JP2012513369A - 熱特性を有する多層コーティングと吸収層とを備えた基材 - Google Patents

Abstract

本発明は、少なくとも２つの基材を含み、１つの基材は、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティングで、ガス充填空洞と接する内面にコーティングされ、上記コーティングは、単一の金属機能層（１４０）および２つの誘電体膜（１２０，１６０）を含み、上記膜は、少なくとも１層の誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６６）をそれぞれ含み、上記機能層（１４０）は、２つの誘電体膜（１２０，１６０）の間に配置される複層ガラスに関し、少なくとも１つの誘電体膜（１２０，１６０）または両方の誘電体膜（１２０，１６０）が、誘電体膜の２層の誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６６）の間に配置された吸収層（１２３，１６５）を含み、吸収層（１２３，１６５）の吸収材料は、大部分は、金属機能層（１４０）の下にある誘電体膜（１２０）にあるか、または、大部分は、金属機能層（１４０）の上にある誘電体膜（１６０）にあることを特徴とする。
【選択図】図４

Description

本発明は、少なくとも２つのガラス基材タイプの基材を含む複層ガラス（multiple glazing）に関する。それらは、枠構造によって一体に保持される。上記複層ガラスは外部空間と内部空間との間の仕切りを提供する。上記複層ガラスには、少なくとも１つのガス充填空洞が２枚の基材の間にある。

知られているように、基材の１つは、ガス充填空洞と接している内面を、赤外光および／太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティングでコーティングしてもよい。上記コーティングは、単一の金属機能層、とくに銀または銀を含有する合金をベースとしたものと２つの誘電体膜とを含む。上記誘電体膜は、少なくとも１層の誘電体層をそれぞれ含む。上記機能層は、２つの誘電体膜の間に配置される。

本発明は、とくに、断熱および／または日射防止ガラスユニットを製造するための上記基材の使用に関する。これらのガラスユニットは、とくに、エアコンの負荷を減少させるために、および／または過度に暑くなるのを防止するために（「日射調整」ガラスと呼ばれている）、および／または外側に散逸するエネルギーの量を減少させるために（「ｌｏｗ−Ｅ」または「低放射」複層ガラスと呼ばれている）、建築物に備えることを意図されてもよく、建築物における複層ガラス表面の利用をさらに増加させることが重要になっている。

複層ガラスは、たとえば、加熱ガラスまたはエレクトロクロミックガラスなどの特定の機能を有するガラスユニットに一体化されてもよい。

上記特性を基材に与えることが知られている多層コーティングの１つのタイプは、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する金属機能層、とくに銀または銀を含有する合金をベースとする金属機能層からなる。

このタイプの多層コーティングでは、機能層は、２つの誘電体膜の間に配置される。誘電体膜は、窒化物タイプの、とくに窒化ケイ素もしくは窒化アルミニウムの、または酸化物タイプの誘電体材料でそれぞれ作製された数層の層を一般にそれぞれ含む。光学的観点から、金属機能層を両側から挟むこれらのフィルムの目的は、この金属層の「反射防止」することである。

しかし、遮断膜は、１つまたはそれぞれの誘電体膜と金属機能層との間に挿入されることが時々ある。基材の方向の機能層の下に配置された遮断膜は、曲げ加工のおよび／または焼き入れタイプの所望の高温熱処理の間、上記機能層を保護する。基材から反対側の機能層上に配置された遮断膜は、上方の誘電体膜の堆積の間ならびに曲げ加工のおよび／または焼き入れタイプの所望の高温熱処理の間、この層を任意の劣化から保護する。

心覚えに、ガラスの日射透過率ＳＦは、全入射太陽エネルギーに対するガラスを通って部屋に入ってきた全太陽エネルギーの割合である。選択率ｓは、ガラスの日射透過率に対するガラスの可視における光透過率Ｔ_Lvisの割合に対応し、ｓ＝Ｔ_Lvis／ＳＦである。

従来の２層ガラスユニットにおいて、たとえば、以下の構造：４−１６（Ａｒ−９０％）−４（９０％のアルゴンおよび１０％の空気を含有し、１６ｍｍの厚さを有するガス充填空洞によって隔てられた２つの４ｍｍのガラスシートからなる構造）の面３上などに搭載された場合、現在、およそ２〜３％の通常の放射率ε_N、およそ６５％の可視の光透過率Ｔ_L、および約５０％の日射透過率についての１．３〜１．３５のオーダーの選択率を有し、銀系の単一の機能層（以下、「単一の機能層を含む多層コーティング」という表現で示す）を含むｌｏｗ−Ｅ薄膜多層コーティングが存在する。そのガラスシートの１つ、すなわち、建築物に入る太陽光の入射方向を考慮した場合、建築物のもっとも内側のシートのガス充填空洞に面している面は、単一の機能層を含む多層コーティングでコーティングされる。

当業者は、２層ガラスの面２の上（建築物に入ってくる太陽光の入射方向を考慮した場合のもっとも外側のシートのガラス充填空洞に面している面上）に薄膜多層コーティングを配置することによって、日射透過率を減少させ、それにより選択率を増加できることを知っている。

上記例の文脈の中では、単一の機能層を含む同じ多層コーティングを使用して、およそ１．５の選択率を得ることが可能になる。

しかし、可視の光反射、とくに建築物の外側から見える可視の光反射が比較的高いレベル、２０％よりも高く、約２３〜２５％であるので、この解決策は、いくつかの用途について不十分である。

エネルギー反射を維持する、またはさらにエネルギー反射を増加させながら、光反射を減少させるために、当業者は、多層コーティングに、とくに１つまたは２つ以上の誘電体膜に、可視に吸収性のある１層または２層以上の層を導入できることを知っている。

可視の吸収性がある単一機能層を含む層の位置にしたがって、複層ガラスユニット中の多層コーティングを配置するとき、特定の規則が考慮されなくてはならないことがわかる。これが本発明の主題を形成するものである。

先行技術は、複数の機能層を含む多層コーティング中の可視の吸収性がある層の使用をすでに教示していることに留意されるべきである。とくに国際公開第０２／４８０６５号パンフレットは、曲げ加工／焼き入れタイプの熱処理に対して抵抗力を有する多層コーティング中の可視の吸収性がある層の使用に関する。

しかし、多層コーティングの複雑さおよび堆積される材料の量のため、いくつかの機能層を含むこれらの多層コーティングは、単一の機能層を含む多層コーティングに比べて製造コストがかかる。

さらに、２層の機能層を含むこの多層コーティングの複雑さのため、上述の文書の教示は、単一の機能層を含む多層コーティングを設計するために直接移し替えることはできない。

