KR102170015B1 - 한랭 기후에서의 창을 위한 저 방사율 코팅 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 저 방사율 코팅(30)은, 복수개의 상 조절 층(40, 50, 62); 제 1 금속 기능 층(46); 및 제 1 금속 기능 층(46) 위쪽에 위치하고 이로부터 이격된 제 2 금속 기능 층(58)을 포함한다. 상기 제 2 금속 기능 층의 기하학적 두께로 나누어진 상기 제 1 금속 기능 층의 기하학적 두께의 비는 0.6 내지 1 범위이다. 저 방사율 코팅(30)은 0.4 이상의 기준 IGU 하절기/주간 SHGC 및 0.4 BTU/hr-ft2-℉(2.27 W/m2-K) 이하의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공한다.

Description

한랭 기후에서의 창을 위한 저 방사율 코팅
본 발명은, 태양열 획득 계수(solar heat gain coefficient, SHGC)가 높고 총 열전달 계수(overall heat transfer coefficient, U 인자)가 낮은 저 방사율 코팅에 관한 것이다. 상기 코팅은 절연 유리 유닛(IGU)에 특히 유용하다.
관련 출원의 교차 참조
본원은, 2016년 2월 24일에 출원된 미국 특허 가출원 제 62/299,036 호를 우선권으로 주장하며, 상기 가출원 전체를 본원에 참고로 인용한다.
기술적 고려사항
통상적인 건축용 창유리는 고도로 열 방사성이다. 태양 에너지는 상기 유리를 용이하게 통과한다. 태양 에너지의 통과를 감소시키기 위해, 저 방사율 코팅이 상기 유리에 적용된다. 저 방사율 코팅은, 적외선(IR) 복사 에너지, 특히 적외선 열 에너지의 방출을 감소시키는 열 장벽으로서 작용한다. 방사율이 낮을 수록, 상기 코팅은 적외선 열 에너지의 방출을 더 잘 차단한다.
태양열 획득 계수(SHGC)는, 창이 태양열을 얼마나 잘 차단하는지의 척도이다. SHGC가 더 낮을수록, 더 많은 태양열이 차단된다(즉, 더 적은 태양열이 건물 안쪽에 축적됨).
총 열전달 계수(U 인자)는, 창을 통한 열 손실의 척도이다. U 인자가 더 낮을수록, 창을 통해 더 적은 열이 전달된다(즉, 창의 절연 수준이 더 높음).
건축용 창을 위한 통상적인 저 방사율 코팅은 낮은 SHGC 및 낮은 U 인자를 제공하도록 설계된다. 낮은 SHGC는, 창을 통해 구조물 내로 통과하는 태양 에너지, 특히 태양 적외선 에너지를 차단한다. 이러한 통상적인 저 방사율 코팅은, 하절기에 냉방(air conditioning) 비용을 감소시키는 것을 돕고, 온난 기후 및 고온 기후에 매우 적합하다.
그러나, 이러한 통상적인 저 방사율 코팅은 한랭 기후(예컨대, 긴 동절기 및 짧은 하절기를 갖는 기후, 또는 연장된 기간의 매우 추운 날씨를 갖는 기후)에는 별로 적합하지 않다. 한랭 기후에서는, 짧은 하절기의 달 동안 냉방 비용을 감소시키는 것에 대한 관심이, 일년 중 나머지 기간 동안 건물을 가열하는 것에 대한 관심보다 훨씬 더 적다. 한랭 기후의 경우, 낮은 U 인자를 유지하면서, 통상적인 저 방사율 코팅보다 더 높은 SHGC를 제공하는 저 방사율 코팅을 제공하는 것이 바람직할 것이다. 높은 SHGC는, 더 많은 태양열을 건물 내로 통과시켜 건물의 내부가 가열되도록 하고, 낮은 U 인자는, 건물 안쪽의 열을 유지하는 것을 돕는다. 임의적으로, 상기 저 방사율 코팅은 높은 가시광 투과율(transmittance)을 갖는 것이 또한 바람직할 것이다. 높은 가시광 투과율은, 더 많은 광이 건물에 도입되도록 하고, 램프 및 인공 조명의 필요성을 감소시킨다. 임의적으로, 상기 저 방사율 코팅이, 주택 시장 및 상업 시장의 요구를 만족시키는 바람직한 미관을 갖는 것이 또한 바람직할 것이다. 이러한 시장은, 각종 상이한 건물 색상과 함께 사용될 수 있되 여전히 심미적으로 만족스러운 중성 색상을 추구하는 경향이 있다. 임의적으로, 상기 코팅이, 상기 코팅 쪽으로 향하는 태양 자외선(UV) 복사선의 적어도 일부를 차단하는 것이 또한 바람직할 것이다. 태양 UV 복사선은 가구에 손상을 줄 수 있고, 색바램을 유발할 수 있다. 임의적으로, 상기 코팅이 긴 파장의 태양 IR 에너지의 적어도 일부를 차단하는 것이 또한 바람직할 것이다.
본 발명의 저 방사율 코팅은, 복수개의 상 조절 층; 제 1 금속 기능 층; 및 상기 제 1 금속 기능 층 위쪽에 위치하고 이로부터 이격된 제 2 금속 기능 층을 포함하며, 이때 상기 저 방사율 코팅은 0.4 이상의 기준 IGU 하절기/주간 SHGC, 및 0.4 영국 열량 단위/시간-피트 자승-화씨(BTU/hr-ft2-℉)(2.27 와트/미터 자승-켈빈도(W/m2·K)) 이하의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공한다.
상기 제 2 금속 기능 층의 기하학적 두께로 나누어진 상기 제 1 금속 기능 층의 기하학적 두께의 비는 0.6 내지 2 범위, 예컨대 0.6 내지 1 범위이다.
IGU는, 저 방사율 코팅을 갖는 기판을 포함한다.
본 발명은, 첨부된 도면을 참조하여 기술될 것이며, 이때, 전반에 걸쳐, 유사한 참조 번호는 유사한 부분으로 간주된다.
도 1은, 본 발명의 저 방사율 코팅을 갖는 단일체형 투명지(monolithic transparency) 형태의 코팅된 물품의 측면도이다(축적에 따르지 않음).
도 2는, 이중 글래이징된(double-glazed) 절연 유리 유닛(IGU) 내로 혼입된, 도 1의 코팅의 측면도이다(축적에 따르지 않음)
도 3은, 삼중 글래이징된(triple-glazed) 절연 유리 유닛(IGU) 내로 혼입된, 도 1의 코팅의 측면도이다(축적에 따르지 않음)
공간 또는 방향 용어, 예컨대 "좌측", "우측", "내부", "외부", "위쪽", "아래쪽" 등은, 도면에 도시된 바와 같은 본 발명과 관련된다. 그러나, 본 발명은 다양한 대안적 방향을 취할 수 있으며, 따라서 이러한 용어는 제한적인 것으로 간주되어서는 안된다.
본원 명세서 및 청구범위에 사용된 모든 수치는, 모든 경우, "약"이라는 용어로 수식되는 것처럼 이해되어야 한다. "약"은, 언급된 값의 ±10% 범위를 의미한다.
본원에 개시된 모든 범위는, 시작 및 끝 범위 값 및 이들 내에 포함된 모든 하위범위를 포함한다. 본원에 개시된 범위는, 명시된 범위에 걸친 평균 값을 나타낸다.
코팅 층 또는 필름과 관련하여, 용어 "위쪽"은, 논의되는 코팅 층 또는 필름이 상부에 위치하는 기판(또는 기재 층)으로부터 떨어져 있음을 의미한다. 예를 들어, 제 1 층 "위쪽"에 위치하는 제 2 층은, 기판으로부터 제 1 층보다 더 떨어져 있음을 의미한다. 제 2 층은, 제 1 층과 직접 접촉할 수 있다. 다르게는, 하나 이상의 다른 층이 제 1 층과 제 2 층 사이에 위치할 수 있다.
용어 "필름"은, 화학적으로 다르거나 균질한 물질들의 조성물 또는 혼합물을 갖는 영역을 의미한다. "층"은 하나 이상의 "필름"을 포함한다. "코팅"은 하나 이상의 "층"을 포함한다
용어 "중합체" 또는 "중합체성"은, 올리고머, 단독중합체, 공중합체, 및 삼원 공중합체, 예컨대, 2개 이상의 유형의 단량체 또는 중합체로부터 형성된 중합체를 포함한다.
용어 "자외선"은, 100 nm 내지 380 nm 미만 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다. 용어 "가시광선" 또는 "가시광"은, 380 nm 내지 780 nm 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다. 용어 "적외선"은, 780 nm 초과 내지 100,000 nm 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다. 용어 "태양 적외선"은, 1,000 nm 내지 3,000 nm 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다. 용어 "열 적외선"은, 3,000 nm 초과 내지 100,000 nm 범위의 파장을 갖는 전자기 복사선을 의미한다.
본원에서 참조된 모든 문헌은 그 전체가 본원에 "참고로 인용된다."
용어 "광학 두께"는, (물질의 기하학적 두께)×(550 nm의 기준 파장에서 물질의 굴절률)을 의미한다. 예를 들어, 5 nm의 기하학적 두께 및 550 nm의 기준 파장에서 2의 굴절률을 갖는 물질은, 10 nm의 광학 두께를 가질 것이다.
용어 "템퍼링된(tempered)" 또는 "열처리된"은, 논의되는 물품 또는 코팅이, 열적 템퍼링, 가열 굽힘 또는 열-강화를 달성하기에 충분한 온도로 가열되었거나 가열될 수 있음을 의미한다. 상기 정의는, 예를 들어, 580℃ 이상, 예를 들면 600℃ 이상, 예컨대 620℃ 이상의 온도의 오븐 또는 로(furnace)에서, 열적 템퍼링, 가열 굽힘 또는 가열 강화를 달성하는 시간 동안 물품을 가열함(예를 들어, 1 내지 15분, 예컨대 1 내지 5분 범위의 시간 동안 물품을 가열함)을 포함한다.
용어 "템퍼링가능한"은, 논의되는 물품 또는 코팅이, 최종 용도를 위해 템퍼링되도록 설계됨을 의미한다.
용어 "비-템퍼링된" 및 "비-열처리된"은, 템퍼링되지 않거나, 열처리되지 않거나, 최종 용도를 위해 템퍼링되도록 설계되지 않음을 의미한다.
용어 "금속" 및 "금속 산화물"은, 전통적으로 인식되는 금속 및 금속 산화물뿐만 아니라, 비록 규소는 통상적으로 금속으로서 간주되지 않을 수 있지만, 각각 규소 및 실리카도 포함한다.
"이상"은, "~보다 크거나 동일함"을 의미한다. "이하"는, "~보다 작거나 동일함"을 의미한다.
임의의 양에 대한 언급은, 달리 명시되지 않는 한, "중량%"이다.
