WO2016060083A1 - 窓ガラスおよび積層膜付き透明基板 - Google Patents

窓ガラスおよび積層膜付き透明基板 Download PDF

Info

Publication number
WO2016060083A1
WO2016060083A1 PCT/JP2015/078786 JP2015078786W WO2016060083A1 WO 2016060083 A1 WO2016060083 A1 WO 2016060083A1 JP 2015078786 W JP2015078786 W JP 2015078786W WO 2016060083 A1 WO2016060083 A1 WO 2016060083A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
laminated film
transparent substrate
layer
window glass
chromium
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/078786
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
和也 矢尾板
すすむ 鈴木
Original Assignee
旭硝子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 旭硝子株式会社 filed Critical 旭硝子株式会社
Priority to MYPI2017701268A priority Critical patent/MY181691A/en
Publication of WO2016060083A1 publication Critical patent/WO2016060083A1/ja

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal

Definitions

  • the present invention relates to a window glass and a transparent substrate with a laminated film.
  • a single-panel window glass in which a silver-based optical multilayer film including a metal layer containing silver as a main component is formed on a glass substrate is conceivable.
  • the silver-based optical multilayer film has been used within the double-glazed glass having high heat insulation performance and has exhibited high heat shielding performance. And it was a problem in that mechanical durability could not be sufficiently obtained.
  • a glass article in which a heat-shielding film containing doped tin oxide or the like having chemical durability and mechanical durability is formed on a heat-absorbing glass colored in green or blue (for example, a patent) Reference 1).
  • a heat-absorbing glass colored in green or blue for example, a patent
  • Reference 1 a heat-absorbing glass colored in green or blue
  • the transparent substrate and the coating film satisfying the above-mentioned various characteristics suitable for use as a window glass in a low-latitude to mid-latitude hot region. At present, no window glass with high heat shielding properties has been obtained.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a highly heat-insulating window glass and a transparent substrate with a highly heat-insulating laminated film, which are suitable for use in a hot region from low to middle latitudes. With the goal.
  • the window glass of the first aspect of the present invention comprises a transparent substrate and a transparent substrate with a laminated film having a laminated film formed on the transparent substrate, and is used in a state where the laminated film is exposed to the indoor air.
  • the heat transmissivity (U value) measured in accordance with JIS R3106 / 3107 (1998) is 3.4 to 4.7 W / m 2 ⁇ K
  • the solar heat gain ( ⁇ value) is 0.17 to 0.44 and a visible light transmittance (Tv) of 35% or more
  • Tv visible light transmittance
  • the window glass of the second aspect of the present invention comprises a transparent substrate and a transparent substrate with a laminated film having a laminated film formed on the transparent substrate, and is used in a state where the laminated film is exposed to the indoor air.
  • Tv / ( ⁇ value ⁇ 100) using the solar heat gain ( ⁇ value) and visible light transmittance (Tv) measured in accordance with JIS R3106 / 3107 (1998).
  • the selection coefficient is 1.1 or more and the solar heat gain ( ⁇ value) is 0.60 or less, and it is evaluated by the average color rendering index (Ra) using a D65 light source in accordance with JIS Z8726 (1990).
  • the number of defects in the range of 1 mm ⁇ 1 mm is measured by observing the surface of the laminated film with a microscope (50 times) after a 3-day sweat resistance test according to ISO12870. Is 50 or less.
  • the transparent substrate with a laminated film according to the third aspect of the present invention includes a transparent substrate and a laminated film formed on the transparent substrate, and the thermal conductivity measured in accordance with JIS R3106 / 3107 (1998).
  • (U value) is 3.4 to 4.7 W / m 2 ⁇ K
  • solar heat acquisition rate ( ⁇ value) measured on the laminated film side is 0.17 to 0.44
  • visible light transmittance (Tv) ) Is 35% or more
  • the color rendering properties of transmitted light evaluated by the average color rendering index (Ra) using a D65 light source in accordance with JIS Z8726 (1990) is 90% or more.
  • the transparent substrate with a laminated film according to the fourth aspect of the present invention has a laminated film including a transparent substrate and a metal layer mainly composed of silver formed on the transparent substrate, and has a resistance to resistance for 3 days according to ISO12870.
  • the number of defects in the range of 1 mm ⁇ 1 mm measured by observing the surface of the laminated film with a microscope (50 ⁇ ) after the sweat test is 50 or less.
