JPWO2020054762A1 - 電波透過性基板 - Google Patents

Abstract

本発明は、４Ｇや５Ｇにおいて使用される、数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数の電波に対しても優れた透過性を有する電波透過性基板を提供する。本発明は、誘電体基板と、誘電体基板の少なくとも一方の主面上に、導電性膜を含む熱線反射膜と、平面視において導電性膜の存在しない開口部とを備え、該少なくとも一方の主面上の平面視における少なくとも一部が電波透過性領域であり、電波透過性領域は、該領域内のすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ａ）を満足する領域である、電波透過性基板に関する。Ｌ＞８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ａ）（式（ａ）中、Ｌ及びＳの定義は明細書内における定義と同様である）

Description

本発明は、電波透過性基板に関する。

近年、地球温暖化防止のために、エアコン等による冷房を控えるなど、電力消費量を低減させることが一般的に行われている。これに対応して、車両や建築物等の窓に赤外線（熱線）を反射させる機能を持たせることで、太陽光からの車内や屋内へ熱の取り込みを抑える試みがなされている。

窓等に赤外線反射機能を持たせる方法としては、例えば銀などの赤外線反射機能を有する金属を含有する薄膜を、ガラス等の基板上に形成する方法が挙げられる。

例えば、特許文献１では、ガラス板と、ガラス板の一方の主面側に銀を主成分とする金属層を有する熱線反射膜とを備えるガラス積層体が開示されている。

日本国特開２０１５−３３８８号公報

このような赤外線反射機能を有する基板を例えば窓ガラスに適用する場合、所定の周波数の電波に対する高透過性も求められる。従来の赤外線反射機能を有する基板は、従来の通信において用いられている比較的低い周波数帯域の電波に対して高い透過性を有するため、とくに透過性の問題は生じていなかった。ところが、近年の第４世代移動通信システム（以下「４Ｇ」という）や第５世代移動通信システム（以下「５Ｇ」という）において用いられるような数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚの周波数帯域の電波に対する透過性は、従来の周波数帯域の電波に対する透過性に比べると十分ではない、という問題が顕在化している。

上記に鑑みて、本発明は４Ｇや５Ｇにおいて使用される、数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数の電波に対しても優れた透過性を有する電波透過性基板を提供することを目的とする。

上記課題を解決する本発明の電波透過性基板は、誘電体基板と、誘電体基板の少なくとも一方の主面上に、導電性膜を含む熱線反射膜と、平面視において該導電性膜の存在しない開口部とを備え、該少なくとも一方の主面上の平面視における少なくとも一部が電波透過性領域であり、電波透過性領域は、該領域内のすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ａ）を満足する領域である。
Ｌ＞８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ａ）
（式（ａ）中、Ｌは単位領域内の熱線反射膜と開口部との境界線の全長（単位はｍｍ／ｃｍ^２）であり、Ｓは単位領域内の熱線反射膜の占める面積の割合である。）

本発明の一態様において、電波透過性領域は、下記式（ｂ）を満足してもよい。
Ｚ＞（−Ｚ´＋Ｚ´×Ｓ´＋０．３）／Ｓ´ ・・・（ｂ）
（式（ｂ）中、Ｚは熱線反射膜の日射反射率であり、Ｚ´は開口部の日射反射率であり、Ｓ´は電波透過性領域の面積に対する熱線反射膜の面積の割合である。）

本発明の一態様において、電波透過性領域は、下記式（ｃ）を満足してもよい。
ΔＥ＜６０．３×Ｄ^{−０．６２} ・・・（ｃ）
（式（ｃ）中、ΔＥは熱線反射膜と開口部との色差であり、Ｄは開口部の幅（単位はｍｍ）である。）

本発明の一態様において、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢ以下であってもよい。

本発明の一態様において、開口部が平行する複数の線状、又は格子状であってもよい。

本発明の一態様において、誘電体基板の少なくとも一方の主面上の少なくとも一部に、電波非透過性領域を有し、電波非透過性領域は、該領域を含むすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ｄ）を満足する領域であってもよい。
Ｌ≦８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ｄ）
（式（ｄ）中、Ｌは単位領域内の熱線反射膜と開口部との境界線の全長（単位はｍｍ／ｃｍ^２）であり、Ｓは単位領域内の熱線反射膜の占める面積の割合である。）

本発明の一態様において、導電性膜は、銀及びアルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも１種を合計で５０原子％以上含有してもよい。

本発明の一態様において、開口部は、誘電体基板が露出していてもよい。

本発明の一態様において、誘電体基板は、周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が４ｄＢ以下でもよい。

本発明の一態様において、導電性膜は、厚さが１ｎｍ〜１００ｎｍでもよい。

本発明の一態様において、熱線反射膜は、導電性膜とは異なる、金属酸化物層および金属窒化物層のうち少なくとも一方の層を含んでもよい。

本発明の一態様において、導電性膜は、金属酸化物層および金属窒化物層のうち少なくとも一方の層で挟まれる構成を有してもよい。

本発明の一態様において、誘電体基板は、複数のガラス基板が樹脂層を挟んで積層されてもよい。

本発明によれば、４Ｇや５Ｇにおいて使用される、数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数の電波に対しても優れた透過性を有する電波透過性基板が提供される。

図１は、本発明の電波透過性基板の一実施形態を表す図であり、図１（Ａ）は上面図、図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＸ−Ｘ線における断面図の拡大図である。 図２は、本発明の電波透過性基板の他の実施形態を表す図である。 図３は、本発明の電波透過性基板の他の実施形態を表す図である。

以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。また、以下の図面において、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明することがあり、重複する説明は省略または簡略化することがある。また、図面に記載の実施形態は、本発明を明瞭に説明するために模式化されており、実際の製品のサイズや縮尺を必ずしも正確に表したものではない。

図１は、本発明の電波透過性基板の一実施形態を表す図であり、図１（Ａ）は上面図、図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＸ−Ｘ線における断面図の拡大図である。

本実施形態の電波透過性基板１０は、誘電体基板１１と、誘電体基板１１の少なくとも一方の主面上に、熱線反射膜１３と、平面視において熱線反射膜１３の存在しない開口部１４とを備える。また、本実施形態の電波透過性基板１０においては、平面視において、これらが複数隣接してできた領域として電波透過性領域を形成する。なお、後述するように、開口部１４は、熱線反射膜１３に含まれる導電性膜が存在しなければよい。

電波透過性領域は、領域内のすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ａ）を満足する領域である。
Ｌ＞８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ａ）
（式（ａ）中、Ｌは単位領域内の熱線反射膜と開口部との境界線の全長（単位はｍｍ／ｃｍ^２）であり、Ｓは単位領域内の熱線反射膜の占める面積の割合である。）

上記構成を有する本実施形態の電波透過性基板は、数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数の電波に対しても優れた透過性を有する。以下、本実施形態の電波透過性基板の特徴について、詳細に説明する。

＜誘電体基板＞
本実施形態における誘電体基板は、誘電体からなる基板であれば特に限定されないが、例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板を使用できる。ガラス基板には物理強化処理や化学強化処理が施されていてもよい。またガラス基板は一枚のガラスから構成されてもよく、複数のガラスが樹脂製の膜（樹脂膜）等を挟んで積層されて構成してもよい。
また、本実施形態における誘電体基板はガラス基板に限定されず、例えば樹脂製の基板（樹脂基板）等でもよい。樹脂基板としては例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂やポリフェニレンカーボネート等の芳香族ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の芳香族ポリエステル系樹脂等からなる基板が挙げられる。

本実施形態における誘電体基板の形状も特に限定されず、平面状であっても曲面状であってもよい。また、本実施形態における誘電体基板の厚さも特に限定されず、所望の強度や軽量性等に応じて適宜調整できる。