두께 값은, 달리 제시되지 않는 한, 기하학적 두께 값이다.
"도판트"는, 10 중량% 이하, 예컨대 5 중량% 이하, 예컨대 중량% 이하, 예컨대 2 중량% 이하, 예컨대 1 중량% 이하, 예컨대 0.5 중량% 이하, 예컨대 0.1 중량% 이하의 양으로 존재할 수 있는 물질이다.
용어 "함유하다"는, "포함하다"와 동의어이다.
용어 "경화성"은, 중합되거나 가교결합될 수 있는 물질을 의미한다. "경화된"은, 물질이 적어도 부분적으로 중합되거나 또는 가교결합되고, 바람직하게는 완전히 중합되거나 가교결합됨을 의미한다.
LSG(광 대 태양 획득) 비는, (가시광 투과율)/SHGC이다.
"기준 IGU"는, 3번 표면 상에 코팅을 갖고 공기로 충전된 0.5 inch(1.2 mm) 간격으로 분리된 2개의 이격된 3 mm의 투명 유리 조각을 갖는 IGU로서 정의된다. "기준 IGU 값"은, 기준 IGU에서의 코팅에 대해 보고된 값을 의미한다.
"기준 라미네이팅된(laminated) 유닛"은, 2번 표면 상에 코팅을 갖고 폴리비닐 부티랄의 0.76 mm 중간층으로 연결된 2.1 mm 투명 유리의 2개의 플라이를 갖는 것으로 정의된다. 기준 라미네이팅된 유닛 값은, 코팅이 2번 표면 상의 기준 라미네이팅된 유닛내로 혼입되는 경우에 보고된 값을 의미한다.
용어 "태양 제어 코팅"은, 코팅된 물품의 태양 특성(예컨대, 코팅으로부터 반사되거나, 이에 의해 흡수되거나 이를 통해 전달된 태양 복사선의 양)에 영향을 미치는 하나 이상의 층 또는 필름으로 구성된 코팅을 지칭한다.
광학 및 태양 제어 성능 값(예컨대, 가시광 투과율 및/또는 헤이즈)은, 달리 제시되지 않는 한, 퍼킨 엘머(Perkin Elmer) 1050 분광 광도계를 사용하여 결정된 값이다. 기준 IGU 값은, 달리 제시되지 않는 한, 로렌스 버클리 내셔널 래보러토리(Lawrence Berkeley National Laboratory)로부터 입수가능한 옵틱스(OPTICS)(v6.0) 소프트웨어 및 윈도우(WINDOW)(v7.3.4.0) 소프트웨어에 따라 결정되고, NFRC 2010 (NFRC 100-2010 포함) 표준 디폴트 설정에 따라 계산된, 측정된 글래이징 중심(center of glazing, COG) 값이다.
U 인자는, 달리 제시되지 않는 한, 동절기/야간 U 인자이다. U 인자는, 달리 제시되지 않는 한, BTU/hr-ft2-℉ 단위로 보고된다.
SHGC 값은, 달리 제시되지 않는 한, 하절기/주간 값이다.
시트 저항 값은, 달리 제시되지 않는 한, 4-포인트 프로브(예컨대, 내기 인스트루먼츠(Nagy Instruments) SD-600 측정 장치 또는 알레씨(Alessi) 4-포인트 프로브)를 사용하여 결정된 값이다. 표면 조도(roughness) 값은, 인스트루먼트 디멘젼(Instrument Dimension) 3100 원자 간력 현미경을 이용하여 결정된 값이다.
색 값(예컨대, L*, a*, b*, C*, 및 색조°)은, 국제 조명 위원회(International Commission on Illumination)에 의해 명시된 1976 CIELAB 색 시스템에 따른 것이다.
본원 명세서 및 청구범위에서의 L*, a*, 및 b* 값은 색 중심점 값을 나타낸다. 정상적인 제조 변화 내에서 본 발명의 태양 제어 코팅을 포함하는 기준 IGU 또는 기준 라미네이팅된 유닛은, 상기 중심점 값 대비, 4 CMC 유닛 미만(즉, ΔEcmc < 4), 바람직하게는 2 CMC 유닛 미만(즉, ΔEcmc < 2)의 ΔEcmc 색차(color difference)를 가져야 한다.
본 발명의 논의는, 특정 제한사항 내에서 "특히" 또는 "바람직한"(예컨대, 특정 제한사항 내에서 "바람직한", "더욱 바람직한", 또는 "더더욱 바람직한") 특정 특징을 기술할 수 있다. 본 발명이 이러한 특정 또는 바람직한 제한사항으로 제한되지 않으며, 본 개시내용의 전체 범주를 포함함을 이해해야 한다.
본 발명은, 본 발명의 하기 양태들을 임의의 조합으로 포함하거나, 이로 이루어지거나 이로 본질적으로 이루어진다. 본 발명의 다양한 양태는 첨부된 도면에 도시된다. 그러나, 이는 단순히 예시 및 논의의 용이성을 위함임을 이해해야 한다. 본 발명의 실시에서, 하나의 도면에 도시된 본 발명의 하나 이상의 양태는, 하나 이상의 다른 도면에 도시된 본 발명의 하나 이상의 양태와 조합될 수 있다.
본 발명은, 건축용 투명지(architectural transparency)에 대해 논의될 것이다. "건축용 투명지"는, 건물, 예컨대 창, IGU, 또는 채광창 상에 위치하는 임의의 투명지를 의미한다. 그러나, 본 발명이 건축용 투명지에서의 용도에 제한되지 않으며, 임의의 목적하는 분야에서의 투명지(예컨대, 지상, 항공, 우주, 수면 또는 수중 차량을 위한, 라이네이팅되거나 비-라미네이팅된 주거용 또는 상업용 창 또는 투명지)를 사용하여 실시될 수 있음을 이해해야 한다. 따라서, 구체적으로 개시된 실시예는 단순히 본 발명의 일반적인 개념을 설명하기 위한 것이며, 본 발명이 이러한 특정 실시예로 제한되지 않음을 이해해야 한다. 추가적으로, 전형적인 "투명지"는, 본 발명의 실시에서 투명지를 통해 투명하게 물질이 시인될 수 있도록 충분한 가시광 투과도를 가질 수 있지만, "투명지"가 가시광에 대해 투명할 필요는 없으며, 반투명할 수도 있다.
본 발명의 특징을 포함하는 단일체형 투명지 형태의 코팅된 물품(10)이 도 1에 도시된다. 코팅된 물품(10)은, 제 1 주 표면(14) 및 반대편 제 2 주 표면(16)을 갖는 기판(12)을 포함한다.
본 발명의 저 방사율 코팅(30)은 기판(12)의 적어도 하나의 주 표면의 적어도 일부 위쪽에 위치한다. 도 1에 도시된 예에서, 저 방사율 코팅(30)은 기판(12)의 제 2 주 표면(16)의 적어도 일부 위쪽에 위치한다. 저 방사율 코팅(30)은 제 1 상 조절 층(40)을 포함한다. 제 1 금속 기능 층(46)은 제 1 상 조절 층(40) 위쪽에 위치한다. 제 1 프라이머 층(48)은 제 1 금속 기능 층(46) 위쪽에 위치한다. 제 2 상 조절 층(50)은 제 1 금속 기능 층(46) 위쪽(예컨대, 제 1 프라이머 층(48) 위쪽)에 위치한다. 제 2 금속 기능 층(58)은 제 2 상 조절 층(50) 위쪽에 위치한다. 제 2 프라이머 층(60)은 제 2 금속 기능 층(58) 위쪽에 위치한다. 제 3 상 조절 층(62)은 제 2 금속 기능 층(58) 위쪽(예컨대, 제 2 프라이머 층(60) 위쪽)에 위치한다. 보호 층(92)은 제 3 상 조절 층(62) 위쪽에 위치한다.
기판(12)은 가시광선에 투명할 수 있다. "투명하다"는, 0% 초과 100% 이하의 가시광선 투과율을 가짐을 의미한다. 다르게는, 상기 플라이가 반투명할 수 있다. "반투명"은, 관찰자 반대쪽의 물체가 투명하게 보일 수 없도록 가시광선을 분산시킴을 의미한다. 적합한 물질의 예는, 비제한적으로, 플라스틱 기판(예컨대, 아크릴계 중합체, 예컨대 폴리아크릴레이트; 폴리알킬메타크릴레이트, 예컨대 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸메타크릴레이트, 폴리프로필메타크릴레이트 등; 폴리우레탄; 폴리카보네이트; 폴리알킬테레프탈레이트, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등; 폴리실록산-함유 중합체; 또는 이들을 제조하기 위한 임의의 단량체들의 공중합체; 또는 이들의 임의의 혼합물); 세라믹 기판; 유리 기판; 또는 임의의 전술된 것들의 혼합물 또는 조합물을 포함한다. 예를 들어, 상기 기판은 통상적인 소다-석회-실리케이트 유리, 보로실리케이트 유리, 또는 납유리를 포함할 수 있다. 상기 유리는 투명 유리일 수 있다. "투명 유리"는, 비-틴트화된 또는 비-착색된 유리를 의미한다. 다르게는, 상기 유리는 틴트화되거나 달리 착색된 유리일 수 있다. 상기 유리는 열처리된 유리 또는 비-열처리된 유리일 수 있다. 상기 유리는 임의의 유형, 예컨대 통상적인 플로트 유리일 수 있고, 임의의 광학 특성(예컨대, 임의의 가시광선 투과율, 자외선 투과율, 적외선 투과율, 또는 총 태양 에너지 투과율 값)을 갖는 임의의 조성일 수 있다. "플로트 유리"는, 통상적인 플로트 공정에 의해 형성된 유리를 의미하며, 여기서는 용융된 유리가 용융 금속 욕 상에 침착되고, 제어적으로 냉각되어, 플로트 유리 리본을 형성한다.
기판(12)은, 예를 들어, 투명 플로트 유리일 수 있거나, 틴트화되거나 착색될 유리일 수 있다. 기판(12)은 임의의 목적하는 치수(예컨대, 길이, 폭, 형태 또는 두께)일 수 있다. 본 발명의 실시에 사용될 수 있는 유리의 비제한적인 예는, 투명 유리, 스타파이어(Starphire)(등록상표), 솔라그린(Solargreen)(등록상표), 솔렉스트라(Solextra)(등록상표), GL-20(등록상표), GL-35(등록상표), 솔라브론즈(Solarbronze)(등록상표), 솔라그레이(Solargray)(등록상표) 유리, 퍼시피카(Pacifica)(등록상표) 유리, 솔라블루(SolarBlue)(등록상표) 유리, 및 옵티블루(Optiblue)(등록상표) 유리를 포함하며, 이들은 모두 미국 펜실베니아주 피츠버그 소재의 피피지 인더스트리즈 인더스트리즈 인코포레이티드(PPG Industries Inc.)로부터 시판된다.
