JPWO2020166061A1 - 誘導加熱調理器 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施の形態1に係る誘導加熱調理器を示す分解斜視図である。
図1に示すように、誘導加熱調理器100の上部には、鍋等の被加熱物5が載置される天板4を有している。天板4には、被加熱物5を誘導加熱するための加熱口として、第1の誘導加熱口1及び第2の誘導加熱口2を備えている。第1の誘導加熱口1及び第2の誘導加熱口2は、天板4の手前側において、横方向に並設されている。また、本実施の形態1に係る誘導加熱調理器100は、3口目の加熱口として、第3の誘導加熱口3も備えている。第3の誘導加熱口3は、第1の誘導加熱口1及び第2の誘導加熱口2の奥側であって、天板4の横方向のほぼ中央位置に設けられている。
第1の誘導加熱口1、第2の誘導加熱口2及び第3の誘導加熱口3のそれぞれの下方には、加熱口に載置された被加熱物5を加熱する第1の誘導加熱手段11、第2の誘導加熱手段12及び第3の誘導加熱手段13が設けられている。各々の加熱手段は加熱コイル(図2参照)で構成されている。
なお、操作部40と表示部41とは、これらを一体に構成した操作表示部43としても良い。操作表示部43は、例えば、LCDの上面にタッチスイッチを配置したタッチパネル等によって構成される。
なお、LCDは、Liquid Crystal Deviceの略称である。また、LEDは、Light Emitting Diodeの略称である。
第1の誘導加熱手段11は、同心円状に径が異なる複数のリング状の加熱コイルが配置されて構成されている。図2では、第1の誘導加熱手段11が、2重のリング状のコイルのものを示している。第1の誘導加熱手段11は、第1の誘導加熱口1の中央に配置された内周コイル111と、内周コイル111の外周側に配置された外周コイル112とを有している。即ち、内周コイル111は、第1の誘導加熱手段11を構成する複数の加熱コイルのうち、最も内周側に配置された加熱コイルである。外周コイル112は、第1の誘導加熱手段11を構成する複数の加熱コイルのうち、最も外周側に配置された加熱コイルである。
図3に示すように、内周コイル111及び外周コイル112は、電気的に直列に接続されている。内周コイル111及び外周コイル112は、1つの駆動回路50により駆動制御される。
なお、CPUは、Central Processing Unitの略称である。また、CPUは、中央処理装置、処理装置、演算装置、マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ、又はプロセッサともいう。
なお、ASICは、Application Specific Integrated Circuitの略称である。また、FPGAは、Field−Programmable Gate Arrayの略称である。
なお、制御装置45の機能の一部を専用のハードウェアで実現し、一部をソフトウェア又はファームウェアで実現するようにしても良い。
なお、RAMは、Random Access Memoryの略称である。また、ROMは、Read Only Memoryの略称である。また、EPROMは、Erasable Programmable Read Only Memoryの略称である。また、EEPROMは、Electrically Erasable Programmable Read−Only Memoryの略称である。
なお、駆動回路50は加熱手段毎に設けられているが、その回路構成は同一であっても良いし、加熱手段毎に変更しても良い。図4では第1の誘導加熱手段11を駆動する駆動回路50について図示する。
直流電源回路22は、ダイオードブリッジ22a、リアクタ22b及び平滑コンデンサ22cを備え、交流電源21から入力される交流電圧を直流電圧に変換して、インバータ回路23へ出力する。
また、導通状態における外周コイル112には、数十A程度の高周波電流が流れる。外周コイル112に流れる高周波電流により発生する高周波磁束によって、外周コイル112の直上の天板4上に載置された被加熱物5が誘導加熱される。
コイル電流検出手段25bは、内周コイル111と外周コイル112と共振コンデンサ24とからなる共振回路に接続されている。コイル電流検出手段25bは、例えば、電流センサで構成され、内周コイル111及び外周コイル112に流れる電流を検出し、コイル電流値に相当する電圧信号を制御装置45に出力する。
次に、本実施の形態1における誘導加熱調理器の動作について説明する。
以下、図5の各ステップに基づき、誘導加熱調理器100の加熱動作について説明する。
制御装置45は、第1開閉手段61を開状態として内周コイル111を導通状態にし、第2開閉手段62を閉状態として外周コイル112を非導通状態にする(ステップS1)。負荷判定部46は、内周コイル111が導通状態及び外周コイル112が非導通状態において、内周コイル111の上方の被加熱物5の有無及び材質を判定する(ステップS2)。
図6に示すように、内周コイル111及び外周コイル112のそれぞれの上方に載置される負荷の有無及び材質によって、コイル電流と入力電流の関係が異なる。制御装置45は、図6に示すコイル電流と入力電流との関係をテーブル化した負荷判定テーブルを、予めメモリ48に記憶している。
図7に示すように、複合体の被加熱物5は、例えば、アルミニウムなどの非磁性体のフライパンの底の中央部に、ステンレスなどの磁性体6が取り付けられて形成されている。磁性体6の非磁性体への取り付けは、例えば、貼り付け、溶着、溶射、圧着、嵌め込み、かしめ、又は埋め込み等、任意の方法が用いられる。
