JPWO2015166524A1 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents
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Abstract
極端紫外光生成装置は、ノズルから前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、第1の特性の光を出力して、前記ノズルから出力されたターゲットを照明する第1の照明装置と、前記第1の特性と異なる第2の特性の光を出力して、前記ノズルから出力されたターゲットを照明する第2の照明装置と、前記第1の特性の光で照明されたターゲットを撮影する第1の撮像装置と、前記第2の特性の光で照明されたターゲットを撮影する第2の撮像装置と、を含んでもよい。
Description
本開示は、極端紫外光生成装置に関する。
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、70nm〜45nmの微細加工、さらには32nm以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば32nm以下の微細加工の要求に応えるべく、波長13nm程度の極端紫外(EUV)光を生成するための装置と縮小投影反射光学系(reduced projection reflective optics)とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
EUV光生成装置としては、ターゲット材料にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたLPP(Laser Produced Plasma)方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたDPP(Discharge Produced Plasma)方式の装置と、軌道放射光を用いたSR(Synchrotron Radiation)方式の装置との3種類の装置が提案されている。
本開示の一例の極端紫外光生成装置は、ノズルからターゲットを供給するターゲット供給部と、第1の特性の光を出力して、前記ノズルから出力されたターゲットを照明する第1の照明装置と、前記第1の特性と異なる第2の特性の光を出力して、前記ノズルから出力されたターゲットを照明する第2の照明装置と、前記第1の特性の光で照明されたターゲットを撮影する第1の撮像装置と、前記第2の特性の光で照明されたターゲットを撮影する第2の撮像装置と、を含んでもよい。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図1は、例示的なLPP方式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。
図2は、ターゲット軌道計測装置を含む極端紫外光生成装置の比較例を示す。
図3は、ターゲットの軌道を計測して、目標のプラズマ生成領域の中心点を軌道が通過するように制御する制御システムの実施形態を示す。
図4は、2方向から光を照射されたターゲットの画像を示す。
図5は、互いに異なる波長の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置の実施形態を示す。
図6は、互いに異なるタイミングで照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置の実施形態を示す。
図7は、照明装置及び撮像装置の動作タイミングを示す。
図8は、互いに異なる偏光の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置の実施形態を示す。
<内容>
1.概要
2.用語の説明
3.EUV光生成システムの全体説明
4.ターゲット軌道計測装置を含む極端紫外光生成装置
5.実施形態1:互いに異なる波長の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
6.実施形態2:互いに異なるタイミングで照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
7.実施形態3:互いに異なる偏波の光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
1.概要
2.用語の説明
3.EUV光生成システムの全体説明
4.ターゲット軌道計測装置を含む極端紫外光生成装置
5.実施形態1:互いに異なる波長の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
6.実施形態2:互いに異なるタイミングで照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
7.実施形態3:互いに異なる偏波の光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
1.概要
従来の軌道制御システムでは、ターゲットの軌道を計測する際に、2方向からターゲットに光を照射し、2方向からターゲットの軌道を計測していた。このため、二つの照明光によって照明されたターゲットの軌道の二つの画像が計測され、ターゲットの軌道の計測精度が悪化することがあり得た。
