JP2000281387A - 高遮熱・低放射ガラスと該高遮熱・低放射ガラスを使用したガラス物品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 遮熱性、断熱性、及び耐久性に優れ、しかも
所望の透過色調及び反射色調を呈することができるよう
にした。 【解決手段】 ガラス基板１の表面にはＳｎＯ₂膜中に
導電性寄与元素としてのフッ素（Ｆ）がドープされた第
１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａが形成され、該第１のＳｎＯ₂：
Ｆ２ａの表面にはＴｉＮ膜３が形成され、該ＴｉＮ膜３
の表面には第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂが形成されてい
る。また、ＴｉＮ膜３の膜厚は５ｎｍ〜２５ｎｍに設定
され、第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚
は総計で２００ｎｍ〜８００ｎｍに設定され、さらに第
１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂ中のフッ素含有
率は、０．０１ｗｔ％〜０．５ｗｔ％に設定されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は高遮熱・低放射ガラ
スと該高遮熱・低放射ガラスを使用したガラス物品に関
し、特に建築物や車輛の窓ガラスに使用される高遮熱・
低放射ガラス、及び該高遮熱・低放射ガラスを使用した
複層ガラスや合わせガラス等のガラス物品に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ガラス基板の表面に酸化スズ
膜を形成し、該酸化スズ膜の表面に窒化チタン等の窒化
物を積層し、さらに該窒化物の表面に酸化スズ膜を積層
することにより、透過色調が無彩色系（ニュートラル
系）でガラス面の反射色調が高彩度の緑色系（グリーン
系）を呈する電波透過性の遮熱ガラスが提案されている
（特開平９−１００１３９号公報；以下「第１の従来技
術」という）。

【０００３】該第１の従来技術は、日射透過率が６５％
以下と低く、遮熱性能に優れているため、特に夏季にお
いては冷房負荷の軽減や太陽光線による熱暑感の低減を
図ることができると考えられる。

【０００４】また、その他の従来技術としては、ガラス
基板に微量の着色成分を添加した熱線吸収ガラスを使用
し、該熱線吸収ガラスの表面にＡｇ層を含む多層膜を形
成した熱遮断ガラスも提案されている（特開平７−１０
６０９号公報；以下「第２の従来技術」という）。

【０００５】該第２の従来技術では、遮熱性能の優れた
緑色系熱線吸収ガラスの表面に赤外反射率の高いＡｇ膜
を含む多層膜を積層することにより、熱エネルギの高い
遠赤外線を効果的に反射させ、これにより垂直放射率を
０．２以下として断熱性能を高めている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記第
１の従来技術では、日射透過率が６５％以下とされてい
るため或る程度の遮熱性能を確保することはできるもの
の、断熱性能に劣り、したがって冬季には暖房器具を過
度に稼動させる必要性が生じ、年間を通じての快適な居
住性、経済性、或いは環境性を確保することができない
という問題点があった。また、該第１の従来技術は、上
述の如く遮熱性能を或る程度確保することができるもの
の、昨今の省エネルギ化の要請を考慮すると、遮熱性能
をより一層向上させて更なる冷房負荷の軽減を図る必要
があると考えられる。

【０００７】また、上記第２の従来技術では、Ａｇ膜の
有する赤外反射性によって優れた遮熱性能及び断熱性能
を得ることができるものの、斯かるＡｇ膜は耐久性に劣
るという問題点があった。すなわち、Ａｇ膜を含む多層
膜の形成は、生産技術的な観点からスパッタリング法で
行われるのが一般的であるが、該スパッタリング法で形
成された薄膜は、複層ガラス用や合わせガラス用に加工
したときに接合部位で薄膜の剥離が生じ易く耐久性に欠
け、また斯かる剥離を防止するための対策を施した場合
は費用が嵩み、生産コストの高騰化を招くという問題点
があった。

【０００８】本発明はこのような問題点に鑑みなされた
ものであって、遮熱性、断熱性、及び耐久性に優れ、し
かも所望の透過色調及び反射色調を呈することができる
高品質な高遮熱・低放射ガラスと該高遮熱・低放射ガラ
スを使用したガラス物品を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】建築物や車輛に使用され
る窓ガラスは、夏季では冷房負荷を軽減すべく遮熱性の
優れていることが要求され、また、冬季では暖房負荷を
軽減すべく断熱性の優れていることが要求される。しか
も、昨今の省エネルギ化の観点からより一層の高遮熱化
・高断熱化が要請される状況にある。

【００１０】そこで、本発明者は、遮熱性能及び断熱性
能に優れた高遮熱・低放射ガラスを得るべく鋭意研究を
した結果、窒化チタンを主成分とする窒化チタン系薄膜
（以下、「ＴｉＮ膜」という）と導電性寄与元素を含有
した酸化スズを主成分とする高導電性酸化スズ系薄膜
（以下、「高導電性ＳｎＯ₂膜」という）とを組み合わ
せた積層膜をガラス基板上に形成することにより、日射
透過率を６０％以下の高い遮熱性と、垂直放射率を０．
２以下の高い断熱性を有するガラス板を得ることができ
るという知見を得た。

【００１１】しかも、ＴｉＮ膜及び高導電性ＳｎＯ₂膜
は、ガラス基板上でガス状化合物を化学反応させること
により薄膜を堆積させる化学気相成長（chemical vapor
deposition；以下「ＣＶＤ」という）法を使用して容
易に形成することができることができ、斯かるＣＶＤ法
で形成された積層膜は、膜の耐剥離性に優れ、したがっ
て極めて優れた耐久性を有するという知見をも得た。

【００１２】本発明は斯かる知見に基づきなされたもの
であって、本発明に係る高遮熱・低放射ガラスは、複数
種の薄膜からなる積層膜がガラス基板上での熱分解反応
によって前記ガラス基板上に形成されると共に、前記積
層膜が、少なくともＴｉＮを主成分とする１層以上のＴ
ｉＮ膜と、導電性寄与元素が含有されたＳｎＯ₂を主成
分とする１層以上の高導電性ＳｎＯ₂膜とを含み、日射
透過率が６０％以下であって且つ垂直放射率が０．２以
下に設定されていることを特徴としている。

【００１３】これにより、遮熱性及び断熱性に優れ、か
つ薄膜の耐久性にも優れた高遮熱・低放射ガラスを得る
ことができる。

【００１４】また、本発明者は、更に鋭意研究を進めた
ところ、日射透過率を６０％以下、垂直放射率を０．２
以下とするためには前記ＴｉＮ膜及び前記高導電性Ｓｎ
Ｏ₂膜の膜厚を所定範囲に設定する必要があることが判
明した。

【００１５】すなわち、本発明の高遮熱・低放射ガラス
は、前記ＴｉＮ膜の膜厚が、総計で５ｎｍ〜２５ｎｍ、
好ましくは５ｎｍ〜２０ｎｍに設定され、前記高導電性
ＳｎＯ₂膜の膜厚は、総計で２００ｎｍ〜８００ｎｍ、
好ましくは２５０ｎｍ〜５５０ｎｍに設定されているこ
とを特徴としている。

【００１６】また、前記導電性寄与元素としてはフッ素
（Ｆ）を使用するのが好ましく、フッ素含有率が所定範
囲となるようにＳｎＯ₂中にフッ素を含有（ドープ）さ
せることにより、窓ガラス板としての透明性を損なうこ
となく所望の遮熱性及び断熱性を有する高遮熱・低放射
ガラスを得ることができることが判明した。

【００１７】そこで、本発明の高遮熱・低放射ガラス
は、前記導電性寄与元素には、少なくともフッ素が含有
されていることを特徴とし、さらに、前記フッ素の含有
率は、０．０１ｗｔ％〜０．５ｗｔ％、好ましくは０．
０４ｗｔ％〜０．０６ｗｔ％であることを特徴としてい
る。

【００１８】また、フッ素に代えて、或いはフッ素に加
えて、塩素やアンチモン等の他の導電性寄与元素を前記
ＳｎＯ₂膜中に含有させることによっても高導電性Ｓｎ
Ｏ₂膜を得ることができる。

【００１９】すなわち、本発明の高遮熱・低放射ガラス
は、前記導電性寄与元素は、フッ素、塩素、及びアンチ
モンの中から選択された少なくとも１種以上の元素が含
有されていることを特徴とするのも好ましい。

【００２０】さらに、本発明者は、積層膜の積層順序と
その膜厚について実験を繰り返した結果、膜構成がガラ
ス基板／高導電性ＳｎＯ₂膜／ＴｉＮ膜／高導電性Ｓｎ
Ｏ₂膜、又はガラス基板／高導電性ＳｎＯ₂膜／ＳｉＯ₂
膜／ＴｉＮ膜／高導電性ＳｎＯ ₂膜、或いはガラス基板
／ＴｉＮ膜／ＳｉＯ₂膜／高導電性ＳｎＯ₂膜とし、これ
ら薄膜の膜厚を所定範囲に設定することにより、色ムラ
が生じることなく反射色調や透過色調を所望の色調に制
御することができるという知見を得た。

【００２１】すなわち、本発明の高遮熱・低放射ガラス
は、前記ガラス基板の表面に第１の高導電性ＳｎＯ₂膜
が形成され、該第１の高導電性ＳｎＯ₂膜の表面にＴｉ
Ｎ膜形成され、さらに該窒化ＴｉＮ膜の表面に第２の高
導電性ＳｎＯ₂膜が形成され、前記第１の高導電性Ｓｎ
Ｏ₂膜の膜厚が３０ｎｍ〜５００ｎｍに設定され、前記
ＴｉＮ膜の膜厚が５ｎｍ〜２０ｎｍに設定され、さらに
前記第２の高導電性ＳｎＯ₂膜の膜厚が２０ｎｍ〜５０
０ｎｍに設定されていることを特徴としている。

