JPWO2020165942A1 - 極端紫外光生成装置、ターゲット制御方法、及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1.EUV光生成システムの全体説明
1.1 構成
1.2 動作
2.比較例
2.1 構成
2.2 動作
2.3 課題
3.一方の検出軸のみ軌道Tを観測した場合に軌道制御を行うEUV光生成装置
3.1 メインフロー
3.2 軌道制御の詳細
3.2.1 第1検出軸Aokにおける軌道Tの変更
3.2.2 第2検出軸Angにおける軌道Tの変更
3.2.2.1 1回目の変更
3.2.2.2 2回目の変更
3.2.2.3 3回目の変更
3.2.2.4 4回目以降の変更
3.2.3 第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになった場合
3.3 作用
4.軌道シフト方向を判定する軌道制御
4.1 軌道制御の詳細
4.1.1 軌道シフト回数Nが0であるときの処理
4.1.2 軌道シフト回数Nが1であるときの処理
4.1.3 第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになった場合
4.1.4 シフト方向Dの決定
4.1.5 第2検出軸Angにおける軌道Tの変更
4.1.5.1 1巡目の処理
4.1.5.2 2巡目以降の処理
4.1.6 第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになった場合
4.2 作用
5.その他
1.1 構成
図1に、例示的なLPP式のEUV光生成システム11の構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも1つのドライブレーザ装置3と共に用いられる。本願においては、EUV光生成装置1及びドライブレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給部26を含む。チャンバ2は、密閉可能に構成されている。ターゲット供給部26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられている。ターゲット供給部26から出力されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含むことができるが、これらに限定されない。
図1を参照に、ドライブレーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射する。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射される。
2.1 構成
図2は、比較例に係るEUV光生成システム11の一部を概略的に示す。図2において、チャンバ2、レーザ光集光ミラー22、EUV集光ミラー23、レーザ光進行方向制御部34等の図示は省略されている。図2に示されるように、比較例に係るEUV光生成装置1は、X軸軌道センサ4xと、Z軸軌道センサ4zと、照明光レーザ装置41と、駆動ステージ26aと、を含む。
照明光レーザ装置41は、EUV光生成制御部5による制御に従って照明光43を生成する。ターゲット27が空間Vxzを通過するときに、ターゲット27が照明光43によって照明される。
EUV光生成制御部5は、X軸及びZ軸の各々における検出位置Pdと、X軸及びZ軸の各々における目標位置Ptとに基づいて、駆動ステージ26aを制御する。すなわち、EUV光生成制御部5は、ターゲット27の軌道TがX軸及びZ軸の各々における目標位置Ptに近づくように、駆動ステージ26aをX軸方向とZ軸方向とに制御する。駆動ステージ26aがターゲット供給部26の位置又は姿勢を変更することにより、その後に出力されるターゲット27の軌道Tが変更される。これにより、ターゲット27がプラズマ生成領域25に到達するように、ターゲット27の軌道Tが調整される。
また、EUV光生成制御部5は、X軸におけるターゲット27の軌道Tの検出位置Pdに基づいて、レーザ光進行方向制御部34のアクチュエータを制御することにより、X軸におけるレーザ光33aの集光位置を調整する。
図3Aは、照明光レーザ装置41から出力される照明光43の集光位置の近傍におけるビームプロファイルの例を示す。ビームプロファイルは、光の進行方向に略垂直な断面における光強度分布である。図3Aの縦軸は光強度Iである。照明光43は、ほぼガウシアン分布状のビームプロファイルを有する。
図3Dは、X軸軌道センサ4x、Z軸軌道センサ4z、及び照明光レーザ装置41を、+Y方向に見たときのこれらの配置を概略的に示す。上述のように、ターゲット27が理想的な軌道に沿って進む場合には、ターゲット27は空間Vxzを通過する。
(1)X軸軌道センサ4xの観測範囲Vx内に軌道Tが含まれること
(2)照明光43の光路内に軌道Tが含まれること
3.1 メインフロー
図4は、本開示の第1の実施形態におけるターゲット制御の動作を示すフローチャートである。第1の実施形態に係るEUV光生成装置1の物理的な構成は、図2及び図3A〜図3Dを参照しながら説明した比較例の構成と同様である。
図5は、第1の実施形態における軌道制御の詳細を示すフローチャートである。図5に示される処理は、図4のS30のサブルーチンに相当する。
図6C、図6I及び図6Jは、軌道Tを観測しなかった軌道センサによって取得された画像の一部から第2検出軸Angに沿って抽出される光強度分布の例を示す。
図6Dは、第2検出軸Angにおける初期位置PIの例を示す。
図6E〜図6Hは、第2検出軸Angにおける初期位置PI及び指令位置PCの例を示す。
まず、S31において、EUV光生成制御部5は、軌道シフト回数Nを初期値0にセットする。