상 조절 층(40, 50, 62)은 비금속성 물질을 포함한다. 예를 들어, 상 조절 층(40, 50, 62)은 유전체 또는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상 조절 층(40, 50, 62)은 산화물, 질화물, 산소질화물, 붕화물, 탄화물, 산소탄화물, 붕소탄화물, 붕소질화물, 탄소질화물 또는 이들의 혼합물, 조합물, 배합물 또는 합금을 포함할 수 있다. 상 조절 층(40, 50, 62)에 적합한 물질의 예는, 티타늄, 하프늄, 지르코늄, 니오븀, 아연, 비스무트, 납, 인듐, 주석, 규소, 알루미늄, 붕소의 산화물, 질화물 또는 산소질화물, 및 이들의 혼합물, 조합물, 배합물 또는 합금을 포함한다. 이는 소량의 다른 물질을 가질 수 있다. 그 예는, 비스무트 산화물 중 망간, 인듐 산화물 중 주석 등을 포함한다. 추가적으로, 금속 합금 또는 금속 혼합물의 산화물이 사용될 수 있다. 그 예는, 아연 및 주석을 함유하는 산화물(예컨대, 아연 스타네이트), 인듐-주석 합금의 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 또는 알루미늄 질화물을 포함한다. 또한, 도핑된 금속 산화물, 아산화물, 질화물, 아질화물, 또는 산소질화물이 사용될 수 있다. 그 예는, 안티몬 또는 인듐 도핑된 주석 산화물, 또는 니켈 또는 붕소 도핑된 규소 산화물을 포함한다. 이러한 물질의 특정 예는, 아연 산화물, 주석 산화물, 규소 질화물, 규소-알루미늄 질화물, 규소-니켈 질화물, 규소-크롬 질화물, 안티몬 도핑된 주석 산화물, 주석 도핑된 아연 산화물, 알루미늄 도핑된 아연 산화물, 인듐 도핑된 아연 산화물, 티타늄 산화물, 또는 이들의 혼합물, 조합물, 배합물 또는 합금을 포함한다.
상 조절 층(40, 50, 62)은 단일 물질을 포함할 수 있다. 다르게는, 상 조절 층(40, 50, 62)은 복수개의 물질 및/또는 복수개의 필름을 포함할 수 있다. 상 조절 층(40, 50, 62)은, 화학적으로 상이한 물질들 또는 상들의 필름의 층상(stratified) 순서를 포함할 수 있거나, 하나 이상의 화학적으로 상이한 물질들 또는 상들의 하나 이상의 복합체를 포함할 수 있다. 상이한 상 조절 층들(40, 50, 62)은 동일하거나 상이한 물질을 포함할 수 있다. 상 조절 층들(40, 50, 62)은 동일하거나 상이한 두께를 가질 수 있다.
상 조절 층(40, 50, 62)은, 저 방사율 코팅(30)의 층들의 다양한 계면 경계로부터 부분적으로 반사되거나 이에 의해 부분적으로 투과되는 전자기 복사선의 건설적 및 파괴적 광학 간섭의 조절을 허용한다. 상 조절 층(40, 50, 62)의 두께 및/또는 조성을 변화시키면, 저 방사율 코팅(30)의 총 반사율, 투과율, 및/또는 흡수율을 변화시킬 수 있으며, 이는, 저 방사율 코팅(30)의 태양 제어 성능, 열 적외선 단열 성능, 색, 및/또는 미관을 변화시킬 수 있다. 추가적으로, 상 조절 층(40, 50, 62)은, 저 방사율 코팅(30)의 다른 층(예컨대, 상기 금속 기능 층)에 대한 화학적 및/또는 기계적 보호를 제공한다.
상 조절 층(40, 50, 62)은, 상기 금속 기능 층의 반사를 방지하여 저 방사율 코팅(30)의 총 가시광 반사율을 감소시키고/시키거나 가시광 투과율을 증가시키는 반사방지 층으로서 작용할 수 있다. 상기 금속 기능 층의 반사방지에는, 약 2의 굴절률을 갖는 물질이 특히 유용하다.
도시된 예시적 코팅(30)에서, 제 1 상 조절 층(40)은 기판(12)의 제 2 주 표면(16)의 적어도 일부 위쪽에 위치한다. 제 1 상 조절 층(40)은 단일 층일 수 있거나, 전술된 반사방지 물질 또는 유전체 물질의 하나 이상의 필름을 포함할 수 있다. 제 1 상 조절 층(40)은 가시광에 대해 투명할 수 있다. 제 1 상 조절 층(40)은, 전자기 스펙트럼(예를 들어, 가시광)의 하나 이상의 영역에서 최소 흡수를 나타내거나 나타내지 않을 수 있다.
제 1 상 조절 층(40)은, 금속 산화물, 금속 산화물들의 혼합물, 또는 금속 합금 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 상 조절 층(40)은, 도핑되거나 비-도핑된 아연 및 주석의 산화물을 포함할 수 있다.
제 1 상 조절 층(40)은 75 nm 내지 112 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 84 nm 내지 103 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 89 nm 내지 99 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 93 nm 내지 95 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
제 1 상 조절 층(40)은 36 nm 내지 56 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 42 nm 내지 52 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 42 nm 내지 49 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 44 nm 내지 48 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 상 조절 층(40)은 75 nm 내지 112 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 84 nm 내지 103 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 89 nm 내지 99 nm. 범위의 광학 두께, 예를 들어 93 nm 내지 95 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 상 조절 층(40)은 37 nm 내지 56 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 42 nm 내지 52 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 44 nm 내지 49 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 46 nm 내지 48 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 상 조절 층(40)은 72 nm 내지 108 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 81 nm 내지 99 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 85 nm 내지 94 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 89 nm 내지 91 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 상 조절 층(40)은 36 nm 내지 54 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 40 nm 내지 50 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 42 nm 내지 47 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 44 nm 내지 46 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 1 상 조절 층(40)은, 제 1 필름(42) 및 제 2 필름(44)을 갖는 다층 필름 구조를 포함할 수 있다. 제 2 필름(44)은 제 1 필름(42) 위쪽에 위치할 수 있다.
제 1 필름(42)은 금속 합금의 산화물, 또는 금속 산화물들의 혼합물일 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(42)은 아연 및 주석의 합금 또는 혼합물의 산화물일 수 있다. "아연 및 주석의 합금"은, 진성 합금 및 또한 혼합물을 의미한다. 아연 및 주석의 합금의 산화물은, 아연 및 주석의 캐쏘드로부터 마그네트론 스퍼터링 진공 침착에 의해 수득된 것일 수 있다. 상기 캐쏘드는, 5 중량% 내지 95 중량%의 아연 및 95 중량% 내지 5 중량% 주석, 예컨대 10 중량% 내지 90 중량% 아연 및 90 중량% 내지 10 중량% 주석의 비율로 아연 및 주석을 포함할 수 있다. 그러나, 아연 대 주석의 다른 비가 또한 사용될 수 있다. 제 1 필름(42)을 위한 예시적인 금속 합금 산화물은, ZnXSn1-XO2-X(화학식 1)로서 기술될 수 있으며, 이때 "x"는 0 초과 1 미만 범위로 변한다. 예를 들어, "x"는 0 초과일 수 있으며, 0 초과 1 미만의 임의의 분수 또는 소수일 수 있다. 화학식 1의 화학량론적 형태는 "Zn2SnO4"(통상적으로, 아연 스타네이트로서 지칭됨)이다. 아연 스타네이트 층은, 산소의 존재 하에 52 중량%의 아연 및 48 중량%의 주석을 갖는 캐쏘드로부터 스퍼터 침착될 수 있다. 예를 들어, 제 1 필름(42)은 아연 스타네이트를 포함할 수 있다.
도핑된 아연 산화물은, 상기 캐쏘드의 스퍼터링 특성을 개선하기 위한 또다른 물질을 포함하는 아연 캐쏘드로부터 침착될 수 있다. 예를 들어, 상기 아연 캐쏘드는 스퍼터링을 개선하기 위해 소량(예컨대, 10 중량% 이하, 예컨대 5 중량%)의 주석을 포함할 수 있다. 이 경우, 결과적인 아연 산화물 필름은 작은 %의 주석 산화물, 예컨대 10 중량% 이하의 주석 산화물, 예컨대 5 중량% 이하의 주석 산화물을 포함할 것이다. 다른 물질의 예는 알루미늄, 인듐, 및 이들의 조합물을 포함한다. 바람직하게는, 다른 물질은 주석을 포함한다. 산소의 존재 하에 90 중량% 아연 및 10 중량% 주석을 포함하는 캐쏘드로부터 침착된, 주석 도핑된 아연 산화물 물질은, 본원에서 ZnO 90/10으로 지칭된다.
제 2 필름(44)은 금속 산화물, 도핑된 금속 산화물, 또는 금속 산화물들의 혼합물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(44)은 아연 산화물 또는 도핑된 아연 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(44)은, 주석 도핑된 아연 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(44)은 ZnO 90/10을 포함할 수 있다.
제 2 필름(44)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 1 필름(42)은 24 nm 내지 46 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 30 nm 내지 42 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 2 필름(44)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 필름(42)은 26 nm 내지 46 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 32 nm 내지 42 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 2 필름(44)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 필름(42)은 24 nm 내지 44 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 30 nm 내지 40 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
금속 기능 층(46, 58)은 전자기 스펙트럼의 적외선 영역(예를 들어, 전자기 스펙트럼 태양 적외선 영역 또는 열 적외선 영역)의 적어도 일부에서 전자기 복사선의 반사율을 제공한다. 코팅(30)은 2개의 금속 기능 층을 가질 수 있다. 다르게는, 코팅(30)은 2개 초과의 금속 기능 층을 가질 수 있다.
금속 기능 층(46, 58)에 유용한 물질의 예는 귀금속 또는 유사(near) 귀금속을 포함한다. 상기 금속의 예는 은, 금, 백금, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 로듐, 루테늄, 구리, 수은, 레늄, 알루미늄 및 이들의 조합물을 포함한다. 예를 들어, 금속 기능 층들(46, 58) 중 하나 이상은 금속성 은을 포함할 수 있다.
제 1 금속 기능 층(46)은 임의의 전술된 금속을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 금속 기능 층(46)은 은을 포함할 수 있다.