【００２２】また、本発明の高遮熱・低放射ガラスは、
前記ガラス基板の表面に第１の高導電性ＳｎＯ₂膜が形
成されると共に、該第１の高導電性ＳｎＯ₂膜の表面に
酸化ケイ素を主成分とするＳｉＯ₂膜が形成され、該Ｓ
ｉＯ₂膜の表面に前記ＴｉＮ膜が形成され、さらに該Ｔ
ｉＮ膜の表面に第２の高導電性ＳｎＯ₂膜が形成され、
前記第１の高導電性ＳｎＯ₂膜の膜厚が２０ｎｍ〜２０
０ｎｍに設定され、前記ＳｉＯ₂膜の膜厚が６ｎｍ〜５
０ｎｍに設定され、さらに前記ＴｉＮ膜の膜厚が５ｎｍ
〜２０ｎｍに設定され、かつ前記第２の高導電性ＳｎＯ
₂膜の膜厚が１５０ｎｍ〜４５０ｎｍに設定されている
ことを特徴としている。

【００２３】さらに、本発明の高遮熱・低放射ガラス
は、前記ガラス基板の表面に前記ＴｉＮ膜が形成され、
該ＴｉＮ膜の表面に酸化ケイ素を主成分とするＳｉＯ₂
膜が形成され、さらに該ＳｉＯ₂膜の表面に高導電性Ｓ
ｎＯ₂膜が形成され、前記ＴｉＮ膜の膜厚が５ｎｍ〜２
０ｎｍに設定され、前記ＳｉＯ₂膜の膜厚が５ｎｍ〜５
０ｎｍに設定され、さらに前記高導電性ＳｎＯ₂膜の膜
厚が２２０ｎｍ〜４５０ｎｍに設定されていることを特
徴としている。

【００２４】このような膜構成を有し、各薄膜の膜厚を
制御することにより、透明性を損なうことなく、遮熱性
・断熱性に優れ、しかも色ムラが生じることのない高遮
熱・低放射ガラスを得ることができる。

【００２５】また、本発明の高遮熱・低放射ガラスは、
透過色調及び反射色調のうちの少なくとも１つは、Ｌ^*
ａ^*ｂ^*表色系における知覚色度指数ａ^* 、ｂ^*が−５≦
ａ^* 、ｂ^*≦５に設定されていることを特徴とし、また
透過色調及び反射色調のうちの少なくとも１つは、Ｌ^*
ａ^*ｂ^*表色系における知覚色度指数ａ^* 、ｂ^*が、夫々
−３０≦ａ^*≦−５、−５≦ｂ^*≦５に設定されているこ
とを特徴としている。

【００２６】すなわち、窓ガラスの色調は、国際照明委
員会（ＣＩＥ）が規定するＬ^*ａ^*ｂ ^*表色系のクロマテ
ィクネス指数（知覚色度指数）ａ^* 、ｂ^*で定量的に表
現することができ、ＪＩＳ Ｚ８７２９にも算出方法が
規定されている。そして、斯かるクロマティクネス指数
ａ^* 、ｂ^*を上述の所定範囲に設定することにより、前
者の場合は透過色調及び反射色調のうちの少なくとも１
つは無彩色系の色調に調整することが可能となり、後者
の場合は透過色調及び反射色調のうちの少なくとも１つ
は緑色系の色調に調整することが可能となり、近年の市
場のニーズに対応した高品質で高級感を有する高遮熱・
低放射ガラスを得ることができる。

【００２７】また、上記積層膜は、上述の如くＣＶＤ法
により容易に形成されるが、高品質の遮熱ガラスを効率
良く大量生産するためには、所謂フロート法でガラス基
板となるリボン状ガラスを作製し、該リボン状ガラスの
表面に成膜原料を供給すると共に、前記リボン状ガラス
の有する熱エネルギを利用し前記リボン状ガラス上での
熱分解によりを形成するのが好ましい（オンラインＣＶ
Ｄ法）。

【００２８】そこで、本発明の高遮熱・低放射ガラス
は、前記ガラス基板は、溶融スズ上にガラス原料を流し
込んで形成された所定高温状態のリボン状ガラスから製
造され、前記積層膜は、前記リボン状ガラスの表面に固
相を堆積して形成されたことを特徴としている。

【００２９】上記オンラインＣＶＤ法で製造された高遮
熱・低放射ガラスは、軟化点以上の温度を有するガラス
表面で成膜することが可能となるため、膜性能等を向上
させることができ、また生産性の観点からも遮熱ガラス
を極めて効率良く大量生産することができる。

【００３０】また、従来より複数のガラス基板間に空気
層や不活性ガス層或いは減圧層等の中空層を介在させた
ガラス物品としての複層ガラスは、断熱性能に極めて優
れた作用・効果を発揮することが知られているが、上述
した本発明の高遮熱・低放射ガラスを複層ガラスに組み
入れた場合は更なる断熱性能の向上を図ることができ
る。

【００３１】そこで、本発明に係るガラス物品は、上記
高遮熱・低放射ガラスを少なくとも１枚含む複数のガラ
スが互いに対向配置されると共に、これら複数のガラス
間には中空層が形成されていることを特徴としている。

【００３２】また、窓ガラスに要求される熱特性は、気
候的な地域的特性によって異なる。例えば、冬季の寒さ
の厳しい地域では遮熱性能よりも断熱性能が重視され、
一方、冬季でも比較的温暖な地域では断熱性能よりも遮
熱性能が重視される傾向にある。そして、上記ガラス物
品においては、これら遮熱性能及び断熱性能は夫々日射
熱取得率及び熱貫流率で定量的に表現することができる
ことが知られている。

【００３３】一方、本発明の高遮熱・低放射ガラスは、
上述したように優れた遮熱性・断熱性を有するが、膜構
成及び膜厚の範囲内で異なる特性を有する。

【００３４】したがって、上記各種高遮熱・低放射ガラ
スの中から所定の高遮熱・低放射ガラスを選択的に使用
することにより、日射熱取得率を０．６６以下で且つ熱
貫流率を２．０Ｗ／ｍ²・Ｋ以下とし、これにより遮熱
性能よりも断熱性能が重視される気候的特性を有する地
域に好適なガラス物品を提供することができ、また日射
熱取得率を０．４９以下で且つ熱貫流率を３．０Ｗ／ｍ
²・Ｋ以下とし、これにより断熱性能よりも遮熱性能が
重視される気候的特性を有する地域に好適なガラス物品
を提供することができる。

【００３５】そこで、本発明の上記ガラス物品は、日射
熱取得率が０．６６以下であって且つ熱貫流率が２．０
Ｗ／ｍ²・Ｋ以下であることを特徴とし、又は日射熱取
得率が０．４９以下であって且つ熱貫流率が３．０Ｗ／
ｍ²・Ｋ以下であることを特徴としている。

【００３６】さらに、本発明の高遮熱・低放射ガラス
は、所謂合わせガラスの構成部材として組み入れるのも
好ましく、したがって、本発明のガラス物品は、上記高
遮熱・低放射ガラスを少なくとも１枚含む複数のガラス
が互いに対向配置されると共に、これら複数のガラスが
中間層を介して接合されていることをも特徴としてい
る。

【００３７】そして、優れた断熱性能と遮熱性能の選択
性から、これらガラス物品を建築物や車輛の窓ガラスに
使用することにより、より快適な居住環境を実現するこ
とができる。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳説する。

【００３９】図１は本発明に係る高遮熱・低放射ガラス
の一実施の形態（第１の実施の形態）を模式的に示した
断面図である。

【００４０】同図において、１は、ソーダ石灰ガラスや
該ソーダ石灰ガラスに微量の着色成分を添加した熱線吸
収ガラス、網入ガラス等の板状に形成されたガラス基板
であって、該ガラス基板１の表面にはＳｎＯ₂膜中に導
電性寄与元素としてのフッ素（Ｆ）がドープされたフッ
素含有ＳｎＯ₂膜（以下、「ＳｎＯ₂：Ｆ膜」という）
（第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜）２ａが形成され、該第１のＳ
ｎＯ₂：Ｆ２ａの表面にはＴｉＮ膜３が形成され、さら
に該ＴｉＮ膜３の表面にはＳｎＯ₂：Ｆ膜（第２のＳｎ
Ｏ₂：Ｆ膜）２ｂが形成されている。そして、これら第
１のＳｎＯ₂：Ｆ２ａ、ＴｉＮ膜３、及び第２のＳｎ
Ｏ₂：Ｆ２ａ、２ｂとで積層膜４を形成している。

【００４１】前記積層膜４の膜厚は、本実施の形態で
は、ＴｉＮ膜３の膜厚が５ｎｍ〜２５ｎｍに設定され、
第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚は総計
で２００ｎｍ〜８００ｎｍに設定され、また、フッ素の
第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂ中の含有率
は、０．０１ｗｔ％〜０．５ｗｔ％に設定されている。
以下、その理由について述べる。

【００４２】（ａ）ＴｉＮ膜３の膜厚 ガラス基板１上に形成されたＴｉＮ膜３は、近赤外波長
域（８００ｎｍ〜２１００ｎｍ）の太陽光線を選択的に
反射・吸収する作用を有しており、前記近赤外波長域の
太陽光線を選択的に反射・吸収することにより遮熱性能
を向上させることができるが、ＴｉＮ膜３の膜厚が５ｎ
ｍ未満の場合は充分な遮熱性能を得ることができない。
一方、ＴｉＮ膜３の膜厚が２５ｎｍを超えるとガラスに
対する可視光線の透過率が低下して室内が暗くなり、居
住者に不快感を与え、快適な居住性を得ることができな
くなる。そこで、本実施の形態では、ＴｉＮ膜３の膜厚
を５ｎｍ〜２５ｎｍ、好ましくは５ｎｍ〜２０ｎｍに設
定した。

