JP6459373B2 - 積層膜付き透明基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の積層膜付き透明基板の実施形態の一例を示す断面図である。図2は、本発明の積層膜付き透明基板の実施形態の別の一例を示す断面図である。
透明基板11は、特に限定されず、例えば、建築物用の窓ガラスや通常使用されるフロートガラス、またはロールアウト法によって製造されるソーダ石灰ガラス等の無機質の透明性を有するガラス基板を使用できる。ガラス基板としては、クリアガラス、高透過ガラス等の無色のもの等が使用できる。透明基板11として、有機質の透明基板を用いてもよい。有機質の透明基板としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂やポリフェニレンカーボネート等の芳香族ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の芳香族ポリエステル系樹脂等からなる透明基板が挙げられる。
本発明の積層膜付き透明基板は、具体的には、以下の特性を満足することが好ましい。
透明基板として、厚さが6.0mmのソーダライムガラス(旭硝子株式会社製、FL6)を用意し、このガラス基板を洗浄後、基板ホルダーにセットした。
実施例1において、コーティング付きガラス基板として、ITO層の厚さを72nm、窒化チタン層の厚さを42nm、Alドープ窒化ケイ素層の厚さを59nmとしたコーティング付きガラス基板を作製した以外は、実施例1と同様にして積層膜付き透明基板Bを得た。
実施例1において、コーティング付きガラス基板として、ITO層の厚さを131nm、窒化チタン層の厚さを32nm、Alドープ窒化ケイ素層の厚さを40nmとしたコーティング付きガラス基板を作製した以外は、実施例1と同様にして積層膜付き透明基板Cを得た。
実施例1において、コーティング付きガラス基板として、ITO層の厚さを96nm、窒化チタン層の厚さを5nm、Alドープ窒化ケイ素層の厚さを55nmとしたコーティング付きガラス基板を作製した以外は、実施例1と同様にして積層膜付き透明基板Dを得た。
透明基板として、厚さが6mmの緑色の熱線吸収ガラス(旭硝子株式会社製、表1中において「TG」と示す)を作製する際に、ガラスを製造するフロートライン上に設置したChemical Vapor Deposition(CVD)装置にて、SiOC層(80nm)、SbドープSnO2層(320nm)をその順に成膜し、積層膜付き透明基板Eを得た。
透明基板として、厚さが6.0mmのソーダライムガラス(旭硝子株式会社製、FL6)を用い、該透明基板上に実施例1と同様のスパッタ装置により、窒化ケイ素層(10nm)、窒化クロム層(10nm)、窒化ケイ素層(20nm)をその順に成膜し、積層膜付き透明基板Fを得た。
日立分光光度計(U−4100型)を使用して積層膜付き透明基板の分光測定を行った。ISO9050:2003に準拠して、透明基板から光が入射する場合のg値、可視光透過率(Tv)、透明基板側の可視光反射率(Rv1)、および積層膜側の可視光反射率(Rv2)を求めた。JIS Z8726(1990)に準拠して平均演色性評価数(Ra)により評価される透過光の演色性を求めた。
[耐汗試験]
ISO12870に準じて耐汗試験を行った。すなわち、密閉容器中に人工汗液を注入するとともに、この密閉容器中に人工汗液から離して積層膜付き透明基板を配置した後、密閉状態にして55±5℃で3日間保持した。なお、人工汗液は、乳酸50g/L、および塩化ナトリウム100g/Lを含有する。その後、密閉容器から積層膜付き透明基板を取り出して、積層膜表面を顕微鏡(50倍)で観察し、1mm×1mmの範囲における欠点数を目視で計測し、以下の基準で評価した。
5;欠点数が101個以上
4;欠点数が51〜100個
3;欠点数が31〜50個
2;欠点数が6〜30個
1;欠点数が0〜5個
JIS R 3221にしたがい、1N−NaOHおよび1N−HClのそれぞれに積層膜付き透明基板を温度23℃で6時間浸積した後、純水で洗浄する試験を行った。試験前後のヘイズの変化が4%以下の場合を「A」、4%を超えた場合を「C」とした。
積層膜付き透明基板に、−30℃×5時間〜80℃×5時間(湿度95%RH)の冷熱サイクルを繰り返し90日間行った。その後、積層膜付き透明基板の外観目視検査を行った。表中、「A」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が無いこと、「C」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が有ることを示す。
積層膜付き透明基板の積層膜面に、スーパーキセノンランプ(180W/m2)、2000時間照射した。その後、積層膜付き透明基板の外観目視検査を行った。表中、「A」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が無いこと、「C」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が有ることを示す。
積層膜付き透明基板の積層膜面に、5%NaClをスプレー供給しながら4日間保持した後、3日間で乾燥させる操作を1サイクルとして、4サイクルを繰り返して行った。その後、積層膜付き透明基板にの外観目視検査を行った。表中、「A」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が無いこと、「C」は目視で腐食、膜剥がれ等の劣化が有ることを示す。
積層膜付き透明基板の積層膜面に、JIS R 3221のグループB試験を100回繰り返した。試験前後のヘイズの変化が4%以下の場合を「A」、4%を超えた場合を「C」とした。
Claims (7)
- 透明基板と、
前記透明基板上に、透明導電層および窒素含有光吸収層が前記透明基板側からその順に積層された積層膜と
を有する積層膜付き透明基板であって、
前記透明導電層の膜厚は50〜150nmであり、かつ前記窒素含有光吸収層の膜厚は25〜50nmである、積層膜付き透明基板。 - 前記積層膜はさらに前記透明基板側と反対側の最表層に誘電体層を有する請求項1記載の積層膜付き透明基板。
- 前記透明導電層は、スズ、チタン、タングステン、モリブデン、亜鉛および水素から選ばれる少なくとも1種がドープされた酸化インジウム;アンチモン、インジウム、タンタル、塩素およびフッ素から選ばれる少なくとも1種がドープされた酸化スズ;インジウム、アルミニウム、スズ、ガリウム、フッ素およびホウ素から選ばれる少なくとも1種がドープされた酸化亜鉛から選ばれる少なくとも1種を主体とする請求項1または2記載の積層膜付き透明基板。
- 前記窒素含有光吸収層は、窒化ジルコニウム、窒化クロム、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化ハフニウム、酸窒化ジルコニウム、酸窒化クロム、酸窒化チタン、酸窒化ニオブ、および酸窒化ハフニウムから選ばれる少なくとも1種を主体とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層膜付き透明基板。
- 前記誘電体層は、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、アルミニウムおよび/またはホウ素がドープされた窒化ケイ素または酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウム、スズ亜鉛酸化物から選ばれる少なくとも1種を主体とする請求項2〜4のいずれか1項に記載の積層膜付き透明基板。
- 前記積層膜付き透明基板における前記透明基板側の反射光の色調は、CIE1976L*a*b*色度座標において全反射角にわたってa*が5以下であり、前記積層膜側の反射角0度の反射光の色調は、前記色度座標においてa*が5以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の積層膜付き透明基板。
- 前記透明基板上に、以下の熱処理によってそれぞれ前記透明導電層および前記窒素含有光吸収層となる、前記透明導電層の前駆層および前記窒素含有光吸収層の前駆層を形成してコーティング付き透明基板を得るコーティング工程と、
前記コーティング付き透明基板を、550〜750℃の大気中で1〜30分間、または150〜450℃大気中で15分間〜4時間、熱処理する熱処理工程と
を具備する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の積層膜付き透明基板の製造方法。
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