従来の軌道制御システムでは、ターゲットの軌道を計測する際に、2方向からターゲットに光を照射し、2方向からターゲットの軌道を計測していた。このため、二つの照明光によって照明されたターゲットの軌道の二つの画像が計測され、ターゲットの軌道の計測精度が悪化することがあり得た。
本開示の一例の極端紫外光生成装置は、ノズルからターゲットを供給するターゲット供給部と、第1の特性の光を出力して、前記ノズルから出力されたターゲットを照明する第1の照明装置と、前記第1の特性と異なる第2の特性の光を出力して、前記ノズルから出力されたターゲットを照明する第2の照明装置と、前記第1の特性の光で照明されたターゲットを撮影する第1の撮像装置と、前記第2の特性の光で照明されたターゲットを撮影する第2の撮像装置と、を含んでもよい。
二つの照明装置が互いに異なる特性の光をターゲットに照射して、二つの撮像装置が異なる特性の光を撮影して、ターゲットの軌道を計測するので、ターゲットの軌道の計測精度が改善され得る。
2.用語の説明
本開示において使用される用語を以下に説明する。ターゲットの「軌道」は、ターゲット供給装置から出力されたターゲットの実際の経路である。
本開示において使用される用語を以下に説明する。ターゲットの「軌道」は、ターゲット供給装置から出力されたターゲットの実際の経路である。
3.EUV光生成システムの全体説明
3.1 構成
図1に、例示的なLPP方式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも一つのレーザ装置3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給部26を含んでもよい。
3.1 構成
図1に、例示的なLPP方式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。EUV光生成装置1は、少なくとも一つのレーザ装置3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給部26を含んでもよい。
チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部26から供給されるターゲットの材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか二つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
チャンバ2の壁には、少なくとも一つの貫通孔が設けられてもよい。その貫通孔には、ウィンドウ21が設けられてもよく、ウィンドウ21をレーザ装置3から出力されるパルスレーザ光32が透過してもよい。チャンバ2の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するEUV光集光ミラー23が配置されてもよい。EUV光集光ミラー23は、第1及び第2の焦点を有し得る。
EUV光集光ミラー23の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されてもよい。EUV光集光ミラー23は、例えば、その第1の焦点がプラズマ生成領域25に位置し、その第2の焦点が中間集光点(IF)292に位置するように配置されるのが好ましい。EUV光集光ミラー23の中央部には貫通孔24が設けられていてもよく、貫通孔24をパルスレーザ光33が通過してもよい。
EUV光生成装置1は、EUV光生成制御部5、ターゲットセンサ4等を含んでもよい。ターゲットセンサ4は、撮像機能を有してもよく、ターゲット27の存在、軌跡、位置、速度の少なくとも一つを検出するよう構成されてもよい。ターゲット27は、ドロップレット27とも呼ばれ得る。
また、EUV光生成装置1は、チャンバ2の内部と露光装置6の内部とを連通させる接続部29を含んでもよい。接続部29内部には、アパーチャが形成された壁291が設けられてもよい。壁291は、そのアパーチャがEUV光集光ミラー23の第2の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
さらに、EUV光生成装置1は、レーザ光進行方向制御部34、レーザ光集光ミラー22、ターゲット27を回収するためのターゲット回収器28等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部34は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
3.2 動作
図1を参照すると、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウィンドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも一つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも一つのターゲット27に照射されてもよい。