以下、複合体加熱動作、小径加熱動作及び大径加熱動作のそれぞれについて、詳細を説明する。
図8は、実施の形態1に係る誘導加熱調理器の加熱コイルと被加熱物を示す図である。なお、図8においては、複合体の被加熱物5が加熱口に載置された状態の縦断面を模式的に示している。また、図8においては、内周コイル111及び外周コイル112の中心Cから右側のみを示し、天板4の図示は省略している。
複合体加熱動作における予熱モードとは、被加熱物5に調理物等を投入していない状態で、被加熱物5の温度を予め設定した温度に上昇させる加熱モードである。予熱モードにおいて、制御装置45は、複合体の被加熱物5の外周部を重視した加熱を行う。
ここで、被加熱物5の熱容量は、その材質によって異なる。例えば、アルミニウム又は銅等の非磁性体の熱容量は、鉄又はフェライト系ステンレス鋼(SUS430)等の磁性体の熱容量よりも小さい。また、被加熱物5の外周部は底面が湾曲している場合があり、外周コイル112と被加熱物5との距離が、被加熱物5の中央部と比較して離れる場合があり、被加熱物5の外周部が誘導加熱されにくい場合がある。このため、複合体の被加熱物5に調理物等を投入する前に、被加熱物5の外周部の温度を上昇させることで、後述する通常加熱モードにおける被加熱物5の温度の不均一を抑制することができる。
図9に示すように、制御装置45は、第1開閉手段61を閉状態として内周コイル111を非導通状態にし、第2開閉手段62を開状態として外周コイル112を導通状態にする。すなわち、内周コイル111への高周波電流の供給を停止し、外周コイル112へ高周波電流を供給させる。また、制御装置45は、駆動回路50から外周コイル112へ供給する高周波電流の周波数を、非磁性体に対応する周波数、例えば90kHz付近に設定する。
複合体加熱動作における通常加熱モードとは、被加熱物5に調理物等を投入した状態で、被加熱物5の全体を加熱する加熱モードである。通常加熱モードにおいて、制御装置45は、複合体の被加熱物5の中央部及び外周部の両方を加熱する。
即ち、アルミニウムなどで構成された非磁性体を誘導加熱するには、被加熱物5に発生するうず電流の表皮深さを小さくし、浸透容積を小さくして電流のインピーダンスを大きくする必要がある。このため、非磁性体が上方に載置された外周コイル112には、高周波電流(例えば80kHz以上100kHz以下)を供給し、非磁性体に高周波のうず電流を発生させることにより、ジュール熱による被加熱物5の加熱が可能となる。
一方、鉄などで構成された磁性体においては、うず電流に対するインピーダンスが大きい。このため、磁性体が上方に載置された内周コイル111には、外周コイル112へ供給する高周波電流の周波数よりも低い周波数(例えば20kHz以上35kHz以下)を供給においても十分にうず電流による被加熱物5のジュール熱による加熱が可能である。
図10は、実施の形態1に係る誘導加熱調理器の小径加熱動作における第1開閉手段及び第2開閉手段の動作状態を説明する図である。
制御装置45は、内周コイル111の上方に被加熱物5が有り、且つ、外周コイル112の上方に被加熱物5が無い場合、小径加熱動作を行う。
図10に示すように、制御装置45は、第1開閉手段61を開状態として内周コイル111を導通状態にし、第2開閉手段62を閉状態として外周コイル112を非導通状態にする。すなわち、制御装置45は、駆動回路50から内周コイル111へ高周波電流を供給させ、駆動回路50から外周コイル112への高周波電流の供給を停止させる。また、制御装置45は、駆動回路50から内周コイル111へ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば20kHz付近に設定する。
図11は、実施の形態1に係る誘導加熱調理器の大径加熱動作における第1開閉手段及び第2開閉手段の動作状態を説明する図である。
制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112の上方に被加熱物5が有る場合、次の動作を行う。
大径加熱動作における通常加熱モードとは、大径の被加熱物5の全体を加熱する加熱モードである。通常加熱モードにおいて、制御装置45は、大径の被加熱物5の中央部及び外周部の両方を加熱する。
対流モードとは、煮込み又は麺ゆでなどの調理において、被加熱物5に収容した液状の調理物に対流を生じさせる調理モードである。
開閉手段60は、第1開閉手段61及び第2開閉手段62の何れか一方のみを備える構成でも良い。以下、具体例を説明する。
図12に示すように、第1開閉手段61を省略し、第2開閉手段62のみを設ける構成でも良い。このような構成により、制御装置45は、被加熱物5が小径である場合に、上述した小径加熱動作を行うことができる。
図13に示すように、第2開閉手段62を省略し、第1開閉手段61のみを設ける構成でも良い。このような構成により、制御装置45は、被加熱物5が複合体である場合に、上述した予熱モードの複合体加熱動作を行うことができる。
内周コイル111及び外周コイル112は、同心円状に形成された円形コイルに限らず、任意の形状でよい。また、内周コイル111及び外周コイル112は、一体に形成された1つのコイルに限らず、複数のコイルが直列に接続された構成でも良い。以下、具体例を説明する。
図14に示すように、第1の誘導加熱手段11は、第1の誘導加熱口1の中央に配置された内周コイル111と、内周コイル111の外周側に配置された外周コイル112とを有している。