本発明の目的の１つは、単一の機能層を含む新しいタイプの多層コーティングを開発することによって、先行技術の欠点をなくすことに成功することである。そのコーティングは、低いシート抵抗（それゆえ、低い放射率）、高い光透過率およびとくに多層コーティング側（さらに反対側、すなわち基材側）の反射で比較的無色の色を有する。これらの特性は、多層コーティングが曲げ加工および／または焼き入れおよび／またはアニールタイプの１回または２回以上の高温熱処理を受けても受けなくても、限られた範囲内に好ましくは維持される。

別の重要な目的は、単一の機能層を含む多層コーティングを提供することである。そのコーティングは、低い放射率を有するが、さらに、可視での低い光反射およびとくに複層ガラスにおける外反射で、とくに赤色以外の色で、許容できる色を有する。

したがって、本発明の対象は、もっとも広い意味で、請求項１または請求項２に記載の複層ガラスである。この複層ガラスは、少なくとも２つの基材または少なくとも３つの基材をそれぞれ含む。それらの基材は、枠構造によって一体に保持される。上記複層ガラスは、外部空間と内部空間との間の仕切りを提供する。外部空間と内部空間との中では、少なくとも１つのガス充填空洞が２枚の基材の間にある。基材の１つは、ガス充填空洞と接している内面を、赤外光および／太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティングでコーティングされる。上記コーティングは、とくに銀または銀を含有する合金をベースとした単一の金属機能層と２つの誘電体膜とを含む。上記膜は、少なくとも２層の誘電体層をそれぞれ含む。上記機能層は、２つの誘電体膜の間に配置される。本発明によれば、少なくとも１つの誘電体膜、または両方の誘電体膜は、誘電体膜の２層の誘電体層の間に配置された吸収層を含む。吸収層の吸収材料は、以下のような方法で、大部分は、金属機能層の下にある誘電体膜にあるか、大部分は、金属機能層の上にある誘電体膜にある。
− 吸収層の吸収材料（またはすべての吸収材料）（すなわち、吸収材料の物理的厚さ）は、大部分は、金属機能層の下にある誘電体膜にあり、薄膜多層コーティングは、別の面で外部空間と接する基材の内面上に配置されるか、または
− 吸収層の吸収材料（またはすべての吸収材料）（すなわち、吸収材料の物理的厚さ）は、大部分は、金属機能層の上にある誘電体膜にあり、薄膜多層コーティングは、別の面で内部空間と接する基材の内面上に配置されるかのいずれか。

好ましくは、少なくとも２つの基材を含む複層ガラスの、または少なくとも３つの基材を含む複層ガラスの単一の基材は、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄層多層コーティングで、ガス充填空洞と接する内面上にコーティングされる。

用語「大部分は」は、吸収層または多層コーティングの層の吸収材料の全厚さの半分を超える厚さの吸収材料が、金属機能層の下にある誘電体膜の、または金属機能層の上にある誘電体膜のどちらかに配置されることを意味すると、本発明の範囲内で理解される。

一特定の実施形態では、用語「大部分は」は、５０％よりも大きくかつ１００％未満の、または５５％と９５％との間の（５５％と９５％とを含む）、さらに６０％と９０％との間の（６０％と９０％とを含む）物理的厚さを示してもよい。

本発明の文脈の中では、用語「大部分は」を解釈する場合、誘電体膜内以外で多層コーティング内に存在する吸収材料は考慮しない。したがって、機能層と接するまたは近接する、所望により存在する遮断層は、用語「大部分は」を解釈する場合に考慮される吸収材料の一部を形成しない。

本発明の文脈の中では、用語「膜」は、膜に、単一層または異なる材料の複数の層が存在することを意味すると理解されるべきである。

いつもの通り、用語「誘電体層」は、材料が「非金属」であること、すなわち金属でないことをその性質の観点から意味することを本発明では理解される。本発明の文脈の中では、この用語は、全可視波長範囲（３８０ｎｍから７８０ｎｍまで）にわたって、５以上のｎ／ｋ比率を有する材料を示す。

用語「吸収材料」は、全可視波長範囲（３８０ｎｍから７８０ｎｍまで）にわたって、０と５との間の（０と５とは含まない）ｎ／ｋ比率を有し、（文献から知られているように）バルク状態で１０^-5Ω・ｃｍより大きな電気抵抗率を有する材料を意味すると本発明では理解される。

ｎは、所与の波長における材料の実屈折率を示し、ｋは、所与の波長における屈折率の虚数部分を示し、比率ｎ／ｋは、同じ所与の波長におけるｎとｋとの両方から計算されることを思い出すであろう。

それぞれの誘電体膜の中では、吸収層を両側から挟む２層の誘電体層は、好ましくは同じ性質を有する。したがって、誘電体層の組成（化学量論的組成）は、吸収層の両側で同一である。

本発明の１つの特定の変形では、少なくとも１つの基材が、ガス充填空洞に接する少なくとも１つの面上に反射防止膜を有する。反射防止膜は、ガス充填空洞に関連して、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティングと反対側である。

光透過率が著しく増加し、複層ガラスの日射透過率がより小さく増加することのお陰で、この変形によって、高い選択率を達成することができる。

本発明の別の特定の変形では、入射太陽光が透過する第１の基材の内面上に配置された薄膜多層コーティングにおける吸収層またはすべての吸収層のナノメートルの全（物理的）厚さｅは、以下の一般式である。
ｅ＝ａｅ₁₄₀＋５５−ＳＦ
ここで、
０．５ｎｍ＜ｅ＜１０ｎｍ、または２ｎｍ＜ｅ＜８ｎｍ、
−１．５＜ａ＜０、
ｅ₁₄₀は銀層の物理的厚さであり、５ｎｍ≦ｅ₁₄₀≦２０ｎｍ、
ＳＦは複層ガラスの日射透過率（％）。

本発明の１つの特定の変形では、多層コーティングの少なくとも１層の吸収層および好ましくは多層コーティングのすべての吸収層は窒化物をベースとし、とくに、これらの層の少なくとも１層の層および好ましくはすべてのこれらの層は窒化ニオブＮｂＮをベースとし、または、これらの層の少なくとも１層の層および好ましくはすべてのこれらの層は窒化チタンＴｉＮをベースとする。

上記（またはそれぞれの）吸収層は、複層ガラスにおける２５％以上のまたは３０％以上の光透過率を維持するために、０．５ｎｍと１０ｎｍとの間の（０．５ｎｍと１０ｎｍとを含む）、または２ｎｍと８ｎｍとの間の（２ｎｍと８ｎｍとを含む）厚さを好ましくは有する。