本実施形態における誘電体基板の電波透過性や熱線反射性等の物性も、本発明の効果を奏する限りにおいて特に限定はされず、最終的に得られる電波透過性基板に求められる物性に応じて、適宜調整すればよい。
例えば、本実施形態における誘電体基板は、２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が、４ｄＢ以下が好ましく、３ｄＢ以下がより好ましく、２ｄＢ以下がさらに好ましい。電波透過損失は、実施例の欄に記載の方法により測定できる。

本実施形態における誘電体基板としてガラス基板を用いる場合は、下記の構成が好ましい。ガラス基板中の各成分の含有量は、酸化物基準のモル百分率として表す。また、ガラスがある成分を「実質的に含まない」とは、不純物として不可避的に混入する場合を除き、その成分は積極的には添加されないことを意味する。

ガラス基板の比重は、２．４以上、３．０以下が好ましい。また、ガラス基板のヤング率は６０ＧＰａ以上、１００ＧＰａ以下が好ましい。また、ガラス基板の、５０℃から３５０℃までの平均熱膨張係数は５０×１０^−７／℃以上、１２０×１０^−７／℃以下が好ましい。ガラス基板がこれらの物性要件を満たせば、窓材として充分好適に使用できる。

ガラス基板は、耐候性を確保するために一定量以上のＳｉＯ_２を含むことが好ましく、その結果、比重は２．４以上となり得る。ガラス基板の比重は、より好ましくは２．４５以上である。また、ガラス基板の比重が３．０以下であることによって脆くなりにくく、かつ軽量化が実現される。ガラス基板の比重は、より好ましくは２．６以下である。

ガラス基板は、ヤング率が大きいことによりガラス基板が剛性を有することになり、自動車窓用途等により適することとなる。ガラス基板のヤング率は、好ましくは６５ＧＰａ以上、より好ましくは７０ＧＰａ以上、さらに好ましくは７２ＧＰａ以上である。ガラス基板のヤング率を高くするためにＳｉＯ_２を増やすと溶解性が悪くなるため、適切なヤング率は１００ＧＰａ以下である。ガラス基板のヤング率は、より好ましくは８５ＧＰａ以下、さらに好ましくは７８ＧＰａ以下である。

ガラス基板は、平均線膨張係数が大きいことで、物理強化が可能となり、窓用途により好ましく使用できる。５０℃から３５０℃までの平均線膨張係数は、より好ましくは６０×１０^−７／℃以上、さらに好ましくは８０×１０^−７／℃以上である。平均線膨張係数が大きくなりすぎると、成形工程、徐冷工程、または物理強化工程において、ガラス板の温度分布に起因する熱応力が発生しやすくなり、板の熱割れが起きるおそれがある。また、金属サッシなどとの膨張差が大きくなり、歪発生の原因となり、割れに繋がるおそれもある。５０℃から３５０℃までの平均線膨張係数は、より好ましくは１１０×１０^−７／℃以下、さらに好ましくは９８×１０^−７／℃以下である。

ガラス基板のＴ_２は、１７５０℃以下が好ましい。また、ガラス基板のＴ_４は、１３５０℃以下が好ましい。また、ガラス基板のＴ_４−Ｔ_Ｌは、−５０℃以上が好ましい。ガラス基板のＴ_２は１７５０℃以下であり、かつＴ_４が１３５０℃以下であり、かつＴ_４−Ｔ_Ｌが−５０℃以上がより好ましい。本明細書において、Ｔ_２は、ガラス粘度が１０^２（ｄＰａ・ｓ）となる温度を表し、Ｔ_４は、ガラス粘度が１０^４（ｄＰａ・ｓ）となる温度を表し、Ｔ_Ｌはガラスの液相温度を表す。

Ｔ_２またはＴ_４がこれら所定温度より大きくなると、フロート法、フュージョン法、ロールアウト法、ダウンドロー法等によって大きな板を製造することが困難になる。Ｔ_２は、より好ましくは１６００℃以下、さらに好ましくは１５００℃以下である。Ｔ_４は、より好ましくは１３５０℃以下、さらに好ましくは１２００℃以下である。Ｔ_２およびＴ_４の下限は特に限定されないが、耐候性やガラス比重を維持するためには、典型的にはＴ_２は１２００℃以上、Ｔ_４は８００℃以上である。Ｔ_２はより好ましくは１３００℃以上、さらに好ましくは１４００℃以上である。Ｔ_４は、より好ましくは９００℃以上、さらに好ましくは１０００℃以上である。

更に、フロート法での製造を可能とするためには、Ｔ_４−Ｔ_Ｌを−５０℃以上とすることが好ましい。この差が−５０℃より小さいと、ガラス成形時にガラス中に失透が発生し、ガラスの機械的特性が低下する、透明性が低下する等の問題が生じ得、品質の良いガラスを得られないことがあり好ましくない。Ｔ_４−Ｔ_Ｌは、より好ましくは０℃以上、さらに好ましくは２０℃以上である。

ガラス基板のＴ_ｇは、４００℃以上、７５０℃以下が好ましい。本明細書において、Ｔ_ｇは、ガラスのガラス転移点を表す。Ｔ_ｇがこの所定温度範囲内であれば、通常の製造条件範囲内でガラスの曲げ加工を行うことができる。Ｔ_ｇが４００℃より低いと、成形性には問題は生じないが、アルカリ含有量、あるいはアルカリ土類含有量が大きくなりすぎて、ガラスの熱膨張が過大になる、耐候性が低下する等の問題が起きやすくなる。また、成形温度域において、ガラスが失透し成形できなくなるおそれがある。Ｔ_ｇは、より好ましくは４５０℃以上、さらに好ましくは４８０℃以上、特に好ましくは５２０℃以上である。またＴ_ｇが高すぎると、ガラス曲げ加工時に高い温度が必要になり、製造がより困難になる。Ｔ_ｇは、より好ましくは６００℃以下、さらに好ましくは５５０℃以下である。

ガラス基板は、ガラス組成を調整することで誘電損失を下げ、高い電波透過率を達成することができる。同様に組成を調整することで比誘電率も調整でき、用途に合わせた比誘電率を達成できる。

ガラス基板は、ＳｉＯ_２の含有量が５０％以上、８０％以下であることが好ましい。また、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が０％以上、２０％以下であることが好ましい。ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３は、ヤング率の向上に貢献することにより、建築用途、自動車窓用途等に必要とされる強度を確保しやすくする。Ａｌ_２Ｏ_３および／またはＳｉＯ_２が少ないと、耐候性を確保しにくくなり、また、平均線膨張係数が大きくなりすぎて熱割れしやすくなり、好ましくない。Ａｌ_２Ｏ_３および／またはＳｉＯ_２は、多すぎても、ガラス溶融時の粘性が増加しガラス製造が困難になるため好ましくない。またＡｌ_２Ｏ_３が多すぎると、電波透過率も低くなるおそれがある。

ＳｉＯ_２の含有量は６５％以上がより好ましく、７０％以上がさらに好ましく、７２％以上が特に好ましい。ＳｉＯ_２の含有量は、７７％以下がより好ましく、７５％以下がさらに好ましい。
Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、耐候性改善のため０．１％以上が好ましい。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、ガラス粘性Ｔ_２を低く保ちガラスを製造しやすくするために、および電波透過率を良くする観点から５％以下がより好ましく、１％以下がさらに好ましく、０．５％以下が特に好ましい。

電波透過率を高くするために、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３すなわちＳｉＯ_２含有量とＡｌ_２Ｏ_３含有量の合計は、５０％以上８０％以下が好ましい。ガラス粘性Ｔ_２、Ｔ_４を低く保ちガラスを製造しやすくすることを更に考慮すると、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３は少ない方が良いため、８０％以下が好ましい。ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３は７６％以下がより好ましく、７４％以下がさらに好ましい。但し、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３少なすぎると、耐候性が低下するおそれがある。また、平均線膨張係数が大きくなりすぎるおそれがある。そのためＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３は６５％以上がより好ましく、７２％以上がさらに好ましい。