以下、実施の形態2における誘導加熱調理器の構成及び動作について、上記実施の形態1との相違点を中心に説明する。なお、上記実施の形態1と同じ構成には同一の符号を付し説明を省略する。
図15に示すように、第1の誘導加熱手段11は、内周コイル111と外周コイル112との間に配置された中間コイル113を含む。中間コイル113は、絶縁皮膜された金属からなる導線が巻き付けられることにより構成される。導線としては、例えば、銅又はアルミニウムなど任意の金属を用いることができる。また、内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112は、それぞれ、導線が独立して巻かれている。
図16に示すように、内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112は、電気的に直列に接続されている。内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112は、1つの駆動回路50により駆動制御される。
図17に示すように、駆動回路50との接続点である端子A及び端子Bに、内周コイル111と中間コイル113と外周コイル112と共振コンデンサ24とからなる共振回路が接続されている。内周コイル111と中間コイル113と外周コイル112と共振コンデンサ24とからなる共振回路は、内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112のインダクタンス、並びに共振コンデンサ24の容量に応じた共振周波数を有する。なお、内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112のインダクタンスは、金属負荷である被加熱物5が磁気結合した際に金属負荷の特性に応じて変化し、このインダクタンスの変化に応じて共振回路の共振周波数が変化する。
また、導通状態における中間コイル113には、数十A程度の高周波電流が流れる。中間コイル113に流れる高周波電流により発生する高周波磁束によって、中間コイル113の直上の天板4上に載置された被加熱物5が誘導加熱される。
また、導通状態における外周コイル112には、数十A程度の高周波電流が流れる。外周コイル112に流れる高周波電流により発生する高周波磁束によって、外周コイル112の直上の天板4上に載置された被加熱物5が誘導加熱される。
次に、本実施の形態2における誘導加熱調理器の動作について説明する。
以下、図18及び図19の各ステップに基づき、誘導加熱調理器100の加熱動作について、上記実施の形態1との相違点を中心に説明する。
以下、各加熱動作のそれぞれについて、詳細を説明する。
大径の複合体加熱動作において、制御装置45は、複合体の被加熱物5の外周部を重視して加熱する予熱モードと、被加熱物5の全体を加熱する通常加熱モードとを行う。
制御装置45は、内周コイル111を非導通状態、並びに中間コイル113及び外周コイル112を導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113及び外周コイル112ルへ高周波電流を供給させる。また、制御装置45は、駆動回路50から中間コイル113及び外周コイル112へ供給する高周波電流の周波数を、非磁性体に対応する周波数、例えば90kHz付近に設定する。
制御装置45は、以下の第1動作と第2動作とを交互に繰り返す。第1動作において、制御装置45は、内周コイル111を導通状態、並びに中間コイル113及び外周コイル112を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111へ、第1周波数の高周波電流を供給させる。第2動作において、制御装置45は、内周コイル111を非導通状態、並びに中間コイル113及び外周コイル112を導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113及び外周コイル112へ、第1周波数よりも高い第2周波数の高周波電流を供給させる。
中径の複合体加熱動作において、制御装置45は、複合体の被加熱物5の外周部を重視して加熱する予熱モードと、被加熱物5の全体を加熱する通常加熱モードとを行う。
制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112を非導通状態、並びに中間コイル113を導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113へ高周波電流を供給させる。また、制御装置45は、駆動回路50から中間コイル113へ供給する高周波電流の周波数を、非磁性体に対応する周波数、例えば90kHz付近に設定する。
制御装置45は、以下の第1動作と第2動作とを交互に繰り返す。第1動作において、制御装置45は、内周コイル111を導通状態、並びに中間コイル113及び外周コイル112を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111へ、第1周波数の高周波電流を供給させる。第2動作において、制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112を非導通状態、並びに中間コイル113を導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113へ、第1周波数よりも高い第2周波数の高周波電流を供給させる。
大径の磁性体加熱動作において、制御装置45は、大径の被加熱物5の全体を加熱する通常加熱モードと、被加熱物5に収容した液状の調理物に対流を生じさせる対流モードとを行う。