PC=PP−Pd+Pt ・・・(1)
但し、駆動ステージ26aの座標系と、X軸軌道センサ4x又はZ軸軌道センサ4zの座標系とは、それらの縮尺が一致するように設定される。
S33における駆動ステージ26aの制御によって、第1検出軸Aokにおける軌道Tの観測ができなくなってしまった場合(S34:NO)、EUV光生成制御部5は、本フローチャートの処理を終了し、図4に示されるメインフローに戻る。この場合、図4のS70においてNOと判定される。
第1検出軸Aokにおいて現在も軌道Tを観測できる場合(S34:YES)、EUV光生成制御部5は、S35に処理を進める。
S33における駆動ステージ26aの制御によって、第2検出軸Angにおける軌道Tの観測ができるようになった場合(S35:YES)、EUV光生成制御部5は、S40に処理を進める。
第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようにならなかった場合(S35:NO)、EUV光生成制御部5は、S37に処理を進める。図6Cに、第2検出軸Angに沿って抽出された光強度分布の例を示す。このように明瞭なピークを有しない光強度分布からは、軌道Tを観測することはできない。
軌道シフト回数Nが上限値Nmaxに達していた場合(S37:NO)、EUV光生成制御部5は、本フローチャートの処理を終了し、図4に示されるメインフローに戻る。この場合、図4のS70においてNOと判定される。
軌道シフト回数Nが上限値Nmax未満である場合(S37:YES)、EUV光生成制御部5は、S38に処理を進める。
3.2.2.1 1回目の変更
S38において、EUV光生成制御部5は、軌道Tを観測しなかった第2検出軸Angにおける指令位置PCを、以下の式(2)により設定する。
PC=PI+(−1)N・int((N+1)/2)・W ・・・(2)
ここで、int(A)は、正数Aの小数点以下の端数を切り上げて得られる整数である。
PC=PI+W
図6Dに、第2検出軸Angにおける初期位置PIの例を示す。図6Eに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、軌道シフト回数Nが0に設定されている場合の指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIにシフト幅Wを加算して得られる。第2検出軸Angの正の方向が、本開示における第3の方向に相当する。例えば、Z軸が第2検出軸Angである場合には、+Z方向が、本開示における第3の方向に相当する。初期位置PIにシフト幅Wを加算して得られた指令位置PCが、本開示における第1の位置に相当する。S38の後、EUV光生成制御部5は、S39に処理を進める。
S38において、軌道シフト回数Nが1に設定されている場合(N=1)、第2検出軸Angにおける指令位置PCは、式(2)により以下のように設定される。
PC=PI−W
図6Fに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、軌道シフト回数Nが1に設定されている場合の指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIからシフト幅Wを減算して得られる。第2検出軸Angの負の方向が、本開示における第4の方向に相当する。例えば、Z軸が第2検出軸Angである場合には、−Z方向が、本開示における第4の方向に相当する。初期位置PIからシフト幅Wを減算して得られた指令位置PCが、本開示における第2の位置に相当する。その後S39からS33に移行し、S34〜S37の処理を行う点は上述の通りである。ターゲット27の軌道Tを第2の位置に変更し、第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになったか否かをS35で判定する処理は、本開示における第2の処理に相当する。
S38において、軌道シフト回数Nが2に設定されている場合(N=2)、第2検出軸Angにおける指令位置PCは、式(2)により以下のように設定される。
PC=PI+2・W
図6Gに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、軌道シフト回数Nが2に設定されている場合の指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIにシフト幅Wの2倍を加算して得られる。シフト幅Wの2倍が本開示における第3の距離及び第4の距離の各々に相当し、初期位置PIにシフト幅Wの2倍を加算して得られた指令位置PCが、本開示における第3の位置に相当する。その後S39からS33に移行し、S34〜S37の処理を行う点は上述の通りである。ターゲット27の軌道Tを第3の位置に変更し、第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになったか否かをS35で判定する処理は、本開示における第3の処理に相当する。
S38において、軌道シフト回数Nが3に設定されている場合(N=3)、第2検出軸Angにおける指令位置PCは、式(2)により以下のように設定される。
PC=PI−2・W
図6Hに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、軌道シフト回数Nが3に設定されている場合の指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIからシフト幅Wの2倍を減算して得られる。初期位置PIからシフト幅Wの2倍を減算して得られた指令位置PCが、本開示における第4の位置に相当する。その後S39からS33に移行し、S34〜S37の処理を行う点は上述の通りである。ターゲット27の軌道Tを第4の位置に変更し、第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになったか否かをS35で判定する処理は、本開示における第4の処理に相当する。