  • the present invention it is possible to provide a highly heat-insulating window glass and a transparent substrate with a highly heat-insulating laminated film that are suitable for use in a hot region from low to middle latitudes.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example when the window glass of the embodiment of the present invention is used.
  • 2 and 3 are enlarged cross-sectional views showing an embodiment of a transparent substrate with a laminated film constituting the window glass of the present invention and a modification thereof.
  • 4 and 5 are enlarged sectional views showing another embodiment of a transparent substrate with a laminated film constituting the window glass of the present invention and a modification thereof.
  • a window glass 30 As shown in FIG. 1, a window glass 30 according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate 10 and a transparent substrate with a laminated film 10 having a laminated film 12 formed on the transparent substrate 11. Used in a state exposed to the indoor air.
  • the “window glass” refers to a window glass body, such as a handle attached for opening and closing the window glass in use, a frame body such as a sash for attaching the window glass to the window frame, and the like.
  • the window glass itself, not including any accessories.
  • the transparent substrate 10 with a laminated film has the following physical property values (1-a) to (3-a) measured in accordance with JIS R3106 / 3107 (1998). And the following physical property values (4-a) and (5-a) are satisfied.
  • (1-a) The heat transmissivity (U value) is 3.4 to 4.7 W / m 2 ⁇ K.
  • (2-a) Solar heat gain ( ⁇ value) is 0.17 to 0.44.
  • (3-a) Visible light transmittance (Tv) is 35% or more.
  • (4-a) The color rendering properties of transmitted light evaluated by the average color rendering index (Ra) using a D65 light source in accordance with JIS Z8726 (1990) is 90% or more.
  • WWR Winddow to Wall Ratio
  • OTTV Overall Thermal Transfer Value
  • OTTV is 50 W / m 2. It is possible to:
  • the heat transmission coefficient (U value) is preferably 3.4 ⁇ 4.4W / m 2 ⁇ K , more preferably 3.4 ⁇ 4.2W / m 2 ⁇ K .
  • the heat transmissivity (U value) indicates the amount of heat (W) that passes through 1 m 2 per hour when the temperature difference between the inside and outside of the transparent substrate 10 with the laminated film is 1 degree, and is an index for measuring heat insulation. . It means that it is excellent in heat insulation, so that a heat transmissivity (U value) is small.
  • the solar heat gain rate ( ⁇ value) is preferably 0.17 to 0.40, more preferably 0.17 to 0.35.
  • the solar heat acquisition rate ( ⁇ value) is a value indicating the ratio of the amount of heat flowing into the laminated film 12 side when the solar energy incident from the transparent substrate 11 side of the transparent substrate 10 with laminated film is taken as 1. . From the solar heat acquisition rate ( ⁇ value), it is possible to know the degree of heat shielding, that is, how much heat generated by sunlight (sun heat) is blocked.
  • the solar heat acquisition rate is absorbed by the transparent substrate 10 with laminated film and the heat directly transmitted through the transparent substrate 10 with laminated film with respect to the solar energy incident from the transparent substrate 11 side (hereinafter also referred to as “transmitted heat”). It is the ratio of the total amount of heat with the heat released to the laminated film 12 side (hereinafter also referred to as “radiant heat”).
  • the solar heat acquisition rate is represented by a number between 0 and 1. Note that the solar heat acquisition rate can be calculated by measuring the spectral characteristics and emissivity of the laminated film-equipped transparent substrate 10 and introducing them into a predetermined calculation formula. The smaller the solar heat acquisition rate, the smaller the ratio of the total amount of transmitted heat and radiant heat to the amount of solar heat incident from the transparent substrate 11 side in the transparent substrate 10 with a laminated film.
  • the case where WWR is 0.4 or more is used as a reference for the purpose of enhancing the daylighting from the window. If the building has a WWR of approximately 0.4 or more, by setting the visible light transmittance (Tv) within the above range (3-a), it is possible to obtain sufficient lighting in the building.
  • the visible light transmittance (Tv) is preferably 65% or less from the viewpoint of antiglare properties required for window glass in low latitude to middle latitude areas such as Southeast Asia where sunlight is strong in the daytime.
  • the visible light transmittance (Tv) is particularly preferably 40 to 60%.
  • the color rendering property according to (4-a) is 90% or more, the appearance when the window glass 30 is viewed from the outside of the building becomes a natural intermediate color.