制御装置45は、内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112を導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112へ高周波電流を供給させる。なお、制御装置45は、駆動回路50から各コイルへ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば20kHz付近に設定する。
制御装置45は、内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112のうちの一部の加熱コイルを導通状態にして、駆動回路50からの高周波電流を供給させ、時間の経過と共に、導通状態にする加熱コイルを切り替えて、高周波電流を供給する加熱コイルを順次変更する。以下、具体例をパターン1〜パターン4に分けて説明する。
制御装置45は、以下の第1動作と第2動作とを交互に繰り返す。第1動作において、制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112を導通状態、並びに中間コイル113を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111及び外周コイル112へ高周波電流を供給させる。第2動作において、制御装置45は、内周コイル111を非導通状態、並びに中間コイル113及び外周コイル112を導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113及び外周コイル112へ高周波電流を供給させる。
制御装置45は、以下の第1動作と第2動作と第3動作とを順次行う。第1動作において、制御装置45は、内周コイル111を導通状態、中間コイル113及び外周コイル112を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111へ高周波電流を供給させる。第2動作において、制御装置45は、中間コイル113を導通状態、内周コイル111及び外周コイル112を非導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113へ高周波電流を供給させる。第3動作において、制御装置45は、外周コイル112を導通状態、内周コイル111及び中間コイル113を非導通状態にして、駆動回路50から外周コイル112へ高周波電流を供給させる。
制御装置45は、以下の第1動作と第2動作とを交互に繰り返す。第1動作において、制御装置45は、内周コイル111を導通状態、中間コイル113及び外周コイル112を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111へ高周波電流を供給させる。第2動作において、制御装置45は、内周コイル111を非導通状態、中間コイル113及び外周コイル112を導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113及び外周コイル112へ高周波電流を供給させる。
制御装置45は、以下の第1動作と第2動作とを交互に繰り返す。第1動作において、制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112を非導通状態、中間コイル113を導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113へ高周波電流を供給させる。第2動作において、制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112を導通状態、中間コイル113を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111及び外周コイル112へ高周波電流を供給させる。
中径の磁性体加熱動作において、制御装置45は、中径の被加熱物5の全体を加熱する通常加熱モードと、被加熱物5に収容した液状の調理物に対流を生じさせる対流モードとを行う。
制御装置45は、内周コイル111及び中間コイル113を導通状態、外周コイル112を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111及び中間コイル113へ高周波電流を供給させる。なお、制御装置45は、駆動回路50から各コイルへ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば20kHz付近に設定する。
制御装置45は、以下の第1動作と第2動作とを交互に繰り返す。第1動作において、制御装置45は、内周コイル111を導通状態、中間コイル113及び外周コイル112を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111へ高周波電流を供給させる。第2動作において、制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112を非導通状態、中間コイル113を導通状態にして、駆動回路50から中間コイル113へ高周波電流を供給させる。なお、制御装置45は、駆動回路50から各コイルへ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば20kHz付近に設定する。