제 1 금속 기능 층(46)은 연속 층을 수 있다. 예를 들어, 제 1 금속 기능 층(46)은 5 nm 내지 8.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 6.5 nm 내지 7.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 6.6 nm 내지 7.3 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 금속 기능 층(46)은 5 nm 내지 8 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 6 nm 내지 7.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 6.5 nm 내지 7 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 6.6 nm 내지 6.8 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 금속 기능 층(46)은 5.5 nm 내지 8.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 6.5 nm 내지 8 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 6.8 nm 내지 7.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 7 nm 내지 7.3 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
프라이머 층(48, 60)은, 관련된 하부 금속 기능 층(46, 58)과 직접 접촉하여 위치할 수 있다. 프라이머 층(48, 60)은, 코팅 공정 또는 후속 처리(예컨대, 열적 템퍼링) 동안, 관련된 금속 기능 층(46, 58)을 보호한다. 상기 프라이머 물질은 금속으로서 침착된다. 후속 처리(예컨대, 상부 상 조절 층의 침착 또는 열적 템퍼링) 동안, 상기 금속 프라이머 물질의 일부 또는 전부가 산화된다. 산화물 또는 질화물 물질이 상 조절 층에 사용되는 경우, 프라이머 층(48, 60)은 친산소성(oxophillic) 또는 친질소성(nitrophillic) 물질을 각각 포함할 수 있다. 프라이머 층들(48, 60)이 모두 동일한 물질일 필요는 없다. 프라이머 층들(48, 60)이 동일한 두께일 필요는 없다.
프라이머 층(48, 60)에 유용한 물질의 예는 티타늄, 니오븀, 텅스텐, 니켈, 크롬, 철, 탄탈륨, 지르코늄 알루미늄, 규소, 인듐, 주석, 아연, 몰리브덴, 하프늄, 비스무트, 바나듐, 망간, 및 이들의 조합물을 포함한다. 바람직하게는, 프라이머 층(48, 60)은 티타늄을 포함한다.
제 1 프라이머 층(48)은 제 1 금속 기능 층(46) 위쪽에 위치한다. 제 1 프라이머 층(48)은 단일 필름 또는 다층 필름 층일 수 있다. 제 1 프라이머 층(48)은, 전술된 임의의 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 프라이머 층(48)은 티타늄을 포함할 수 있다.
제 1 프라이머 층(48)은 1.5 nm 내지 3.6 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.8 nm 내지 3.2 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.9 nm 내지 3.1 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅에서, 제 1 프라이머 층(48)은 2.5 nm 내지 3.6 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 2.7 nm 내지 3.3 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 2.8 nm 내지 3.2 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 2.9 nm 내지 3.1 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅에서, 제 1 프라이머 층(48)은 1.5 nm 내지 2.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.7 nm 내지 2.3 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.8 nm 내지 2.2 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.9 nm 내지 2.1 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 상 조절 층(50)은, 상 조절 층에 대해 전술된 임의의 물질을 포함할 수 있다.
제 2 상 조절 층(50)은 136 nm 내지 204 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 155 nm 내지 178 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 162 nm 내지 172 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
제 2 상 조절 층(50)은 65 nm 내지 102 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 77 nm 내지 89 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 81 nm 내지 86 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅에서, 제 2 상 조절 층(50)은 136 nm 내지 204 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 153 nm 내지 187 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 161 nm 내지 178 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 168 nm 내지 172 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅에서, 제 2 상 조절 층(50)은 68 nm 내지 102 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 76 nm 내지 94 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 80 nm 내지 89 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 84 nm 내지 86 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅에서, 제 2 상 조절 층(50)은 147 nm 내지 181 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 155 nm 내지 172 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 162 nm 내지 166 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅에서, 제 2 상 조절 층(50)은 65 nm 내지 98 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 73 nm 내지 90 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 77 nm 내지 86 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 81 nm 내지 83 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 상 조절 층(50)은 단일 층 또는 다층 구조일 수 있다. 예를 들어, 제 2 상 조절 층(50)은 제 1 필름(52), 제 2 필름(54), 제 3 필름(56), 임의적으로 제 4 필름(57)을 포함할 수 있다.
제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56) 및/또는 임의적 제 4 필름(57)은 금속 산화물 필름 또는 도핑된 금속 산화물 필름, 예를 들어, 아연 산화물 필름 또는 주석 도핑된 아연 산화물 필름, 예컨대 ZnO 90/10을 포함할 수 있다.
제 2 필름(54)은 금속 합금 산화물 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 필름(54)은 아연 스타네이트 필름을 포함할 수 있다. 임의적 제 4 필름(57)이 존재하는 경우, 제 2 필름(54)은 2개 이상의 침착 단계로 침착될 수 있으며, 이때 제 4 필름(57)은, 제 2 필름(54)의 2개의 침착 단계 사이에 침착된다.
제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56) 및/또는 임의적 제 4 필름(57)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 필름(54)은 62 nm 내지 84 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 72 nm 내지 85 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56) 및/또는 임의적 제 4 필름(57)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 2 필름(54)은 65 nm 내지 84 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 75 nm 내지 85 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56) 및/또는 임의적 제 4 필름(57)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 2 필름(54)은 62 nm 내지 81 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 72 nm 내지 77 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 금속 기능 층(58)은 제 2 상 조절 층(50) 위쪽에(예컨대, 제 3 필름(56) 위쪽에) 위치한다.
제 2 금속 기능 층(58)은 연속 층일 수 있다. 제 2 금속 기능 층(58)은, 금속 기능 층에 대해 전술된 임의의 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 2 금속 기능 층(58)은 은을 포함할 수 있다.
제 2 금속 기능 층(58)은 7 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8.3 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8.7 nm 내지 9.2 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 2 금속 기능 층(58)은 7 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8.5 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 9 nm 내지 9.2 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 2 금속 기능 층(58)은 7 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8.3 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 8.7 nm 내지 8.9 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 프라이머 층(60)은, 제 1 프라이머 층(48)에 대해 전술된 임의의 물질 및/또는 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 2 프라이머 층(60)은 티타늄을 포함할 수 있다.
제 2 프라이머 층(60)은 1.5 nm 내지 3.6 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.8 nm 내지 3.2 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.9 nm 내지 3.1 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅에서, 제 2 프라이머 층(60)은 2.5 nm 내지 3.6 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 2.7 nm 내지 3.3 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 2.8 nm 내지 3.2 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 2.9 nm 내지 3.1 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅에서, 제 2 프라이머 층(60)은 1.5 nm 내지 2.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.7 nm 내지 2.3 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.8 nm 내지 2.2 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1.9 nm 내지 2.1 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 3 상 조절 층(62)은, 제 1 및 제 2 상 조절 층(40, 50)에 대해 상기 논의된 임의의 물질 및/또는 층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 3 상 조절 층(62)은 다층 필름 구조일 수 있다.
제 3 상 조절 층(62)은 46 nm 내지 73 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 55 nm 내지 68 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 57 nm 내지 67 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
제 3 상 조절 층(62)은 23 nm 내지 40 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 27 nm 내지 35 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 28 nm 내지 34 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 3 상 조절 층(62)은 46 nm 내지 70 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 52 nm 내지 64 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 55 nm 내지 61 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 57 nm 내지 59 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 3 상 조절 층(62)은 23 nm 내지 35 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 26 nm 내지 32 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 27 nm 내지 31 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 28 nm 내지 30 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 3 상 조절 층(62)은 59 nm 내지 73 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 62 nm 내지 68 nm 범위의 광학 두께, 예를 들어 65 nm 내지 67 nm 범위의 광학 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 3 상 조절 층(62)은 26 nm 내지 40 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 29 nm 내지 36 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 31 nm 내지 35 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 32 nm 내지 34 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예를 들어, 제 3 상 조절 층(62)은 제 1 필름(64) 및 제 2 필름(66)을 포함할 수 있다.
제 1 필름(64)은 금속 산화물 물질, 예를 들어 아연 산화물 또는 도핑된 아연 산화물 물질, 예를 들어 주석 도핑된 아연 산화물, 예를 들어 ZnO 90/10을 포함할 수 있다. 제 2 필름(66)은 금속 합금 산화물 물질, 예를 들어 아연 스타네이트를 포함할 수 있다
제 1 필름(64)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 필름(66)은 9 nm 내지 32 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 14 nm 내지 28 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 필름(64)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 제 2 필름(66)은 9 nm 내지 28 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 14 nm 내지 24 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 1 필름(64)은 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 제 2 필름(66)은 13 nm 내지 32 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 18 nm 내지 28 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
보호 층(92)은 저 방사율 코팅(30)의 말단 층일 수 있다. 보호 층(92)은 하나 이상의 비-금속성 물질, 예컨대 상 조절 층에 대해 전술된 것을 포함할 수 있다. 다르게는, 보호 층(92)은 금속 물질을 포함할 수 있다. 보호 층(92)은 하부 코팅 층에 대한 화학적 및/또는 기계적 보호를 제공할 수 있다.
예를 들어, 보호 층(92)은 금속 산화물 또는 금속 질화물 층일 수 있다. 예를 들어, 보호 층(92)은 티타니아를 포함할 수 있다.
보호 층(92)은 1 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 4 nm 내지 5.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 4.3 nm 내지 5.25 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 4.4 nm 내지 5.05 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)에서, 보호 층(92)은 4.5 nm 내지 5.5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 1 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 2 nm 내지 8 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 4.75 nm 내지 5.25 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 4.95 nm 내지 5.05 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)에서, 보호 층(92)은 4 nm 내지 5 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 4.3 nm 내지 4.7 nm 범위의 기하학적 두께, 예를 들어 4.4 nm 내지 4.6 nm 범위의 기하학적 두께를 가질 수 있다.
제 2 금속 기능 층(58)은 제 1 금속 기능 층(46)보다 더 두껍다. 제 2 금속 기능 층(58)의 기하학적 두께로 나눈 제 1 금속 기능 층(46)의 기하학적 두께의 비는 0.5 초과, 예를 들어 0.6 이상, 예를 들어 0.5 초과 내지 2 범위, 예컨대 0.6 내지 1.5, 예를 들어 0.6 내지 1 범위이다.
템퍼링된 코팅(30)의 경우, 제 2 금속 기능 층(58)의 기하학적 두께로 나눈 제 1 금속 기능 층(46)의 기하학적 두께의 비는 0.6 내지 1 범위, 예컨대 0.6 내지 0.9, 예를 들어 0.7 내지 0.8 범위, 예를 들어 0.72 내지 0.76 범위이다.
비-템퍼링된 코팅(30)의 경우, 제 2 금속 기능 층(58)의 기하학적 두께로 나눈 제 1 금속 기능 층(46)의 기하학적 두께의 비는 0.6 내지 1 범위, 예컨대 0.67 내지 1, 예를 들어 0.75 내지 0.85 범위, 예를 들어 0.8 내지 0.84 범위이다.
저 방사율 코팅(30)은 임의의 통상적인 방법으로 침착될 수 있다. 상기 방법의 예는 통상적인 화학적 증착(CVD) 및 기하학적 증착(PVD) 방법을 포함한다. CVD 공정의 예는 분무 열분해를 포함한다. PVD 공정의 예는 전자 빔 증발 및 진공 스퍼터링(예컨대, 마그네트론 스퍼터 증착(MSVD))을 포함한다. 다른 코팅 방법, 예컨대, 비제한적으로, 졸-겔 침착이 또한 사용될 수 있다. 하나의 비제한적인 실시양태에서, 코팅(30)은 MSVD로 침착될 수 있다.