少なくとも上述のそれぞれの誘電体膜にある誘電体層は、１．８と２．５との間の（１．８と２．５とを含む）、好ましくは１．９と２．３との間の（１．９と２．３とを含む）光学的屈折率を有する（ここで示される光学的屈折率または屈折率は、通常、５５０ｎｍで測定されたものである）。

１つの特定の実施形態では、上記下にある誘電体膜および上にある誘電体膜は、少なくとも１種の他の元素、たとえばアルミニウムを所望によりドープした窒化ケイ素をベースとする少なくとも１層の誘電体層をそれぞれ含む。

本発明の１つの特定の態様では、それぞれの吸収層は、誘電体膜の中の２層の誘電体層の間に配置される。誘電体層は、少なくとも１種の他の元素、たとえばアルミニウムを所望によりドープした窒化ケイ素をベースとする。

１つの特定の実施形態では、下にある誘電体膜の最終層またはオーバーコート（overcoat）、すなわち基材からもっとも離れている層は、酸化物をベースとする、とくに、少なくとも１種の他の元素、たとえばアルミニウムを所望によりドープした酸化亜鉛をベースとするウェッティング（wetting）層である。

特定の実施形態では、下にある誘電体膜は、窒化物、とくに窒化ケイ素および／または窒化アルミニウムをベースとする少なくとも１層の誘電体層と、混合酸化物で作製された少なくとも１層の非晶質平滑層を含む。上記平滑層は、上にある結晶ウェッティング層と接している。

好ましくは、機能層は、機能層と機能層の下にある誘電体膜との間に配置された下方遮断膜上に直接配置され、および／または、機能層は、機能層と機能層の上にある誘電体膜との間に配置された上方遮断膜の直接下に堆積され、ならびに、下方遮断膜および／または上方遮断膜は、ニッケルまたはチタニウムをベースとし、０．２ｎｍ≦ｅ≦２．５ｎｍの幾何学的厚さｅを有する薄層を含む。

さらに、薄層多層コーティングが堆積された後に、薄層多層コーティングを備えた基材が、曲げ加工および／または焼き入れ熱処理を受けない場合、下方遮断膜および／または上方遮断膜は、金属の状態で存在するニッケルまたはチタニウムをベースとする少なくとも１層の薄層を含んでもよい。薄層多層コーティングが堆積された後に、薄層多層コーティングを備えた基材が、少なくとも１回の曲げ加工および／または焼き入れ熱処理を受ける場合、この層は、少なくとも部分的に酸化される。

下方遮断膜のニッケル系薄層および／または上方遮断膜のニッケル系薄層は、その層が存在する場合、好ましくは、機能層と直接接する。

１つの特定の実施形態では、上にある誘電体膜における基材からもっとも離れている最終層またはオーバーコートは、酸化物をベースとし、好ましくは準化学量論的に堆積され、とくに酸化チタン（ＴｉＯ_x）をベースとするか、混合スズ亜鉛酸化物（ＳｎＺｎＯ_x）をベースとし、多くて１０重量％の量の別の元素を所望によりドープする。

したがって、多層コーティングは、好ましくは、準化学量論的に堆積されたオーバーコート、すなわち保護層を含んでもよい。この層は、堆積の後、多層コーティングの中で本質的には化学量論的に酸化される。

この保護層は、０．５ｎｍと１０ｎｍとの間の厚さを好ましくは有する。

本発明による複層ガラスは、少なくとも１つの他の基材に所望により結合した本発明による多層コーティングを備えた少なくとも１つの基材を組み入れる。それぞれの基材は、無色透明でも着色されていてもよい。とくに基材の少なくとも１つは、バルク着色ガラスで作製されてもよい。着色のタイプの選択は、光透過率のレベルおよび／または、いったん、製造が完了したときに複層ガラスに望まれている色彩の外観によって決まる。

本発明による複層ガラスは、積層構造、とくに、ガラス／薄膜多層コーティング／シート（複数可）／ガラス／ガス充填空洞／ガラスシートのタイプの構造を有するように、ガラスタイプの少なくとも２つの硬質の基材を少なくとも１つの熱可塑性ポリマーのシートと結合させた積層構造を有していてもよい。そのポリマーは、ポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレンビニルアセテートＥＶＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴまたはポリ塩化ビニルＰＶＣをとくにベースとしてもよい。

薄膜多層コーティングがダメージを受けることなく、本発明による複層ガラスの基材は熱処理を受けることができる。所望により、上記基材は、曲げ加工され、および／または焼き入れされる。

また、本発明の対象は、枠構造によって一体に保持された少なくとも２つの基材を含む本発明による複層ガラスを製造する方法である。上記複層ガラスは、外部空間と内部空間との間の仕切りを提供する。上記複層ガラスには、２つの基材の間に少なくとも１つのガス充填空洞がある。一方の基材は、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティングをガス充填空洞に接する内面上にコーティングされる。上記コーティングは、とくに銀または銀を含有する合金をベースとする単一の金属機能層と２つの誘電体膜とを含む。上記膜は、少なくとも１層の誘電体層をそれぞれ含む。上記機能層は、２つの誘電体膜の間に配置される。少なくとも１つの誘電体膜、または両方の誘電体膜は、吸収層を含む。吸収層は、誘電体膜の２層の誘電体層の間に配置される。吸収層の吸収材料は、以下のように、大部分は、金属機能層の下にある誘電体膜に、または、大部分は、金属層の上にある誘電体膜にある。
− 基材は、その内面が薄膜多層コーティングを含むようにし、その他の面が外部空間と接するように、枠構造に配置される。薄膜多層コーティングにおける吸収層（またはすべての吸収層）の吸収材料は、大部分は、金属機能層の下にある誘電体膜にあるか、
− または、基材は、その内面が薄膜多層コーティングを含み、その他の面が内部空間と接するように、枠構造に配置される。薄膜多層コーティングにおける吸収層（またはすべての吸収層）の吸収材料は、大部分は、金属機能層の下にある誘電体膜にあるかのいずれかである。

吸収層を両側から挟む２層の誘電体層が、窒素および／または酸素が存在する中で反応スパッタリングによって堆積される場合、これらの２層の層の間に堆積される吸収層は、好ましくは、窒素および／または酸素が存在する中でそれぞれ堆積される。

また、本発明は、赤外光および／または太陽光で反射特性を有し、とくに銀または銀を含有する合金をベースとする単一の金属機能層と２つの誘電体膜とを含む薄膜多層コーティングの使用に関する。上記膜は、少なくとも１層の誘電体層をそれぞれ含む。上記機能層は、２つの誘電体膜の間に配置される。上記薄膜多層コーティングは、本発明による複層ガラスを作り出すために、少なくとも１つの基材の内面上に配置される。複層ガラスは少なくとも２つの基材を含む。その基材は、枠構造によって一体に保持される。その複層ガラスには、ガス充填空洞が２つの基材の間にある。