ガラス基板は、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が０％以上、１５％以下であることが好ましい。Ｂ_２Ｏ_３は、溶解性の向上やガラス強度の向上のために含有させ得る。また電波透過率を高くする効果がある。Ｂ_２Ｏ_３の含有量が多すぎると、溶解・成形中にアルカリ元素が揮散しやすくなり、ガラス品質の悪化につながるおそれがある。またＢ_２Ｏ_３の含有量が多いと平均線膨張係数が小さくなり物理強化がしにくくなる。Ｂ_２Ｏ_３の含有量は、１０％以下がより好ましく、３％以下がさらに好ましく、実質的に含まないことが特に好ましい。

ガラス基板は、ＭｇＯの含有量が０％以上、２０％以下であることが好ましい。ＭｇＯは、ガラス原料の溶解を促進し、耐候性を向上させる成分である。ＭｇＯの含有量は、０．１％以上が好ましい。ＭｇＯの含有量が２０％以下であれば、失透しにくくなる。また、ＭｇＯは、電波透過率を高くするのにも効果がある場合がある。ＭｇＯの含有量は、４％以下がより好ましく、１％以下がさらに好ましく、０．２％以下が特に好ましい。

ガラス基板において、ＣａＯ、ＳｒＯ、および／またはＢａＯは、ガラスの誘電損失量を低減させるために一定量含まれ得る。ＣａＯの含有量は０％以上、２０％以下であることが好ましい。ＳｒＯの含有量は０％以上、１５％以下であることが好ましい。ＢａＯの含有量は０％以上、１５％以下であることが好ましい。ガラス基板にＣａＯ、ＳｒＯ、および／またはＢａＯが含まれると、ガラスの溶解性も改善し得る。ＣａＯの含有量は３％以上とすることがより好ましく、これによりガラスの誘電損失量が減少しひいては電波透過率が向上する。また、ＣａＯを３％以上添加することで、ガラスの溶解性の向上（Ｔ_２の低下、およびＴ_４の低下）ももたらされ得る。ＣａＯの含有量はより好ましくは８％以上、さらに好ましくは１１％以上である。ＣａＯの含有量を２０％以下、ＳｒＯの含有量を１５％以下、およびＢａＯの含有量を１５％以下にすることで、ガラスの比重の増加が避けられ、低脆性および強度が維持される。ガラスが脆くなるのを防ぐために、ＣａＯの含有量は１５％以下がより好ましく、１２％以下がさらに好ましい。ＳｒＯの含有量は３％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。ＢａＯの含有量は３％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。

本明細書において、「ＲＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯの含有量の合計を表す。ガラス基板は、ＲＯが０％以上、２０％以下であることが好ましい。ＲＯが２０％以下であれば、耐候性が向上する。ガラス基板のＲＯはより好ましくは１６％以下、さらに好ましくは１３％以下である。
また、製造時におけるガラスの粘性Ｔ_２、Ｔ_４を下げる観点から、あるいはヤング率を高くする観点から、ガラス基板のＲＯは０％超であることが好ましく、より好ましくは５％以上、さらに好ましくは１０％以上である。

さらに、ガラス溶解時や成形時に失透が発生してガラス品質の悪化につながるのを防ぐために、ＭｇＯとＣａＯの含有量の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ）は０％以上、２０％以下が好ましい。ＭｇＯ＋ＣａＯはより好ましくは１５％以下、さらに好ましくは１３％以下である。但し、ＭｇＯ＋ＣａＯが低くなりすぎると、溶解・成形時のガラス粘性が高くなりすぎて、製造が困難となるおそれがある。そのためＭｇＯ＋ＣａＯは４％以上がより好ましく、さらに好ましくは１０％以上である。

ガラス基板は、Ｎａ_２Ｏの含有量が０％以上、１８％以下であることが好ましい。Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏは、ガラスの溶解性を向上させる成分であり、いずれかまたは両方をそれぞれ０．１％以上含有させることがより好ましい。それにより、Ｔ_２を１７５０℃以下、Ｔ_４を１３５０℃以下に抑えやすくなる。また、Ｎａ_２Ｏを含有させることで、化学強化が可能となる。Ｎａ_２Ｏの含有量はより好ましくは４％以上であり、さらに好ましくは６％以上である。
Ｎａ_２Ｏが多すぎると、平均線膨張係数が大きくなりすぎて熱割れしやすくなる。Ｎａ_２Ｏの含有量はより好ましくは１６％以下であり、さらに好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％以下である。

ガラス基板は、Ｋ_２Ｏの含有量が０％以上、１８％以下であることが好ましい。Ｋ_２Ｏは、ガラスの溶解性を向上させる成分であり０．１％以上含有させることがより好ましい。それにより、Ｔ_２を１７５０℃以下、Ｔ_４を１３５０℃以下に抑えやすくなる。Ｋ_２Ｏの含有量はより好ましくは２％以上であり、さらに好ましくは５％以上である。
また、Ｋ_２Ｏの含有量が多すぎると、平均線膨張係数が大きくなりすぎて熱割れしやすくなる。Ｋ_２Ｏの含有量が１８％超となると耐候性が低下して好ましくない。Ｋ_２Ｏの含有量はより好ましくは１２％以下であり、さらに好ましくは８％以下である。
ガラス基板にＮａ_２ＯとＫ_２Ｏをともに含有させることで、溶解性を維持しつつ、耐候性を改善することができるためより好ましく、さらに、電波透過率も高くするのにも効果がある場合がある。Ｎａ_２Ｏおよび／またはＫ_２Ｏの含有量が少ないと、平均線膨張係数を大きくすることができず熱強化ができなくなるおそれがある。Ｎａ_２Ｏおよび／またはＫ_２Ｏの含有量を上記所定量にすることで、他の部材との整合性も良い窓用材料として利用できるようになる。電波透過率の観点からは、上記範囲とすることで高い電波透過率を得ることができる。

ガラス基板は、Ｌｉ_２Ｏの含有量が０％以上、１８％以下であることが好ましい。Ｌｉ_２Ｏは、ガラスの溶解性を向上させる成分であり、また、ヤング率を大きくしやすくし、ガラスの強度向上にも寄与する。ガラス基板にＬｉ_２Ｏを含有させることで、化学強化が可能となる。さらに電波透過率も高くするのにも効果がある場合がある。Ｌｉ_２Ｏを含有させる場合の含有量は、０．１％以上であってもよく、１％以上であってもよく、３％以上であってもよい。
Ｌｉ_２Ｏの含有量が多すぎると、ガラス製造時に失透もしくは分相が生じ、製造が困難になるおそれがある。Ｌｉ_２Ｏの含有量はより好ましくは１０％以下である。また、熱膨張係数を低下させ、物理強化ができなくなるおそれがあるため、自動車窓用ガラスとしては含有しすぎても好ましくない。そのため、より好ましくは７％以下、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは実質的に含有しない。

本明細書において、「Ｒ_２Ｏ」はアルカリ金属酸化物の総量を表す。これは通常、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計を意味する。ガラス基板のＲ_２Ｏは、４％以上、２０％以下が好ましい。Ｒ_２Ｏが２０％以下であれば、耐候性が向上する。ガラス基板のＲ_２Ｏはより好ましくは１８％以下、さらに好ましくは１５％以下である。
また、製造時におけるガラスの粘性Ｔ_２、Ｔ_４を下げる観点から、Ｒ_２Ｏは４％以上が好ましい。Ｒ_２Ｏはより好ましくは９％以上、さらに好ましくは１３％以上、特に好ましくは１４％以上である。

ガラス基板のＺｒＯ_２の含有量は、０％以上、５％以下が好ましい。ＺｒＯ_２は、ガラスの溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する効果があり、また耐熱性および化学的耐久性の向上に寄与し得る。ＺｒＯ_２が多いと、液相温度が上昇し、平均線膨張係数が増大するおそれがある。ＺｒＯ_２の含有量は１．０％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。

