ、及びｐ−メトキシスチレン０．６１ｍＬを１００ｍＬ三口フラスコに入れた。三口フラスコ内を脱酸素処理した後、三口フラスコ内の混合物にトリエチルアミン（富士フイルム和光純薬社製）２．５５ｍＬ、及び酢酸パラジウム（ＩＩ）（富士フイルム和光純薬社製）４１．６ｍｇを加え、８０℃で４時間撹拌した。撹拌終了後、得られた反応液を室温まで降温し、酢酸エチル（富士フイルム和光純薬社製）２０ｍＬを加えてセライトろ過後、０．１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え有機層を抽出した。得られた溶液を飽和重層水、及び飽和食塩水でそれぞれ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物を酢酸エチル／ヘキサン（体積比２：８）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。分取した溶液から溶媒を減圧留去することでＣＤ−１２を得た（０．３０２ｇ、収率３０％）。

〔化合物ＣＤ−１、ＣＤ−３〜ＣＤ−１１、及びＣＤ−１３〜ＣＤ−１６の合成〕
上記手法を参照して、化合物ＣＤ−１、ＣＤ−３〜ＣＤ−１１、及びＣＤ−１３〜ＣＤ−１６を合成した。

以下に、化合物ＣＤ−１〜ＣＤ−１６の構造を示す。

〔化合物ＣＥ−１〜ＣＥ−３（比較用化合物）の合成〕
また、比較用化合物として、化合物ＣＥ−１〜ＣＥ−３を合成した。
化合物ＣＥ−１は、上述した特許文献１（特開２００４−１８６１５６号公報）に記載の化合物であり、特許文献１に記載の方法に従って合成した。
化合物ＣＥ−２は、特開２００４−２５０３４１号公報に記載の化合物であり、上記文献に記載の方法に従って合成した。
化合物ＣＥ−３は、Organic Letters.2010;vol.12;No.8;p.1832-1835.に記載の化合物であり、上記文献に記載の方法に従って合成した。
以下に、比較用化合物である化合物ＣＥ−１〜ＣＥ−３の構造を示す。

［評価］
〔螺旋捻じり力（ＨＴＰ）、及び露光によるＨＴＰの変化率の評価〕
下記に示す配合で、評価用の組成物を各種調製した。

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・化合物ＣＤ−１〜ＣＤ−１６、ＣＥ−１〜ＣＥ−３のいずれか：５質量部
・下記に示す液晶性化合物ＬＣ−１：１００質量部
・溶剤（ＭＥＫ（メチルエチルケトン））：組成物の固形分濃度が３０質量％となる量
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

＜液晶層１の作製＞
洗浄したガラス基板上にポリイミド配向膜材料ＳＥ−１３０（日産化学社製）を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を焼成した後、ラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。
この配向膜のラビング処理面に、上記組成物４０μＬを、１５００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートしてから９０℃で１分間加熱乾燥し、組成物層を形成した。
得られた組成物層について、顕微鏡（ニコン社製、ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００−ＰＯＬ）と分光光度計（株式会社島津製作所製、ＵＶ−３１００（ＰＣ））を用いて、室温（２３℃）で中心反射波長を測定し、下記式に従ってＨＴＰ（初期ＨＴＰ）を算出した。
ＨＴＰ ＝（液晶性化合物の平均屈折率）／｛（液晶性化合物に対するキラル化合物の濃度（質量％））×（中心反射波長）｝［μｍ^−１］
なお、液晶性化合物の平均屈折率は、１．５５であると仮定して計算した。

更に、組成物層に、３６５ｎｍの波長の光を露光（露光量：４００ｍＪ／ｃｍ²）した後、再び中心反射波長を測定し、上記初期ＨＴＰを算出するために用いた計算式と同様に計算して、露光後のＨＴＰを算出した。得られた初期ＨＴＰと露光後のＨＴＰとから、下記式に従ってＨＴＰ変化率を算出した。
ＨＴＰ変化率＝｜｛（初期ＨＴＰ）−（露光後のＨＴＰ）｝／（初期ＨＴＰ）×１００｜［％］