図1を参照すると、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウィンドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも一つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも一つのターゲット27に照射されてもよい。
ターゲット供給部26は、ターゲット27をチャンバ2内部のプラズマ生成領域25に向けて吐出するよう構成されてもよい。ターゲット27には、パルスレーザ光33に含まれる少なくとも一つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光が照射されたターゲット27はプラズマ化し、そのプラズマから放射光251が放射され得る。
放射光251に含まれるEUV光252は、EUV光集光ミラー23によって選択的に反射されてもよい。EUV光集光ミラー23によって反射されたEUV光252は、中間集光点292で集光され、露光装置6に出力されてもよい。なお、一つのターゲット27に、パルスレーザ光33に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
EUV光生成制御部5は、EUV光生成システム11全体の制御を統括するよう構成されてもよい。EUV光生成制御部5は、ターゲットセンサ4によって撮像されたターゲット27のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、EUV光生成制御部5は、例えば、ターゲット27が供給されるタイミング、ターゲット27の出力方向等を制御するよう構成されてもよい。
さらに、EUV光生成制御部5は、例えば、レーザ装置3の発光タイミングの制御、パルスレーザ光32の進行方向の制御及びパルスレーザ光33の集光位置の制御の内少なくとも一つを行うよう構成されてもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
4.ターゲット軌道計測装置を含む極端紫外光生成装置の比較例
本開示は、ターゲットの軌道計測およびその制御装置を含む極端紫外光生成装置又は方法に関する。本開示の極端紫外光生成装置は、ターゲットの軌道を高精度に計測するターゲット軌道計測装置を含み、ターゲット軌道計測装置の検出結果に基づいて、ターゲットの軌道を制御してもよい。
本開示は、ターゲットの軌道計測およびその制御装置を含む極端紫外光生成装置又は方法に関する。本開示の極端紫外光生成装置は、ターゲットの軌道を高精度に計測するターゲット軌道計測装置を含み、ターゲット軌道計測装置の検出結果に基づいて、ターゲットの軌道を制御してもよい。
4.1構成
図2に、ターゲット軌道計測装置を含む極端紫外光生成装置の比較例を模式的に示す。
図2に、ターゲット軌道計測装置を含む極端紫外光生成装置の比較例を模式的に示す。
EUV光生成装置1は、チャンバ2と、レーザ装置3と、ビームデリバリーシステム(レーザ光進行方向制御部)34と、EUV光生成制御部5と、ターゲット制御部52とを含んでもよい。
EUVチャンバ2は、ターゲット供給部26と、2軸ステージ63と、ターゲット軌道計測装置49と、ウィンドウ21と、レーザ集光光学系22Aと、プレート83と、プレート82と、EUV光集光ミラーホルダ81と、EUV光集光ミラー23と、ターゲット回収器28とを含んでもよい。
ターゲット軌道計測装置49は、少なくとも二つの照明装置70と、少なくとも二つの撮像装置40とを含んでもよい。なお、図2では、照明装置70と撮像装置40とは、それぞれ一台のみを図示する。照明装置70は、光源71と、レンズ72と、ウィンドウ73とを含んでもよい。光源71は、例えば、ランプ、LED又はレーザ光源でもよい。レンズ72は、例えば、コリメータでもよい。
撮像装置40は、イメージセンサ41と、転写光学系42と、ウィンドウ43とを含んでもよい。イメージセンサ41は、2次元のCCDセンサでもよい。ターゲットからの反射光がイメージセンサ41上に結像するように、転写光学系42とイメージセンサ41とを配置してもよい。
ターゲット供給部26は、X軸及びZ軸方向に移動する2軸ステージ63を介してチャンバ2に設置されてもよい。
4.2動作
ターゲット制御部52は、露光装置制御部61からEUV光生成制御部5を介して、目標となるプラズマ生成領域25の中心位置Ptを受信してもよい。レーザ集光光学系22Aは、不図示の3軸ステージ85がプレート83を移動することによって、レーザ光の集光点とPtが一致するように制御してもよい。
ターゲット制御部52は、露光装置制御部61からEUV光生成制御部5を介して、目標となるプラズマ生成領域25の中心位置Ptを受信してもよい。レーザ集光光学系22Aは、不図示の3軸ステージ85がプレート83を移動することによって、レーザ光の集光点とPtが一致するように制御してもよい。
EUV光生成制御部5からターゲット制御部52にターゲットを出力するための出力信号が入力されてもよい。ターゲット制御部52は、EUV光生成制御部5からターゲット出力信号を受信すると、ターゲット供給部26を制御して、ノズル62からターゲット(ドロップレット)を出力させてもよい。出力したターゲットが、照明装置70の光によって照明されるとターゲットの像が転写光学系42によってイメージセンサ41上に結像し得る。ここで、イメージセンサ41の露光時間を所定時間まで長くしてもよい。イメージセンサ41の露光時間を長くした場合、ドロップレットが移動した軌道が撮像され得る。