ガラス基板のＦｅ_２Ｏ_３の含有量は、０．００１％以上、５％以下が好ましい。Ｆｅ_２Ｏ_３を０．００１％未満とすると、遮熱性が求められる用途に使用できなくなるおそれがあり、また、ガラス板の製造のために、鉄の含有量の少ない高価な原料を使用する必要が生じ、好ましくない。さらに、Ｆｅ_２Ｏ_３を０．００１％以上とすることにより、ガラス溶融時に、必要以上に溶融炉底面に熱輻射が到達するのを抑制し、溶融窯に負荷がかかるのを防止できる。Ｆｅ_２Ｏ_３の含有量はより好ましくは０．０１％以上、さらに好ましくは０．０５％以上である。
Ｆｅ_２Ｏ_３の含有量が５％超であると、輻射による伝熱が妨げられて原料が溶融しにくくなるおそれがある。さらに、Ｆｅ_２Ｏ_３の含有量が多くなりすぎると、可視域の光透過率の低下がおこるため、自動車窓用途での使用に適さなくなるおそれがある。Ｆｅ_２Ｏ_３の含有量はより好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．３％以下である。

ガラス基板のＴｉＯ_２の含有量は、０．００１％以上、５％以下が好ましい。ＴｉＯ_２の含有量をこの範囲内とすることにより、ガラス基板の製造の際に、溶融ガラス表面に泡層が生成するのを抑制できる。泡層が生成すると、溶融ガラスの温度が上がらず、清澄しづらくなり、生産性が悪化する傾向がある。溶融ガラス表面に生成した泡層を薄化または消失させるために、消泡剤としてチタン化合物が、溶融ガラス表面に生成した泡層に供給され得る。チタン化合物は、溶融ガラス中に取り込まれ、ＴｉＯ_２として存在することとなる。ＴｉＯ_２の含有量は、より好ましくは０．０５％以上、である。またＴｉＯ_２は紫外域に吸収を持つため紫外線をカットしたい場合は添加することが好ましい。その場合、ＴｉＯ_２の含有量は、より好ましくは０．１％以上でもよく、さらに好ましくは０．５％以上でもよい。しかしながら、ＴｉＯ_２の含有量が多いと液相温度が上昇し、失透が生じるおそれがある。また、ＴｉＯ_２の含有量が多いと可視域に吸収をもち、黄色の着色が生じるおそれもあるので、ＴｉＯ_２の含有量は５％以下に留めることが好ましい。ＴｉＯ_２の含有量は、より好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．２％以下である。

また、ガラス基板中に水分が存在すると、近赤外光領域に吸収を持つため、近赤外光領域の光透過率が減少し、赤外線照射機器（レーザーレーダーなど）の利用に好適ではない。ガラス中の水分は一般的にβ−ＯＨ値という値で表わすことができ、ガラス基板のβ−ＯＨ値は０．５ｍｍ^−１以下が好ましく、０．３ｍｍ^−１以下がより好ましく、０．２ｍｍ^−１以下がさらに好ましい。β−ＯＨはＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光光度計）を用いて測定したガラスの光透過率より、下記式によって得ることができる。
β−ＯＨ＝（１／Ｘ）ｌｏｇ_１０（Ｔ_Ａ／Ｔ_Ｂ）［ｍｍ^−１］
Ｘ：サンプルの厚み［ｍｍ］
Ｔ_Ａ：参照波数４０００ｃｍ^−１における光透過率［％］
Ｔ_Ｂ：水酸基吸収波数３６００ｃｍ^−１付近における最小光透過率［％］

本実施形態におけるガラス基板は、遮熱性を高めるために、ガラス中のβ−ＯＨ値は０．０５ｍｍ^−１以上が好ましく０．１０ｍｍ^−１以上がより好ましく、０．１５ｍｍ^−１以上がさらに好ましい。

＜熱線反射膜＞
本実施形態の電波透過性基板は、熱線反射膜を備え、熱線反射膜は導電性膜を備えることにより、熱線を反射する機能を奏する。また、熱線反射膜は本発明の効果を奏する限りにおいて導電性膜以外の層を備えてもよい。以下、熱線反射膜における導電性膜以外の層を「その他の層」という場合がある。

本明細書において「導電性膜」とは、２０℃における電気抵抗率が１０^０［Ω・ｃｍ］以下の膜をいう。導電性膜の成分は特には限定されないが、例えば、優れた熱線反射性を有する、銀、アルミニウム、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素及びアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ_２：Ｆ，Ｓｂ）、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化クロム、窒化ジルコニウム及び窒化ハフニウム（以下「導電性膜成分群Ａ」ともいう）等の金属を主成分とすることが好ましい。なお、本明細書において、主成分とは、全構成成分に対する含有率が５０原子％以上であることをいう。すなわち、本実施形態の導電性膜は、導電性膜成分群Ａからなる群より選ばれる少なくとも１種を含有し、本実施形態の導電性膜における、導電性膜成分群Ａの含有率は合計で５０原子％以上であることが好ましい。

電波透過性領域が優れた熱線反射性を奏するためには、導電性膜は、銀及びアルミニウムの少なくとも１種が主成分であれば好ましく、導電性膜は銀を主成分とする（すなわち５０％原子以上含有する）ことがより好ましく、銀を９５原子％以上含有することがさらに好ましい。

また、上記の銀を主成分とする導電性膜は、金、パラジウム、銅、ビスマス、ネオジウム、白金等の添加元素を１種又は複数種含有してもよい。銀を主成分とする導電性膜にこのような添加元素を含有させることで、銀の拡散を抑制し耐湿性を向上できる。なお、添加元素は上記に例示したものに限定されず、本発明の効果を奏する限りにおいて任意の元素を添加できる。

また、本実施形態の導電性膜の厚さは特に限定されず、最終的に得られる電波透過性基板において求められる所定の周波数の電波透過性や、熱線反射性、可視光透過性、外観等に応じて適宜調整すればよい。導電性膜の厚さは、通常は１ｎｍ以上であればよく、３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、６ｎｍ以上がさらに好ましい。また、該厚さは、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましい。また、導電性膜は、１層のみ（単層）でもよく、２層や３層等の複層でもよく、複層存在する場合それらが導電性膜の厚さ方向において隣接してもよく、層間にその他の層が介在して離間してもよい。なお、導電性膜が複層の場合において、合計の厚さは、上記の範囲内であればよい。

上記のとおり、本実施形態の熱線反射膜は、本発明の効果を奏する限りにおいて、上記の導電性膜とは異なる層（その他の層）を備えてもよい。

本実施形態の電波透過性基板は、例えば、金属酸化物層や金属窒化物層を備えてもよく、金属酸化物層および金属窒化物層のうち少なくとも一方の層を含むと好ましい。特に、熱線反射膜は、導電性膜が金属酸化物層や金属窒化物層等の上記その他の層で挟まれている層構成を有すると耐久性の点で好ましい。金属酸化物層としては、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化スズ、酸化ビスマス、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素等を主成分とする金属酸化物の層が挙げられる。これらのうち、導電性膜の好ましい成分である銀との相性がよく、導電性膜の耐久性を高めることができる点で、金属酸化物層は酸化亜鉛を主成分とすることが好ましい。金属窒化物層としては、窒化ケイ素（Ｓｉ_３Ｎ_４）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）等を主成分とする金属窒化物の層が挙げられる。

熱線反射膜を形成する方法は特に限定されず、たとえば物理的蒸着法（真空蒸着法、イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタリング法等）、化学的蒸着法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等）、イオンビームスパッタリング法等を使用できる。成膜面積が大きい場合、厚さの均一性が制御しやすく、生産性に優れることから、直流マグネトロンスパッタリング法、直流パルスマグネトロンスパッタリング法または交流デュアルマグネトロンスパッタリング法が好ましい。

本実施形態における熱線反射膜は、誘電体基板に直接形成してもよく、間接的に形成してもよい。熱線反射膜を誘電体基板に間接的に形成する方法は特に限定されないが、熱線反射膜が形成された樹脂フィルムを誘電体基板に貼付する方法などが挙げられる。