初期ＨＴＰと、ＨＴＰ変化率とを、それぞれ下記基準に基づいて評価した。いずれもＡ評価が最も好ましい。結果を表１に示す。

（初期ＨＴＰの評価基準）
「Ａ」： 初期ＨＴＰが９０μｍ^-1以上。
「Ｂ」： 初期ＨＴＰが６０μｍ^-1以上９０μｍ^-1未満。
「Ｃ」： 初期ＨＴＰが３０μｍ^-1以上６０μｍ^-1未満。
「Ｄ」： 初期ＨＴＰが１０μｍ^-1以上３０μｍ^-1未満。
「Ｅ」： 初期ＨＴＰが１０μｍ^-1未満。

（ＨＴＰ変化率の評価基準）
「Ａ」： ＨＴＰ変化率が９０％以上
「Ｂ」： ＨＴＰ変化率が６５％以上９０％未満。
「Ｃ」： ＨＴＰ変化率が４０％以上６５％未満。
「Ｄ」： ＨＴＰ変化率が３０％以上４０％未満。
「Ｅ」： ＨＴＰ変化率が２０％以上３０％未満
「Ｆ」： ＨＴＰ変化率が２０％未満。

表１中、「一般式（２）で表される置換基の位置」欄は、一般式（１）中のＸ¹〜Ｘ⁴のうち、一般式（２）で表される置換基を有する位置を表す。
また、「Ａ¹」欄は、一般式（２）中のＡ^１が芳香族炭化水素環基であるか否かを示す。具体的には、一般式（２）中のＡ^１が芳香族炭化水素環基を表す場合を「Ａ」、一般式（２）中のＡ^１が芳香族炭化水素環基を表さない場合を「Ｂ」として示す。
また、「ｍ」欄は、一般式（２）中のｍが１又は２であるか否かを示す。具体的には、一般式（２）中のｍが１又は２である場合を「Ａ」、一般式（２）中のｍが０である場合を「Ｂ」として示す。
また、「一般式（３）」欄は、一般式（１）中のＸ⁵及びＸ⁶が、一般式（３）で表される置換基であるか否かを示す。具体的には、Ｘ⁵及びＸ⁶のいずれもが一般式（３）で表される置換基を表す場合を「Ａ」、Ｘ⁵及びＸ⁶のいずれもが一般式（３）で表される置換基を表さない場合を「Ｂ」として示す。
また、「シス・トランス」欄は、一般式（２）中、−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹で表される部位と、＊−で表される結合位置とが、−ＣＨ＝ＣＨ−においてシス型及びトランス型の何れの配座で配置されているか（言い換えると、一般式（１）中のビナフチル骨格と一般式（２）中の−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹で表される部位とが、一般式（２）中の−ＣＨ＝ＣＨ−においてシス型及びトランス型の何れの配座で結合しているか）を示す。具体的には、シス型の場合を「ｃ」、トランス型の場合を「ｔ」として示す。

表１の結果から、実施例の化合物は露光によるＨＴＰの変化率に優れていることが確認された。
また、実施例４と実施例１０との対比、及び実施例１２と実施例１６との対比から、一般式（１）中、Ｘ¹及びＸ²が一般式（２）で表される置換基を表すか、又は、Ｘ³及びＸ⁴が一般式（２）で表される置換基を表す場合、初期ＨＴＰ及びＨＴＰ変化率がいずれもより優れていることが確認された。
また、実施例１と実施例１１、実施例２と実施例１２及び実施例１３との対比、及び実施例４と実施例１４との対比から、一般式（１）中、Ｘ¹及びＸ²が一般式（２）で表される置換基を表す場合、ＨＴＰ変化率がより優れていることが確認された。
また、実施例１と実施例１１との対比、実施例２と実施例１２及び実施例１３との対比、実施例４と実施例１４との対比から、一般式（１）中、Ｘ³及びＸ⁴が一般式（２）で表される置換基を表す場合、初期ＨＴＰがより優れていることが確認された。