  • the color rendering property is preferably 91% or more, and more preferably 92% or more. Note that the upper limit of color rendering is 100%.
  • the transparent substrate 10 with a laminated film is used in a state where the laminated film 12 is exposed to the indoor air, as shown in FIG. Therefore, from the viewpoint of durability, it is essential to satisfy the physical property values shown in (5-a) above.
  • the defects observed with a microscope are silver aggregation, discoloration and peeling in the laminated film 12.
  • the number of defects evaluated by the sweat resistance test means the total number of these three types of defects unless otherwise specified. These determinations are made visually through a microscope (50 times).
  • the number of defects in the sweat resistance test is preferably 30 or less, and more preferably 5 or less.
  • the physical property values of the transparent substrate with a laminated film constituting the window glass of the first aspect of the present invention described above are summarized in Table 1 below.
  • Table 1 rows are physical property items, columns are physical property values, (a) indicates an essential range, (b) indicates a preferable range, and (c) indicates a more preferable range.
  • the range of the U value (a) column is denoted as (1-a).
  • the range of the physical property values of the transparent substrate with a laminated film may be a combination of (a), (b), and (c) selected from each of the items (1) to (5). .
  • the transparent substrate with a laminated film constituting the window glass of the first aspect of the present invention is provided with a laminated film in which the range of the column (a) of each item of (1) to (5) shown in Table 1 is essential. It is a transparent substrate.
  • the most preferable combinations of physical property ranges are (1-c), (2-c), (3-c), (4-c) and (5-c) in Table 1. ).
  • the transparent substrate with a laminated film has the following (6-a ′) and (2-a ′) measured according to JIS R3106 / 3107 (1998).
  • the following physical property values (4-a ′) and (5-a ′) are satisfied.
  • (6-a ′) Using the solar heat acquisition rate ( ⁇ value) and the visible light transmittance (Tv), the selection coefficient calculated by the equation of Tv / ( ⁇ value ⁇ 100) is 1.1 or more.
  • (2-a ′) Solar heat acquisition rate ( ⁇ value) is 0.60 or less.
  • (4-a ′) The color rendering properties of transmitted light evaluated by the average color rendering index (Ra) using a D65 light source in accordance with JIS Z8726 (1990) is 90% or more.
  • (5-a ′) The number of defects in the range of 1 mm ⁇ 1 mm, which is measured by observing the surface of the laminated film with a microscope (50 times) after a 3-day sweat resistance test based on ISO12870, is 50 or less.
  • the selection coefficient in the above (6-a ′) is an index for checking the balance between the visible light transmittance (Tv) and the solar heat gain ( ⁇ value). If the selection coefficient is in the above range, moderate visible light can be obtained. Transparent and high shielding properties can be realized.
  • the selection coefficient is preferably 1.2 or more, and more preferably 1.25 or more.
  • the physical property values of (4-a ′) and (5-a ′) of the transparent substrate with a laminated film in the window glass of the second aspect are (4- The physical property values are the same as a) and (5-a).
  • the physical properties of the transparent substrate with a laminated film in the second aspect of the present invention are summarized in Table 2 below, as are the physical properties of the transparent substrate with a laminated film in the first aspect.
  • Table 2 rows are physical property items, and (2), (4), and (5) are the same as in Table 1.
  • (6) is a selection coefficient.
  • the columns indicate physical property values, (a ') indicates an essential range, (b') indicates a preferable range, and (c ') indicates a more preferable range.
  • the range of the (a ′) column of ⁇ values is denoted as (2-a ′).
  • the range of the physical property value of the transparent substrate with a laminated film is any one of (a ′), (b ′), and (c ′) in each item of (2), (4), (5), and (6). May be selected and combined.
  • (2) ⁇ value does not have (b ′) and (c ′) in particular.
  • the transparent substrate with a laminated film constituting the window glass of the second aspect of the present invention is a column of (a ′) of each item of (2), (4), (5) and (6) shown in Table 2. It is a transparent substrate with a laminated film in which the above range is essential.
  • the most preferable combinations of the ranges of the physical property values are (2-a ′), (4-c ′), (5-c ′) and (6-c ′) in Table 2. It is a combination.
  • the transparent substrate with a laminated film in the window glass of the present invention is of the first aspect according to the essential physical property range of Table 1 above, it is of the second aspect according to the essential physical property range of Table 2 above.