저 방사율 코팅(30)은 0.035 내지 0.065 범위, 예를 들어 0.04 내지 0.06 범위의 방사율을 가진다.
저 방사율 코팅(30)은 0.4 내지 0.65 범위, 예를 들어 0.45 내지 0.62 범위, 예를 들어 0.5 내지 0.6 범위, 예를 들어 0.55 내지 0.59 범위의 기준 IGU SHGC를 제공한다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)은 0.55 내지 0.585 범위, 예를 들어 0.57 내지 0.58 범위의 기준 IGU SHGC를 제공한다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)은 0.56 내지 0.57 범위, 예를 들어 0.562 내지 0.566 범위의 기준 IGU SHGC를 제공한다.
저 방사율 코팅(30)은 0.2 내지 0.4 BTU/hr-ft2-℉(1.14 내지 2.27 W/m2-K) 범위, 예를 들어 0.22 내지 0.35 BTU/hr-ft2-℉(1.25 내지 1.99 W/m2-K) 범위, 예를 들어 0.23 내지 0.31 BTU/hr-ft2-℉(1.31 내지 1.76 W/m2-K) 범위, 예를 들어 0.24 내지 0.30 BTU/hr-ft2-℉(1.36 내지 1.70 W/m2-K) 범위의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공한다.
예시적인 템퍼링된 코팅(30)은 0.28 내지 0.32 BTU/hr-ft2-℉(1.6 내지 1.8 W/m2-K) 범위, 예를 들어 0.29 내지 0.30 BTU/hr-ft2-℉(1.66 내지 1.68 W/m2-K) 범위의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공한다.
예시적인 비-템퍼링된 코팅(30)은 0.299 내지 0.320 BTU/hr-ft2-℉(1.7 내지 1.82 W/m2-K) 범위, 예를 들어 0.301 내지 0.308 BTU/hr-ft2-℉(1.71 내지 1.75 W/m2-K) 범위의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공할 수 있다.
저 방사율 코팅(30)은 5 내지 20% 범위, 예를 들어 7 내지 18% 범위, 예를 들어 10 내지 15% 범위, 예를 들어 11 내지 13% 범위, 예를 들어 12 내지 13% 범위의 기준 IGU 외부 가시광 반사율을 제공한다.
저 방사율 코팅(30)은 60 내지 95% 범위, 예를 들어 65 내지 85% 범위, 예를 들어 70 내지 80% 범위, 예를 들어 72 내지 76% 범위, 예를 들어 74 내지 76% 범위의 기준 IGU 가시광 투과율을 제공한다.
저 방사율 코팅(30)은 80 내지 95 범위, 예를 들어 81 내지 92 범위, 예를 들어 85 내지 91 범위, 예를 들어 88 내지 90 범위, 예를 들어 89 내지 90% 범위의 기준 IGU 투과된 L*를 제공한다.
저 방사율 코팅(30)은 1 내지 -4 범위, 예를 들어 0 내지 -3 범위, 예를 들어 -0.05 내지 -2.75 범위, 예를 들어 -1 내지 -2.5 범위의 기준 IGU 투과된 a*를 제공한다.
저 방사율 코팅(30)은 3 내지 -1 범위, 예를 들어 0 내지 2.5 범위, 예를 들어 0.5 내지 2 범위, 예를 들어 0.7 내지 1.5 범위의 기준 IGU 투과된 b*를 제공한다.
저 방사율 코팅(30)은 30 내지 50 범위, 예를 들어 35 내지 45 범위, 예를 들어 40 내지 45 범위, 예를 들어 41 내지 43 범위의 기준 IGU 외부 반사된 L*를 제공한다.
저 방사율 코팅(30)은 3 내지 -3.5 범위, 예를 들어 0 내지 -3 범위, 예를 들어 -1 내지 -2.75 범위, 예를 들어 -1.5 내지 -2.7 범위의 기준 IGU 외부 반사된 a*를 제공한다.
저 방사율 코팅(30)은 3 내지 -3 범위, 예를 들어 2 내지 -2 범위, 예를 들어 1 내지 -1 범위, 예를 들어 0.5 내지 -0.5 범위의 기준 IGU 외부 반사된 b*를 제공한다.
도 2는, 이중 글래이징된 절연 유리 유닛(IGU)(100) 내로 혼입된 도 1의 코팅(30)을 도시한다. IGU(100)는, 건물 외부를 향하는 제 1 주 표면(114)(1번 표면)(즉, 바깥쪽으로 향하는 주 표면임) 및 건물 내부를 향하는 제 2 주 표면(116)(2번 표면)(즉, 안쪽으로 향하는 표면임)을 갖는 제 1 플라이(112)를 포함한다. 절연 유리 유닛(100)은, 바깥쪽으로 향하는 주 표면(120)(3번 표면) 및 안쪽으로 향하는 주 표면(122)(4번 표면)을 갖는 제 2 플라이(118)를 포함한다. 제 2 플라이(118)는 제 1 플라이(112)로부터 이격된다. 상기 플라이 표면의 번호지정은, 개창술(fenestration) 분야에서의 통상적인 실시와 부합한다.
제 1 및 제 2 플라이(112, 118)는, 기판(12)에 대해 전술된 임의의 물질일 수 있다. 제 2 플라이(118)는 제 1 플라이(112)와 동일할 수 있거나, 제 2 플라이(118)는 제 1 플라이(112)와 상이할 수 있다. 제 1 및 제 2 플라이(112, 118)는 각각, 예를 들어, 투명 플로트 유리일 수 있거나, 틴트화되거나 착색된 유리일 수 있거나, 하나의 플라이(112, 118)는 투명 유리이고 나머지 플라이(112, 118)는 착색된 유리일 수 있다.
제 1 및 제 2 플라이(112, 118)는 임의의 적합한 방식으로, 예컨대 통상적인 스페이서 골격(124)에 부착적으로 결함됨으로써, 함께 연결될 수 있다. 간격 또는 챔버(126)가 2개의 플라이(112, 118) 사이에 형성된다. 챔버(126)는, 선택된 대기(예를 들어, 기체, 예컨대 공기 또는 비반응성 기체, 예컨대 아르곤 또는 크립톤 기체)로 충전될 수 있다.
저 방사율 코팅(30)은 임의의 표면(114, 116, 120, 또는 122) 상에 위치할 수 있다. 예시된 예에서, 저 방사율 코팅(30)은 3번 표면(120) 상에 위치한다.
도 3은, 삼중 글래이징된 절연 유리 유닛(IGU)(200) 내로 혼입된 도 1의 코팅(30)을 도시한다. IGU(200)는, 건물 외부를 향하는 제 1 주 표면(214)(1번 표면)(즉, 바깥쪽으로 향하는 주 표면임) 및 건물 내부를 향하는 제 2 주 표면(216)(2번 표면)(즉, 안쪽으로 향하는 표면임)을 갖는 제 1 플라이(212)를 포함한다. 절연 유리 유닛(200)은, 바깥쪽으로 향하는 주 표면(220)(3번 표면) 및 안쪽으로 향하는 주 표면(222)(4번 표면)을 갖는 제 2 플라이(218)를 포함한다. 절연 유리 유닛(200)은, 바깥쪽으로 향하는 주 표면(226)(5번 표면) 및 안쪽으로 향하는 주 표면(228)(6번 표면)을 갖는 제 3 플라이(224)를 포함한다. 제 1 플라이(212), 제 2 플라이(218), 및 제 3 플라이(224)는 서로 이격된다. 상기 플라이 표면의 번호지정은, 개창술 분야에서의 통상적인 실시와 부합한다.
제 1, 제 2, 및 제 3 플라이(212, 218, 및 224)는, 임의의 적합한 방식으로, 예컨대 통상적인 스페이서 골격(232)에 부착적으로 결함됨으로써, 함께 연결될 수 있다. 제 1 간격 또는 챔버(234)는 제 1 플라이(212)와 제 2 플라이(218) 사이에 한정되고, 제 2 간격 또는 챔버(236)는 제 2 플라이(218)와 제 3 플라이(224) 사이에 형성된다. 챔버(234 및 236)는, 선택된 대기(예를 들어, 기체, 예컨대 공기 또는 비반응성 기체, 예컨대 아르곤 또는 크립톤 기체)로 충전될 수 있다.
저 방사율 코팅(30)은 임의의 표면(214, 216, 220, 222, 226, 또는 228) 상에 위치할 수 있다. 예시된 예에서, 저 방사율 코팅(30)은 5번 표면(226) 상에 위치한다.
제 1, 제 2, 및/또는 제 3 플라이(212, 218, 234)는, 기판(12)에 대해 전술된 임의의 물질일 수 있다. 상기 플라이들은 동일할 수 있거나, 하나 이상의 플라이가 나머지 플라이(들)와 상이할 수 있다. 상기 플라이들은 각각, 예를 들어, 투명 플로트 유리일 수 있거나, 틴트화되거나 착색된 유리일 수 있거나, 하나 이상의 플라이는 투명 유리이고 나머지 하나 이상의 플라이는 착색된 유리일 수 있다.
제 2 코팅(238)은 상기 유리 플라이의 하나 이상의 나머지 표면 상에 위치할 수 있다. 예를 들어, 제 2 코팅(238)은 2번 표면(216), 3번 표면(220), 또는 4번 표면(222) 상에 위치할 수 있다. 바람직하게는, 제 2 코팅(238)은 2번 표면(216) 또는 3번 표면(220) 상에 위치한다. 더욱 바람직하게는, 제 2 코팅(238)은 3번 표면(220) 상에 위치한다.
제 2 코팅(238)은 제 1 코팅(30)과 동일할 수 있다.
다르게는, 제 2 코팅(238)은 제 1 코팅(30)과 상이할 수 있다. 예를 들어, 제 1 코팅(30)은 2개의 금속 기능 층을 가질 수 있고, 제 2 코팅(238)은 단지 하나의 금속 기능 층을 가질 수 있다. 제 2 코팅(238)은 제 1 코팅(30)보다 더 높은 SHGC를 가질 수 있다. 제 2 코팅(238)은 제 1 코팅(30)보다 더 높은 U 인자를 가질 수 있다. 예시적인 제 2 코팅(238)은, 피피지 인더스트리즈 인코포레이티드로부터 시판되는 썬게이트(SUNGATE) 400 코팅이다.