また、実施例４と実施例７との対比、及び実施例２と実施例６との対比から、一般式（２）中、Ａ¹が芳香族炭化水素環基を表す場合、ＨＴＰ変化率がより優れていることが確認された。
また、実施例４及び５と実施例２及び３との対比、実施例９と実施例８との対比、並びに実施例１４と実施例１２との対比から、一般式（２）中、ｍが１又は２を表す場合、初期ＨＴＰがより優れていることが確認された。
また、実施例８と実施例２との対比、実施例９と実施例４との対比、及び実施例１５と実施例１２との対比から、一般式（２）中、−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹で表される部位と、＊−で表される結合位置とが、−ＣＨ＝ＣＨ−においてシス型に配置されている場合（言い換えると、一般式（１）中のビナフチル骨格と一般式（２）中の−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹で表される部位とが、一般式（２）中の−ＣＨ＝ＣＨ−においてシス型で配置されている場合）、ＨＴＰ変化率がより優れていることが確認された。

また、実施例１と実施例２の対比、及び実施例１１と実施例１２の対比から、Ｒ⁵又はＲ⁶が一般式（３）で表される置換基である場合、初期ＨＴＰがより優れていることが確認された。

［反射膜の作製］
〔液晶組成物の調製〕
下記に示す配合で、液晶組成物を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・化合物ＣＤ−１：５質量部
・上記に示した液晶性化合物ＬＣ−１：１００質量部
・下記に示す界面活性剤Ｓ−１：０．１質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７（ＢＡＳＦ製）：３質量部
・溶剤（メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝９０：１０（質量比））：組成物の固形分濃度が３０質量％となる量
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

界面活性剤Ｓ−１は特許第５７７４５１８号に記載された化合物であり、下記構造を有する。

＜反射膜の作製＞
洗浄したガラス基板上にポリイミド配向膜材料ＳＥ−１３０（日産化学社製）を塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を焼成した後、ラビング処理することにより、配向膜付き基板を作製した。この配向膜のラビング処理面に、上記液晶組成物４０μＬを回転数１５００ｒｐｍ、１０秒間の条件でスピンコートすることにより、組成物層を形成し、９０℃で１分間乾燥（熟成）して、組成物層中の液晶性化合物を配向させた（言い換えると、コレステリック液晶相の状態とした）。
次に、液晶性化合物を配向させた組成物層に対して、開口部を有するマスクを介して、光源（ＵＶＰ社製、２ＵＶ・トランスイルミネーター）より波長３６５ｎｍの光を４ｍＷ／ｃｍ²の照射強度で１０秒間照射した（ＣＤ−１のＨＴＰを変化させる処理に該当）。マスクの開口部と非開口部との差異によって、組成物層は、波長３６５ｎｍの光を照射された箇所と、照射されていない箇所とが存在する状態である。
続いて、組成物層に対して、マスクを外した状態で、２５℃、窒素雰囲気下で５００ｍＪ／ｃｍ²の照射量で紫外線（３１０ｎｍ）を照射して硬化処理を実施し、反射膜（コレステリック液晶相を固定化してなる層に該当）とした。
得られた反射膜は、波長３６５ｎｍの光を照射された箇所と、照射されていない箇所とで、選択反射波長が異なること（コレステリック層の螺旋のピッチが異なること）が確認された。

Claims (13)

1. 下記一般式（１）で表される化合物。
   

   