制御装置45は、内周コイル111を導通状態、中間コイル113及び外周コイル112を非導通状態にして、駆動回路50から内周コイル111へ高周波電流を供給させる。駆動回路50から内周コイル111へ高周波電流を供給させ、駆動回路50から中間コイル113及び外周コイル112への高周波電流の供給を停止させる。なお、制御装置45は、駆動回路50から内周コイル111へ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば20kHz付近に設定する。
開閉手段60は、第1開閉手段61、第3開閉手段63及び第2開閉手段62の何れか1つを省略した構成でも良い。以下、具体例を説明する。
図20に示すように、第1開閉手段61を省略し、第3開閉手段63及び第2開閉手段62を設ける構成でも良い。このような構成により、制御装置45は、被加熱物5が磁性体である場合に、被加熱物5の大きさに応じて、上述した小径、中径又は大径の磁性体加熱動作を行うことができる。また、制御装置45は、被加熱物5が中径である場合に、上述した中径の磁性体加熱動作を行うことができる。また、制御装置45は、中径の磁性体加熱動作又は大径の磁性体加熱動作において、上述した対流モードを行うことができる。
図21に示すように、第2開閉手段62を省略し、第1開閉手段61及び第3開閉手段63を設ける構成でも良い。このような構成により、制御装置45は、被加熱物5が大径の複合体である場合に、上述した大径の複合体加熱動作を行うことができる。
内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112は、同心円状に形成された円形コイルに限らず、任意の形状でよい。また、内周コイル111、中間コイル113及び外周コイル112は、一体に形成された1つのコイルに限らず、複数のコイルが直列に接続された構成でも良い。
以下、実施の形態3における誘導加熱調理器の構成及び動作について、上記実施の形態1及び2との相違点を中心に説明する。なお、上記実施の形態1及び2と同じ構成には同一の符号を付し説明を省略する。
図22に示すように、駆動回路50には、内周コイル111と外周コイル112と共振コンデンサ24aと共振コンデンサ24bとからなる共振回路が接続されている。
共振コンデンサ24aは、内周コイル111及び外周コイル112に直列接続されている。共振コンデンサ24bは、切替スイッチ70を介して、共振コンデンサ24aに対して並列に接続されている。
制御装置45は、複数の加熱コイルの導通状態と非導通状態との切り替え、並びに高周波電流の周波数の少なくとも一方に応じて、切替スイッチ70を切り替えて共振コンデンサの容量を可変させる。即ち、制御装置45は、複数の加熱コイルのうち導通状態の加熱コイルの数が多い程、共振コンデンサの容量を小さくする。また、制御装置45は、高周波電流の周波数が高い程、共振コンデンサの容量を小さくする。
以下、具体例について、上述した実施の形態1における複合体加熱動作、小径加熱動作及び大径加熱動作に分けて説明する。
[予熱モード]
複合体加熱動作における予熱モードでは、制御装置45は、外周コイル112を導通状態にして、被加熱物5の外周部を重視した加熱を行う。また、制御装置45は、外周コイル112へ供給する高周波電流の周波数を、非磁性体に対応する周波数、例えば90kHz付近に設定する。
複合体加熱動作における通常加熱モードでは、制御装置45は、内周コイル111のみを導通状態にする第1動作と、外周コイル112のみを導通状態にする第2動作を交互に繰り返す。また、第1動作において、制御装置45は、内周コイル111へ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば25kHz付近に設定する。また、第2動作において、制御装置45は、外周コイル112へ供給する高周波電流の周波数を、非磁性体に対応する周波数、例えば90kHz付近に設定する。
小径加熱動作では、制御装置45は、内周コイル111のみを導通状態にする。また、制御装置45は、内周コイル111へ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば20kHz付近に設定する。
[通常加熱モード]
大径加熱動作における通常加熱モードでは、制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112を導通状態にする。また、制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112へ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば20kHz付近に設定する。
大径加熱動作における対流モードでは、制御装置45は、内周コイル111のみを導通状態にする第1動作と、外周コイル112のみを導通状態にする第2動作を交互に繰り返す。また、制御装置45は、内周コイル111及び外周コイル112へ供給する高周波電流の周波数を、磁性体に対応する周波数、例えば20kHz付近に設定する。
Claims (25)
- 最も内周側に配置された内周コイルと、最も外周側に配置された外周コイルとを含む、複数の加熱コイルと、
複数の前記加熱コイルのそれぞれに高周波電流を供給する1つの駆動回路と、
複数の前記加熱コイルのそれぞれを、前記駆動回路から前記高周波電流が供給される導通状態と前記高周波電流が供給されない非導通状態とに切り替える開閉手段と、
前記駆動回路及び前記開閉手段の動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、