S40において、EUV光生成制御部5は、新たに軌道Tを観測できるようになった第2検出軸Angにおける指令位置PCを、以下の式(3)により設定する。
PC=PP−Pd+Pt ・・・(3)
式(3)は、式(1)と同様である。但し、式(3)における指令位置PC、現在位置PP、検出位置Pd、及び目標位置Ptは、第2検出軸Angにおいて定義される値である。
図6Jに、第2検出軸Angに沿って駆動ステージ26aを制御した後の光強度分布の例が示されている。
他の点については、第1の実施形態の動作は比較例の動作と同様である。
第1の実施形態によれば、X軸軌道センサ4x及びZ軸軌道センサ4zの内の一方の軌道センサによって軌道Tを観測し、他方の軌道センサによって軌道Tを観測しなかったことを条件として、軌道制御が行われる。これにより、作業者による再調整及び立ち上げ処理を行わなくても、EUV光生成装置1を稼働できる。
4.1 軌道制御の詳細
図7及び図8は、第2の実施形態における軌道制御の詳細を示すフローチャートである。図7及び図8に示される処理は、図4のS30のサブルーチンに相当する。第2の実施形態に係るEUV光生成装置1の物理的な構成は、図2及び図3A〜図3Dを参照しながら説明した比較例の構成と同様である。また、第2の実施形態におけるメインフローは、図4を参照しながら説明した第1の実施形態のメインフローと同様である。
図9Cは、軌道Tを観測しなかった軌道センサによって取得された画像の一部から第2検出軸Angに沿って抽出される光強度分布の例を示す。
図9Dは、第2検出軸Angにおける初期位置PIの例を示す。
図9E及び図9H〜図9Kは、第2検出軸Angにおける初期位置PI及び指令位置PCの例を示す。
まず、図7のS31aにおいて、EUV光生成制御部5は、軌道シフト回数N及びシフト方向Dをそれぞれ初期値にセットする。軌道シフト回数Nの初期値は0であり、シフト方向Dの初期値は+1である。
PC=PI+W ・・・(4)
図9Dに、第2検出軸Angにおける初期位置PIの例を示す。図9Eに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、S38aにおいて設定される指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIにシフト幅Wを加算して得られる。初期位置PIにシフト幅Wを加算して得られた指令位置PCが、本開示における第5の位置に相当する。
S38aの後、EUV光生成制御部5は、S39において軌道シフト回数Nの値に1を加算してNの値を更新する。S39の後、EUV光生成制御部5は、S33に処理を進める。
次のS37aにおいては、軌道シフト回数Nが0ではないと判定されるので(S37a:NO)、EUV光生成制御部5は、図8のS49aに処理を進める。
S35においてYESと判定された場合のS40及びS41の処理は、それぞれ、図5を参照しながら説明した第1の実施形態におけるS40及びS41と同様である。
図8のS49aにおいて、EUV光生成制御部5は、第1検出軸Aokにおける信号強度LNが高くなったか否かを判定する。上述の図7の処理においては、信号強度LNとして、軌道シフト回数Nが0に設定されている場合の信号強度L0と、軌道シフト回数Nが1に設定されている場合の信号強度L1とが取得されている。そこで、EUV光生成制御部5は、信号強度L0と信号強度L1とを比較する。S38a及びS33で駆動ステージ26aを制御したことによる信号強度LNの変化を判定する処理は、本開示における第6の処理に相当する。
4.1.5.1 1巡目の処理
S52aにおいて、EUV光生成制御部5は、軌道Tを観測しなかった第2検出軸Angにおける指令位置PCを、以下の式(5)により設定する。
PC=PI+D・N・W ・・・(5)
PC=PI+2・W
図9Hに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、シフト方向Dが+1に設定され、軌道シフト回数Nが2に設定されている場合の指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIにシフト幅Wの2倍を加算して得られる。初期位置PIにシフト幅Wの2倍を加算して得られた指令位置PCが、本開示における第6の位置に相当する。ターゲット27の軌道Tを第6の位置に変更し、第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになったか否かを後述のS55aで判定する処理は、本開示における第7の処理の一部を構成する。
PC=PI−W
図9Iに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、シフト方向Dが−1に設定され、軌道シフト回数Nが1に設定されている場合の指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIからシフト幅Wを減算して得られる。初期位置PIからシフト幅Wを減算して得られた指令位置PCが、本開示における第7の位置に相当する。ターゲット27の軌道Tを第7の位置に変更し、第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになったか否かをS55aで判定する処理は、本開示における第7の処理の一部を構成する。
S59aにおいて、EUV光生成制御部5は、軌道シフト回数Nの値に1を加算してNの値を更新する。S59aの後、EUV光生成制御部5は、S52aに処理を戻す。