【００４３】（ｂ）第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２
ａ、２ｂの膜厚 酸化スズにフッ素を含有したＳｎＯ₂：Ｆは導電性が高
く、ガラス基板１上に形成される第１及び第２のＳｎＯ
₂：Ｆ膜２ａ、２ｂは、赤外波長域（５．５μｍ〜５０
μｍ）の太陽光線を効果的に反射する作用を有し、した
がって前記赤外波長域の太陽光線を反射して断熱性能を
向上させることができるが、第１及び第２のＳｎＯ₂：
Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚が総計で２００ｎｍ未満の場合は
充分な断熱性能を得ることができない。一方、第１及び
第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚が総計で８００
ｎｍを超えると製造コストが高価となり、実用性に欠け
ることとなる。そこで、本実施の形態では、第１及び第
２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚の総計を２００ｍ
〜８００ｎｍ、好ましくは２５０ｎｍ〜５５０ｎｍに設
定した。

【００４４】（ｃ）フッ素の含有率 フッ素は酸化スズ膜中に含有されることにより、補助的
に酸化スズの導電性を向上させる機能を有した導電性寄
与元素であり、酸化スズ中にフッ素を含有させることに
より、断熱性能を向上させることができるが、フッ素含
有率が重量％で０．０１％未満の場合は充分な断熱性能
を得ることができず、一方、フッ素含有率が重量％で
０．５％を超えるとガラスに対する可視光線の透過率が
低下して室内が暗くなり、居住者に不快感を与え、快適
な居住性を得ることができなくなる。そこで、本実施の
形態では、第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂ中
のフッ素含有率を０．０１ｗｔ％〜０．５ｗｔ％、好ま
しくは０．０４ｗｔ％〜０．０６ｗｔ％に設定した。

【００４５】さらに、本実施に形態では、遮熱性能及び
断熱性能を確保しつつ、透過色調や反射色調に色ムラが
生じるのを回避するためには、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２
の膜厚を３０ｎｍ〜５００ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５
ｎｍ〜２０ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を２
０ｎｍ〜５００ｎｍに設定するのが好ましい。

【００４６】具体的には、ＴｉＮ膜３、第１及び第２の
ＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂの屈折率等を考慮し、各膜厚
を以下のように設定することにより、透過色調又は反射
色調を無彩色系又は緑色系の色調に色調整することがで
きる。

【００４７】すなわち、透過色調を無彩色系の色調にす
る場合は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２の膜厚を３０ｎｍ〜
４８０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、第
２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を１４０ｎｍ〜２００ｎ
ｍに設定するのが好ましい。

【００４８】また、薄膜が形成されていない非薄膜面の
反射色調を無彩色系の色調にする場合は、第１のＳｎＯ
₂：Ｆ膜２ａの膜厚を７０ｎｍ〜１００ｎｍ、ＴｉＮ膜
３の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２
ｂの膜厚を４００ｎｍ〜４８０ｎｍに設定するのが好ま
しい。

【００４９】さらに、前記非薄膜面の反射色調を緑色系
の色調にする場合は、第１のＳｎＯ ₂：Ｆ膜２ａの膜厚
を７０〜１１０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０
ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を３００ｎｍ〜
３６０ｎｍに設定するのが好ましい。

【００５０】また、薄膜が形成されている薄膜面の反射
色調を無彩色系の色調にする場合は、第１のＳｎＯ₂：
Ｆ膜２ａの膜厚を１００ｎｍ〜５００ｎｍ、ＴｉＮ膜３
の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂ
の膜厚を２０ｎｍ〜８０ｎｍに設定するのが好ましい。

【００５１】さらに、前記薄膜面の反射色調を緑色系の
色調にする場合は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａの膜厚を
１００〜５００ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０
ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を２０ｎｍ〜１
５０ｎｍに設定するのが好ましい。

【００５２】次に、前記積層膜４の形成に使用する原料
について説明する。

【００５３】ＴｉＮ膜３を成膜するためのチタン原料と
しては、導電性を上げる観点からは四塩化チタン、テト
ラキスジメチルアミドチタン、テトラキスジエチルアミ
ドチタン等のチタン化合物が好ましい。

【００５４】第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂ
を成膜するためのスズ原料としては、導電性を上げる観
点からはモノブチルスズトリクロライド、四塩化スズ、
ジメチルスズジクロライド、ジブチルスズジクロライ
ド、ジオクチルスズジクロライド等の塩素を含有したス
ズ化合物が好ましいが、テトラメチルスズ、テトラブチ
ルスズ、ジブチルスズジアセテート等を使用することも
でき、また酸化原料としては、酸素、水蒸気、乾燥空気
等を使用することができる。

【００５５】また、第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２
ａ、２ｂ中に添加されるフッ素化合物としては、フッ化
水素、トリフルオロ酢酸、ブロモトリフルオロメタン、
クロルジフルオロメタン、ジフルオロエタン等を使用す
ることができる。

【００５６】図２は本発明に係る高遮熱・低放射ガラス
の第２の実施の形態を示す断面図であって、該第２の実
施の形態では、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａとＴｉＮ膜３
との間にＳｉＯ₂膜５が介装され、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜
２ａ、ＳｉＯ₂膜５、ＴｉＮ膜３、及び第２のＳｎＯ₂：
Ｆ膜２ｂで積層膜６を構成している。

【００５７】また、本第２の実施の形態でも、上記第１
の実施の形態と同様の理由から、ＴｉＮ膜３の膜厚は５
ｎｍ〜２５ｎｍに設定され、第１及び第２のＳｎＯ₂：
Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚は総計で２００ｎｍ〜８００ｎｍ
に設定され、またフッ素の第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ
膜２ａ、２ｂ中の含有率は、０．０１ｗｔ％〜０．５ｗ
ｔ％（好ましくは０．０４ｗｔ％〜０．０６ｗｔ％）に
設定され、これにより遮熱性、及び断熱性に優れた高遮
熱・低放射ガラスを得ることができる。

【００５８】さらに、本第２の実施に形態では、遮熱性
能及び断熱性能を確保しつつ、透過色調や反射色調に色
ムラが生じるのを回避するためには、第１のＳｎＯ₂：
Ｆ膜２ａの膜厚を２０ｎｍ〜２００ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５
の膜厚を６ｎｍ〜５０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ
〜２０ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を１５０
ｎｍ〜４５０ｎｍに設定するのが好ましい。

【００５９】具体的には、透過色調を無彩色系の色調に
する場合は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａの膜厚を２０ｎ
ｍ〜７０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚を１０ｎｍ〜５０ｎ
ｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、第２のＳｎ
Ｏ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を２２０ｎｍ〜４５０ｎｍに設定
するのが好ましい。

【００６０】また、前記非薄膜面の反射色調を無彩色系
の色調にする場合は、第１のＳｎＯ ₂：Ｆ膜２ａの膜厚
を２０ｎｍ〜７０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚を６ｎｍ〜
２５ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、第２
のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を３３０ｎｍ〜４００ｎｍ
に設定するのが好ましい。

【００６１】さらに、前記非薄膜面の反射色調を緑色系
の色調にする場合は、第１のＳｎＯ ₂：Ｆ膜２ａの膜厚
を３０ｎｍ〜７０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚を１０ｎｍ
〜４０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、第
２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を３００ｎｍ〜３６０ｎ
ｍに設定するのが好ましい。

【００６２】また、前記薄膜面の反射色調を無彩色系の
色調にする場合は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａの膜厚を
１００ｎｍ〜２００ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚を１０ｎ
ｍ〜６０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、
第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を１５０ｎｍ〜１８０
ｎｍに設定するのが好ましい。

【００６３】さらに、前記薄膜面の反射色調を緑色系の
色調にする場合は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａの膜厚を
８０〜１２０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚を１０ｎｍ〜５
０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、第２の
ＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚を１５０ｎｍ〜２００ｎｍに
設定するのが好ましい。

【００６４】第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２
ｂ、及びＴｉＮ膜３の成膜原料としては、第１の実施の
形態と同様の原料を使用することができる。

【００６５】また、ＳｉＯ₂膜６を成膜するときのケイ
素原料としては、モノシラン、ジシラン、トリシラン、
モノクロロシラン、1,2−ジメチルシラン、1,1,2−トリ
メチルジシラン、1,1,2,2−テトラメチルジシラン等の
シラン系化合物や、テトラメチルオルソシリケート、テ
トラエチルオルソシリケート等を使用することができ、
また酸化原料としては酸素、水蒸気、乾燥空気、二酸化
炭素、一酸化炭素、二酸化窒素、オゾン等を使用するこ
とができる。

【００６６】尚、上記ケイ素原料としてシラン系化合物
を使用する場合は、該シラン系化合物がガラス基板１の
表面に到達するまで該シラン系化合物の反応を抑止し、
かつＳｉＯ₂膜５の屈折率を制御するために、エチレ
ン、アセチレン或いはトルエン等の不飽和炭化水素を適
宜添加するのも好ましい。

【００６７】また、上記ケイ素原料としてテトラメチル
オルソシリケート、テトラエチルオルソシリケート等を
使用する場合は、アルミニウムイソプロポキシド等を添
加して成膜速度を促進させるのも好ましい。

【００６８】図３は本発明に係る高遮熱・低放射ガラス
の第３の実施の形態を示す断面図であって、該第３の実
施の形態では、第１及び第２の実施の形態と同様に形成
されたガラス基板１の表面にＴｉＮ膜３が形成されると
共に、該ＴｉＮ膜３の表面にはＳｉＯ₂膜５が形成さ
れ、さらに該ＳｉＯ₂膜５の表面にはＳｎＯ₂：Ｆ膜２が
形成されている。そして、ガラス基板１の表面に積層さ
れたこれらＴｉＮ膜３、ＳｉＯ₂膜５、ＳｎＯ₂：Ｆ膜２
とで積層膜７を構成している。

【００６９】また、本第３の実施の形態でも、上記第１
の実施の形態と同様の理由から、ＴｉＮ膜３の膜厚は５
ｎｍ〜２５ｎｍに設定され、第１及び第２のＳｎＯ₂：
Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚は総計で２００ｎｍ〜８００ｎｍ
に設定され、またフッ素の第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ
膜２ａ、２ｂ中の含有率は、０．０１ｗｔ％〜０．５ｗ
ｔ％（好ましくは０．０４ｗｔ％〜０．０６ｗｔ％）に
設定され、これにより遮熱性、及び断熱性に高遮熱・低
放射ガラスを得ることができる。