撮像装置40は、画像処理部44にターゲットの軌道計測信号を送信してもよい。画像処理部44は、二つのイメージセンサ41によって撮像されたターゲットの画像を画像処理してもよい。画像処理部44は、二つの画像処理されたデータからターゲットの軌道を計算してもよい。このようにして、ターゲット軌道計測装置49はターゲットの軌道を計測してもよい。
ターゲット制御部52は、画像処理部44で計算されたターゲットの軌道に基づいて、ターゲットがプラズマの中心位置Ptに到達するように、2軸ステージ63に制御信号を送信し、ターゲット供給部26の位置を制御してもよい。具体的には、ターゲット制御部52は、二つの画像中のターゲットの軌道の目標位置からのズレ量を計算し、計算されたズレ量から2軸ステージ63の制御量を決定し、決定されたズレ量分だけ2軸ステージ63が移動するように制御信号を送信してもよい。
ターゲット供給部26からドロップレットが出力されるタイミングと同期して、発振トリガ信号がEUV光生成制御部5からレーザ装置3に入力されると、レーザ装置3からパルスレーザ光が出力され得る。出力されたパルスレーザ光は、レーザ光進行方向制御部34を経由して、ウィンドウ21を通過して、EUVチャンバ2に入力され得る。レーザ集光光学系22Aによって、パルスレーザ光はプラズマ生成領域25に到達し、ドロップレット上に集光照射され得る。その結果、ドロップレットがプラズマ化して、EUV光252が生成し得る。
4.3課題
図3に、ターゲットの軌道を計測して、目標のプラズマ生成領域25の中心点を軌道が通過するように制御する制御システムの実施形態を示す。図3では、チャンバを省略し、制御システムのみを図示する。
図3に、ターゲットの軌道を計測して、目標のプラズマ生成領域25の中心点を軌道が通過するように制御する制御システムの実施形態を示す。図3では、チャンバを省略し、制御システムのみを図示する。
ターゲット軌道計測装置49は、第1撮像装置40−1と、第1照明装置70−1と、第2撮像装置40−2と、第2照明装置70−2と、画像処理部44と、を含んでもよい。
第1照明装置70−1は、光源71−1と、レンズ72−1と、ウィンドウ73−1とを含んでもよく、第2照明装置70−2は、光源71−2と、レンズ72−2と、ウィンドウ73−2とを含んでもよい。第1撮像装置40−1は、イメージセンサ41−1と、転写光学系42−1と、ウィンドウ43−1とを含んでもよく、第2撮像装置40−2は、イメージセンサ41−2と、転写光学系42−2と、ウィンドウ43−2とを含んでもよい。
第1照明装置70−1と第2照明装置70−2とは、ターゲットの軌道上で互いに交差するように2方向からそれぞれターゲットを照明するように配置してもよい。第1照明装置70−1による光の照射方向と第2照明装置70−2による光の照射方向とは、直交することが望ましいが、必ずしも直交しなくてもよい。また、第1照明装置70−1による光の照射方向と第2照明装置70−2による光の照射方向とは、ターゲットの軌道に垂直な平面上に含まれることが望ましいが、一方又は両方が当該平面からずれた方向からターゲットを照射してもよい。
第1撮像装置40−1と第2撮像装置40−2とは、互いに直交しているZ軸方向とX軸方向からそれぞれターゲットを撮像するように配置してもよいが、直交しない方向から撮像してもよい。第1撮像装置40−1と第2撮像装置40−2とは、同じタイミングで同じターゲットを撮像する位置に配置すればよい。
2軸ステージ63は、X軸とZ軸方向に直線的に移動するステージでもよい。なお、2軸ステージ63は、直交する2軸方向に直線的に移動するステージであることが望ましいが、異なる2方向に移動すれば、直交しない2方向に移動するものでもよい。
第1撮像装置40−1と第2撮像装置40−2とは画像処理部44に接続されてもよい。画像処理部44とターゲット制御部52とは、画像処理部44から出力されるデータがターゲット制御部52に送信できるように接続されてもよい。
次に、軌道制御システムの動作について説明する。
ターゲット供給部26からドロップレットが出力されると、複数個のドロップレットが軌道上を移動し得る。この時、両撮像装置40−1、40−2の露光時間を、ドロップレットの像が撮像装置のイメージセンサ上を移動するのに要する時間よりも長く設定してもよい。露光時間を長く設定した場合、撮影されたドロップレットの像は線状の画像となり得る。この線状の画像からターゲットの軌道を計測してもよい。
このように、従来の軌道制御システムでは、ターゲットの軌道を計測する際に、2方向からターゲットに光を照射し、2方向からターゲットの軌道を計測していた。この時、EUVチャンバ2のスペースの関係で、二つの照明光の方向が互いに直交する方向から照明できない場合があり得た。さらに、照明光と同じ方向からターゲットの軌道の画像を計測することができない場合があり得た。その結果、ターゲットの軌道の計測時に、二つの照明光によって照明されたターゲットの二つの軌道の画像が計測されることがあり得た。図4に、2方向から光を照射されたターゲット画像を示す。図4に示すように、2方向から光を照射されたターゲット画像では、第1の照明光の軌道の画像と、第2の照明光の画像が2重に撮影されるので、ターゲットの軌道の計測精度が悪化することがあり得た。