실시예
하기 표 1은, 본 발명의 예시적인 템퍼링된 코팅(샘플 1) 및 예시적인 비-템퍼링된 코팅(샘플 2)을 제시한다. 각각의 코팅을, 3 mm의 투명 플로트 유리 조각 상에 형성하였다. 보고되는 두께는 기하학적 두께(nm)이다. 상기 샘플 중의 주석 도핑된 아연 산화물 필름은, 10 중량% 주석 및 90 중량% 아연을 함유하는 캐쏘드(즉, ZnO 90/10)로부터 침착되었다. "PAL"은, 상 조절 층을 의미한다. 각각의 제 1 PAL은, 스타네이트 필름 위쪽의, 주석 도핑된 아연 산화물 필름이었다. 상기 주석 도핑된 아연 산화물 필름은 5 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가졌다. 각각의 제 2 PAL은, 주석 도핑된 아연 산화물/아연 스타네이트/주석 도핑된 아연 산화물의 층이었고, 각각의 주석 도핑된 아연 산화물 필름은 5 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가졌다. 제 3 PAL은, 주석 도핑된 아연 산화물 필름 위쪽의 아연 스타네이트 필름이었고, 상기 주석 도핑된 아연 산화물 필름은 5 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 가졌다. 상기 보호 층 "PL"은 티타니아였다. 상기 프라이머 층은 (금속으로서 침착되고, 추가의 처리 단계에 의해 적어도 부분적으로 산화된) 티타니아였다. 상기 반사 층(IR#1 및 IR#2)은 금속성 은이었다. 샘플 1 및 2는 생산 코터 상에서 제조하였다.
[표 1]
Figure 112018092678117-pct00001
하기 표 2는, 장비 지침에 따라, 퍼킨 엘머(Perkin Elmer) 모델 1050을 사용하여 측정된 샘플 1의 광학 데이터를 제시한다. 하기 표 3은, 장비 지침에 따라, 퍼킨 엘머 모델 1050을 사용하여 측정된 샘플 2의 광학 데이터를 도시한다. "UV"는, 300 내지 380 nm 범위의 % 자외선이다. "VIS"는, 가시광선이다(광원 D65, 2° 관찰자). "IR"은, 780 nm 내지 2500 nm 범위의 % 적외선이다. "태양광"은, 300 nm 내지 2500 nm 범위의 % 태양 복사선이다(ISO 9050 표준에 따라 측정됨). 색 매개변수 L*, a*, b*, C*, 및 색조°는, 광원 D65, 10° 관찰자에 대한 값이다.
[표 2]
Figure 112018092678117-pct00002
[표 3]
Figure 112018092678117-pct00003
하기 표 4 및 5는, 플라이들 사이의 0.5 inch 간격 및 3번 표면 상의 코팅을 갖는 3 mm의 투명 플로트 유리의 2개의 플라이를 갖는 기준 IGU에 대한 기준 IGU 데이터를 제시한다. 용어 "공기"는, 상기 IGU가 기준 IGU임(즉, 상기 간격이 공기로 충전되어 있음)을 의미한다. T(V)는, % 가시광선 투과율을 의미한다. RE(V)는, 가시광선의 % 외부 반사율을 의미한다. RI(V)는, 가시광선의 % 내부 반사율을 의미한다. T(S)는, % 태양 복사선 투과율을 의미한다. RE(S)는, 태양 복사선의 % 외부 반사율을 의미한다. RI(S)는, 태양 복사선의 % 내부 반사율을 의미한다. UV(T)는, % 자외선 투과율을 의미한다. UF(W)는, 동절기/야간 U 인자(BTU/hr-ft2-℉)를 의미한다. UF(S)는, 하절기/주간 U 인자(BTU/hr-ft2-℉)를 의미한다. SC는, 차폐(shading) 계수를 의미한다. SHGC는, 하절기/주간 태양열 획득 계수를 의미한다. LSG는, 광 대 태양 획득 비를 의미한다. L*(T), a*(T), 및 b*(T)는, 투과된 L*, a*, 및 b*를 의미한다. L*(RE), a*(RE), 및 b*(RE)는, 반사된 외부 L*, a*, 및 b*를 의미한다.
[표 4]
Figure 112018092678117-pct00004
[표 5]
Figure 112018092678117-pct00005
하기 표 6 및 7은, 플라이들 사이의 0.5 inch 간격 및 3번 표면 상의 코팅을 갖는 3 mm의 투명 플로트 유리의 2개의 플라이를 갖는 기준 IGU에 대한 기준 IGU 데이터를 제시한다. 용어 "AR90"은, IGU가 상기 간격 내에 90% 아르곤 및 10% 공기를 가짐을 의미한다.
[표 6]
Figure 112018092678117-pct00006
[표 7]
Figure 112018092678117-pct00007
본 발명은, 번호가 매겨진 하기 항목을 참조하여, 추가로 기술될 수 있다.
항목 1: 복수개의 상 조절 층(40, 50, 62); 제 1 금속 기능 층(46); 및 1 금속 기능 층(46) 위쪽에 위치하고 이로부터 이격된 제 2 금속 기능 층(58)을 포함하는 저 방사율 코팅(30)으로서, 저 방사율 코팅(30)은 0.4 이상의 기준 IGU 하절기/주간 SHGC 및 0.4 BTU/hr-ft2-℉ 이하의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 2: 항목 1에 있어서, 제 1 상 조절 층(40); 제 1 상 조절 층(40) 위쪽에 위치하는 제 1 금속 기능 층(46); 제 1 금속 기능 층(46) 위쪽에 위치하는 제 1 프라이머 층(48); 제 1 프라이머 층(48) 위쪽에 위치하는 제 2 상 조절 층(50); 제 2 상 조절 층(50) 위쪽에 위치하는 제 2 금속 기능 층(58); 제 2 금속 기능 층(58) 위쪽에 위치하는 제 2 프라이머 층(60); 제 2 프라이머 층(60) 위쪽에 위치하는 제 3 상 조절 층(62); 및 제 3 상 조절 층(62) 위쪽에 위치하는 보호 층(92)을 포함하는 저 방사율 코팅(30).
항목 3: 항목 1 또는 2에 있어서, 상 조절 층(40, 50, 62)이 비-금속성 층을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 4: 항목 1 내지 3 중 어느 하나에 있어서, 상 조절 층(40, 50, 62)이 유전체 또는 반도체 물질을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 5: 항목 1 내지 4 중 어느 하나에 있어서, 상 조절 층(40, 50, 62)이 산화물, 질화물, 산소질화물, 또는 이들의 혼합물을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 6: 항목 1 내지 5 중 어느 하나에 있어서, 상 조절 층(40, 50, 62)이 티타늄, 하프늄, 지르코늄 니오븀, 아연, 비스무트, 납, 인듐, 주석, 및 이들의 혼합물의 산화물, 질화물 또는 산소질화물을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 7: 항목 1 내지 6 중 어느 하나에 있어서, 상 조절 층(40, 50, 62)이 하나 이상의 금속, 금속 합금 또는 금속 혼합물의 산화물, 바람직하게는 아연 및 주석을 함유하는 산화물을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 8: 항목 1 내지 7 중 어느 하나에 있어서, 상 조절 층(40, 50, 62)이 다층 필름을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 9: 항목 1 내지 8 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이, 아연 및 주석의 산화물을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 10: 항목 1 내지 9 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 72 nm 내지 112 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 84 nm 내지 103 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 89 nm 내지 95 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 11: 항목 1 내지 10 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 36 nm 내지 56 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 42 nm 내지 49 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 44 nm 내지 48 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 12: 항목 1 내지 11 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 제 1 필름(42) 및 제 2 필름(44)을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 13: 항목 12에 있어서, 제 1 필름(42)이 금속 합금 산화물, 또는 금속 산화물들의 혼합물을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 14: 항목 12 또는 13에 있어서, 제 2 필름(44)이 금속 산화물 필름, 도핑된 금속 산화물 필름, 또는 산화물 혼합물 필름을 포함하는, 저 방사율 코팅(30)
항목 15: 항목 12 내지 14 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(42)이 아연 및 주석, 바람직하게는 아연/주석 합금 산화물, 더욱 바람직하게는 아연 스타네이트를 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 16: 항목 12 내지 15 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(44)이 금속 산화물, 바람직하게는 도핑된 아연 산화물, 더욱 바람직하게는 주석 도핑된 아연 산화물, 예를 들어 ZnO 90/10을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 17: 항목 12 내지 16 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(44)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 18: 항목 12 내지 17 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(42)이 24 nm 내지 46 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 30 nm 내지 42 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 19: 항목 1 내지 18 중 어느 하나에 있어서, 금속 기능 층(46, 58)이, 은, 금, 백금, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐, 로듐, 루테늄, 구리, 수은, 레늄, 알루미늄, 및 이들의 조합물, 바람직하게는 은으로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 20: 항목 1 내지 19 중 어느 하나에 있어서, 제 1 금속 기능 층(46)이 5 nm 내지 8.5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 6.5 nm 내지 7.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 6.6 nm 내지 7.3 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 21: 항목 2 내지 20 중 어느 하나에 있어서, 프라이머 층(48, 60)이, 티타늄, 니오븀, 텅스텐, 니켈, 크롬, 철, 탄탈륨, 지르코늄 알루미늄, 규소, 인듐, 주석, 아연, 몰리브덴, 하프늄, 비스무트, 바나듐, 망간, 및 이들의 조합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질, 바람직하게는 티타늄을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 22: 항목 2 내지 21 중 어느 하나에 있어서, 제 1 프라이머 층(48)이 1.5 nm 내지 3.6 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 1.8 nm 내지 3.2 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 1.9 nm 내지 3.1 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 23: 항목 1 내지 22 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 136 nm 내지 204 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 155 nm 내지 178 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 162 nm 내지 172 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 24: 항목 1 내지 23 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 65 nm 내지 102 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 77 nm 내지 89 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 81 nm 내지 86 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 25: 항목 1 내지 24 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 제 1 필름(52), 제 2 필름(54), 제 3 필름(56), 및 임의적으로 제 4 필름(57)을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 26: 항목 25에 있어서, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56) 및/또는 임의적 제 4 필름(57)이 금속 산화물, 바람직하게는 도핑된 금속 산화물, 더욱 바람직하게는 주석 도핑된 아연 산화물, 예를 들어, ZnO 90/10을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 27: 항목 25 또는 26에 있어서, 제 2 필름(54)이 금속 합금 산화물, 바람직하게는 스타네이트를 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 28: 항목 25 내지 27 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56) 및/또는 임의적 제 4 필름(57)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 29: 항목 25 내지 28 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(54)이 62 nm 내지 84 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 72 nm 내지 85 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 30: 항목 1 내지 29 중 어느 하나에 있어서, 제 2 금속 기능 층(58)이 은을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 31: 항목 1 내지 30 중 어느 하나에 있어서, 제 2 금속 기능 층(58)이 7 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8.3 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 8.7 nm 내지 9.2 nm 범위의 기하학적 두께를 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 32: 항목 2 내지 31 중 어느 하나에 있어서, 제 2 프라이머 층(60)이 티타늄을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 33: 항목 2 내지 32 중 어느 하나에 있어서, 제 2 프라이머 층(60)이 1.5 nm 내지 3.6 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 1.8 nm 내지 3.2 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 1.9 nm 내지 3.1 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 34: 항목 1 내지 33 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)이 46 nm 내지 73 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 55 nm 내지 68 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 57 nm 내지 67 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 35: 항목 1 내지 34 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)이 23 nm 내지 40 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 27 nm 내지 35 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 28 nm 내지 34 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 36: 항목 1 내지 35 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)이 제 1 필름(64) 및 제 2 필름(66)을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 37: 항목 36에 있어서, 제 1 필름(64)이 금속 산화물, 바람직하게는 도핑된 금속 산화물, 더욱 바람직하게는 주석 도핑된 아연 산화물, 예를 들어 ZnO 90/10을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 38: 항목 36 또는 37에 있어서, 제 2 필름(66)이 금속 합금 산화물 물질, 바람직하게는 아연 스타네이트를 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 39: 항목 36 내지 38 중 어느 하나에 있어서, 제 1 필름(64)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 40: 항목 36 내지 39 중 어느 하나에 있어서, 제 2 필름(66)이 9 nm 내지 32 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 14 nm 내지 28 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 41: 항목 2 내지 40 중 어느 하나에 있어서, 보호 층(92)이, 금속, 금속 산화물, 및 금속 질화물로 이루어진 군으로부터 선택되고, 바람직하게는 티타니아인, 저 방사율 코팅(30).