  • the color tone of the reflected light on the transparent substrate side is preferably C * 1976L * a * b * chromaticity coordinates, and a * ⁇ 10 and b * ⁇ 5.
  • a * ⁇ 10 and b * ⁇ 5 redness of reflected light on the transparent substrate side is suppressed, which is preferable.
  • a * is more preferably ⁇ 25 ⁇ a * ⁇ 7, and further preferably ⁇ 15 ⁇ a * ⁇ 3.
  • b * is more preferably ⁇ 25 ⁇ b * ⁇ 5, and further preferably ⁇ 23 ⁇ b * ⁇ 5.
  • the color tone of the reflected light on the laminated film side is preferably a * ⁇ 15 and b * ⁇ 5 in the above coordinates.
  • a * ⁇ 15 and b * ⁇ 5 redness of reflected light on the laminated film side is suppressed, which is preferable.
  • a * is more preferably ⁇ 25 ⁇ a * ⁇ 15, further preferably ⁇ 15 ⁇ a * ⁇ 12, and particularly preferably ⁇ 15 ⁇ a * ⁇ 8.
  • b * is more preferably ⁇ 35 ⁇ b * ⁇ 0, and further preferably ⁇ 30 ⁇ b * ⁇ 0.
  • the visible light reflectance (Rv 1 ) on the transparent substrate side of the transparent substrate with the laminated film is preferably 25% or less, and the visible light reflectance (Rv 2 ) on the laminated film side is preferably 20% or less.
  • the visible light reflectance (Rv) is specified in JIS R3106: 1998.
  • the present invention provides, as a third aspect, a transparent substrate with a laminated film comprising a transparent substrate and a laminated film formed on the transparent substrate, wherein the above (1-a), (2-a), (3 A transparent substrate with a laminated film satisfying the characteristics of -a) and (4-a) is provided.
  • the transparent substrate with a laminated film of the third aspect of the present invention that satisfies such characteristics is hereinafter referred to as a transparent substrate with a laminated film (A).
  • the transparent substrate with a laminated film (A) preferably satisfies the physical property values shown in (5-a) above.
  • the physical property values of the transparent substrate with laminated film (A) will be described with reference to Table 1 above.
  • the physical property values of the transparent substrate with laminated film (A) are the physical property items in Table 1 (1) to (4). , Each of (a), (b), and (c) may be selected and combined.
  • the physical property value of the laminated film-coated transparent substrate (A) may be a combination of (5-a), (5-b) or (5-c).
  • the most preferable combination of physical property values in the transparent substrate with laminated film (A) is a combination of (1-c), (2-c), (3-c), (4-c) and (5-c) It is.
  • the present invention provides, as a fourth aspect, a transparent substrate with a laminated film comprising a transparent substrate and a laminated film comprising a metal layer mainly composed of silver formed on the transparent substrate, the above (5-a)
  • a transparent substrate with a laminated film having the above characteristics as essential physical property values is provided.
  • Such a transparent substrate with a laminated film of the fourth aspect of the present invention is hereinafter referred to as a transparent substrate with a laminated film (B).
  • the number of defects in the sweat resistance test preferably has the above-mentioned characteristic (5-b), and more preferably has the above-mentioned characteristic (5-c).
  • the laminated film includes a metal layer mainly composed of silver, so that the conditions of (a) are achieved even in the physical property items (1) to (4) in Table 1. It can be said.
  • the laminated film may be used as a window glass with a single plate exposed to the indoor air, or may be used as laminated glass or multilayer glass.
  • a substrate satisfying the above-mentioned characteristics (5-a) is used.
  • the laminated glass examples include laminated glass having a configuration in which two transparent substrates arranged opposite to each other sandwich an intermediate film and are bonded by the intermediate film.
  • a transparent substrate with a laminated film (A) and a transparent substrate with a laminated film (B) can be used as one or both of such laminated glass transparent substrates.
  • the laminated film may be disposed on the intermediate film side or may be exposed to the atmosphere.
  • the laminated glass may have three or more transparent substrates.
  • the multi-layer glass examples include a multi-layer glass having a configuration in which two transparent substrates arranged opposite to each other are sealed at the periphery thereof with a spacer and an intermediate layer is formed between the opposing transparent substrates.
  • the intermediate layer is usually a gas-sealed or vacuum layer such as air or argon gas.