好都合なことに、本発明は、複層ガラス構成、とくに２層ガラス構成に、高い選択率（ｓ≧１．４０）、低い放射率（ε_N≦３％）および審美的に魅力的な外観（Ｔ_Lvis≧６０％、外部Ｒ_Lvis≦２５％または外部Ｒ_Lvis≦２０％または外部Ｒ_Lvis＜２０％、および無彩色の外部反射）を有する単一の機能層を含む薄膜多層コーティングを作り出すことを可能にする。一方、従来、２層の機能層を含む多層コーティングのみが、この基準の組み合わせを満たし得た。

本発明による単一の機能層を含む多層コーティングは、同様の特性（Ｔ_Lvis、Ｒ_Lvisおよび無彩色の外部反射）を有する、２層の機能層を含む多層コーティングに比べて作製するのに費用がかからない。

本発明の詳細なおよび有利な特徴は、以下に説明され、ここに添付される図によって説明される以下の制限しない例から明らかになるであろう。
図１は、先行技術による単一の機能層を含む多層コーティングを示し、その機能層は下方遮断膜および上方遮断膜を備える。 図２は、単一の機能層を含む多層コーティングを組み入れた２層ガラスの解決法を示す。 図３は、単一の機能層を含む多層コーティングを組み入れた２層ガラスの解決法を示す。 図４は、本発明による単一の機能層を含む多層コーティングを示し、その機能層は下方遮断膜および上方遮断膜を備える。 図５は、単一の機能層を含む多層コーティングを組み入れた３層ガラスの解決法を示す。 図６は、単一の機能層を含む多層コーティングを組み入れた３層ガラスの解決法を示す。

これらの図では、よりわかりやすくするために、様々な層または様々な構成要素の厚さの間の比率は、厳密には守られていない。

図１は、透明ガラス基材１０，３０の上に堆積された先行技術における単一の機能層を含む多層コーティングの構造を説明する。その多層コーティングの中では、とくに銀または銀を含有する合金をベースとする単一の機能層１４０は、２つの誘電体膜、すなわち、基材１０，３０の方向に、機能層１４０の下にある、下にある誘電体膜１２０と、基材１０，３０とは反対側の機能層１４０上にある、上にある誘電体膜１６０との間に配置される。

これらの２つの誘電体膜１２０，１６０は、少なくとも２層の誘電体層１２２，１２６，１２８；１６２，１６６，１６８をそれぞれ含む。

所望により、一方では、機能層１４０は、下にある誘電体膜１２０と機能層１４０との間に配置された下方遮断膜１３０上に堆積されてもよく、他方では、機能層１４０は、機能層１４０と上にある誘電体膜１６０との間に配置された上方遮断層１５０の直接下に堆積されてもよい。

この誘電体膜１６０は、所望の保護層１６８、とくに、酸化物、とくに酸素が準化学量論的である酸化物をベースとするものの末端であってもよい。

単一の機能層を含む多層コーティングが、２層ガラス構造の複層ガラス１００に使用される場合、この複層ガラスは、枠構造９０によって一体に保持され、ガス充填空洞１５によって相互に隔てられた２つの基材１０，３０を含む。

複層ガラスは、外部空間ＥＳと内部空間ＩＳとの間の仕切りを提供する。

多層コーティングは、面２上（建築物に入る太陽光の入射方向を考慮した場合の建築物のもっとも外側のガラスシートのガス空洞に面する面上）、または、面３上（建築物に入る太陽光の入射方向を考慮した場合の建築物のもっとも内側のガラスシートのガス空洞へ面する面上）に配置されてもよい。

図２および３は、以下の配置（建築物に入る太陽光の入射方向は、２つの矢印によって説明される）をそれぞれ説明する。
− ガス充填空洞１５と接する基材１０の内面１１に配置された薄膜多層体１４の面２上。基材１０の他の面９は外部空間ＥＳと接する。そして、
− ガス充填空洞１５と接する基材３０の内面２９上に配置された薄膜多層コーティング２６の面３上。基材３０の他の面３１は、内部空間ＩＳと接する。

しかし、また、この２層ガラス構造の中で基材の１つが積層された構造を有することを想像されてもよい。しかし、そのような構造にはガス充填空洞がないので、混乱の可能性はない。

さらに、これは説明されていないが、少なくとも１つの基材１０，３０が、ガス充填空洞１５と接する少なくとも１つの面１１（図３の場合）または面２９（図２の場合）の上に含んでもよい。上記基材は、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティングを有さない。上記ガス充填空洞１５と関連して薄膜コーティング１４（図２の場合）および薄膜コーティング２６（図３の場合）と対向する反射防止膜は、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する。

２層ガラス構造に反射防止膜を挿入する目的は、高い光透過率と高い日射透過率とを得ることを可能にすることである。

一連の５つの例が作製された。それぞれの例は、１〜５の番号が付けられた。

国際公開第２００７／１０１９６４号パンフレットの教示によれば、下にある誘電体膜１２０は、窒化ケイ素系誘電体層１２２および、混合された酸化物、この場合、アンチモンがドープされた混合された亜鉛スズ酸化物（上記酸化物は、６５：３４：１のそれぞれＺｎ：Ｓｎ：Ｓｂの質量比を有する金属ターゲットを使用して堆積された）で作製された少なくとも１層の非晶質平滑層１２６を含んでもよい。上記平滑層１２６は上にあるウェッティング層１２８と接する。

この多層コーティングでは、（２重量％のアルミニウムをドープした亜鉛からなる金属ターゲットを使用して堆積された）アルミニウムをドープした酸化亜鉛ＺｎＯ：Ａｌで作製されたウェッティング層１２８は、銀の結晶化を増進させることができ、それにより、導電率を増加させる。この効果は、アモルファスＳｎＺｎＯ_x：Ｓｂ平滑層の使用によって高まる。これによりＺｎＯの成長が改善され、それゆえ銀の成長が改善される。

上にある誘電体膜１６０は、アルミニウムをドープした酸化亜鉛ＺｎＯ：Ａｌで作製された（２重量％のアルミニウムをドープした亜鉛からなる金属ターゲットを使用して堆積された）少なくとも１層の誘電体層１６２と、窒化ケイ素系誘電体層１６６とを含んでもよい。

窒化ケイ素層１２２，１６６は、Ｓｉ₃Ｎ₄層であり、８重量％のアルミニウムをドープした金属ターゲットを使用して堆積された。

また、これらの多層コーティングは、焼き入れすることができるという有利な点を有する。すなわち、それらは、焼き入れ熱処理に耐えることができ、この熱処理を実施した際、それらの光学的特性は、少ししか変わらない。