【００７０】さらに、本第３の実施に形態では、遮熱性
能及び断熱性能を確保しつつ、透過色調や反射色調に色
ムラが生じるのを回避するためには、ＴｉＮ膜３の膜厚
を５ｎｍ〜２０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚を５ｎｍ〜５
０ｎｍ、ＳｎＯ₂：Ｆ膜２の膜厚を２２０ｎｍ〜４５０
ｎｍに設定するのが好ましい。

【００７１】具体的には、透過色調を無彩色系の色調に
する場合は、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜２０ｎｍ、Ｓ
ｉＯ₂膜５の膜厚を１０ｎｍ〜５０ｎｍ、ＳｎＯ₂：Ｆ膜
２の膜厚を２００ｎｍ〜３００ｎｍに設定するのが好ま
しい。

【００７２】また、前記薄膜面の反射色調を無彩色系の
色調にする場合は、ＴｉＮ膜３の膜厚を５ｎｍ〜１０ｎ
ｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚を５ｎｍ〜５０ｎｍ、ＳｎＯ₂：
Ｆ膜２の膜厚を３８０ｎｍ〜４５０ｎｍに設定するのが
好ましい。

【００７３】尚、本第３の実施の形態においても、Ｓｎ
Ｏ₂：Ｆ膜２、ＳｉＯ₂膜５及びＴｉＮ膜３の成膜原料は
第１及び第２の実施の形態と同様の原料を使用すること
ができる。

【００７４】以上、上記第１〜第３の実施の形態で本発
明の高遮熱・低放射ガラスを詳述したが、本発明の高遮
熱・低放射ガラスは上記実施の形態に限定されるもので
はない。上記実施の形態では、ＴｉＮ膜３は１層のみの
場合について説明したが、膜厚の総計を５ｎｍ〜２５ｎ
ｍの範囲内に設定することを条件としてＴｉＮ膜３を２
層以上に形成してもよい。

【００７５】また、導電性を上げる方法としては、Ｓｎ
Ｏ₂：Ｆ膜２に代えて、或いはＳｎＯ₂：Ｆ膜２に加えて
酸化スズにアンチモンを含有させたアンチモン含有・酸
化スズ系薄膜（ＳｎＳｂＯｘ）を積層膜中に含ませても
よい。この場合、ＳｎＳｂＯx膜の成膜に使用されるア
ンチモン化合物としては、三塩化アンチモンや五塩化ア
ンチモンを使用することができる。

【００７６】尚、スズ原料としてテトラメチルスズ等の
塩素を含有していないスズ化合物を使用した場合であっ
ても、スズ化合物とＨＣｌ等の塩素を含む化合物とを接
触させて熱分解酸化法によりＳｎＯ₂膜中に塩素を含有
させることができる。

【００７７】また、色調や光学特性、薄膜の耐久性の向
上を図るために、マンガン、バナジウム、ビスマス、コ
バルト、鉄、クロム、ニッケル、銅、ジルコニウム、亜
鉛、アルミニウム、インジウム等の金属やその金属塩を
ＴｉＮ膜やＳｎＯ₂：Ｆ膜等の薄膜中に添加するのも好
ましく、また、臭素等のフッ素や塩素以外のハロゲン元
素を前記薄膜中に添加してもよい。

【００７８】次に、上記高遮熱・低放射ガラスの製造方
法について説明する。

【００７９】上記積層膜をガラス基板上に形成する方法
としては、通常の熱分解ＣＶＤ法により膜の耐久性に優
れた高遮熱・低放射ガラスを得ることができるが、膜性
能や生産性をより一層向上させるためには所謂フロート
法によりガラス基板となるリボン状ガラス（ガラスリボ
ン）を作製し、次いで該ガラスリボンの有する熱エネル
ギを利用した熱分解ＣＶＤを行い、これによりガラスリ
ボン上に膜形成を行うオンラインＣＶＤ法により、製造
するのが最も好ましい。

【００８０】図４はオンラインＣＶＤ装置を模式的に示
した概略構成図であって、該オンラインＣＶＤ装置は、
所定の高温雰囲気下、ガラス原料が投入されて該ガラス
原料を溶融する溶融窯１１と、該溶融窯１１からの溶融
ガラスが流れ込むバス（浴）１２と、該バス１２から引
き出されたガラスリボン１５を徐冷する徐冷窯１３とを
備え、また、前記バス１２には、所定量の溶融スズ１４
が内有されると共に、該バス１２の前方には複数の成膜
原料供給部１６（第１〜第４の成膜原料供給部１６ａ〜
１６ｄ）がガラスリボン１５の幅方向を覆うように列設
されている。尚、該成膜原料供給部１６の個数は、ガラ
スリボンに対する積層数や形成される膜厚の厚さに応じ
て適宜増減される。

【００８１】このように構成されたオンラインＣＶＤ装
置においては、所定のガラス原料粉末が１５００〜１６
００℃に加熱された溶融窯１１に投入されると該ガラス
原料粉末は溶融窯１１の内部で溶融して溶融ガラスとな
り、該溶融ガラスはバス１２に流れ込む。そして、バス
１２には上述したように溶融スズ１４が内有されている
が、溶融ガラスは溶融スズ１４に比べて比重が軽いため
溶融スズ１４上を浮いた状態で矢印Ａ方向へと移動して
いく。すなわち、溶融ガラスは溶融スズ１４上を浮く結
果、リボン状に成形されてガラスリボン１５となる。そ
して、該ガラスリボン１５は高温状態（例えば、６００
〜７５０℃）を保持して成膜原料供給部１６の下方に移
動する。

【００８２】そしてこの後、所定の成膜原料が成膜原料
供給部１６からガラスリボン１５の表面に供給され、ガ
ラスリボン１５の有する熱エネルギを介して成膜原料が
該ガラスリボン１５上で熱分解し、所望の金属酸化物系
薄膜がガラスリボン１５上に堆積される。例えば、上記
図１に示すような積層膜４を作製する場合は、第１の成
膜原料供給部１６ａからは、スズ化合物、酸素、水蒸
気、窒素及びフッ素化合物からなる混合ガスがガラスリ
ボン１５の表面に供給されて第１層としての第１のＳｎ
Ｏ₂：Ｆ膜２ａが形成され、第２の成膜原料供給部１６
ｂからは、チタン化合物の蒸気、アンモニアガス、及び
窒素からなる混合ガスが前記ガラスリボン１５上に供給
されて第２層としてのＴｉＮ膜３が形成される。さらに
第３の成膜原料供給部１６ｃからは、第１の成膜原料供
給部１６ａと同様、スズ化合物、酸素、水蒸気、窒素及
びフッ素化合物からなる混合ガスが前記ガラスリボン１
５上に供給されて第３層としての第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜
２ｂが形成される。尚、膜厚の厚い薄膜を積層する場合
は、同一の成膜原料が複数段（例えば、第３及び第４の
成膜原料供給部１６ｃ、１６ｄ）に分割されて前記ガラ
スリボン１５上に供給される。

【００８３】このようにして成膜されたガラスリボン１
５は複数のロール１７を介して徐冷窯１３に引き上げら
れ、矢印Ｂ方向に搬送されて該徐冷窯１３から順次排出
される。

【００８４】このように上記オンラインＣＶＤ法におい
ては、ガラスリボン１５の有する熱エネルギを利用した
熱分解により膜形成を行っているので、軟化点以上の温
度を有するガラス表面で成膜することが可能となり、膜
の性能、成膜反応速度、及び成膜反応効率も向上し、ま
た生産性の観点からも高遮熱・低放射ガラスを極めて効
率良く大量生産することができる。

【００８５】尚、本発明の高遮熱・低放射ガラスは、こ
のようにオンラインＣＶＤ法で製造するのが最適である
が、通常の熱分解ＣＶＤ法によってもスパッタリング法
等の物理気相成長（physical vapor deposition ;ＰＶ
Ｄ）法に比べると薄膜の耐久性に優れた高遮熱・低放射
ガラスを得ることができる。

【００８６】この場合は、ガラス基板１を所定形状に切
断した後、該ガラス基板１を所定の高温に加熱し、該加
熱したガラス基板１上に成膜用の蒸気を噴霧することに
より行うことができる。例えば、ガラス基板１をメッシ
ュベルト上を搬送させて加熱炉に案内し、該ガラス基板
１が加熱炉を通過する間に成膜原料をガラス基板１に噴
霧させ、ガラス基板１の表面で反応させることにより、
ガラス基板１には所望の積層膜４、６、７が形成され
る。

【００８７】図５は本発明の高遮熱・低放射ガラスを使
用したガラス物品としての複層ガラスの一実施の形態を
示す要部断面図であって、該複層ガラスは、積層膜４
（６、７）が形成された上記高遮熱・低放射ガラス１８
とソーダ石灰ガラス等からなるガラス板１９とが、前記
積層膜４（６、７）がガラス板１９と対向するように配
置されると共に、その両端近傍には乾燥剤を含有したス
ペーサ部材２０が介装され、さらにブチルゴム等の封着
材２１により両端が熱融着されて封止されている。そし
てこれにより、中空層２２が、高遮熱・低放射ガラス１
８、ガラス板１９、スペーサ部材２０及び封着材２１に
より囲繞されて画成されている。

【００８８】尚、中空層２２には空気又はアルゴンガス
等の不活性ガスを封入することができ、所望の断熱性能
を確保する観点からは、高遮熱・低放射ガラス１８とガ
ラス板１９との間隔ｔを５ｍｍ〜１２ｍｍに設定するの
が好ましい。

【００８９】この種の複層ガラスは、従来より、ガラス
板単板に比べてより一層の断熱性能を向上させることが
できるとされているが、本発明の高遮熱・低放射ガラス
は、遮熱性能及び断熱性能に極めて優れた効果を発揮す
るため、該高遮熱・低放射ガラス１８を使用することに
より、断熱性能のより一層の向上を図ることができ、年
間を通じて快適な居住環境を実現することが可能な複層
ガラスを得ることができる。