5.実施形態1:互いに異なる波長の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
5.1 構成
図5に、互いに異なる波長の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置49の実施形態を示す。
5.1 構成
図5に、互いに異なる波長の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置49の実施形態を示す。
以下、図3に示す実施形態と異なる点について主に説明し、図3に示す実施形態と同じ構成及び機能については、同じ符号を付し、それらの説明は省略する。
第1照明装置70−1は、光源71−1と、レンズ72−1と、ウィンドウ73−1とを含んでもよく、第2照明装置70−2は、光源71−2と、レンズ72−2と、ウィンドウ73−2とを含んでもよい。第1撮像装置40−1は、イメージセンサ41−1と、転写光学系42−1と、ウィンドウ43−1と、フィルタ45−1とを含んでもよく、第2撮像装置40−2は、イメージセンサ41−2と、転写光学系42−2と、ウィンドウ43−2と、フィルタ45−2とを含んでもよい。
第1照明装置70−1の光源71−1が第1の波長の光を出力する光源でもよく、第2照明装置70−2の光源71−2が第2の波長の光を出力する光源でもよい。例えば、第1照明装置70−1の光源71−1が450nm付近の波長の光を出力する発光ダイオード(LED)でもよく、第2照明装置70−2の光源71−2が660nm付近の波長の光を出力する発光ダイオードでもよい。
フィルタ45−1は、ターゲットの軌道とイメージセンサ41−1との間の光路上に配置されてもよい。フィルタ45−1は、第1の波長の光を通過するバンドパスフィルタでもよい。また、フィルタ45−2は、ターゲットの軌道からイメージセンサ41−2との間の光路上に配置されてもよい。フィルタ45−2は、第2の波長の光を通過するバンドパスフィルタでもよい。なお、イメージセンサ41−1、42−1が撮影した画像から第1又は第2の波長の光を演算処理によって抽出するバンドパスフィルタを用いてもよい。
5.2 動作
第1照明装置70−1から出力された第1の波長の光と、第2照明装置70−2から出力された第2の波長の光とは、軌道上のターゲットを照明し得る。
第1照明装置70−1から出力された第1の波長の光と、第2照明装置70−2から出力された第2の波長の光とは、軌道上のターゲットを照明し得る。
第1撮像装置40−1は、フィルタ45−1を介して、第1の波長の光が照射されたターゲットの軌道の像を撮影し得る。一方、第2の波長の光は、フィルタ45−1によって高率で反射又は吸収され得る。第2撮像装置40−2は、フィルタ45−2を介して、第2の波長の光が照射されたターゲットの軌道の像を撮影し得る。一方、第1の波長の光は、フィルタ45−2によって高率で反射又は吸収され得る。
5.3 作用
第1実施形態では、二つの照明装置70−1及び70−2が互いに異なる波長の光をターゲットに照射して、二つの撮像装置40−1及び40−2に、それぞれの波長に対応するフィルタを配置して撮像しているので、各撮像装置が一つの照明光の画像によってターゲットの軌道を撮像し得る。その結果、ターゲットの軌道計測の精度が改善され得る。
第1実施形態では、二つの照明装置70−1及び70−2が互いに異なる波長の光をターゲットに照射して、二つの撮像装置40−1及び40−2に、それぞれの波長に対応するフィルタを配置して撮像しているので、各撮像装置が一つの照明光の画像によってターゲットの軌道を撮像し得る。その結果、ターゲットの軌道計測の精度が改善され得る。
6.実施形態2:互いに異なるタイミングで照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
6.1 構成
図6に、互いに異なるタイミングで照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置49の実施形態を示す。
6.1 構成
図6に、互いに異なるタイミングで照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置49の実施形態を示す。
以下、図3に示す実施形態と異なる点について主に説明し、図3に示す実施形態と同じ構成及び機能については、同じ符号を付し、それらの説明は省略する。
第1撮像装置40−1及び第2撮像装置40−2は、シャッタを含んでもよい。シャッタは、CCDの電子シャッタ、メカニカルシャッタ、マルチチャンネルプレートを含むイメージインテンシファイアでもよい。
画像処理部44と第1撮像装置40−1との間及び画像処理部44と第2撮像装置40−2との間のそれぞれに、シャッタの開閉信号を送信する制御信号線を設けてもよい。また、画像処理部44と第1照明装置70−1との間及び画像処理部44と第2照明装置70−2との間のそれぞれに、点灯信号を送信する制御信号線を設けてもよい。
6.2 動作