항목 42: 항목 2 내지 41 중 어느 하나에 있어서, 보호 층(92)이 4 nm 내지 5.5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 4.3 nm 내지 5.25 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 4.4 nm 내지 5.05 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 43: 항목 1 내지 42 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 0.035 내지 0.065 범위, 바람직하게는 0.04 내지 0.06 범위의 방사율을 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 44: 항목 1 내지 43 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 0.4 내지 0.65 범위, 바람직하게는 0.5 내지 0.6, 더욱 바람직하게는 0.55 내지 0.59 범위의 기준 IGU SHGC를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 45: 항목 1 내지 44 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 0.2 내지 0.4 BTU/hr-ft2-℉(1.14 내지 2.27 W/m2-K) 범위, 바람직하게는 0.23 내지 0.31 BTU/hr-ft2-℉(1.31 내지 1.76 W/m2-K) 범위, 더욱 바람직하게는 0.24 내지 0.30 BTU/hr-ft2-℉(1.36 내지 1.70 W/m2-K) 범위의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 46: 항목 1 내지 45 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 5 내지 20% 범위, 바람직하게는 10 내지 15% 범위, 더욱 바람직하게는 11 내지 13% 범위의 기준 IGU 외부 가시광 반사율을 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 47: 항목 1 내지 46 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 60 내지 95% 범위, 바람직하게는 70 내지 80% 범위, 더욱 바람직하게는 72 내지 76% 범위의 기준 IGU 가시광 투과율을 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 48: 항목 1 내지 47 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 80 내지 95 범위, 바람직하게는 85 내지 91 범위, 더욱 바람직하게는 88 내지 90 범위의 기준 IGU 투과된 L*를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 49: 항목 1 내지 48 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 1 내지 -4 범위, 바람직하게는 -0.05 내지 -2.75 범위, 더욱 바람직하게는 -1 내지 -2.5 범위의 기준 IGU 투과된 a*를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 50: 항목 1 내지 49 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 3 내지 -1 범위, 바람직하게는 0.5 내지 2 범위, 더욱 바람직하게는 0.7 내지 1.5 범위의 기준 IGU 투과된 b*를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 51: 항목 1 내지 50 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 30 내지 50 범위, 바람직하게는 40 내지 45 범위, 더욱 바람직하게는 41 내지 43 범위의 기준 IGU 외부 반사된 L*를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 52: 항목 1 내지 51 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 3 내지 -3.5 범위, 바람직하게는 -1 내지 -2.75 범위, 더욱 바람직하게는 -1.5 내지 -2.7 범위의 기준 IGU 외부 반사된 a*를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 53: 항목 1 내지 52 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 3 내지 -3 범위, 바람직하게는 1 내지 -1 범위, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 -0.5 범위의 기준 IGU 외부 반사된 b*를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 54: 항목 1 내지 53 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이, 템퍼링된 코팅인, 저 방사율 코팅(30).
항목 55: 항목 54에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 75 nm 내지 112 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 84 nm 내지 103 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 93 nm 내지 95 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 56: 항목 54 또는 55에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 37 nm 내지 56 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 44 nm 내지 49 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 46 nm 내지 48 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 57: 항목 54 내지 56 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 제 1 필름(42) 및 제 2 필름(44)을 포함하고, 제 2 필름(44)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 58: 항목 57에 있어서, 제 1 필름(42)이 26 nm 내지 46 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 32 nm 내지 42 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 59: 항목 54 내지 58 중 어느 하나에 있어서, 제 1 금속 기능 층(46)이 5 nm 내지 8 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 6.5 nm 내지 7 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 6.6 nm 내지 6.8 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 60: 항목 54 내지 59 중 어느 하나에 있어서, 제 1 프라이머 층(48)이 2.5 nm 내지 3.6 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 2.8 nm 내지 3.2 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 2.9 nm 내지 3.1 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 61: 항목 54 내지 60 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 136 nm 내지 204 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 161 nm 내지 178 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 168 nm 내지 172 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 62: 항목 54 내지 61 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 68 nm 내지 102 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 80 nm 내지 89 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 84 nm 내지 86 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 63: 항목 54 내지 62 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 제 1 필름(52), 제 2 필름(54), 제 3 필름(56), 및 임의적으로 제 4 필름(57)을 포함하고, 제 1 필름(54) 및/또는 제 3 필름(56) 및/또는 임의적 제 4 필름(57)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 64: 항목 63에 있어서, 제 2 필름(54)이 65 nm 내지 84 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 75 nm 내지 85 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 65: 항목 54 내지 64 중 어느 하나에 있어서, 제 2 금속 기능 층(58)이 7 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8.5 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 9 nm 내지 9.2 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 66: 항목 54 내지 65 중 어느 하나에 있어서, 제 2 프라이머 층(60)이 2.5 nm 내지 3.6 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 2.8 nm 내지 3.2 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 2.9 nm 내지 3.1 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 67: 항목 66에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)이 46 nm 내지 70 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 55 nm 내지 61 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 57 nm 내지 59 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 68: 항목 54 내지 67 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)이 23 nm 내지 35 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 27 nm 내지 31 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 28 nm 내지 30 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 69: 항목 54 내지 68 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)을 제 1 필름(64) 및 제 2 필름(66)을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 70: 항목 69에 있어서, 제 1 필름(64)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 71: 항목 69 또는 70에 있어서, 제 2 필름(66)이 9 nm 내지 28 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 14 nm 내지 24 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 72: 항목 54 내지 71 중 어느 하나에 있어서, 보호 층(92)이 4.5 nm 내지 5.5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 4.75 nm 내지 5.25 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 4.95 nm 내지 5.05 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 73: 항목 54 내지 72 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 0.55 내지 0.585 범위, 바람직하게는 0.57 내지 0.58 범위의 기준 IGU SHGC를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 74: 항목 54 내지 73 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 0.28 내지 0.32 BTU/hr-ft2-℉(1.6 내지 1.8 W/m2-K) 범위, 바람직하게는 0.29 내지 0.30 BTU/hr-ft2-℉(1.66 내지 1.68 W/m2-K) 범위의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 75: 항목 1 내지 53 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이, 비-템퍼링된 코팅인, 저 방사율 코팅(30).
항목 76: 항목 75에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 72 nm 내지 108 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 85 nm 내지 94 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 89 nm 내지 91 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 77: 항목 75 또는 76에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 36 nm 내지 54 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 42 nm 내지 47 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 44 nm 내지 46 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 78: 항목 75 내지 77 중 어느 하나에 있어서, 제 1 상 조절 층(40)이 제 1 필름(42) 및 제 2 필름(44)을 포함하고, 제 1 필름(42)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 79: 항목 78에 있어서, 제 2 필름(44)이 24 nm 내지 44 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 30 nm 내지 40 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 80: 항목 75 내지 79 중 어느 하나에 있어서, 제 1 금속 기능 층(46)이 5.5 nm 내지 8.5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 6.8 nm 내지 7.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 7 nm 내지 7.3 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 81: 항목 75 내지 80 중 어느 하나에 있어서, 제 1 프라이머 층(48)이 1.5 nm 내지 2.5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 1.8 nm 내지 2.2 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 1.9 nm 내지 2.1 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 82: 항목 75 내지 81 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 147 nm 내지 181 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 155 nm 내지 172 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 162 nm 내지 186 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 83: 항목 75 내지 82 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 65 nm 내지 98 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 77 nm 내지 86 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 81 nm 내지 83 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 84: 항목 75 내지 83 중 어느 하나에 있어서, 제 2 상 조절 층(50)이 제 1 필름(52), 제 2 필름(54), 제 3 필름(56), 및 임의적으로 제 4 필름(57)을 포함하고, 제 1 필름(52) 및/또는 제 3 필름(56) 및/또는 임의적 제 4 필름(57)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 85: 항목 84에 있어서, 제 2 필름(54)이 62 nm 내지 81 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 72 nm 내지 77 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 86: 항목 75 내지 85 중 어느 하나에 있어서, 제 2 금속 기능 층(58)이 7 nm 내지 11 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 8.3 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 8.7 nm 내지 8.9 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 87: 항목 75 내지 86 중 어느 하나에 있어서, 제 2 프라이머 층(60)이 1.5 nm 내지 2.5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 1.8 nm 내지 2.2 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 1.9 nm 내지 2.1 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 88: 항목 75 내지 87 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)이 59 nm 내지 73 nm 범위의 광학 두께, 바람직하게는 62 nm 내지 68 nm 범위의 광학 두께, 더욱 바람직하게는 65 nm 내지 67 nm 범위의 광학 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 89: 항목 75 내지 88 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)이 26 nm 내지 40 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 31 nm 내지 35 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 32 nm 내지 34 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 90: 항목 75 내지 89 중 어느 하나에 있어서, 제 3 상 조절 층(62)이 제 1 필름(64) 및 제 2 필름(66)을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 91: 항목 90에 있어서, 제 1 필름(64)이 1 nm 내지 20 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 5 nm 내지 15 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 92: 항목 90 또는 91에 있어서, 제 2 필름(66)이 13 nm 내지 32 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 18 nm 내지 28 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 93: 항목 75 내지 92 중 어느 하나에 있어서, 보호 층(92)이 4 nm 내지 5 nm 범위의 기하학적 두께, 바람직하게는 4.3 nm 내지 4.7 nm 범위의 기하학적 두께, 더욱 바람직하게는 4.4 nm 내지 4.6 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 94: 항목 75 내지 93 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 0.56 내지 0.57 범위, 바람직하게는 0.562 내지 0.566 범위의 기준 IGU SHGC를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 95: 항목 75 내지 94 중 어느 하나에 있어서, 코팅(30)이 0.299 내지 0.320 BTU/hr-ft2-℉(1.7 내지 1.82 W/m2-K) 범위, 바람직하게는 0.301 내지 0.308 BTU/hr-ft2-℉(1.71 내지 1.75 W/m2-K) 범위의 기준 IGU 동절기/야간 U 인자를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 96: 항목 1 내지 95 중 어느 하나에 있어서, 저 방사율 코팅(30)이 단지 2개의 금속 기능 층(46, 58)을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 97: 항목 1 내지 96 중 어느 하나에 있어서, 제 1 금속 기능 층(46)이 제 2 금속 기능 층(58)보다 얇은, 저 방사율 코팅(30).