また、図１に示す実施形態においては誘電体基板２１の一方の主面の全体に熱線反射膜１３（及び開口部１４）が形成されているが、一部のみに形成されていてもよい。一例として、図２に、誘電体基板２１の一方の主面の一部に熱線反射膜２３及び開口部２４が設けられ、他の部分では広範囲で誘電体基板２１が露出している実施形態である電波透過性基板２０の上面図を示す。

＜開口部＞
開口部は、平面視において少なくとも導電性膜が存在しない部分であり、熱線反射膜によって区画される。開口部の形態は、例えば、熱線反射膜が導電性膜と導電性膜以外の層を含む場合、導電性膜と導電性膜以外の層の全てが取り除かれ、誘電体基板が最表面となる部分が存在する形態が挙げられる。すなわち、開口部の形態としては、誘電体基板が露出している形態が挙げられる。

また、本発明の効果を奏する限りにおいて、開口部の形態は、誘電体基板が最表面となる部分を有する形態に限らず、例えば、導電性膜を含まず、導電性膜以外の層の少なくとも１層を含む形態であってもよい。つまり、開口部は、導電性膜が存在せず、導電性膜以外の層（電気抵抗率が１０^０［Ω・ｃｍ］超の膜）のみが、誘電体基板に積層されていてもよい。例えば、開口部においては導電性膜が存在せず、誘電体基板上に先述のその他の層の説明において例示したような酸化物層や窒化物層が積層されていてもよい。

図１に示す実施形態において電波透過性領域は、平面視において、平行する複数の線状（以下、単に「平行線状」ともいう）の開口部を備えるが、開口部は線状に限定されず、例えば円状、楕円状、ドット状等でもよい。

開口部が線状である場合は、直線状以外にも、例えば格子状や、曲線状、ジグザグ線状、同心円状、渦巻き状、ランダムな線状等でもよい。例えば、開口部が直線状とは、１つの開口部についてみたとき、外縁が長方形や平行四辺形となる形状などが挙げられる。

本実施形態における電波透過性領域を形成する方法（開口部を形成する方法）は特に限定されない。例えば、誘電体基板上に開口部を設けずに所定の領域に連続した（べたの）熱線反射膜を形成した後に該熱線反射膜を部分的に除去して開口部を形成する方法や、誘電体基板上の所定の部分のみに熱線反射膜を形成することで電波透過性領域を得る方法が挙げられる。

熱線反射膜を部分的に除去する方法としては、例えばレーザーエッチングやフォトリソグラフィなどが挙げられる。なお、導電性膜のみを部分的に除去して（又は成膜させずに）その他の層を備える開口部を形成する方法としては、導電膜をフォトリソグラフィやレーザーエッチングなどで除去したのちにその他の層を成膜する方法などが挙げられる。

このほかに、誘電体基板上の所定の部分のみに熱線反射膜を形成する方法としては、例えば誘電体基板上の熱線反射膜を形成しない部分（開口部を形成する部分）をシートや板で被覆（マスキング）して熱線反射膜を形成する方法が挙げられる。

なお、開口部は、それ自体を形成する際の作業性の観点から、線状が好ましく、直線状がより好ましい。特に、レーザーエッチングで熱線反射膜の一部を除去する方法により開口部を形成する場合は、熱線反射膜に、固定させたレーザーを照射しながら基板を第１の方向に搬送することで、第１の方向に延びる直線状の開口部を容易に形成できる。また、例えば、その後熱線反射膜に、固定させたレーザーを照射しながら基板を、第１の方向と異なる第２の方向に搬送することで、第１の方向及び第２の方向に延びる直線状の開口部も容易に形成できる。

上記のような製造容易性から、本実施形態において開口部は、第１の方向に延びる直線状、又は、第１の方向に延びる直線状及び第２の方向に延びる直線状が好ましい。具体的には、開口部は平行する複数の線状や格子状が好ましく、平行線状や格子状となる幅方向に、所定幅の熱線反射膜と所定幅の開口部とが交互に配置されて周期性を有することで、所定の周波数の電波透過性を高められるため好ましい。

例えば、電波透過性基板の平面視において、開口部が所定幅を有して一方向に延伸する直線状または格子状であって、それらが幅方向に平行に複数配置されることで電波透過性領域を形成する場合、延伸方向と直交する直線偏波に対する電波透過性が高くなる。そのため、このような電波透過性領域を有する電波透過性基板は、所定の直線偏波を高効率で透過させる場合において都合がよい。具体的には、上記のような電波透過性基板は、地面に対して垂直に立てるとともに、直線状や格子状の開口部の延伸方向を地面に対して水平方向に設置すると、垂直偏波の電波に対して高い電波透過性が得られやすい。

＜電波透過性領域＞
本実施形態において、電波透過性領域は、領域内のすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ａ）を満足する領域であり、従来用いられている電波のみならず、数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数の電波に対しても優れた透過性を有する領域である。また、電波透過性領域は、とくに６ＧＨｚ〜数十ＧＨｚの電波に対して、従来に比べより優れた透過性を発揮する。
Ｌ＞８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ａ）
（式（ａ）中、Ｌは単位領域内の熱線反射膜と開口部との境界線の全長（単位はｍｍ／ｃｍ^２）であり、Ｓは単位領域内の熱線反射膜の占める面積の割合である。）
なお、本実施形態における電波透過性領域は、誘電体基板の一方の主面のみに形成されてもよく、両方の主面に形成されてもよい。電波透過性領域が誘電体基板の両主面に形成される場合、平面視において両主面の各々の電波透過性領域が一部または全部重なる構成でも、全く重ならない構成でもよい。

本発明者らは、電波透過性領域において、平面視における熱線反射膜の占める面積の割合、即ち、熱線反射膜の被覆率に加え、電波透過性領域内における熱線反射膜と開口部の境界線の全長も電波透過性に影響を及ぼす要因であることを見出し、該境界線の全長を長くすることにより電波透過性を向上できることを見出した。電波が電波透過性領域に入射すると、開口部を挟んで向かい合う導電性膜の間に電磁界が発生し、入射面とは反対側に電波が再放射することで、高い電波透過性が得られる。また、該境界線の全長を長くすることにより、開口部を挟んで導電性膜が向かい合う部分が多くなり、電磁界の発生、再放射の効率が高くなることで電波透過性が向上する。

本発明者らはこの着想をもとに、上記式（ａ）を満たす領域において特に電波透過性が良好で、数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数の電波に対しても優れた透過性を発揮することを経験則的に見出し、本発明を完成させた。

式（ａ）の左辺と右辺の差（左辺−右辺）、すなわち｛Ｌ−（８０２．６×Ｓ−５０３．７）｝は、０超であれば上記式（ａ）を満足するが、この差を大きくすることでより優れた電波透過性を得やすい傾向がある。すなわち、上記式（ａ）の左辺と右辺の差（左辺−右辺）は大きいことが好ましく、１００以上が好ましく、４００以上がより好ましい。言い換えると、本実施形態において電波透過性領域は、領域内のすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ａ−１）を満たすことがより好ましく、下記式（ａ−２）を満たすことがさらに好ましい。
Ｌ＞８０２．６×Ｓ−４０３．７ ・・・（ａ−１）
Ｌ＞８０２．６×Ｓ−１０３．７ ・・・（ａ−２）

なお、平面視における、単位領域内の熱線反射膜と開口部との境界線の全長Ｌ、及び、単位領域内の熱線反射膜の占める面積の割合Ｓの値は、電波透過性領域内のどの単位領域を観察するかによって異なる。