前記内周コイルが導通状態及び前記外周コイルが非導通状態において、前記内周コイルの上方の被加熱物の有無を判定し、
前記内周コイルの上方に前記被加熱物が無い場合、前記駆動回路の動作を停止させる
誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルが導通状態及び前記外周コイルが非導通状態において、前記内周コイルの上方の前記被加熱物の有無及び材質を判定し、
前記内周コイルの上方に前記被加熱物が有る場合、前記内周コイルが非導通状態及び前記外周コイルが導通状態において、前記外周コイルの上方の前記被加熱物の有無及び材質を判定する
請求項1に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルの上方の前記被加熱物の材質が磁性体であり、且つ、前記外周コイルの上方の前記被加熱物の材質が非磁性体を含む場合、
前記内周コイルを非導通状態及び前記外周コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記外周コイルへ前記高周波電流を供給させる
請求項2に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルの上方の前記被加熱物の材質が磁性体であり、且つ、前記外周コイルの上方の前記被加熱物の材質が非磁性体を含む場合、
前記内周コイルを導通状態及び前記外周コイルを非導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイルへ、第1周波数の前記高周波電流を供給させる動作と、
前記内周コイルを非導通状態及び前記外周コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記外周コイルへ、前記第1周波数よりも高い第2周波数の前記高周波電流を供給させる動作と、を交互に繰り返す
請求項2に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルの上方に前記被加熱物が有り、且つ、前記外周コイルの上方に前記被加熱物が無い場合、
前記内周コイルを導通状態及び前記外周コイルを非導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイルへ前記高周波電流を供給させる
請求項2に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイル及び前記外周コイルの上方に前記被加熱物が有る場合、
前記内周コイル及び前記外周コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイル及び前記外周コイルへ前記高周波電流を供給させる
請求項2に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイル及び前記外周コイルの上方に前記被加熱物が有る場合、
前記内周コイルを導通状態及び前記外周コイルを非導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイルへ前記高周波電流を供給させる動作と、
前記内周コイルを非導通状態及び前記外周コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記外周コイルへ前記高周波電流を供給させる動作と、を交互に繰り返す
請求項2に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルが導通状態及び前記外周コイルが非導通状態において、前記内周コイルの上方の前記被加熱物の材質を判定し、
前記内周コイルの上方の前記被加熱物の材質が非磁性体である場合、前記駆動回路の動作を停止させる
請求項1〜7の何れか一項に記載の誘導加熱調理器。 - 複数の前記加熱コイルは、前記内周コイルと前記外周コイルとの間に配置された中間コイルを含み、
前記制御装置は、
前記内周コイルが導通状態、並びに前記中間コイル及び前記外周コイルが非導通状態において、前記内周コイルの上方の前記被加熱物の有無を判定し、
前記内周コイルの上方に前記被加熱物が無い場合、前記駆動回路の動作を停止させる
請求項1に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルが導通状態、並びに前記中間コイル及び前記外周コイルが非導通状態において、前記内周コイルの上方の前記被加熱物の有無及び材質を判定し、
前記内周コイルの上方に前記被加熱物が有る場合、
前記内周コイル及び前記外周コイルが非導通状態、並びに前記中間コイルが導通状態において、前記中間コイルの上方の前記被加熱物の有無及び材質を判定し、
前記内周コイル及び前記中間コイルが非導通状態、並びに前記外周コイルが導通状態において、前記外周コイルの上方の前記被加熱物の有無及び材質を判定する
請求項9に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルの上方の前記被加熱物の材質が磁性体であり、且つ、前記中間コイル及び前記外周コイルの上方の前記被加熱物の材質が非磁性体を含む場合、
前記内周コイルを非導通状態、並びに前記中間コイル及び前記外周コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記中間コイル及び前記外周コイルへ前記高周波電流を供給させる
請求項10に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルの上方の前記被加熱物の材質が磁性体であり、且つ、前記中間コイル及び前記外周コイルの上方の前記被加熱物の材質が非磁性体を含む場合、