S50aにおいてシフト方向Dが+1に維持され、軌道シフト回数Nが2に設定された場合に、S59aにおいて軌道シフト回数Nの値に1が加算されると、軌道シフト回数Nは3となる。その後、S52aに移行した場合に、第2検出軸Angにおける指令位置PCは、式(5)により以下のように設定される。
PC=PI+3・W
図9Jに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、シフト方向Dが+1に設定され、軌道シフト回数Nが3に設定されている場合の指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIにシフト幅Wの3倍を加算して得られる。初期位置PIにシフト幅Wの3倍を加算して得られた指令位置PCが、本開示における第8の位置に相当する。ターゲット27の軌道Tを第8の位置に変更し、第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになったか否かをS55aで判定する処理は、本開示における第8の処理の一部を構成する。
PC=PI−2・W
図9Kに、第2検出軸Angにおける初期位置PIと、シフト方向Dが−1に設定され、軌道シフト回数Nが2に設定されている場合の指令位置PCと、の例を示す。指令位置PCは、初期位置PIからシフト幅Wの2倍を減算して得られる。初期位置PIからシフト幅Wの2倍を減算して得られた指令位置PCが、本開示における第9の位置に相当する。ターゲット27の軌道Tを第9の位置に変更し、第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになったか否かをS55aで判定する処理は、本開示における第8の処理の一部を構成する。
S55aにおいてYESと判定された場合のS60a及びS61aの処理は、それぞれ、図5を参照しながら説明した第1の実施形態におけるS40及びS41と同様である。
他の点については、第2の実施形態の動作は第1の実施形態の動作と同様である。
第2の実施形態によれば、第2検出軸Angにおける指令位置PCを1つの方向に変更してみて、方向が正しいと判定された場合は、同じシフト方向Dに指令位置PCを変更する。方向が間違っていると判定された場合は、逆のシフト方向Dに指令位置PCを変更する。いずれの場合も、初期位置PIからの距離を次第に大きくする。軌道Tを変更するたびに、第2検出軸Angにおいて軌道Tを観測できるようになったか否かを判定する。空間Vxzが初期位置PIに対して正の方向に位置するか、負の方向に位置するかを判定し、その後は判定された方向にのみ軌道Tを変更するので、短い時間で空間Vxzまで軌道Tを移動させることができる。
図10は、EUV光生成装置1に接続された露光装置6の構成を概略的に示す。
図10において、露光装置6は、マスク照射部60とワークピース照射部61とを含む。マスク照射部60は、EUV光生成装置1から入射したEUV光によって、反射光学系を介してマスクテーブルMTのマスクパターンを照明する。ワークピース照射部61は、マスクテーブルMTによって反射されたEUV光を、反射光学系を介してワークピーステーブルWT上に配置された図示しないワークピース上に結像させる。ワークピースはフォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置6は、マスクテーブルMTとワークピーステーブルWTとを同期して平行移動させることにより、マスクパターンを反映したEUV光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで電子デバイスを製造することができる。
Claims (20)
- ターゲットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、
前記ターゲットを出力するターゲット供給部と、
前記ターゲットの軌道を変更するアクチュエータと、
前記ターゲットの軌道を第1の方向から観測する第1の軌道センサと、
前記ターゲットの軌道を前記第1の方向と異なる第2の方向から観測する第2の軌道センサと、
前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測した場合であって、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測しなかった場合に、前記ターゲットの軌道を前記第2の軌道センサが観測できるように前記アクチュエータを制御することを含む軌道制御を行う制御部と、
を備える、極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記アクチュエータは、前記ターゲット供給部を移動することにより前記ターゲットの軌道を変更するように構成された、
極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記ターゲットを照明する照明装置をさらに備え、
前記第1の軌道センサ及び前記第2の軌道センサの各々は、撮像装置を含む、
極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記第1の軌道センサ及び前記第2の軌道センサのいずれもが前記ターゲットの軌道を観測しなかった場合に、前記ターゲットの出力を停止するよう前記ターゲット供給部を制御する、
極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記第1の軌道センサ及び前記第2の軌道センサの両方が前記ターゲットの軌道を観測した場合に、前記第1の軌道センサで観測される前記ターゲットの軌道と、前記第2の軌道センサで観測される前記ターゲットの軌道とが、それぞれの目標位置に近づくように、前記アクチュエータを制御する、