항목 98: 항목 1 내지 97 중 어느 하나에 있어서, 제 1 금속 기능 층(46)이 6 nm 내지 8 nm 범위, 바람직하게는 6.5 nm 내지 7.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 99: 항목 1 내지 98 중 어느 하나에 있어서, 제 2 금속 기능 층(58)이 8 nm 내지 10 nm 범위, 바람직하게는 8.5 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
항목 100: 항목 1 내지 99 중 어느 하나에 있어서, 제 2 금속 기능 층(58)의 기하학적 두께로 나눈 제 1 금속 기능 층(46)의 기하학적 두께의 비가 0.6 내지 1 범위인, 저 방사율 코팅(30).
항목 101: 항목 1 내지 100 중 어느 하나에 있어서, 저 방사율 코팅(30)이, 아연 및 주석의 산화물을 포함하고 84 nm 내지 103 nm 범위의 광학 두께를 갖는 제 1 상 조절 층(40); 제 1 상 조절 층(40) 위쪽에 위치하고, 6 nm 내지 8 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는 은을 포함하는 제 1 금속 기능 층(46); 제 1 금속 기능 층(46) 위쪽에 위치하는 제 1 프라이머 층(48); 제 1 프라이머 층(48) 위쪽에 위치하고, 155 nm 내지 178 nm 범위의 광학 두께를 갖는 아연 및 주석의 산화물을 포함하는 제 2 상 조절 층(50); 제 2 상 조절 층(50) 위쪽에 위치하고, 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는 은을 포함하는 제 2 금속 기능 층(58); 제 2 금속 기능 층(58) 위쪽에 위치하는 제 2 프라이머 층(60); 제 2 프라이머 층(60) 위쪽에 위치하고, 55 nm 내지 68 nm 범위의 광학 두께를 갖는 아연 및 주석의 산화물을 포함하는 제 3 상 조절 층(62); 및 제 3 상 조절 층(62) 위쪽에 위치하고 10.5 내지 13 범위의 광학 두께를 갖는 보호 층(92)을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
항목 102: 항목 1 내지 101 중 어느 하나에 따른 저 방사율 코팅(30)을 포함하는 절연 유리 유닛(100, 200).
항목 103: 항목 102에 있어서, 절연 유리 유닛(100, 200)이, 3번 표면 상의 저 방사율 코팅(30)을 갖는 이중 글래이징된 절연 유리 유닛(100)인, 절연 유리 유닛(100, 200).
항목 104: 항목 102에 있어서, 절연 유리 유닛(100, 200)이, 5번 표면 상에 저 방사율 코팅(30)을 갖는 삼중 글래이징된 절연 유리 유닛(200)인, 절연 유리 유닛(100, 200).
항목 105: 항목 102에 있어서, 절연 유리 유닛(100, 200)이, 5번 표면 상에 저 방사율 코팅(30), 및 2번 표면(216) 상에, 3번 표면(220) 상에, 또는 4번 표면(222) 상에, 바람직하게는 2번 표면(216) 상에 또는 3번 표면(220) 상에, 더욱 바람직하게는 2번 표면 상에 위치한 제 2 코팅(238)을 갖는 삼중 글래이징된 절연 유리 유닛(200)인, 절연 유리 유닛(100, 200).
항목 106: 항목 105에 있어서, 제 2 코팅(238)이 제 1 코팅(30)과 동일한, 절연 유리 유닛(200).
항목 107: 항목 105 또는 106에 있어서, 제 2 코팅(238)이 제 1 코팅(30)과 상이한, 절연 유리 유닛(200).
항목 108: 항목 105 내지 107 중 어느 하나에 있어서, 제 1 코팅(30)이 2개의 금속 기능 층(46, 58)을 갖고, 제 2 코팅(238)이 금속 기능 층을 하나만 갖는, 절연 유리 유닛(200).
항목 109: 항목 105 내지 108 중 어느 하나에 있어서, 제 2 코팅(238)이 제 1 코팅(30)보다 더 높은 SHGC를 갖는, 절연 유리 유닛(200).
항목 110: 항목 105 내지 109 중 어느 하나에 있어서, 제 2 코팅(238)이 제 1 코팅(30)보다 더 높은 U 인자를 갖는, 절연 유리 유닛(200).
항목 111: 항목 1 내지 101 중 어느 하나에 따른 저 방사율 코팅(30)의 IGU(100, 200)에서의 용도.
전술된 설명에 개시된 개념으로부터 벗어나지 않고, 당업자가 본 발명에 대한 변형을 수행할 수 있음이 용이하게 이해될 것이다. 따라서, 본원에 자세히 기술된 특정 실시양태는 단지 예시적인 것이며, 첨부된 청구범위의 전체 범위 및 이의 임의의 및 모든 등가물로 제시될 수 있는 본 발명의 범주를 제한하는 것이 아니다.

Claims (15)

  1. 아연 및 주석의 산화물을 포함하는 제 1 상 조절 층(40);
    제 1 상 조절 층(40) 위쪽에 위치하고, 6 nm 내지 8 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는 은을 포함하는 제 1 금속 기능 층(46);
    제 1 금속 기능 층(46) 위쪽에 위치하는 제 1 프라이머 층(48);
    제 1 프라이머 층(48) 위쪽에 존재하고, 155 nm 내지 178 nm 범위의 광학 두께를 갖는 아연 및 주석의 산화물을 포함하는 제 2 상 조절 층(50);
    제 2 상 조절 층(50) 위쪽에 위치하고, 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는 은을 포함하는 제 2 금속 기능 층(58);
    제 2 금속 기능 층(58) 위쪽에 위치하는 제 2 프라이머 층(60);
    제 2 프라이머 층(60) 위쪽에 위치하는 제 3 상 조절 층(62); 및
    제 3 상 조절 층(62) 위쪽에 위치하는 보호 층(92)
    을 포함하는 저 방사율 코팅(30)으로서,
    저 방사율 코팅(30)은 0.4 이상의 기준 절연 유리 유닛(IGU) SHGC 및 2.27 W/m2·K(0.4 BTU/hr-ft2-℉) 이하의 기준 IGU U 인자를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
  2. 제 1 항에 있어서,
    저 방사율 코팅(30)이 단지 2개의 금속 기능 층(46, 58)을 포함하는, 저 방사율 코팅(30).
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 1 금속 기능 층(46)의 기하학적 두께가 제 2 금속 기능 층(58)의 기하학적 두께보다 작은, 저 방사율 코팅(30).
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 1 금속 기능 층(46)이 6.5 nm 내지 7.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    제 2 금속 기능 층(58)이 8.5 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 저 방사율 코팅(30).
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    저 방사율 코팅(30)이 0.4 내지 0.65 범위의 기준 IGU SHGC를 제공하는, 저 방사율 코팅(30).
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    84 nm 내지 103 nm 범위의 광학 두께를 갖는 제 1 상 조절 층(40);
    55 nm 내지 68 nm 범위의 광학 두께를 갖는 아연 및 주석의 산화물을 포함하는 제 3 상 조절 층(62); 및
    10.5 nm 내지 13 nm 범위의 광학 두께를 갖는 보호 층(92)
    을 포함하는 저 방사율 코팅(30).
  8. 복수개의 유리 플라이(ply)들(112, 118; 212, 218, 224); 및
    유리 플라이들(112, 118; 212, 218, 224) 중 적어도 하나의 주 표면(114, 116, 120, 122; 214, 216, 220, 222, 226, 228) 상에 위치하는 저 방사율 코팅(30)
    을 포함하는 절연 유리 유닛(100, 200)으로서,
    저 방사율 코팅(30)은,
    아연 및 주석의 산화물을 포함하는 제 1 상 조절 층(40);
    제 1 상 조절 층(40) 위쪽에 위치하고, 6 nm 내지 8 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는 은을 포함하는 제 1 금속 기능 층(46);
    제 1 금속 기능 층(46) 위쪽에 위치하는 제 1 프라이머 층(48);
    제 1 프라이머 층(48) 위쪽에 존재하고, 155 nm 내지 178 nm 범위의 광학 두께를 갖는 아연 및 주석의 산화물을 포함하는 제 2 상 조절 층(50);
    제 2 상 조절 층(50) 위쪽에 위치하고, 8 nm 내지 10 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는 은을 포함하는 제 2 금속 기능 층(58);
    제 2 금속 기능 층(58) 위쪽에 위치하는 제 2 프라이머 층(60);
    제 2 프라이머 층(60) 위쪽에 위치하는 제 3 상 조절 층(62); 및
    제 3 상 조절 층(62) 위쪽에 위치하는 보호 층(92)
    을 포함하고,
    저 방사율 코팅(30)은 0.4 이상의 기준 IGU SHGC 및 2.27 W/m2·K(0.4 BTU/hr-ft2-℉) 이하의 기준 IGU U 인자를 제공하는, 절연 유리 유닛(100, 200).
  9. 제 8 항에 있어서,
    저 방사율 코팅(30)이 단지 2개의 금속 기능 층(46, 58)을 포함하는, 절연 유리 유닛(100, 200).
  10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    제 1 금속 기능 층(46)의 기하학적 두께가 제 2 금속 기능 층(58)의 기하학적 두께보다 작은, 절연 유리 유닛(100, 200).
  11. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    제 1 금속 기능 층(46)이 6.5 nm 내지 7.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖고,
    제 2 금속 기능 층(58)이 8.5 nm 내지 9.5 nm 범위의 기하학적 두께를 갖는, 절연 유리 유닛(100, 200).
  12. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    절연 유리 유닛(100, 200)이, 3번 표면(120) 상에 저 방사율 코팅(30)을 갖는 이중 글래이징된(double glazed) 절연 유리 유닛(100), 및 5번 표면(226) 상에 저 방사율 코팅(30)을 갖는 삼중 글래이징된(triple glazed) 절연 유리 유닛(200)으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 절연 유리 유닛(100, 200).
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