上記のすべての例について、層を堆積するための条件は以下である。

したがって、堆積された層は、以下の３つのカテゴリーにまとめられる。
ｉ）誘電体材料で作製され、可視の全波長範囲にわたって５よりも大きなｎ／ｋ比率を有する層：Ｓｉ₃Ｎ₄、ＳｎＺｎＯ、ＺｎＯ。
ｉｉ）吸収材料で作製され、可視の全波長範囲にわたって０＜ｎ／ｋ＜５のようなｎ／ｋ比率および、バルク状態での１０^-5Ω・ｃｍよりも大きな電気抵抗率を有する層：ＮｂＮ。
ｉｉｉ）赤外光および／または太陽光で反射特性を有する材料で作製された金属機能層：Ａｇ。

銀もまた可視の全波長範囲にわたって０＜ｎ／ｋ＜５のようなｎ／ｋ比率を有するが、しかし、そのバルク状態での電気抵抗率は１０^-5Ω・ｃｍよりも小さいことがわかっている。

また、Ｔｉ、ＴｉＮおよびＮｂ材料は、上記に示された定義による吸収材料で作製された層を構成し得ることがわかっている。

以下の例のすべてについて、薄膜多層コーティングは、Saint-Gobain社から販売された「Planilux」の登録商標の４ｍｍの厚さを有する透明なソーダ石灰ガラスで作製された基材の上に堆積される。

これらの基材について、
− Ｒは、多層コーティングのΩ／□のシート抵抗を示す。
− Ｔ_Lは、光源Ｄ₆₅の下、２°において測定された可視における％の光透過率を示す。
− ａ_T ^*およびｂ_T ^*は、光源Ｄ₆₅の下、２°において測定されたＬＡＢ系における透過の色ａ^*およびｂ^*を示す。
− Ｒ_cは、基材の薄膜多層コーティングでコーティングされた側での光源Ｄ₆₅の下、２°において測定された可視の％の光反射率を示す。
− ａ_C ^*およびｂ_C ^*は、基材のコーティングされた側での光源Ｄ₆₅の下、２°において測定されたＬＡＢ系における透過の色ａ^*およびｂ^*を示す。
− Ｒ_gは、基材のコーティングされていない側での光源Ｄ₆₅の下、２°において測定された可視の％の光反射率を示す。そして、
− ａ_g ^*およびｂ_g ^*は、基材のコーティングされていない側での光源Ｄ₆₅の下、２°において測定されたＬＡＢ系における透過の色ａ^*およびｂ^*を示す。

さらに、これらの例について、熱処理が基材に適用されるすべての場合、これは、曲げ加工または焼き入れ熱処理を模擬するような約６２０℃の温度で約６分実行されるアニール処理である。この後、基材は、周囲の空気（約２０℃）を使用して冷却される。

さらに、これらの例について、多層コーティングを備え基材が２層ガラスに一体化される場合、これは、４−１６−４（９０％Ａｒ）構造、すなわち、４ｍｍの厚さをそれぞれ有する２つのガラス基材が９０％のアルゴンと１０％の空気からなる１６ｍｍ厚さのガス空洞によって引き離されている構造を有する。

すべての上記例に関して、この２層ガラス構成では、ＥＮ６７３標準に準拠して計算された、およそ１．１Ｗ・ｍ^-2・Ｋ^-1のＵ係数またはＫ係数（すなわち、外部空間に接するガラスの面と内部空間に接するガラスの面との間の単位温度差に関して、定常状態における単位面積当たりの基材を通る熱の量を示すガラスを通る熱貫流係数）を達成することができる。

これらの２層ガラスユニットについて、
− ＳＦは、日射透過率、すなわち、全入射太陽光に対する２層ガラスを通って部屋に入る全太陽エネルギーのパーセントの比率を示す。
− ｓは、日射透過率ＳＦに対する可視の光透過率Ｔ_Lの比率に対応する選択率を示す。すなわち、ｓ＝Ｔ_Lvis／ＳＦ。
− Ｔ_Lは、光源Ｄ₆₅の下、２°において測定された可視における％の光透過率を示す。
− ａ_T ^*およびｂ_T ^*は、光源Ｄ₆₅の下、２°において測定されたＬＡＢ系における透過の色ａ^*およびｂ^*を示す。
− Ｒ_eは、外部空間ＥＳ側での光源Ｄ₆₅の下、２°において測定された可視の％の外部光反射率を示す。
− ａ_e ^*およびｂ_e ^*は、外部空間ＥＳ側での光源Ｄ₆₅の下、２°において測定されたＬＡＢ系における外部反射の色ａ^*およびｂ^*を示す。
− Ｒ_iは、内部空間ＩＳ側での光源Ｄ₆₅の下、２°において測定された可視の％の内部光反射率を示す。そして、
− ａ_i ^*およびｂ_i ^*は、内部空間ＩＳ側での光源Ｄ₆₅の下、２°において測定されたＬＡＢ系における内部反射の色ａ^*およびｂ^*を示す。

例１は、本発明による吸収層なしで、しかし、所望の保護層１６８および下方遮断膜１３０なしの図１に説明されたコーティング構造にしたがって作製された。

以下の表１は、例１の層のそれぞれのナノメートルの幾何学的または物理的厚さ（および、光学的厚さではない）を説明する。

以下の表２は、熱処理前の１０／３０基材のみを考慮した場合の、熱処理後の基材１０’／３０のみを考慮した場合の、ならびにこれらの基材が、２層ガラスとして、図２のように、面２上に（Ｆ２）、および図３に示すように面３上に（Ｆ３）、それぞれ搭載された場合の、この例１の主な光学的およびエネルギー特性をまとめる。

２つのＦ２の行について、上の行は、基材１０を使用して得られたデータを示し、下の行は、熱処理を受けた基材１０’を使用して得られたデータを示す。同じように、２つのＦ３の行について、上の行は、熱処理なしの基材（したがって、それは、基材３０である）を使用して得られたデータを示し、下の行は、熱処理を受けた基材（したがって、それは基材３０’である）を使用して得られたデータを示す。

このように、表２に示されているように、２層ガラスにおける可視の光透過率Ｔ_Lはおよそ６５％であり、外部反射の色は、比較的無色である。

しかし、外部光反射Ｒ_eは、面２および面３の両方で高すぎるように見えるという意味で完全に十分というわけではない。したがって、他のパラメーター、とくに色のパラメーターが影響を受けることなく２０％以下の値まで、さらに１５％以下の値までそれを減少させることが望ましい。

例２〜５は、図４で説明された多層コーティングに基づいて、窒化ニオブＮｂＯで作製された１層（または２層以上）の吸収層をコーティングに挿入することによって作製された。