極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記軌道制御は、前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測した場合であって、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測しなかった場合に、
前記第1の軌道センサで観測される前記ターゲットの軌道が目標位置に近づくように前記アクチュエータを制御し、
その後、前記ターゲットの軌道を前記第2の軌道センサが観測できるように前記アクチュエータを制御する
ことを含む、極端紫外光生成装置。 - 請求項6に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記制御部は、前記軌道制御を行っても前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようにならなかった場合に、前記ターゲットの出力を停止するよう前記ターゲット供給部を制御する、
極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記軌道制御は、前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測した場合であって、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測しなかった場合に、
前記ターゲットの軌道が、前記第2の方向と異なる第3の方向に、所定の位置から第1の距離の第1の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定する第1の処理と、
前記第1の処理において前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようにならなかった場合に、前記ターゲットの軌道が、前記第3の方向と略反対の第4の方向に、前記所定の位置から第2の距離の第2の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定する第2の処理と、
を行うことを含む、極端紫外光生成装置。 - 請求項8に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第1の処理は、前記アクチュエータを制御した後に、前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるか否かを判定することを含み、
前記第2の処理は、前記アクチュエータを制御した後に、前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるか否かを判定することを含む、
極端紫外光生成装置。 - 請求項8に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記軌道制御は、さらに、
前記第2の処理において前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようにならなかった場合に、前記ターゲットの軌道が、前記第3の方向に、前記所定の位置から前記第1の距離より大きい第3の距離の第3の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定する第3の処理と、
前記第3の処理において前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようにならなかった場合に、前記ターゲットの軌道が、前記第4の方向に、前記所定の位置から前記第2の距離より大きい第4の距離の第4の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定する第4の処理と、
を行うことを含む、極端紫外光生成装置。 - 請求項8に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第1の距離及び前記第2の距離の各々は、前記第2の軌道センサの観測範囲の前記第3の方向に沿った寸法の半分以下である、
極端紫外光生成装置。 - 請求項8に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第1の距離及び前記第2の距離の各々は、300μm以上、1500μm以下である、
極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記軌道制御は、前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測した場合であって、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測しなかった場合に、前記第1の軌道センサの観測結果に基づいて、前記ターゲットの軌道を前記第2の軌道センサが観測できるように前記アクチュエータを制御する
ことを含む、極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記軌道制御は、前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測した場合であって、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測しなかった場合に、
前記ターゲットの軌道が、前記第2の方向と異なる第3の方向に、所定の位置から第5の距離の第5の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定する第5の処理と、