図7に、照明装置70−1、70−2及び撮像装置40−1、40−2の動作タイミングを示す。ここでは、照明装置70−1、70−2は、互いに重ならないタイミングで照明光をターゲットに照射しているが、互いに異なるタイミングであれば、部分的に重なっていてもよい。
図7に、照明装置70−1、70−2及び撮像装置40−1、40−2の動作タイミングを示す。ここでは、照明装置70−1、70−2は、互いに重ならないタイミングで照明光をターゲットに照射しているが、互いに異なるタイミングであれば、部分的に重なっていてもよい。
画像処理部44は、第1照明装置70−1が点灯するタイミングに合わせて、第1撮像装置40−1のシャッタを開けてもよい。第1撮像装置40−1のシャッタが開くタイミングで、軌道上のターゲットを照明し、ターゲットを撮影し、ターゲットの軌道を撮像し得る。ターゲットの撮影が終了するタイミングで、第1照明装置70−1を消灯し、第1撮像装置40−1のシャッタを閉じてもよい。
次に、画像処理部44は、第2照明装置70−2が点灯するタイミングに合わせて、第2撮像装置40−2のシャッタを開けてもよい。第2撮像装置40−2のシャッタが開くタイミングで、軌道上のターゲットを照明し、ターゲットを撮影し、ターゲットの軌道を撮像し得る。ターゲットの撮影が終了するタイミングで、第2照明装置70−2を消灯し、第2撮像装置40−2のシャッタを閉じてもよい。
画像処理部44は、前述のように照明装置70−1、70−2及び撮像装置40−1、40−2が動作するように制御信号を送信してもよく、前述した二つのステップを繰り返して、ターゲットの軌道を撮像してもよい。
6.3 作用
第2実施形態では、照明装置70−1、70−2は、互いに異なるタイミングで照明光をターゲットに照射して、各撮像装置40−1、40−2は、各照明装置70−1、70−2の点灯タイミングと同期してターゲットの軌道を撮像するので、各撮像装置が一つの照明光の画像によってターゲットの軌道を撮像し得る。その結果、ターゲットの軌道計測の精度が改善され得る。
第2実施形態では、照明装置70−1、70−2は、互いに異なるタイミングで照明光をターゲットに照射して、各撮像装置40−1、40−2は、各照明装置70−1、70−2の点灯タイミングと同期してターゲットの軌道を撮像するので、各撮像装置が一つの照明光の画像によってターゲットの軌道を撮像し得る。その結果、ターゲットの軌道計測の精度が改善され得る。
7.実施形態3:互いに異なる偏光の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置
7.1 構成
図8に、互いに異なる偏光の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置49の実施形態を示す。
7.1 構成
図8に、互いに異なる偏光の照明光を出力する照明装置を含むターゲット軌道計測装置49の実施形態を示す。
以下、図3に示す実施形態と異なる点について主に説明し、図3に示す実施形態と同じ構成及び機能については、同じ符号を付し、それらの説明は省略する。
第1照明装置70−1は、光源71−1と、レンズ72−1と、ウィンドウ73−1と、フィルタ74−1とを含んでもよく、第2照明装置70−2は、光源71−2と、レンズ72−2と、ウィンドウ73−2と、フィルタ74−2とを含んでもよい。第1撮像装置40−1は、イメージセンサ41−1と、転写光学系42−1と、ウィンドウ43−1と、フィルタ45−1とを含んでもよく、第2撮像装置40−2は、イメージセンサ41−2と、転写光学系42−2と、ウィンドウ43−2と、フィルタ45−2とを含んでもよい。
第1照明装置70−1の光源が第1の偏光の光を出力する光源でもよく、第2照明装置70−2の光源が第2の偏光の光を出力する光源でもよい。例えば、第1照明装置の光源71−1とターゲットの軌道との間の光路上に第1の偏光の光を透過する偏光フィルタ74−1を配置し、第1照明装置70−1が第1の偏光の光をターゲットに照射してもよい。また、第2照明装置の光源71−2とターゲットの軌道との間の光路上に第2の偏光と異なる偏光の光を透過する偏光フィルタ74−2を配置し、第2照明装置70−2が第2の偏光の光をターゲットに照射してもよい。第1の偏光と第2の偏光とは、90°(π/2)異なることが望ましいが、偏光フィルタで分光できればよい。
ターゲットの軌道とイメージセンサ41−1との間の光路上には、フィルタ45−1が配置されてもよい。フィルタ45−1は第1の偏光の光を通過させる偏光フィルタでもよい。また、ターゲットの軌道からイメージセンサ41−2との間の光路上には、フィルタ45−2が配置されてもよい。フィルタ45−2は第2の偏光の光を通過させる偏光フィルタでもよい。
7.2 動作
第1照明装置70−1とから出力された第1の偏光の光と、第2照明装置70−2とから出力された第2の偏光の光とは、軌道上のターゲットを照明し得る。
第1照明装置70−1とから出力された第1の偏光の光と、第2照明装置70−2とから出力された第2の偏光の光とは、軌道上のターゲットを照明し得る。
第1撮像装置40−1は、フィルタ45−1を介して、第1の偏光の光が照射されたターゲットの軌道の像を撮影し得る。一方、第2の偏光の光は、フィルタ45−1によって高率で反射又は吸収され得る。第2撮像装置40−2は、フィルタ45−2を介して、第2の偏光の光が照射されたターゲットの軌道の像を撮影し得る。一方、第1の偏光の光は、フィルタ45−2によって高率で反射又は吸収され得る。