また、電波透過性領域全体の中の熱線反射膜と開口部との境界線の全長を電波透過性領域全体の面積（単位：ｃｍ^２）で除した値（以下、「電波透過性領域内の単位面積当たりの境界線長の平均値」ともいう）をＬ´、電波透過性領域中の熱線反射膜の全面積を電波透過性領域の全面積で除した値（以下、「電波透過性領域における熱線反射膜の被覆率」ともいう）をＳ´とした場合、観察する単位領域によっては、Ｌ及びＳは、Ｌ´及びＳ´とも異なる。

しかし、開口部がほぼ等間隔に設けられており、開口部及び熱線反射膜の幅が単位領域の辺の長さ（すなわち１ｃｍ）に対して十分に小さければ、電波透過性領域内のどの単位領域を観察してもＬ及びＳはＬ´及びＳ´とほぼ一致する。

本実施形態において、Ｓ´は６５％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。また、Ｌ´は１００ｍｍ／ｃｍ^２以上が好ましく、３００ｍｍ／ｃｍ^２以上がより好ましく、５００ｍｍ／ｃｍ^２以上がさらに好ましい。Ｌ及びＳとＬ´及びＳ´の差は、±１０％以内が好ましく、±５％以内がより好ましい。

また、本発明者らは、電波透過性領域が更に下記式（ｂ）を満たす場合、熱線反射性にも特に優れ、優れた電波透過性と熱線反射性とを両立する電波透過性基板を得られることを見出した。すなわち、本実施形態において、電波透過性領域は下記式（ｂ）を満たすことがより好ましい。
Ｚ＞（−Ｚ´＋Ｚ´×Ｓ´＋０．３）／Ｓ´ ・・・（ｂ）
（式（ｂ）中、Ｚは熱線反射膜の日射反射率であり、Ｚ´は開口部の日射反射率であり、Ｓ´は電波透過性領域における熱線反射膜の被覆率である。）

なお、上記の日射反射率は、ＪＩＳ Ｒ３１０６（１９９８年）で定義される日射反射率を意味し、後述の日射反射率も該規格を適用する。また、開口部は、熱線反射膜が存在しない場合、Ｚ´は誘電体基板の日射反射率に相当する。

また、本実施形態において、熱線反射性の観点からは、電波透過性領域は下記式（ｂ−１）を満たすことがより好ましく、下記式（ｂ−２）を満たすことがさらに好ましく、下記式（ｂ−３）を満たすことが特に好ましい。
Ｚ＞（−Ｚ´＋Ｚ´×Ｓ´＋０．３５）／Ｓ´ ・・・（ｂ−１）
Ｚ＞（−Ｚ´＋Ｚ´×Ｓ´＋０．４）／Ｓ´ ・・・（ｂ−２）
Ｚ＞（−Ｚ´＋Ｚ´×Ｓ´＋０．４３）／Ｓ´ ・・・（ｂ−３）
（式（ｂ−１）、（ｂ−２）及び（ｂ−３）中、Ｚは熱線反射膜の日射反射率であり、Ｚ´は開口部の日射反射率であり、Ｓ´は電波透過性領域における熱線反射膜の被覆率である。）

また、本発明者らは、電波透過性領域が更に下記式（ｃ）を満たす場合、開口部が視認されにくく、外観に優れる電波透過性領域を得られることを見出した。すなわち、本実施形態において、電波透過性領域は下記式（ｃ）を満たすことがより好ましい。
ΔＥ＜６０．３×Ｄ^{−０．６２} ・・・（ｃ）
（式（ｃ）中、ΔＥは熱線反射膜と開口部との色差であり、Ｄは開口部の幅（単位はｍｍ）である。）
すなわち、ΔＥが小さいほど、また、Ｄが小さいほど、開口部は視認されにくい。また、開口部は、熱線反射膜が存在しない場合、その表面が誘電体基板に相当する。
また、本実施形態において、開口部の視認されにくさの観点からは、電波透過性領域は下記式（ｃ−１）を満たすことがより好ましく、下記式（ｃ−２）を満たすことがさらに好ましく、下記式（ｃ−３）を満たすことが特に好ましい。
ΔＥ＜６０．３×Ｄ^{−０．６２}−５０・・・（ｃ−１）
ΔＥ＜６０．３×Ｄ^{−０．６２}−１５０・・・（ｃ−２）
ΔＥ＜６０．３×Ｄ^{−０．６２}−３５０・・・（ｃ−３）
（式（ｃ−１）〜（ｃ−３）中、ΔＥは熱線反射膜と開口部との色差であり、Ｄは開口部の幅（単位はｍｍ）である。）

なお、熱線反射膜と開口部との色差ΔＥは、より詳細にはＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系において下記式（ｃ−ｉ）で定義される熱線反射膜と開口部との色差である。
ΔＥ＝｛（ΔＬ^＊）^２＋（Δａ^＊）^２＋（Δｂ^＊）^２｝^１／２ ・・・（ｃ−ｉ）
上記の式（ｃ−ｉ）中、ΔＬ^＊、Δａ^＊、及びΔｂ^＊は下記式（ｃ−ｉｉ）〜（ｃ−ｉｖ）で定義される値である。
ΔＬ^＊＝｜Ｌ^＊（熱線反射膜）−Ｌ^＊（開口部）｜ ・・・（ｃ−ｉｉ）
Δａ^＊＝｜ａ^＊（熱線反射膜）−ａ^＊（開口部）｜ ・・・（ｃ−ｉｉｉ）
Δｂ^＊＝｜ｂ^＊（熱線反射膜）−ｂ^＊（開口部）｜ ・・・（ｃ−ｉｖ）
上記の式（ｃ−ｉｉ）〜（ｃ−ｉｖ）におけるＬ^＊（熱線反射膜）、ａ^＊（熱線反射膜）、ｂ^＊（熱線反射膜）はそれぞれＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における熱線反射膜の色調である。
上記の式（ｃ−ｉｉ）〜（ｃ−ｉｖ）におけるＬ^＊（開口部）、ａ^＊（開口部）、ｂ^＊（開口部）はそれぞれＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における開口部の色調である。
ΔＥは、実施例の欄に記載の方法で測定できる。

なお、開口部の幅Ｄとは、開口部が線状である場合は、線の幅（太さ）のことを指す。また、開口部Ｄの幅とは、開口部がドット状、円状、楕円状等である場合には、開口部の内部に画定できる開口部の形状の重心を通る線分のうち最短の長さを指す。すなわち、開口部Ｄの幅とは、開口部が正方形のドット状である場合には、当該正方形の１辺の長さを指し、開口部が長方形のドット状である場合には、当該長方形の短辺の長さを指し、円状である場合には、当該円の直径の長さを指し、楕円状である場合には当該楕円の短軸の長さをそれぞれ指す。

また、電波透過性領域内に幅の異なる複数の開口部が存在する場合は、幅が最大である開口部の幅を上記式（ｃ）における開口部の幅Ｄとして、上記式（ｃ）を満たすか否かを判定する。

＜電波非透過性領域＞
本実施形態において、電波透過性基板が熱線反射膜と開口部とを備える領域は、その全体が電波透過性領域であってもよく、一部が電波透過性領域であってもよい。なお、以下において電波透過性基板が熱線反射膜と開口部とを備える領域のうち電波透過性領域以外の領域のことを電波非透過性領域と呼ぶことがある。

すなわち、図１に示す実施形態においては電波透過性基板上の全体が電波透過性領域Ａであるが、図３に示す他の実施形態に係る電波透過性基板３０のように、電波透過性基板上の一部が電波透過性領域Ａであり、他の部分が電波非透過性領域Ｂでもよい。

電波非透過性領域は、電波透過性基板が熱線反射膜と開口部とを備える領域のうち、該領域を含むすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ｄ）を満足する領域である。
Ｌ≦８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ｄ）
（式（ｄ）中、Ｌは単位領域内の熱線反射膜と開口部との境界線の全長（単位は［ｍｍ／ｃｍ^２］）であり、Ｓは単位領域内の熱線反射膜の占める面積の割合である。）