前記第5の処理において前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようにならなかった場合に、前記第5の処理の前記アクチュエータの制御による前記第1の軌道センサの信号強度の変化を判定する第6の処理と、
第7の処理であって、
前記第6の処理において前記第1の軌道センサの信号強度が高くなったと判定された場合に、前記ターゲットの軌道が、前記第3の方向に、前記所定の位置から前記第5の距離より大きい第6の距離の第6の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定し、
前記第6の処理において前記第1の軌道センサの信号強度が低くなったと判定された場合に、前記ターゲットの軌道が、前記第3の方向と略反対の第4の方向に、前記所定の位置から第7の距離の第7の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定する
前記第7の処理と、
を行うことを含む、極端紫外光生成装置。 - 請求項14に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第5の処理は、前記アクチュエータを制御した後に、前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるか否かを判定することを含み、
前記第7の処理は、前記アクチュエータを制御した後に、前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるか否かを判定することを含む、
極端紫外光生成装置。 - 請求項14に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記軌道制御は、前記第7の処理において前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようにならなかった場合に、さらに、
第8の処理であって、
前記第6の処理において前記第1の軌道センサの信号強度が高くなったと判定された場合に、前記ターゲットの軌道が、前記第3の方向に、前記所定の位置から前記第6の距離より大きい第8の距離の第8の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定し、
前記第6の処理において前記第1の軌道センサの信号強度が低くなったと判定された場合に、前記ターゲットの軌道が、前記第4の方向に、前記所定の位置から前記第7の距離より大きい第9の距離の第9の位置に変更されるように前記アクチュエータを制御し、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測できるようになったか否かを判定する
前記第8の処理
を行うことを含む、極端紫外光生成装置。 - 請求項14に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第5の距離及び前記第7の距離の各々は、前記第2の軌道センサの観測範囲の前記第3の方向に沿った寸法の半分以下である、
極端紫外光生成装置。 - 請求項14に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第5の距離及び前記第7の距離の各々は、300μm以上、1500μm以下である、
極端紫外光生成装置。 - 極端紫外光生成装置におけるターゲット制御方法であって、
前記ターゲットを出力するターゲット供給部と、
前記ターゲットの軌道を変更するアクチュエータと、
前記ターゲットの軌道を第1の方向から観測する第1の軌道センサと、
前記ターゲットの軌道を前記第1の方向と異なる第2の方向から観測する第2の軌道センサと、
を備えて、前記ターゲットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成するように構成された前記極端紫外光生成装置において、
前記第1の軌道センサ及び前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測したか否かを判定し、
前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測した場合であって、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測しなかった場合に、前記ターゲットの軌道を前記第2の軌道センサが観測できるように前記アクチュエータを制御することを含む軌道制御を行う
ことを含む、ターゲット制御方法。 - 電子デバイスの製造方法であって、
ターゲットを出力するターゲット供給部と、
前記ターゲットの軌道を変更するアクチュエータと、
前記ターゲットの軌道を第1の方向から観測する第1の軌道センサと、
前記ターゲットの軌道を前記第1の方向と異なる第2の方向から観測する第2の軌道センサと、
前記第1の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測した場合であって、前記第2の軌道センサが前記ターゲットの軌道を観測しなかった場合に、前記ターゲットの軌道を前記第2の軌道センサが観測できるように前記アクチュエータを制御することを含む軌道制御を行う制御部と、
を備える極端紫外光生成装置において、前記ターゲットにレーザ光を照射して極端紫外光を生成し、
前記極端紫外光を露光装置に出力し、
電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記極端紫外光を露光する
ことを含む、電子デバイスの製造方法。
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