前記内周コイルを導通状態、並びに前記中間コイル及び前記外周コイルを非導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイルへ、第1周波数の前記高周波電流を供給させる動作と、
前記内周コイルを非導通状態、並びに前記中間コイル及び前記外周コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記中間コイル及び前記外周コイルへ、前記第1周波数よりも高い第2周波数の前記高周波電流を供給させる動作と、を交互に繰り返す
請求項10に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルの上方の前記被加熱物の材質が磁性体であり、前記中間コイルの上方の前記被加熱物の材質が非磁性体を含み、且つ前記外周コイルの上方に前記被加熱物が無い場合、
前記内周コイル及び前記外周コイルを非導通状態、並びに前記中間コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記中間コイルへ前記高周波電流を供給させる
請求項10に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイルの上方に前記被加熱物が有り、且つ、前記中間コイル及び前記外周コイルの上方に前記被加熱物が無い場合、
前記内周コイルを導通状態、並びに前記中間コイル及び前記外周コイルを非導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイルへ前記高周波電流を供給させる
請求項10に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイル、前記中間コイル及び前記外周コイルの上方に前記被加熱物が有る場合、
前記内周コイル、前記中間コイル及び前記外周コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイル、前記中間コイル及び前記外周コイルへ前記高周波電流を供給させる
請求項10に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイル、前記中間コイル及び前記外周コイルの上方に前記被加熱物が有る場合、
前記内周コイル、前記中間コイル及び前記外周コイルのうちの一部の加熱コイルを導通状態にして、前記駆動回路からの前記高周波電流を供給させ、
時間の経過と共に、導通状態にする前記加熱コイルを切り替えて、前記高周波電流を供給する前記加熱コイルを順次変更する
請求項10に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイル及び前記中間コイルの上方に前記被加熱物が有り、且つ、前記外周コイルの上方に前記被加熱物が無い場合、
前記内周コイル及び前記中間コイルを導通状態、並びに前記外周コイルを非導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイル及び前記中間コイルへ前記高周波電流を供給させる
請求項10に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記内周コイル及び前記中間コイルの上方に前記被加熱物が有り、且つ、前記外周コイルの上方に前記被加熱物が無い場合、
前記内周コイルを導通状態、並びに前記中間コイル及び前記外周コイルを非導通状態にして、前記駆動回路から前記内周コイルへ前記高周波電流を供給させる動作と、
前記内周コイル及び前記外周コイルを非導通状態、並びに前記中間コイルを導通状態にして、前記駆動回路から前記中間コイルへ前記高周波電流を供給させる動作と、を交互に繰り返す
請求項10に記載の誘導加熱調理器。 - 前記駆動回路は、複数の前記加熱コイルと共振回路を形成し、容量が可変に構成された共振コンデンサを備え、
前記制御装置は、
複数の前記加熱コイルの導通状態と非導通状態との切り替え、並びに前記高周波電流の周波数の少なくとも一方に応じて、前記共振コンデンサの容量を可変させる
請求項1〜18の何れか一項に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
複数の前記加熱コイルのうち導通状態の前記加熱コイルの数が多い程、前記共振コンデンサの容量を小さくする
請求項19に記載の誘導加熱調理器。 - 前記制御装置は、
前記高周波電流の周波数が高い程、前記共振コンデンサの容量を小さくする
請求項19又は20に記載の誘導加熱調理器。 - 前記駆動回路への入力電流を検出する入力電流検出手段と、
前記加熱コイルに流れるコイル電流を検出するコイル電流検出手段とを備え、
前記制御装置は、
前記入力電流と前記コイル電流との相関に基づいて、前記加熱コイルの上方の前記被加熱物の有無及び材質を判定する
請求項1〜21の何れか一項に記載の誘導加熱調理器。 - 前記駆動回路は、
2つのスイッチング素子を直列に接続したアームを少なくとも1つ有するインバータ回路を有する
請求項1〜22の何れか一項に記載の誘導加熱調理器。 - 前記スイッチング素子は、ワイドバンドギャップ半導体材料により形成されている
請求項23に記載の誘導加熱調理器。 - 前記開閉手段は、半導体材料により形成されている
請求項1〜24の何れか一項に記載の誘導加熱調理器。
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