【００９０】図６は複層ガラスの他の実施の形態を示す
要部断面図であって、該複層ガラスは、中空層２２は間
隔ｔが０．２ｍｍ〜１ｍｍに設定されると共に１×１０
^-2Ｔｏｒｒ〜１×１０^-4Ｔｏｒｒに減圧され、さらに両
端が低融点ガラス２３で封止され、また前記中空層２２
の適所には高遮熱・低放射ガラス１８とガラス板１９と
の間隔を調整するためのスペーサ部材２４が配設されて
いる。

【００９１】このように中空層２２を減圧層で構成する
ことにより、複層ガラスの断熱性能をより一層向上させ
ることができる。

【００９２】図７はガラス物品としての合わせガラスの
一実施の形態を示す要部断面図であって、積層膜４
（６、７）が積層された上記高遮熱・低放射ガラス１８
とソーダ石灰ガラス等からなるガラス板１９とが、前記
高遮熱・低放射ガラス１８の非薄膜面がガラス板１９と
対向するように配置されると共に、該高遮熱・低放射ガ
ラス１８と前記ガラス板１９とはポリブチルビニラール
等の樹脂フィルムからなる中間層２５を介して接合され
ている。

【００９３】このような合わせガラスにおいては、ガラ
ス板の総板厚が増加するので、遮熱性能や膜耐久性を損
なうことなく断熱性能を向上させることができる。

【００９４】このように本発明は、用途に応じたガラス
物品を提供することができ、あらゆる地域、季節に対応
して快適な居住環境を実現することが可能となる。

【００９５】

【実施例】次に、本発明の実施例を具体的に説明する。

【００９６】〔第１の実施例〕本発明者は、オンライン
ＣＶＤ法により、膜構成がガラス板１／ＳｎＯ₂膜２ａ
／ＴｉＮ膜３／ＳｎＯ₂膜２ｂ（図１参照）であって、
各膜厚の異なる試験片（実施例１〜実施例５）を作製し
た。

【００９７】すなわち、まず、けい砂、ソーダ灰等のガ
ラス原料粉末を１５００〜１６００℃に加熱された溶融
窯１１に投入して該ガラス原料粉末を溶融窯１１の内部
で溶融させ、次いで溶融した溶融ガラスをバス１２に流
れ込ませた。そして、バス１２では溶融スズ１４により
溶融ガラスがリボン状に成形されてガラスリボン１５と
なり、６００〜７５０℃の高温状態を保持して成膜原料
供給部１６の下方に移動した。

【００９８】そして、スズ原料として塩素を含有したモ
ノブチルスズトリクロライド、フッ素化合物としてフッ
化水素、チタン化合物として四塩化チタンを夫々使用
し、熱分解ＣＶＤ法により膜形成を行った。

【００９９】すなわち、モノブチルスズトリクロライド
の蒸気が３mol％、酸素が４０mol％、水蒸気が２９．５
mol％、及びフッ化水素が２．５mol％となるように予め
原料を調合し、第２の成膜原料供給部１６ｂから斯かる
調合された混合ガスをガラスリボン１５上に供給し、第
１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａを形成した（第１層）。次に、
四塩化チタンの蒸気が４mol％、アンモニアガスが９mol
％、及び窒素が８７mol％となるように予め原料を調合
し、第２の成膜原料供給部１６ｂから斯かる調合された
混合ガスをガラスリボン１５上に供給してＴｉＮ膜３を
第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａに積層した（第２層）。次い
で、第１層形成時と同様の組成比に調合されたモノブチ
ルスズトリクロライドの蒸気、酸素、水蒸気及びフッ化
水素からなる混合ガスを第３の成膜原料供給部１６ｃか
らガラスリボン１５上に供給してＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂを
ＴｉＮ膜３に積層した（第３層）。

【０１００】尚、第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、
２ｂ中のフッ素含有率は、０．０５ｗｔ％であった。ま
た、膜厚の調整は成膜原料供給部１６に供給する供給量
を調整することにより行った。

【０１０１】次に、本発明者は、比較例として、実施例
１〜実施例５と同様の膜構成であって且つ膜厚が本発明
の範囲外の試験片（比較例１、２）を通常の熱分解ＣＤ
Ｖ法により作製した。

【０１０２】具体的には、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚
さ３ｍｍのソーダ石灰ガラスを洗浄して乾燥し、該ソー
ダ石灰ガラスをガラス基板１として、ＣＶＤ法により該
ガラス基板１に積層膜を形成した。すなわち、ガラス基
板１を大気開放型のメッシュベルトで搬送して約５７０
℃に加熱された加熱炉内に案内し、ガラス基板１が該加
熱炉を通過する間に所定の成膜原料をガラス基板１上に
供給し、ガラス基板１上で化学反応を起こさせて固相を
析出させ、ガラス基板１上にＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ／Ｔｉ
Ｎ膜３／ＳｎＯ₂膜２ｂを順次積層した。尚、使用した
成膜原料は、実施例１〜実施例５と同様であり、また混
合ガスの組成比（mol％）も上記実施例１〜実施例５と
同様となるように調合した。

【０１０３】また、本発明者は、他の比較例として、Ｓ
ｎＯ₂：Ｆ膜に代えて、導電性寄与元素を含有していな
いＳｎＯ₂ 膜を通常の熱分解ＣＶＤ法でガラス基板及び
ＴｉＮ膜上に積層させ、膜構成がガラス基板／ＳｎＯ₂
膜／ＴｉＮ膜／ＳｎＯ₂膜の試験片を作製した（比較例
３）。

【０１０４】尚、スズ原料としてはテトラメチルスズを
使用し、テトラメチルスズの蒸気、酸素、水蒸気及び窒
素の組成比が夫々３mol％、４１mol％、３０mol％、及
び２６mol％に調合し、またチタン原料としては四塩化
チタンを使用し、四塩化チタンの蒸気、アンモニアガス
及び窒素の組成比が夫々４mol％、９mol％及び８７mol
％に調合し、これらの混合ガスをガラス基板上に供給し
て各薄膜を形成した。

【０１０５】次に、このようにして得られた各試験片
（実施例１〜実施例５及び比較例１〜比較例３）につい
て、ガラスの透明性の尺度となる可視光透過率、ガラス
の遮熱性能の尺度となる日射透過率、及びガラスの断熱
性能の尺度となる垂直放射率をＪＩＳ Ｒ３１０６に準
拠して測定し、また実施例１〜実施例５については透過
色及び反射色をＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定し、
ＪＩＳ Ｚ８７２９に準拠してＬ^*ａ^*ｂ^*表色系のクロ
マティックネス指数ａ^*、ｂ^*を算出した。

【０１０６】尚、可視光透過率、日射透過率、透過色及
び反射色は、日立製作所社製３３０型分光光度計を使用
して測定し、垂直放射率を算出するための赤外反射率は
日立製作所社製２７０−３０型赤外分光光度計を使用し
て測定した。

【０１０７】表１は各実施例及び各比較例における測定
結果を示している。

【０１０８】

【表１】 比較例１は、第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂ
の膜厚の総計は４３０ｎｍであり、本発明の範囲内（２
００ｎｍ〜８００ｎｍ）の範囲内にあるため、可視光透
過率は高く透明性を確保することができ、また垂直放射
率も低いため断熱性能を確保することができると考えら
れるが、ＴｉＮ膜３の膜厚が３ｎｍ（＜５ｎｍ）と小さ
いため、太陽光線の近赤外波長域を効果的に反射・吸収
することができず、このため日射透過率が６０％を超え
る結果となって、充分な遮熱性能を確保することができ
ない。

【０１０９】また、比較例２は、ＴｉＮ膜３の膜厚は
９．５ｎｍであり、本発明の範囲内（５ｎｍ〜２５ｎ
ｍ）の範囲内にあるため、太陽光線の近赤外波長域を効
果的に反射・吸収して日射透過率は６０％以下となり、
充分な遮熱性能を得ることができるが、第１及び第２の
ＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚は総計でも１８０ｎｍ
（＜２００ｎｍ）と薄いため垂直放射率が０．４１と大
きくなって断熱性能を確保することができない。

【０１１０】また、比較例３は、可視光透過率及び日射
透過率については満足すべき結果が得られたが、ＳｎＯ
₂膜に導電性寄与元素が含有されていないため垂直放射
率が０．７８と極端に高くなって断熱性能を確保するこ
とができない。

【０１１１】これに対して実施例１〜実施例５はＴｉＮ
膜３が９ｎｍ〜１１ｎｍ、ＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２ｂの
膜厚が総計で３３０ｎｍ〜５２０ｎｍといずれも本発明
の範囲内にあり、可視光透過率は６０％以上となってガ
ラスの透明性を確保することができ、また日射透過率も
５０％以下と低く充分に遮熱性を確保でき、さらに垂直
放射率も０．１５以下と低く充分なる断熱性を確保する
ことができることが判った。

【０１１２】次に、実施例１〜実施例５の色調について
説明する。

【０１１３】ガラス板の知覚的な物体色を表現する方法
の一つとして、国際照明委員会（ＣＩＥ）によりＬ^*ａ^*
ｂ^*表色系によって定量的に表示する方法が規定されて
おり、知覚的に略均等な歩度を有する三次元空間におけ
る２つの座標、すなわち、クロマティクネス指数ａ^*、
ｂ^*をＪＩＳ Ｚ８７２９により色の刺激値等に基づい
て算出し、これによりガラス板の色調を評価することが
できる。

【０１１４】例えば、一般に、クロマティクネス指数ａ
^*、ｂ^*が、−５≦ａ^* 、ｂ^*≦５の範囲内にあるときは
色調は無彩色系と判断され、クロマティクネス指数
ａ^*、ｂ^*が、−３０≦ａ^*≦−５、−５≦ｂ^*≦５の範囲
内であるときは緑色系と判断される。

【０１１５】しかるに、実施例１〜実施例５の膜厚は、
〔発明の実施の形態〕の項で述べた膜厚範囲内に設定さ
れており、所望の透過色調又は反射色調を有する高遮熱
・低放射ガラスを得ることができる。