7.3 作用
第3実施形態では、二つの照明装置70−1及び70−2が互いに異なる偏光の光をターゲットに照射して、二つの撮像装置40−1及び40−2に、それぞれの偏光に対応する偏光フィルタを配置して撮像しているので、各撮像装置が一つの照明光の画像によってターゲットの軌道を撮像し得る。その結果、ターゲットの軌道計測の精度が改善され得る。
第3実施形態では、二つの照明装置70−1及び70−2が互いに異なる偏光の光をターゲットに照射して、二つの撮像装置40−1及び40−2に、それぞれの偏光に対応する偏光フィルタを配置して撮像しているので、各撮像装置が一つの照明光の画像によってターゲットの軌道を撮像し得る。その結果、ターゲットの軌道計測の精度が改善され得る。
以上、実施形態を参照して本発明を説明したが、上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換え得る。ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加え得る。各実施形態の構成の一部について、削除、他の構成の追加、他の構成による置換をし得る。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「1つの」は、「少なくとも1つ」又は「1又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである
1…EUV光生成装置、2…チャンバ、3…レーザ装置、4…ターゲットセンサ(ターゲット軌道計測装置)、5…EUV光生成制御部、6…露光装置、11…EUV光生成システム、21…ウィンドウ、32…パルスレーザ光、22…レーザ光集光ミラー、22A…レーザ集光光学系、23…EUV光集光ミラー、24…貫通孔、25…プラズマ生成領域、251…放射光、252…EUV光、26…ターゲット供給部、27…ターゲット、28…ターゲット回収器、29…接続部、291…壁、292…第2の焦点が中間集光点、32…パルスレーザ光、33…パルスレーザ光、34…ビームデリバリーシステム(レーザ光進行方向制御部)、40、40−1、40−2…撮像装置、41、41−1、41−2…イメージセンサ、42、42−1、42−2…転写光学系、43、43−1、43−2…ウィンドウ、44…画像処理部、45−1、45−2…フィルタ、52…ターゲット制御部、61…露光装置制御部、62…ノズル、63…2軸ステージ、70、70−1、70−2…照明装置、71、71−1、71−2…光源、72、72−1、72−2…レンズ、73、73−1、73−2…ウィンドウ、74−1、74−2…フィルタ、81…EUV光集光ミラーホルダ、82…プレート、83…プレート、85…3軸ステージ
Claims (7)
- プラズマ生成領域のターゲットにレーザ光を照射することによってプラズマ化してEUV光を生成する装置において、
ノズルから前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、
第1の特性の光を出力して、前記ノズルから出力されたターゲットを照明する第1の照明装置と、
前記第1の特性と異なる第2の特性の光を出力して、前記ノズルから出力されたターゲットを照明する第2の照明装置と、
前記第1の特性の光で照明されたターゲットを撮影する第1の撮像装置と、
前記第2の特性の光で照明されたターゲットを撮影する第2の撮像装置と、を備える極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第1の撮像装置と前記第2の撮像装置とは、前記ターゲットの軌道を異なる方向から撮像する極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第1の特性は、第1の波長であり、
前記第2の特性は、第2の波長である極端紫外光生成装置。 - 請求項3に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第1の撮像装置の撮像素子と前記ターゲットの軌道との間の光路上に、前記第1の波長の光を通過させるフィルタを配置し、
前記第2の撮像装置の撮像素子と前記ターゲットの軌道との間の光路上に、前記第2の波長の光を通過させるフィルタを配置する極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第1の特性は、出力の第1のタイミングであり、
前記第2の特性は、出力の第2のタイミングであり、
前記第1の撮像装置は、前記第1のタイミングで前記ターゲットを撮影し、
前記第2の撮像装置は、前記第2のタイミングで前記ターゲットを撮影する極端紫外光生成装置。 - 請求項5に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第2のタイミングは、前記第1のタイミングとは重ならない極端紫外光生成装置。 - 請求項1に記載の極端紫外光生成装置であって、
前記第1の特性は、第1の偏光であり、
前記第2の特性は、第2の偏光である極端紫外光生成装置。
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