   一般式（１）中、実線と破線が平行している部分は、一重結合又は二重結合を表す。
   一般式（１）中、Ｘ¹〜Ｘ⁶は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。但し、Ｘ¹〜Ｘ⁴のうち少なくとも一つは、下記一般式（２）で表される置換基を表す。
   ＊−ＣＨ＝ＣＨ−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹ （２）
   一般式（２）中、Ａ¹及びＡ²は、それぞれ独立に、炭化水素環基又は複素環基を表す。Ｒ¹は、水素原子又は置換基を表す。Ｚ¹は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＲ^A−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｓ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＣＦ₂Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＮ）＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡ＣＣＯＯ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｒ^Aは、水素原子又はアルキル基を表す。ｍは、０〜２の整数を表す。＊は、一般式（１）中のビナフチル骨格との結合位置を表す。なお、ｍが２である場合、複数存在するＺ¹同士、及び複数存在するＡ²同士は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、一般式（１）中、一般式（２）で表される置換基が複数存在する場合、複数存在する一般式（２）で表される置換基は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。
   但し、一般式（１）で表される化合物は、下記条件（Ａ）〜（Ｃ）をいずれも満たす。
   条件（Ａ）：一般式（２）中、Ｒ¹が−ＮＲ^BＲ^Cで表される置換基である場合、Ｒ^B及びＲ^Cの少なくとも一方が、水素原子又はアルキル基を表す。
   条件（Ｂ）：Ｘ¹〜Ｘ⁴のうちの二つ以上が一般式（２）で表される置換基を表す場合、複数存在するＲ¹同士は、互いに連結して環を形成せず、また、複数存在するＡ¹同士、及び複数存在するＡ²同士は、互いに連結して環を形成しない。
   条件（Ｃ）：Ｘ³及びＸ⁴のうち少なくとも一方が一般式（２）で表される置換基を表す場合、Ｘ¹及びＸ²は互いに連結して環を形成する。
2. 前記一般式（１）中、Ｘ¹及びＸ²が、それぞれ独立に、一般式（２）で表される置換基を表すか、又は、Ｘ³及びＸ⁴が、それぞれ独立に、一般式（２）で表される置換基を表す、請求項１に記載の化合物。
3. 前記一般式（１）中、Ｘ³及びＸ⁴が、それぞれ独立に、一般式（２）で表される置換基を表す、請求項１又は２に記載の化合物。
4. 前記一般式（１）中、Ｘ¹及びＸ²が、それぞれ独立に、一般式（２）で表される置換基を表す、請求項１又は２に記載の化合物。
5. 前記一般式（２）中、Ａ¹が、芳香族炭化水素環基を表す、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
6. 前記一般式（２）中、ｍが１又は２を表す、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
7. 前記一般式（１）中、Ｘ⁵及びＸ⁶が、それぞれ独立に、下記一般式（３）で表される置換基を表す、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
   ＊−Ｚ²−（Ａ³−Ｚ³）_n−Ｒ² （３）
   一般式（３）中、Ａ³は、炭化水素環基又は複素環基を表す。Ｒ²は、置換基を表す。Ｚ²及びＺ³は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＬ_A−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂Ｓ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＣＦ₂Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＮ）＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−ＣＨ₂−、−ＯＣＯ−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｎ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡ＣＣＯＯ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。Ｌ_Aは、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、０〜２の整数を表す。＊は、一般式（１）中のビナフチル骨格との結合位置を表す。なお、ｎが２である場合、複数存在するＡ³同士、及び複数存在するＺ³同士は、各々同一であってもよいし、異なっていてもよい。
8. 前記一般式（２）中、−Ａ¹−（Ｚ¹−Ａ²）_m−Ｒ¹で表される部位と、＊−で表される結合位置とが、前記一般式（２）中の−ＣＨ＝ＣＨ−においてシス型に配置されている、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物と、液晶性化合物と、を含む、液晶組成物。
10. 前記液晶性化合物が、２以上の重合性基を含む、請求項９に記載の液晶組成物。
11. 請求項９又は１０に記載の液晶組成物を硬化してなる硬化物。
12. 請求項９又は１０に記載の液晶組成物を硬化してなる光学異方体。
13. 請求項９又は１０に記載の液晶組成物を硬化してなる反射膜。