【０１１６】すなわち、実施例１は、第１のＳｎＯ₂：
Ｆ膜２ａの膜厚が２６０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚が９ｎ
ｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚は１７０ｎｍに膜
厚調整されているので、クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*
が夫々「−０．７」、「１．９」となって透過色調が無
彩色系の色調を有する高遮熱・低放射ガラスを得ること
ができる。

【０１１７】実施例２は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａの
膜厚が８０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚が９.５ｎｍ、第２
のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚は４４０ｎｍに膜厚調整が
なされているので、クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が夫
々「２．２」、「４．５」となって非薄膜面の反射色調
が無彩色系の色調を有する高遮熱・低放射ガラスを得る
ことができる。

【０１１８】実施例３は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａの
膜厚が９０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚が１０ｎｍ、第２の
ＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚は３３０ｎｍに膜厚調整がな
されているので、クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が夫々
「−１４．４」、「３．４」となって非薄膜面の反射色
調が緑色系の色調を有する高遮熱・低放射ガラスを得る
ことができる。

【０１１９】実施例４は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａの
膜厚が３８０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚が１１ｎｍ、第２
のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚は６０ｎｍに膜厚調整がな
されているので、クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が夫々
「−１．３」、「４．３」となって薄膜面の反射色調が
無彩色系の色調を有する高遮熱・低放射ガラスを得るこ
とができる。

【０１２０】実施例５は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａの
膜厚が２４０ｎｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚が１３ｎｍ、第２
のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂの膜厚は７０ｎｍに膜厚調整がな
されているので、クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が夫々
「−１２．３」、「２．３」となって薄膜面の反射色調
が緑色系の色調を有する高遮熱・低放射ガラスを得るこ
とができる。

【０１２１】次に、本発明者は、実施例１の試験片を使
用して３種類の複層ガラスを作製し、また比較例１の試
験片を使用して２種類の複層ガラスを作製した。

【０１２２】すなわち、まず、実施例１の試験片とソー
ダ石灰ガラスからなるガラス板１９（フロートガラス
板）とを使用し、中空層２２に空気を充填した複層ガラ
ス（実施例１１）、中空層２２に不活性ガスとしてのア
ルゴンガスを封入した複層ガラス（実施例１２）を作製
し（図５参照）、さらに中空層２２を１×１０^-4Ｔｏｒ
ｒに減圧した複層ガラス（実施例１３）を作製した（図
６参照）。

【０１２３】次に、比較例１の試験片を使用し、ソーダ
石灰ガラスからなるガラス板１９（フロートガラス板）
とを使用し、中空層２２に空気を充填した複層ガラス
（比較例１１）、中空層２２に不活性ガスとしてのアル
ゴンガスを封入した複層ガラス（比較例１２）を作製し
た（図５参照）。

【０１２４】また、実施例１１、１２及び比較例１１、
１２における中空層２２の厚さｔは６ｍｍに設定し、実
施例１３における中空層２２の厚さｔは０．３ｍｍに設
定した。

【０１２５】そして、高遮熱・低放射ガラス１８側が室
内側となるようにしてこれら複層ガラスの熱特性、すな
わちＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して日射熱取得率を測定
し、ＪＩＳ Ｒ３１０７に準拠して熱貫流率を測定し
た。

【０１２６】尚、日射熱取得率を算出するための日射透
過率は日立製作所社製３３０型分光光度計を使用して測
定し、熱貫流率を算出するための赤外反射率は日立製作
所社製２７０−３０型赤外分光光度計を使用して測定し
た。

【０１２７】表２は各実施例及び比較例の測定結果を示
している。

【０１２８】

【表２】 ところで、遮熱性能及び断熱性能の要求される基準とし
ては、気候的な地域的特性に起因する点が大きく、冬季
の寒さの厳しい北海道等の寒冷地（以下、「寒冷地域」
という）では遮熱性能よりも断熱性能が重視され、複層
ガラスの場合、斯かる寒冷地域では省エネルギ化を考慮
すると日射熱取得率は０．６６以下であって且つ熱貫流
率が２．０Ｗ／ｍ²・Ｋ以下であることが必要と考えら
れる。また、冬季でも比較的温暖な地域（以下、「温暖
地域」という）では夏季の熱暑感を回避する必要性から
断熱性能よりも遮熱性能が重視され、複層ガラスの場
合、斯かる温暖地域では省エネルギ化を考慮すると日射
熱取得率は０．４９以下であって且つ熱貫流率が３．０
Ｗ／ｍ²・Ｋ以下であることが必要と考えられる。

【０１２９】しかるに、比較例１１は日射熱取得率が
０．６０であり、熱貫流率が２．３Ｗ／ｍ²・Ｋである
ため、温暖地域では断熱性能は条件を満たすものの日射
エネルギの遮熱効果が弱く、また寒冷地域では遮熱性能
は条件を満たすが断熱効果が弱く、いずれの地域におい
ても年間を通じての快適な居住性、経済性及び環境性を
得ることができない。

【０１３０】また、比較例１２も日射熱取得率が０．６
０であり、熱貫流率が２．３Ｗ／ｍ ²・Ｋであるため、
比較例１１と同様、寒冷地域及び温暖地域のいずれの地
域についても年間を通じての快適な居住性、経済性及び
環境性を得ることができない。

【０１３１】これに対して実施例１１は、日射熱取得率
は０．４９であり、熱貫流率が２．３Ｗ／ｍ²・Ｋであ
るため、温暖地域で使用した場合は年間を通じて経済的
で環境にも優しい快適な居住空間を提供することができ
る。

【０１３２】また、実施例１２は、日射熱取得率は０．
６６であり、熱貫流率が１．９Ｗ／ｍ²・Ｋであるた
め、寒冷地域に使用した場合は年間を通じて経済的で環
境にも優しい快適な居住空間を提供することができる。

【０１３３】実施例１３は、日射熱取得率は０．６５で
あり、熱貫流率が１．４Ｗ／ｍ²・Ｋであるため、実施
例１２と同様、寒冷地域に使用した場合は年間を通じて
経済的で環境にも優しい快適な居住空間を提供すること
ができる。

【０１３４】次に、本発明者は、実施例３の試験片とソ
ーダ石灰ガラスからなるフロートガラス板とを使用して
合わせガラスを作製し（実施例２１）、比較例として２
枚の前記ガラス板を使用して合わせガラスを作製し（比
較例２１）、上述と同様にして日射熱取得率及び熱貫流
率を測定した。

【０１３５】すなわち、厚さが０．８ｍｍのポリビニル
ブチラ−ル（中間層２５）を実施例３の試験片とガラス
板１９とで挟持させ温度２５０℃に設定してオートグレ
ーブ中で１５分間加熱加圧して実施例２１の試験片を作
製し、また前記ポリビニルブチラ−ル（厚さ０．８ｍ
ｍ）を２枚のフロートガラス板で挟持させ温度２５０℃
に設定してオートグレーブ中で１５分間加熱加圧して比
較例２１の試験片を作製し、日射熱取得率及び熱貫流率
を測定した。

【０１３６】表３は実施例２１及び比較例２１の測定結
果を示している。

【０１３７】

【表３】 比較例２１は日射熱取得率が０．７９と高く、また熱貫
流率も４．９Ｗ／ｍ²・Ｋといずれも極端に高く、遮熱
性能及び断熱性能共、所期の性能を得ることができな
い。

【０１３８】これに対し、実施例２１は日射熱取得率が
０．４９と低く、また熱貫流率も３．３Ｗ／ｍ²・Ｋと
比較的低いため、地域によっては年間を通じて経済的で
環境にも優しい快適な居住空間を提供することができる
と考えられる。

【０１３９】〔第２の実施例〕本発明者は、通常の熱分
解ＣＤＶ法により、膜構成がガラス板１／ＳｎＯ₂膜２
ａ／ＳｉＯ₂膜５／ＴｉＮ膜３／ＳｎＯ₂膜２ｂ（図２参
照）であって、異なる膜厚を有する試験片（実施例２１
〜実施例２５及び比較例２１）を作製した。

【０１４０】すなわち、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ
３ｍｍのフロート板ガラスを洗浄して乾燥し、該フロー
ト板ガラスをガラス基板１とし、ガラス基板１を大気開
放型のメッシュベルトで搬送して約５７０℃に加熱され
た加熱炉内に案内し、ガラス基板１が該加熱炉を通過す
る間に所定の成膜原料をガラス基板１上に供給し、ガラ
ス基板１上で化学反応を起こさせて固相を析出させ、ガ
ラス基板１上に積層膜６を形成した。

【０１４１】具体的には、まず、スズ原料として塩素を
含有したモノブチルスズトリクロライドを使用し、該モ
ノブチルスズトリクロライドの蒸気、酸素、及び窒素を
第１の実施例と同様のモル比に調合して原料ガスを作製
し、該原料ガスをガラス基板１上に供給して第１のＳｎ
Ｏ₂：Ｆ膜２ａを該ガラス基板１上に積層し、第１層を
形成した。次いで、ケイ素原料としてモノシランを使用
し、モノシランの蒸気が０．５mol％、酸素が２．５mol
％、及び窒素が９７mol％となるように予め原料を調合
し、斯かる調合された原料ガスを第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜
２ａ上に供給してＳｉＯ₂膜５を形成し、第２層を形成
した。次に、四塩化チタンの蒸気、アンモニアガス及び
窒素を第１の実施例と同様のモル比に調合し、斯かる調
合された原料ガスをＳｉＯ₂膜５上に供給してＴｉＮ膜
３を積層し、第３層を形成した。次にスズ原料として塩
素を含有したモノブチルスズトリクロライド、該モノブ
チルスズトリクロライドの蒸気、酸素、三塩化アンチモ
ンの蒸気及び窒素を第１〜第５の実施例と同様のモル比
に調合して原料ガスを作製し、該原料ガスをＴｉＮ膜３
上に供給してＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂを積層し、第４層を形
成した。