以下の表３は、例２の層のそれぞれのナノメートルの幾何学的厚さを説明する。

このように、誘電体層１２２が、実質的に同一の厚さの２つの部分（それぞれ１２２および１２４）に分割された点および吸収層１２３がこれらの２層の層の間に、すなわち、例１の層１２２の実質的に真ん中に挿入された点を除いて、例２は、例１と実質的に同じである。

以下の表４は、基材のみを考慮した場合の、および、上記基材が、２層ガラスとして、図２のように、面２上に、および図３に示すように面３上に、それぞれ搭載された場合の例２の主な光学的およびエネルギー特性をまとめる。この表は、表２と同じ構成を示す。

表４に示されるように、多層コーティングが面２上に配置された場合、約７．５％の値を有する外部光反射Ｒ_eは非常に満足できる。しかし、多層コーティングが面３上に配置された場合、十分ではない。

さらに、外側から見える色は、例１の色とは少し異なるが、多層コーティングが熱処理を受けても受けなくとも無色のままである。

多層コーティングの吸収層１２３のナノメートルの全厚さｅは、式：ｅ＝ａｅ₄₀＋５５−ＳＦが適用される（２層ガラスの面２の場合、a＝−１．１）。

以下の表５は、例３の層のそれぞれのナノメートルの幾何学的厚さを説明する。

このように、誘電体層１６６が、実質的に同じ厚さの２つの部分（それぞれ１６４および１６６）に分割された点、および吸収層１６５が、これらの２層の層の間に、すなわち、例１の層１６６の実質的真ん中に挿入された点を除いて、例３は、例１と実質的に同じである。

以下の表６は、基材のみを考慮した場合の、ならびにこれらの基材が、２層ガラスとして、図２のように、面２上に、および図３に示すように面３上に、それぞれ搭載された場合の、例３の主な光学的およびエネルギー特性をまとめる。この表は、表２および４と同じ構成を有する。

表６に示されるように、多層コーティングが面３上に配置された場合、約１５％の値を有する外部光反射Ｒ_eは、非常に満足できる。しかし、多層コーティングが面２上に配置される場合、不十分である。

さらに、外部から見える色は、例１の色と少ししか異ならず、コーティングが熱処理を受けても受けなくても無色のままである。

多層コーティングの吸収層１６５におけるナノメートルの全厚さｅは、式：ｅ＝ａｅ₄₀＋５５−ＳＦが適用される（２層ガラスの面２の場合、a＝−１．１）。

以下の表７は、例４の層のそれぞれのナノメートルの幾何学的厚さを説明する。

このように、誘電体層１２２および１６６が、実質的に同じ厚さの２つの部分（それぞれ、１２２／１２４および１６４／１６６）にそれぞれ分割される点、ならびに吸収層１２３，１６５が、これらの２層の層の間に、すなわち、例１の層１２２および１６６の実質的に真ん中にそれぞれ挿入される点を除いて、例４は、例１と実質的に同じである。

さらに、吸収層の吸収材料は、下にある膜１２０に、すなわち、キャリア基材と機能層１４０との間に、大部分は（８０％よりも大きい）、配置される。

以下の表８は、熱処理していない基材自体のみを考慮した場合、および基材が、この２層ガラスとして、図２のように、面２上に、および図３に示すように面３上に、それぞれ搭載された場合の、例４の主な光学的およびエネルギー特性をまとめる。

表８に示されるように、多層コーティングが面２上に配置される場合、約７％の値を有する外部光反射Ｒ_eは、非常に満足できる。多層コーティングが面３上に配置された場合、より十分ではない。

さらに、外部から見える色は、例１の色と少ししか異ならず、多層コーティングが熱処理を受けても受けなくても無色のままである。

多層コーティングの吸収層１２３におけるナノメートルの全厚さｅは、式：ｅ＝ａｅ₄₀＋５５−ＳＦが適用される（２層ガラスの面２の場合、a＝−０．９）。

以下の表９は、例５の層のそれぞれのナノメートルの幾何学的厚さを説明する。

例５は、例４のものと同じ構造を有する。

しかし、例４とは異なり、吸収層の吸収材料は、上にある膜１６０、すなわち、機能層１４０の上に、キャリア基材から反対側に、大部分は（多くて８０％）、配置される。

以下の表１０は、熱処理をしない基材自体のみを考慮した場合の、ならびにこれらの基材が、２層ガラスとして、図２のように、面２上に、および図３に示すように面３上に、それぞれ搭載された場合の、例５の主な光学的およびエネルギー特性をまとめる。

表１０に示されるように、多層コーティングが面３上に配置された場合、約１０％の値を有する外部光反射率Ｒ_eは、非常に満足できる。多層コーティングが面２上に配置された場合、より十分ではない。

さらに、外部から見える色は、例１の色と少ししか異ならず、多層コーティングが熱処理を受けても受けなくても無色のままである。

基材１０（入射太陽光が通過する第１の基材）の内面上に配置された薄膜多層体の吸収層１２３および１６５のナノメートルの全厚さｅは、式：ｅ＝ａｅ₄₀＋５５−ＳＦが適用される（２層ガラスの面２の場合、a＝−１．１）。

したがって、本発明によれば、薄膜多層コーティングが複層ガラスの面２上に配置される場合、多層コーティングの吸収層１２３および／または１６５のナノメートルの全厚さｅは、式：ｅ＝ａｅ₄₀＋５５−ＳＦである。ここで、
０．５ｎｍ＜ｅ＜１０ｎｍであり、
−１．５＜ａ＜０であり、
５ｎｍ≦ｅ₄₀≦２０ｎｍであり、そして
ＳＦは、％の日射透過率である。

この式は、本発明の実施の文脈の中で必要な吸収層の全厚さを手短に示す。

さらに、一般に、焼き入れ熱処理は、本発明による例に少ししか影響を与えない。

とくに、熱処理の前および後の本発明による多層コーティングのシート抵抗は、すべて４Ω／□未満である。

例２〜５は、単一の金属銀機能層を含む多層コーティングを使用して、好適な審美的外観（Ｔ_Lが６０％よりも大きく、反射の色が無色である）を依然として維持しながら、高い選択率、低い放射率および低い外部光反射率を兼ね備えることが可能であるということを示す。

さらに、両方とも光源Ｄ₆₅の下で測定された光反射率Ｒ_L、光透過率Ｔ_L、および光源Ｄ₆₅の下で測定された、基材側の反射のＬＡＢ系の色ａ^*およびｂ^*は、熱処理を行ってもあまり変わらない。