なお、電波非透過性領域は、開口部を有してもよく、有していなくてもよい。すなわち、電波非透過性領域は、上記式（ｄ）を満足するように開口部が形成された領域であってもよく、開口部が設けられず熱線反射膜のみからなる領域であってもよい。ただし、熱線反射性を高めるためや、開口部が視認されやすくなって外観を損なうことを防ぐために、電波非透過性領域は、開口部が形成されず、熱線反射膜のみからなる領域であると好ましい。

先述のとおり、本実施形態の電波透過性基板は、電波非透過性領域を備えても備えなくてもよい。

例えば、電波透過性基板の広い範囲において電波透過性が求められるような場合は、電波透過性基板上の全体が電波透過性領域であり、電波非透過性領域を備えないことが好ましい場合が多い。

一方、例えば、電波の送受信機を電波透過性基板の一部に設置する場合などは、当該送受信機の送受信に必要な範囲のみを電波透過性領域とし、それ以外の部分は電波非透過性領域とする場合が多い。

＜電波透過性基板の特性＞
本実施形態の電波透過性基板の電波透過性領域は、特に数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数の電波に対しても優れた透過性を発揮し、さらに６ＧＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数の電波に対して優れた透過性を発揮する。より詳細には、本実施形態の電波透過性基板は、電波透過性領域において、所定の周波数の電波の透過を阻害されにくい。

本実施形態の電波透過性基板は、例えば、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢ以下であることが好ましく、２ｄＢ以下であることがより好ましく、１ｄＢ以下であることがさらに好ましい。また、周波数７９ＧＨｚの電波に対する電波透過損失も同様に３ｄＢ以下であることが好ましく、２ｄＢ以下であることがより好ましく、１ｄＢ以下であることがさらに好ましい。

なお、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚ（７９ＧＨｚ）の電波に対する電波透過損失は、電波透過性領域における電波透過性基板全体の周波数２８ＧＨｚ（７９ＧＨｚ）の電波に対する電波透過損失から、誘電体基板の周波数２８ＧＨｚ（７９ＧＨｚ）の電波に対する電波透過損失を差し引いた値である。
このように、周波数２８ＧＨｚ及び７９ＧＨｚの電波に対する電波透過損失を例に挙げて説明したが、２８ＧＨｚ帯及び７９ＧＨｚ帯に限らず、数百ＭＨｚ〜数十ＧＨｚ程度の周波数帯において上記と同様の電波透過損失が得られることが好ましい。

また、本実施形態の電波透過性基板は、熱線反射性に優れることが好ましい。熱線反射性は、例えばＪＩＳ Ｒ３１０６（１９９８年）に規定される日射反射率により評価することができる。本実施形態の電波透過性基板の電波透過性領域における日射反射率は、３０％以上が好ましく、３５％以上がより好ましく、４０％以上がさらに好ましい。

以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。

［電波透過性基板の製造］
まず、誘電体基板として、ガラス板を作製した。具体的には、表１に示すガラス組成（単位：モル％）となるように、白金坩堝に原料を投入し、１５５０℃で２時間溶融した後、カーボン板上に溶融液を流し出して徐冷し、組成例１〜７の７種類のガラスの板を得た。得られた板の両面を研磨し、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍのガラス板を得た。得られたガラス板の比重、５０℃から３５０℃までの平均熱膨張係数、Ｔ_２、Ｔ_４、Ｔ_Ｌ、ガラス転移点Ｔｇ、β−ＯＨを表１に示す。なお、表中の「−」は測定しなかったことを示し、組成から計算によって求めた値はカッコを付けて示す。

次いで、組成例１のガラス板を洗浄し、インライン型スパッタ装置に導入し、ロードロック室において、真空度が２×１０^−６Ｔｏｒｒ以下になるまで真空排気した。引き続いて、ガラス板をスパッタ室に導入し、上記ガラス板面に、スズがドープされた亜鉛酸化物とアルミニウムがドープされた亜鉛酸化物の２層の合計膜厚が４３．５ｎｍになるように成膜した。続いて銀を膜厚１２．５ｎｍ、チタンを２ｎｍ、アルミニウムがドープされた亜鉛酸化物、スズがドープされた亜鉛酸化物、アルミニウムがドープされた亜鉛酸化物の順に３層の合計膜厚が８７．５ｎｍ、銀を１２．５ｎｍ、チタンを２ｎｍ、アルミニウムがドープされた亜鉛酸化物、スズがドープされた亜鉛酸化物の順に２層の合計膜厚が３１．５ｎｍ、チタン酸化物１ｎｍを順次成膜した。成膜後、７３０℃、空気中で４分間の条件で積層体を熱処理し、熱線反射膜が成膜されたガラス板を得た。

次いで、レーザーデコートにより、熱線反射膜の全体（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に、熱線反射膜の幅が０．０７ｍｍ、開口部の幅が０．０３ｍｍとなるように、幅方向に平行で等間隔に配置した複数の線状開口部を設け、実施例１の電波透過性基板を得た。また、熱線反射膜の幅及び開口部の幅がそれぞれ表２に示した幅となるようにした以外は実施例１と同様にして、実施例２〜１３、及び比較例１〜９の電波透過性基板を得た。

実施例１４においては組成例４、厚さ１．８ｍｍのガラス板を用いた。実施例１と同様の手順で、ガラス板面に、スズがドープされた亜鉛酸化物とアルミニウムがドープされた亜鉛酸化物の２層の合計膜厚が５０ｎｍになるように成膜した。続いて銀を膜厚１７．５ｎｍ、チタンを１ｎｍ、アルミニウムがドープされた亜鉛酸化物、スズがドープされた亜鉛酸化物、アルミニウムがドープされた亜鉛酸化物の順に３層の合計膜厚が８０ｎｍ、銀を９．５ｎｍ、チタンを１ｎｍ、アルミニウムがドープされた亜鉛酸化物、スズがドープされた亜鉛酸化物の順に２層の合計膜厚が５５ｎｍ、銀を１１．５ｎｍ、チタンを１ｎｍ、アルミニウムがドープされた亜鉛酸化物、スズがドープされた亜鉛酸化物の順に２層の合計膜厚が２８ｎｍチタン酸化物１ｎｍを順次成膜した。成膜後、７３０℃、空気中で４分間の条件で積層体を熱処理し、熱線反射膜が成膜されたガラス板を得た。
次いで、レーザーデコートにより、熱線反射膜の全体（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に、熱線反射膜の幅が０．２ｍｍ、開口部の幅が０．０９９ｍｍとなるように、幅方向に平行で等間隔に配置した複数の線状開口部を設け、実施例１４の電波透過性基板を得た。

実施例１５においては組成例５、厚さ１．８ｍｍのガラス板を用いた。実施例１４と同様に熱線反射膜を成膜したのち、レーザーデコートにより、熱線反射膜の全体（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に、熱線反射膜の幅が０．１ｍｍ、開口部の幅が０．０５ｍｍとなるように、格子状に配置した複数の線状開口部を設け、電波透過性基板を得た。

実施例１６においては組成例１、厚さ８．０ｍｍのガラス板を用いた。基板温度６００℃において、熱ＣＶＤ法によりＳｉＯＣを５５ｎｍ、フッ素ドープされた酸化スズ（ＳｎＯ_２：Ｆ）３２０ｎｍを順に成膜した。次いで、レーザーデコートにより、熱線反射膜の全体（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に、熱線反射膜の幅が０．３２１ｍｍ、開口部の幅が０．０３０ｍｍとなるように、幅方向に平行で等間隔に配置した複数の線状開口部を設け、実施例１４の電波透過性基板を得た。

実施例１７においては組成例１、厚さ６．０ｍｍのガラス板を用いた。実施例１と同様の手順で、Ａｌドープされた窒化シリコンを３０ｎｍ、窒化クロム３０ｎｍ、Ａｌドープされた窒化シリコン３０ｎｍを順次成膜した。次いで、レーザーデコートにより、熱線反射膜の全体（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に、熱線反射膜の幅が０．１２８ｍｍ、開口部の幅が０．０３０ｍｍとなるように、幅方向に平行で等間隔に配置した複数の線状開口部を設け、実施例１７の電波透過性基板を得た。