【０１４２】次に、このようにして得られた各試験片
（実施例３１〜実施例３５及び比較例３１）について、
第１の実施例と同様、可視光透過率、日射透過率、及び
垂直放射率をＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定し、ま
た実施例３１〜実施例３５については透過色及び反射色
をＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定し、さらにＪＩＳ
Ｚ８７２９に準拠してＬ^*ａ^*ｂ^*表色系のクロマティッ
クネス指数ａ^*、ｂ^*を算出した。

【０１４３】表４は各実施例及び各比較例における測定
結果を示している。

【０１４４】

【表４】 比較例３１は、第１及び第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ、２
ｂの膜厚の総計が４２０ｎｍであり、本発明の範囲内
（２００ｎｍ〜８００ｎｍ）の範囲内にあるため、可視
光透過率は高く透明性は確保することができ、また垂直
放射率も低いため断熱性能は確保することができると考
えられるが、ＴｉＮ膜３の膜厚が３ｎｍ（＜５ｎｍ）と
小さいため、太陽光線の近赤外波長域を効果的に反射・
吸収することができず、このため日射透過率が６０％を
超える結果となって、充分な遮熱性能を確保することが
できない。

【０１４５】これに対して実施例３１〜実施例３５はＴ
ｉＮ膜３が１０ｎｍ〜１１ｎｍ、第１及び第２のＳｎＯ
₂：Ｆ膜２ａ、２ｂの膜厚が総計で２８０ｎｍ〜４２０
ｎｍといずれも本発明の範囲内にあり、可視光透過率は
６０％以上となってガラスの透明性を確保することがで
き、また日射透過率も５０％以下と低く充分に遮熱性を
確保でき、さらに垂直放射率も０．２０以下と低く充分
なる断熱性を確保することができることが判る。

【０１４６】また、実施例３１は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ
膜２ａの膜厚が３０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚が１８ｎ
ｍ、ＴｉＮ膜３の膜厚が１０ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ
膜２ｂの膜厚は３９０ｎｍに膜厚調整されているので、
クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が夫々「−０．５」、
「１．０」となって透過色調が無彩色系の色調を有する
高遮熱・低放射ガラスを得ることができる。

【０１４７】実施例３２は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ
の膜厚が５０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚が１０ｎｍ、Ｔ
ｉＮ膜３の膜厚が１０ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂ
の膜厚は３６０ｎｍに膜厚調整がなされているので、ク
ロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が夫々「２．２」、「−
０．２」となって非薄膜面の反射色調が無彩色系の色調
を有する高遮熱・低放射ガラスを得ることができる。

【０１４８】実施例３３は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ
の膜厚が５０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚が２４ｎｍ、Ｔ
ｉＮ膜３の膜厚が１０ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ｂ
の膜厚は３３０ｎｍに膜厚調整がなされているので、ク
ロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が「−１９．０」、「４．
６」となって非薄膜面の反射色調が緑色系の色調を有す
る高遮熱・低放射ガラスを得ることができる。

【０１４９】実施例３４は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ
の膜厚が１６０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚が５０ｎｍ、
ＴｉＮ膜３の膜厚が１１ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２
ｂの膜厚は１７０ｎｍに膜厚調整がなされているので、
クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が「３．９」、「−４．
８」となって薄膜面の反射色調が無彩色系の色調を有す
る高遮熱・低放射ガラスを得ることができる。

【０１５０】実施例３５は、第１のＳｎＯ₂：Ｆ膜２ａ
の膜厚が１００ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚が３０ｎｍ、
ＴｉＮ膜３の膜厚が１０ｎｍ、第２のＳｎＯ₂：Ｆ膜２
ｂの膜厚は１８０ｎｍに膜厚調整がなされているので、
クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が「−１５．５」、
「０．４」となって薄膜面の反射色調が緑色系の色調を
有する高遮熱・低放射ガラスを得ることができる。

【０１５１】次に、本発明者は、実施例３１の試験片と
ソーダ石灰ガラスからなるガラス板１９とを使用し、中
空層２２を空気で充填した複層ガラスを作製し（実施例
４１）、 また、比較例３１の試験片とソーダ石灰ガラ
スからなるガラス板１９とを使用し、中空層２２を空気
で充填した複層ガラスを作製し（比較例４１）、第１の
実施の形態と同様、日射熱取得率及び熱貫流率を測定し
た。

【０１５２】表５は実施例及び比較例の測定結果を示し
ている。

【０１５３】

【表５】 比較例４１は日射熱取得率が０．６１であり、熱貫流率
が２．３Ｗ／ｍ²・Ｋであるため、温暖地域では断熱性
能は条件を満たすものの日射エネルギの遮熱効果が弱
く、また寒冷地域では遮熱性能は条件を満たすが断熱効
果が弱く、いずれの地域においても年間を通じて快適な
居住性、経済性及び環境性を得ることができない。

【０１５４】これに対して実施例４２は日射熱取得率は
０．４９であり、熱貫流率が２．３Ｗ／ｍ²・Ｋである
ため、温暖地域で使用した場合は年間を通じて経済的で
環境にも優しい快適な居住空間を提供することができ
る。

【０１５５】〔第３の実施例〕本発明者は、通常の熱分
解ＣＤＶ法により、膜構成がガラス板１／ＴｉＮ膜３／
ＳｉＯ₂膜５／ＳｎＯ₂膜２（図３参照）であって、異な
る膜厚を有する試験片（実施例５１、５２及び比較例５
１）を作製した。

【０１５６】すなわち、縦１０ｃｍ、横１０ｃｍ、厚さ
３ｍｍのフロート板ガラスを洗浄して乾燥し、該フロー
ト板ガラスをガラス基板１とし、ガラス基板１を大気開
放型のメッシュベルトで搬送して約５７０℃に加熱され
た加熱炉内に案内し、ガラス基板１が該加熱炉を通過す
る間に所定の成膜原料をガラス基板１上に供給し、ガラ
ス基板１上で化学反応を起こさせて固相を析出させ、ガ
ラス基板１上に積層膜６を形成した。

【０１５７】具体的には、まず、チタン化合物として四
塩化チタンを使用し、四塩化チタンの蒸気、アンモニア
ガス及び窒素を第１の実施例と同様のモル比に調合し、
斯かる調合された原料ガスをガラス基板１上に供給して
ＴｉＮ膜３を積層し、第１層を形成した。次いで、ケイ
素原料としてモノシランを使用し、該モノシラン、酸
素、及び窒素を第２の実施例と同様のモル比に調合して
原料ガスを作製し、該原料ガスをＴｉＮ膜３上に供給し
てＳｉＯ₂膜５を積層し、第２層を形成した。次に、ス
ズ原料として塩素を含有したモノブチルスズトリクロラ
イドを使用し、該モノブチルスズトリクロライドの蒸
気、酸素、及び窒素を第１及び第２の実施例と同様のモ
ル比に調合して原料ガスを作製し、該原料ガスをＳｉＯ
₂膜５上に供給してＳｎＯ₂：Ｆ膜２を積層し、第３層を
形成した。

【０１５８】次に、このようにして得られた各試験片
（実施例５１、５２及び比較例５１）について、第１の
実施例と同様、可視光透過率、日射透過率、及び垂直放
射率をＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定し、また実施
例５１、５２については透過色調及び反射色調をＪＩＳ
Ｚ８７２２に準拠して測定し、ＪＩＳ Ｚ８７２９に
準拠してＬ^*ａ^*ｂ^*表色系のクロマティックネス指数
ａ^*、ｂ^*を算出した。

【０１５９】表６は各実施例及び比較例の測定結果を示
している。

【０１６０】

【表６】 比較例５１は、ＴｉＮ膜３の膜厚が１０ｎｍであり、本
発明の範囲内（５ｎｍ〜２５ｎｍ）にあるため、太陽光
線の近赤外波長域を効果的に反射・吸収し、日射透過率
が６０％以下となって、充分な遮熱性能を確保すること
ができるが、ＳｎＯ₂：Ｆ膜２の膜厚が１５０ｎｍ（＜
２００ｎｍ）となって垂直放射率が０．３３と高く、断
熱性能を確保することができない。

【０１６１】これに対して実施例５１、５２はＴｉＮ膜
３及びＳｎＯ₂：Ｆ膜２の膜厚がいずれも本発明の範囲
内にあり、可視光透過率は６０％以上となり、また日射
透過率も６０％以下と低く充分に遮熱性を確保できると
共に垂直放射率も０．２０以下と低く充分なる断熱性を
確保することができることが判る。

【０１６２】さらに、実施例５１は、ＴｉＮ膜３の膜厚
が１０ｎｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚が２０ｎｍ、ＳｎＯ₂：
Ｆ膜２の膜厚が２８０ｎｍに膜厚調整されているので、
クロマティクネス指数ａ^*、ｂ^*が夫々「−３．１」、
「４．１」となって透過色調が無彩色系の色調を有する
高遮熱・低放射ガラスを得ることができる。

【０１６３】実施例５２は、ＴｉＮ膜３の膜厚が７ｎ
ｍ、ＳｉＯ₂膜５の膜厚が１０ｎｍ、ＳｎＯ₂：Ｆ膜２の
膜厚が４２０ｎｍに膜厚調整がなされているので、クロ
マティクネス指数ａ^*、ｂ^*が「１．８」、「２．７」と
なって薄膜面の反射色調が無彩色系の色調を有する高遮
熱・低放射ガラスを得ることができる。

【０１６４】次に、実施例５１の試験片とソーダ石灰ガ
ラスからなるガラス板１９とを使用し、中空層２２にア
ルゴンガスを封入した複層ガラスを作製し（実施例６
１）、また、比較例５１の試験片とソーダ石灰ガラスか
らなるガラス板１９とを使用し、中空層２２にアルゴン
ガスを封入した複層ガラスを作製し（比較例６１）、第
１の実施例と同様、日射熱取得率及び熱貫流率を測定し
た。

【０１６５】表７は各実施例及び比較例の測定結果を示
している。

【０１６６】

【表７】 比較例６１は日射熱取得率が０．６６であり、熱貫流率
が２．２Ｗ／ｍ²・Ｋであるため、温暖地域では断熱性
能は条件を満たすものの日射エネルギの遮熱効果が弱
く、また寒冷地域では遮熱性能は条件を満たすが断熱効
果が弱く、年間を通じて快適な居住性、経済性及び環境
性を充足する事ができない。