熱処理前の光学的およびエネルギー特性を、熱処理後のこれらの同じ特性と比較しても、大きな特性の低下は観察されなかった。

さらに、本発明による多層コーティングの機械的強度は、非常に良好である。さらに、このコーティングの全体の一般的な化学的耐久性も良好である。

単一の機能層を含む多層コーティングが３層ガラス構造の複層ガラス１００で使用される場合、この複層ガラスは、枠構造９０によって一体に保持され、ガス充填空洞１５，２５によってペアでそれぞれ隔てられた３つの基材１０，２０，３０を含む。したがって、複層ガラスは、外部空間ＥＳと内部空間ＩＳとの間に仕切りを提供する。

多層コーティングは、面２上（建築物に入る太陽光の入射方向を考慮した場合のもっとも外側のガラスシートのガス空洞に面する面上）、または面５上（建築物に入る太陽光の入射方向を考慮した場合のもっとも内側のガラスシートのガス空洞に面する面上）に配置されてもよい。

図５および６は、以下の配置をそれぞれ説明する。
− ガス充填空洞１５と接する基材１０の内面１１に配置された薄膜多層コーティング１４の面２上。基材１０の他の面９は外部空間ＥＳと接する。そして、
− ガス充填空洞２５と接する基材３０の内面２９上に配置された薄膜多層コーティング２６の面５上。基材３０の他の面３１は、内部空間ＩＳと接する。

しかし、また、この３層ガラス構造の中で基材の１つが積層された構造を有することを想像されてもよい。しかし、そのような構造にはガス充填空洞がないので、混乱の可能性はない。

さらに、ガス充填空洞１５，２５と接する少なくとも１つの面１１，１９，２１，２９の上に反射防止膜１８，２２を含む少なくとも１つの基材１０，２０，３０を備えてもよい。反射防止膜１８，２２は、ガス充填空洞１５，２５と関連して、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティング１４，２６と対向する。

図６は、上記ガス充填空洞２５に関連して、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティング２６と対向する反射防止膜２２を、３層ガラスの中央基材２０が、ガス充填空洞２５と接する面２１上に含む場合を説明する。

もちろん、本発明の実施の文脈の中で、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティング１４が基材１０の面１１上に配置される場合、ガス充填空洞１５と接する３層ガラスの中央基材２０の面１９は、上記ガス充填空洞１５に関連して薄膜多層コーティング１４と対向する反射防止膜１８を含む。

また、図６のこれらの２つの場合の最初のものに関して説明したように、これらの場合の両方で、３層ガラスの中央基材２０の他の面が反射防止膜を有することを想像されてもよい。

３層ガラス構造における１つの（または２つ以上の）反射防止膜のこの挿入の目的は、断熱を高めるとともに、高い光透過率および高い日射透過率を、少なくとも２層ガラスのものと同様な光透過率および日射透過率を達成させることである。

本発明は、例とし上に記載した。もちろん、当業者は、特許請求の範囲によって規定される特許の範囲から逸脱することなく、本発明の様々な変形形態を作製することができる。

Claims (12)