すなわち、各例の電波透過性基板においては、図１に示すように、電波透過性基板平面視において全体（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に電波透過性領域を形成した。
各例について、熱線反射膜の幅、開口部の幅Ｄ、電波透過性領域における熱線反射膜の被覆率Ｓ´、電波透過性領域内の単位面積当たりの境界線長の平均値Ｌ´を表２に示す。
なお、各実施例及び比較例においては、開口部においては形成された膜が全て除去されており、即ち、開口部においてガラス板が露出している。したがって、各実施例及び比較例においては開口部の日射反射率や色度は、ガラス板の日射反射率や色度と一致する。

［日射反射率・可視光透過率の測定］
各例の電波透過性基板につき、電波透過性領域を設けた面を測定面とし、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製「Ｕ−４１００」）を用いて、ＪＩＳ Ｒ３１０６（１９９８年）の規定に従って、日射反射率および可視光透過率を測定した。また、開口部を設ける前の全体に導電膜が形成されたガラス板、及び、熱線反射膜を設ける前のガラス板について同様に測定を行い、熱線反射膜の日射反射率Ｚ及び開口部の日射反射率Ｚ´も測定した。結果を表２に示す。

［色差の測定］
開口部を設ける前の全体に熱線反射膜が形成されたガラス板、及び、熱線反射膜を形成する前のガラス板について、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製「Ｕ−４１００」）を用いて波長３００ｎｍ〜８００ｎｍの光透過率を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７２９の規定に従ってＣ光源を２度入射した場合のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系の透過光の色度を測定した。得られた色度を用いて、熱線反射膜と開口部との色差ΔＥを算出した。結果を表２に示す。

［式（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の判定］
各例の電波透過性基板につき、以下の式（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の左辺と右辺の差（左辺−右辺）を表２に示す。
Ｌ＞８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ａ）
Ｚ＞（−Ｚ´＋Ｚ´×Ｓ´＋０．３）／Ｓ´ ・・・（ｂ）
ΔＥ＜６０．３×Ｄ^{−０．６２} ・・・（ｃ）
即ち、式（ａ）及び（ｂ）については、表２に示す値が０より大きければ式（ａ）及び（ｂ）を満足する。式（ｃ）については、表２に示す値が０より小さければ式（ｃ）を満足する。
なお、いずれの例においても開口部は等間隔に設けられており、開口部及び熱線反射膜の幅は１ｃｍに対して十分に小さいので、式（ａ）の計算においては、Ｌに替えてＬ´を、Ｓに替えてＳ´を用いた。

［電波透過損失の測定］
自由空間法にて、作製した電波透過性基板の電波透過損失を測定した。電波透過損失は、アンテナを対向させ、それらの中間に、得られた電波透過性基板を開口部の延伸方向と電波の偏波方向が直交するように設置し、１００ｍｍΦの開口部にて電波透過性基板がない場合を０ｄＢとして、周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失を測定した。また、熱線反射膜を形成する前のガラス板のみについても同様に電波透過損失を測定した。これらの測定値より、各例の電波透過性基板について、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失を算出した。結果を表２に示す。

式（ａ）を満足しない比較例１〜９の電波透過性基板は、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢより大きく、電波透過性に劣った。
一方、式（ａ）を満足する実施例１〜１７の電波透過性基板に対する電波透過損失の評価では、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢ以下であり、電波透過性に優れた結果が得られた。

また、さらに式（ｂ）を満足する実施例１〜７、９、１０及び１３〜１７の電波透過性基板は、比較的日射反射率が高く、熱線反射性に優れていた。また、実施例１〜１７のいずれもが式（ｃ）を満足し、開口部が視認されにくく、外観に優れていた。

組成例２〜７のガラス板により作製される電波透過性基板においても、式（ａ）を満足する電波透過性基板では、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢ以下であり、電波透過性に優れた結果が得られる。

本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。なお、本出願は、２０１８年９月１４日付けで出願された日本特許出願（特願２０１８−１７２７４９）及び２０１８年１０月２６日付けで出願された日本特許出願（特願２０１８−２０２１０２）に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。

１０、２０、３０ 電波透過性基板
１１、２１ 誘電体基板
１３、２３、３３ 熱線反射膜
１４、２４、３４ 開口部
Ａ 電波透過性領域
Ｂ 電波非透過性領域

Claims (13)

1. 誘電体基板と、前記誘電体基板の少なくとも一方の主面上に、導電性膜を含む熱線反射膜と、平面視において前記導電性膜の存在しない開口部とを備え、
   前記少なくとも一方の主面上の平面視における少なくとも一部が電波透過性領域であり、
   前記電波透過性領域は、該領域内のすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ａ）を満足する領域である、電波透過性基板。
   Ｌ＞８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ａ）
   （式（ａ）中、Ｌは前記単位領域内の前記熱線反射膜と前記開口部との境界線の全長（単位はｍｍ／ｃｍ^２）であり、Ｓは前記単位領域内の前記熱線反射膜の占める面積の割合である。）
2. 前記電波透過性領域は、下記式（ｂ）を満足する請求項１に記載の電波透過性基板。
   Ｚ＞（−Ｚ´＋Ｚ´×Ｓ´＋０．３）／Ｓ´ ・・・（ｂ）
   （式（ｂ）中、Ｚは前記熱線反射膜の日射反射率であり、Ｚ´は前記開口部の日射反射率であり、Ｓ´は前記電波透過性領域の面積に対する前記熱線反射膜の面積の割合である。）
3. 前記電波透過性領域は、下記式（ｃ）を満足する請求項１または２に記載の電波透過性基板。
   ΔＥ＜６０．３×Ｄ^{−０．６２} ・・・（ｃ）
   （式（ｃ）中、ΔＥは前記熱線反射膜と前記開口部との色差であり、Ｄは前記開口部の幅（単位はｍｍ）である。）
4. 前記電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の電波透過性基板。
5. 前記開口部が平行する複数の線状、又は格子状である請求項１〜４のいずれか１項に記載の電波透過性基板。
6. 前記誘電体基板の少なくとも一方の主面上の少なくとも一部に、電波非透過性領域を有し、
   前記電波非透過性領域は、該領域を含むすべての１ｃｍ四方の単位領域が下記式（ｄ）を満足する領域である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の電波透過性基板。
   Ｌ≦８０２．６×Ｓ−５０３．７ ・・・（ｄ）
   （式（ｄ）中、Ｌは前記単位領域内の前記熱線反射膜と前記開口部との境界線の全長（単位はｍｍ／ｃｍ^２）であり、Ｓは前記単位領域内の前記熱線反射膜の占める面積の割合である。）
7. 前記導電性膜は、銀、アルミニウム、インジウムスズ酸化物、フッ素およびアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化クロム、窒化ジルコニウム及び窒化ハフニウム、からなる群より選ばれる少なくとも１種を合計で５０原子％以上含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の電波透過性基板。
8. 前記開口部は、前記誘電体基板が露出している、請求項１〜７のいずれか１項に記載の電波透過性基板。
9. 前記誘電体基板は、周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が４ｄＢ以下である請求項１〜８のいずれか１項に記載の電波透過性基板。
10. 前記導電性膜は、厚さが１ｎｍ〜１００ｎｍである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の電波透過性基板。
11. 前記熱線反射膜は、前記導電性膜とは異なる、金属酸化物層および金属窒化物層のうち少なくとも一方の層を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電波透過性基板。
12. 前記導電性膜は、前記金属酸化物層および前記金属窒化物層のうち少なくとも一方の層で挟まれる構成を有する、請求項１１に記載の電波透過性基板。
13. 前記誘電体基板は、複数のガラス基板を有し、
    前記複数のガラス基板が樹脂膜を挟んで積層される、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の電波透過性基板。

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