【０１６７】これに対して実施例６１は日射熱取得率は
０．４８であり、熱貫流率が２．２Ｗ／ｍ²・Ｋである
ため、温暖地域で使用した場合は年間を通じて経済的で
環境にも優しい快適な居住空間を提供することができ
る。

【０１６８】

【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る高遮熱
・低放射ガラスは、積層膜が少なくともＴｉＮ膜と高導
電性ＳｎＯ₂膜とを含んでいるので、ＴｉＮ膜により所
望の遮熱性能を得ることができ、また高導電性ＳｎＯ₂
膜により所望の断熱性能を得ることができ、したがって
年間を通じての居住性、経済性及び環境性を確保するこ
とができ、昨今の省エネルギ化に好適なものとなる。

【０１６９】また、本発明に係る高遮熱・低放射ガラス
は、薄膜の積層順序と膜厚とを調整することにより、色
ムラが生じることもなく、窓ガラスとして近年市場にお
いて好まれている高品質で高級感の溢れる透過色調及び
反射色調を有するガラス板を得ることができる。

【０１７０】また、本発明に係る高遮熱・低放射ガラス
は、積層膜がガラス基板上での熱分解反応によって容易
に形成することができるので、膜の耐久性や生産性に優
れたものとなる。

【０１７１】さらに、本発明のガラス物品は、上記各種
高遮熱・低放射ガラスを選択的に使用することにより気
候的な地域的特性に好適な日射熱取得率と熱貫流率を確
保することが可能となり、したがって地域の実状に応じ
た遮熱性及び断熱性を得ることができ、年間を通じて経
済的にも優れ、且つ環境にも優しい快適な居住空間を実
現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る低放射ガラスの一実施の形態（第
１の実施の形態）を示す断面図である。

【図２】本発明に係る低放射ガラスの第２の実施の形態
を示す断面図である。

【図３】本発明に係る低放射ガラスの第３の実施の形態
を示す断面図である。

【図４】オンラインＣＶＤ装置を模式的に示した概略構
成図である。

【図５】本発明に係るガラス物品としての複層ガラスの
一実施の形態を示す要部断面図である。

【図６】本発明に係るガラス物品としての複層ガラスの
他の実施の形態を示す要部断面図である。

【図７】本発明に係るガラス物品としての合わせガラス
の一の実施の形態を示す要部断面図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ ＳｎＯ₂：Ｆ膜（高導電性ＳｎＯ₂膜） ３ ＴｉＮ膜 ４、６、７ 積層膜 ５ ＳｉＯ₂膜 １５ ガラスリボン（リボン状ガラス） １８ 高遮熱・低放射ガラス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA05C AA05D AA12B AA20E AA28C AA28D AB21A AD04B AG00A AH05C AH05D AT00A BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C BA10D BA13 GB07 GB32 JA20B JA20C JA20D JA20E JD10 JD11 JG01C JG01D JJ02 JL00 JM02B JM02C JM02D JN06 JN30 YY00 YY00B YY00C YY00D YY00E 4G059 AA01 AC06 AC11 EA02 EA12 EA18 GA01 GA04 GA12

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数種の薄膜からなる積層膜がガラス基
   板上での熱分解反応によって前記ガラス基板上に形成さ
   れると共に、 前記積層膜は、少なくとも窒化チタンを主成分とする１
   層以上の窒化チタン系薄膜と、導電性寄与元素が含有さ
   れた酸化スズを主成分とする１層以上の高導電性酸化ス
   ズ系薄膜とを含み、 日射透過率が６０％以下であって且つ垂直放射率が０．
   ２以下に設定されていることを特徴とする高遮熱・低放
   射ガラス。
2. 【請求項２】 前記窒化チタン系薄膜の膜厚は、総計で
   ５ｎｍ〜２５ｎｍに設定され、前記高導電性酸化スズ系
   薄膜の膜厚は、総計で２００ｎｍ〜８００ｎｍに設定さ
   れていることを特徴とする請求項１記載の高遮熱・低放
   射ガラス。
3. 【請求項３】 前記窒化チタン系薄膜の膜厚は、総計で
   ５ｎｍ〜２０ｎｍに設定され、前記高導電性酸化スズ系
   薄膜の膜厚は、総計で２５０ｎｍ〜５５０ｎｍに設定さ
   れていることを特徴とする請求項２記載の高遮熱・低放
   射ガラス。
4. 【請求項４】 前記導電性寄与元素には、少なくともフ
   ッ素が含有されていることを特徴とする請求項１乃至請
   求項３のいずれかに記載の高遮熱・低放射ガラス。
5. 【請求項５】 前記フッ素の含有率は、０．０１ｗｔ％
   〜０．５ｗｔ％であることを特徴とする請求項４記載の
   高遮熱・低放射ガラス。
6. 【請求項６】 前記フッ素の含有率は、０．０４ｗｔ％
   〜０．０６ｗｔ％であることを特徴とする請求項５記載
   の高遮熱・低放射ガラス。
7. 【請求項７】 前記導電性寄与元素は、フッ素、塩素、
   及びアンチモンの中から選択された少なくとも１種以上
   の元素であることを特徴とする請求項１乃至請求項３の
   いずれかに記載の高遮熱・低放射ガラス。
8. 【請求項８】 前記ガラス基板の表面に第１の高導電性
   酸化スズ系薄膜が形成され、該第１の高導電性酸化スズ
   系薄膜の表面に窒化チタン系薄膜が形成され、さらに該
   窒化チタン系薄膜の表面に第２の高導電性酸化スズ系薄
   膜が形成され、 前記第１の高導電性酸化スズ系薄膜の膜厚が３０ｎｍ〜
   ５００ｎｍに設定され、前記窒化チタン系薄膜の膜厚が
   ５ｎｍ〜２０ｎｍに設定され、さらに前記第２の高導電
   性酸化スズ系薄膜の膜厚が２０ｎｍ〜５００ｎｍに設定
   されていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のい
   ずれかに記載の高遮熱・低放射ガラス。
9. 【請求項９】 前記ガラス基板の表面に第１の高導電性
   酸化スズ系薄膜が形成されると共に、該第１の高導電性
   酸化スズ系薄膜の表面に酸化ケイ素を主成分とする酸化
   ケイ素系薄膜が形成され、該酸化ケイ素系薄膜の表面に
   窒化チタン系薄膜が形成され、さらに該窒化チタン系薄
   膜の表面に第２の高導電性酸化スズ系薄膜が形成され、 前記第１の高導電性酸化スズ系薄膜の膜厚が２０ｎｍ〜
   ２００ｎｍに設定され、前記酸化ケイ素系薄膜の膜厚が
   ６ｎｍ〜５０ｎｍに設定され、前記窒化チタン系薄膜の
   膜厚が５ｎｍ〜２０ｎｍに設定され、さらに前記第２の
   高導電性酸化スズ系薄膜の膜厚が１５０ｎｍ〜４５０ｎ
   ｍに設定されていることを特徴とする請求項１乃至請求
   項７のいずれかに記載の高遮熱・低放射ガラス。
10. 【請求項１０】 前記ガラス基板の表面に窒化チタン系
    薄膜が形成され、該窒化チタン系薄膜の表面に酸化ケイ
    素を主成分とする酸化ケイ素系薄膜が形成され、さらに
    該酸化ケイ素系薄膜の表面に高導電性酸化スズ系薄膜が
    形成され、前記窒化チタン系薄膜の膜厚が５ｎｍ〜２０
    ｎｍに設定され、前記酸化ケイ素系薄膜の膜厚が５ｎｍ
    〜５０ｎｍに設定され、さらに前記高導電性酸化スズ系
    薄膜の膜厚が２２０ｎｍ〜４５０ｎｍに設定されている
    ことを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載
    の高遮熱・低放射ガラス。
11. 【請求項１１】 透過色調及び反射色調のうちの少なく
    とも１つは、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系における知覚色度指数ａ
    ^* 、ｂ^*が−５≦ａ^* 、ｂ^*≦５に設定されていることを
    特徴とする請求項８乃至請求項１０のいずれかに記載の
    高遮熱・低放射ガラス。
12. 【請求項１２】 透過色調及び反射色調のうちの少なく
    とも１つは、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系における知覚色度指数ａ
    ^* 、ｂ^*が、夫々−３０≦ａ^*≦−５、−５≦ｂ^*≦５に
    設定されていることを特徴とする請求項８乃至請求項１
    ０のいずれかに記載の高遮熱・低放射ガラス。
13. 【請求項１３】 前記ガラス基板は、溶融スズ上にガラ
    ス原料を流し込んで形成された所定高温状態のリボン状
    ガラスから製造され、前記積層膜は、前記リボン状ガラ
    スの表面に固相を堆積して形成されたことを特徴とする
    請求項１乃至請求項１２のいずれかに記載の高遮熱・低
    放射ガラス。
14. 【請求項１４】 請求項１乃至請求項１３のいずれかに
    記載の高遮熱・低放射ガラスを少なくとも１枚含む複数
    のガラスが互いに対向配置されると共に、これら複数の
    ガラス間に中空層が形成されていることを特徴とするガ
    ラス物品。
15. 【請求項１５】 日射熱取得率が０．６６以下であって
    且つ熱貫流率が２．０Ｗ／ｍ²・Ｋ以下であることを特
    徴とする請求項１４記載のガラス物品。
16. 【請求項１６】 日射熱取得率が０．４９以下であって
    且つ熱貫流率が３．０Ｗ／ｍ²・Ｋ以下であることを特
    徴とする請求項１４記載のガラス物品。
17. 【請求項１７】 請求項１乃至請求項１３のいずれかに
    記載の高遮熱・低放射ガラスを少なくとも１枚含む複数
    のガラスが互いに対向配置されると共に、これら複数の
    ガラスが中間層を介して接合されていることを特徴とす
    るガラス物品。