1. 枠構造（９０）によって一体に保持された少なくとも２つの基材（１０，３０）を含み、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間の仕切りを提供し、
   少なくとも１つのガス充填空洞（１５）は、２つの前記基材の間にあり、
   一方の基材（１０，３０）は、前記ガス充填空洞（１５）と接する内面（１１，２９）上を、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティング（１４，２６）でコーティングされ、
   前記コーティングは、とくに銀もしくは銀を含有する合金をベースとする単一の金属機能層（１４０）と２つの誘電体膜（１２０，１６０）とを含み、
   前記膜は、少なくとも１層の誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６６）をそれぞれ含み、
   前記機能層（１４０）は、前記２つの誘電体膜（１２０，１６０）の間に配置される、複層ガラス（１００）であって、
   少なくとも１つの誘電体膜（１２０，１６０）または両方の誘電体膜（１２０，１６０）が、前記誘電体膜の２層の誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６６）の間に配置された吸収層（１２３，１６５）を含み、
   − 前記吸収層（またはすべての吸収層）（１２３，１６５）の前記吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の下にある前記誘電体膜（１２０）にあり、前記薄膜多層コーティング（１４）は、前記外部空間（ＥＳ）と別の面（９）で接する基材（１０）の前記内面（１１）上に配置されるか、または
   − 前記吸収層（またはすべての吸収層）（１２３，１６５）の前記吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の上にある前記誘電体膜（１６０）にあり、前記薄膜多層コーティング（２６）は、前記内部空間（ＩＳ）と別の面（３１）で接する前記基材（３０）の前記内面（２９）上に配置されるかのいずれかであるように、
   前記吸収層（１２３，１６５）の吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の下にある誘電体膜（１２０）にあるか、または、大部分は、前記金属機能層（１４０）の上にある前記誘電体膜（１６０）にあることを特徴とする複層ガラス（１００）。
2. 枠構造（９０）によって一体に保持された少なくとも３つの基材（１０，２０，３０）を含み、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間の仕切りを提供し、
   少なくとも２つのガス充填空洞（１５，２５）は、２つの前記基材の間にそれぞれあり、
   一方の基材（１０，３０）は、前記ガス充填空洞（１５，２５）と接する内面（１１，２９）上を、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティング（１４，２６）でコーティングされ、
   前記コーティングは、とくに銀もしくは銀を含有する合金をベースとする単一の金属機能層（１４０）と２つの誘電体膜（１２０，１６０）とを含み、
   前記膜は、少なくとも１層の誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６６）をそれぞれ含み、
   前記機能層（１４０）は、前記２つの誘電体膜（１２０，１６０）の間に配置される、複層ガラス（１００）であって、
   少なくとも１つの誘電体膜（１２０，１６０）または両方の誘電体膜（１２０，１６０）が、前記誘電体膜の２層の誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６６）の間に配置された吸収層（１２３，１６５）を含み、
   − 前記吸収層（またはすべての吸収層）（１２３，１６５）の前記吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の下にある前記誘電体膜（１２０）にあり、前記薄膜多層コーティング（１４）は、前記外部空間（ＥＳ）と別の面（９）で接する基材（１０）の前記内面（１１）上に配置されるか、または
   − 前記吸収層（またはすべての吸収層）（１２３，１６５）の前記吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の上にある前記誘電体膜（１６０）にあり、前記薄膜多層コーティング（２６）は、前記内部空間（ＩＳ）と別の面（３１）で接する前記基材（３０）の前記内面（２９）上に配置されるかのいずれかであるように、
   前記吸収層（１２３，１６５）の吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の下にある誘電体膜（１２０）にあるか、または、大部分は、前記金属機能層（１４０）の上にある前記誘電体膜（１６０）にあることを特徴とする複層ガラス（１００）。
3. 少なくとも１つの基材（１０，２０，３０）は、前記ガス充填空洞（１５，２５）と接する少なくとも１つの面（１１，１９，２１，２９）上に、反射防止膜（１８，２２）を有し、
   前記反射防止膜（１８，２２）は、前記ガス充填空洞（１５，２５）に関連して、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティング（１４，２６）と対向することを特徴とする請求項１または２に記載の複層ガラス（１００）。
4. 前記基材（１０）の前記内面（１１）に配置された前記薄膜多層コーティング（１４）の前記吸収層（１２３，１６５）のナノメートルの全厚さｅは、式：ｅ＝ａｅ₁₄₀＋５５−ＳＦである（ここで、
   ０．５ｎｍ＜ｅ＜１０ｎｍであり、
   −１．５＜ａ＜０であり、
   ｅ₁₄₀は前記金属機能層（１４０）の物理的厚さであり、
   ５ｎｍ≦ｅ₁₄₀≦２０ｎｍであり、そして
   ＳＦは、前記複層ガラスの％の日射透過率である）
   ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の複層ガラス（１００）。
5. 少なくとも１層の吸収層（１２３，１６５）、好ましくはすべての吸収層は、窒化物をベースとする、とくに、窒化ニオブＮｂＯをベースとするか、または窒化チタニウムＴｉＮをベースとすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の複層ガラス（１００）。
6. 前記吸収層（１２３，１６５）またはそれぞれの吸収層（１２３，１６５）は、０．５ｎｍと１０ｎｍとの間の厚さ（０．５ｎｍと１０ｎｍとを含む）を有し、さらに２ｎｍと８ｎｍとの間の厚さ（２ｎｍと８ｎｍとを含む）を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の複層ガラス（１００）。
7. 前記下にある誘電体膜（１２０）および上にある誘電体膜（１６０）は、少なくとも１種の他の元素（たとえば、アルミニウム）を所望によりドープした窒化ケイ素をベースとする少なくとも１層の誘電体層（１２２，１６６）をそれぞれ含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の複層ガラス（１００）。
8. それぞれの吸収層（１２３，１６５）は、前記誘電体膜の２層の誘電体層（１２２，１２４；１６４，１６６）の間に配置され、
   前記２層の誘電体層（１２２，１２４；１６４，１６６）は、少なくとも１種の他の元素（たとえば、アルミニウム）を所望によりドープした窒化ケイ素を両方ともベースとすることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の複層ガラス（１００）。
9. 前記機能層（１４０）は、前記機能層（１４０）と前記機能層の下にある前記誘電体膜（１２０）との間に配置された下方遮断膜（１３０）の直接上に配置され、および／または
   前記機能層（１４０）は、前記機能層（１４０）と前記機能層の上にある前記誘電体膜（１６０）との間に配置された上方遮断膜（１５０）の直接下に配置され、
   前記下方遮断膜（１３０）および／または前記上方遮断膜（１５０）は、ニッケルまたはチタニウムをベースとし、０．２≦ｅ’≦２．５ｎｍの物理的厚さｅ’を有する薄層を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の複層ガラス（１００）。
10. 前記基材からもっとも離れている前記上にある誘電体膜（１６０）の最終層またはオーバーコート（１６８）は、準化学量論的に好ましくは堆積された酸化物ベースとする、とくに酸化チタニウム（ＴｉＯ_x）をベースとするかまたは混合スズ亜鉛酸化物（ＳｎＺｎＯ_x）をベースとすることを特徴とする請求項１〜９に記載の複層ガラス（１００）。
11. 薄膜多層コーティング（１４，２６）は、赤外光および／または太陽光で反射特性を有し、とくに銀もしくは銀を含有する合金をベースとする単一の金属機能層（１４０）と２つの誘電体膜（１２０，１６０）とを含み、
    前記膜は、少なくとも１層の誘電体層（１２２，１２６；１６４，１６８）をそれぞれ含み、
    前記機能層（１４０）は、前記２つの誘電体膜（１２０，１６０）の間に配置され、
    前記薄膜多層コーティング（１４，２６）は、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の複層ガラス（１００）を作製するための少なくとも１つの基材（１０，３０）の内面（１１，２９）上に配置され、
    前記複層ガラス（１００）は、枠構造（９０）によって一体に保持された少なくとも２つの基材（１０，３０）を含み、
    ガス充填空洞（１５）が前記複層ガラスの２つの前記基材の間にある、
    薄膜多層コーティング（１４，２６）の使用。
12. 枠構造（９０）によって一体に保持された少なくとも２つの基材（１０，３０）を含み、外部空間（ＥＳ）と内部空間（ＩＳ）との間の仕切りを提供し、
    少なくとも１つのガス充填空洞（１５）は、２つの前記基材の間にあり、
    一方の基材（１０，３０）は、前記ガス充填空洞（１５）と接する内面（１１，２９）上を、赤外光および／または太陽光で反射特性を有する薄膜多層コーティング（１４，２６）でコーティングされ、
    前記コーティングは、とくに銀もしくは銀を含有する合金をベースとする単一の金属機能層（１４０）と２つの誘電体膜（１２０，１６０）とを含み、
    前記膜は、少なくとも１層の誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６６）をそれぞれ含み、
    前記機能層（１４０）は、前記２つの誘電体膜（１２０，１６０）の間に配置される、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の複層ガラス（１００）の製造方法であって、
    少なくとも１つの誘電体膜（１２０，１６０）または両方の誘電体膜（１２０，１６０）が、前記誘電体膜の２層の誘電体層（１２２，１２６；１６２，１６６）の間に配置された吸収層（１２３，１６５）を含み、
    − 前記基材（１０）は、前記基材（１０）の内面（１１）が薄膜多層コーティング（１４）を含むために前記枠構造（９０）に配置され、前記吸収層（またはすべての吸収層）（１２３，１６５）の前記吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の下にある前記誘電体膜（１２０）にあり、前記基材（１０）の別の面（９）は、前記外部空間（ＥＳ）とで接するか、または
    − 前記基材（３０）は、前記基材（３０）の内面（２９）が薄膜多層コーティング（２６）を含むために前記枠構造（９０）に配置され、前記吸収層（またはすべての吸収層）（１２３，１６５）の前記吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の上にある前記誘電体膜（１６０）にあり、前記基材（３０）の別の面（３１）は、前記内部空間（ＩＳ）と接するかのいずれかであるように、
    前記吸収層（１２３，１６５）の吸収材料は、大部分は、前記金属機能層（１４０）の下にある誘電体膜（１２０）にあるか、または、大部分は、前記金属機能層（１４０）の上にある前記誘電体膜（１６０）にあることを特徴とする製造方法。

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