  • a transparent substrate with a laminated film (A) and a transparent substrate with a laminated film (B) can be used for one or both of the transparent substrates of such multilayer glass. In that case, the laminated film may be disposed on the intermediate layer side or may be exposed to the atmosphere.
  • the multilayer glass may have three or more transparent substrates.
  • the laminated film-attached transparent substrate (A) is used as a transparent substrate of laminated glass or multilayer glass as described above, the above (5-a) Those satisfying these characteristics are used.
  • glass such as window glass, laminated glass, and multi-layer glass is not necessarily limited to those using an inorganic glass substrate, and is obtained using a transparent substrate containing organic glass. Used in the concept of transparent articles.
  • the transparent substrate with laminated film in the window glass of the first aspect of the present invention, the transparent substrate with laminated film in the window glass of the second aspect, and the transparent substrate with laminated film (A) are all laminated films.
  • it is composed of a laminated film including a metal layer mainly composed of silver, or a laminated film including a transparent conductive layer and a nitrogen-containing light absorbing layer.
  • the laminated film which the transparent substrate with laminated film (B) has is a laminated film including a metal layer mainly composed of silver as described above.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of an example of a transparent substrate with a laminated film having a transparent substrate and a laminated film containing a metal layer mainly composed of silver.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of a modified example of a transparent substrate with a laminated film having a transparent substrate and a laminated film containing a metal layer mainly composed of silver.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of an example of a transparent substrate with a laminated film having a transparent substrate and a laminated film including a transparent conductive layer and a nitrogen-containing light absorbing layer.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of a modified example of a transparent substrate with a laminated film having a transparent substrate and a laminated film including a transparent conductive layer and a nitrogen-containing light absorbing layer.
  • a transparent substrate with a laminated film having a transparent substrate and a laminated film containing a metal layer mainly composed of silver as shown in FIG. 2 or FIG. 3 will be described.
  • a transparent substrate with a laminated film 10A shown in FIG. 2 includes a transparent substrate 11 and a laminated film 12A including a metal layer 123 mainly composed of silver on the transparent substrate 11.
  • the transparent substrate 11 is not specifically limited, For example, the glass substrate which has inorganic transparency, such as a window glass for buildings, the float glass normally used, or the soda-lime glass manufactured by the rollout method can be used. .
  • a glass substrate colorless things, such as clear glass and highly transmissive glass, etc. can be used.
  • An organic transparent substrate may be used as the transparent substrate 11.
  • the organic transparent substrate include transparent substrates made of acrylic resins such as polymethyl methacrylate, aromatic polycarbonate resins such as polyphenylene carbonate, and aromatic polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET).
  • the visible light transmittance (Tv) of the transparent substrate 11 is preferably 80 to 92%, more preferably 83 to 92%.
  • colorless glass such as clear glass and high transmittance glass is preferable. Further, colorless glass is preferable from the viewpoint of obtaining high color rendering properties.
  • the transparent substrate 11 various tempered glasses such as air-cooled tempered glass and chemically tempered glass can also be used. Furthermore, various glasses such as borosilicate glass, low expansion glass, zero expansion glass, low expansion crystallized glass, and zero expansion crystallized glass can be used.
  • the thickness of the transparent substrate 11 is not necessarily limited, but a thickness that allows the visible light transmittance (Tv) of the transparent substrate 11 itself to be in the above range and that can secure sufficient mechanical strength is preferable. 20 mm is preferred.
  • a laminated film 12A that the transparent substrate with laminated film 10A shown in FIG. 2 has on the transparent substrate 11 includes, in order from the transparent substrate 11 side, a first silicon nitride layer 121, a first chromium-containing layer 122, and silver.
  • a metal layer 123, a second chromium-containing layer 124, and a second silicon nitride layer 125 are formed and configured.
  • the transparent substrate with laminated film 10A is good because the metal layer mainly composed of silver is sandwiched between the two chromium-containing layers and further sandwiched between the two silicon nitride layers. Chemical durability, mechanical durability, and thermal durability.
  • the metal layer 123 contains silver as a main component.
  • containing a component as a main component means that the ratio of the component contained as a main component with respect to all the components exceeds 50% by mass.
  • the metal layer 123 preferably contains at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt, and nickel in addition to silver as a main component.
  • at least one metal selected from palladium, gold, chromium, cobalt, and nickel is also referred to as a metal M.
  • the content of the metal M in the metal layer 123 is preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total amount of silver and metal M.
  • the content of the metal M refers to the ratio (mass%) of the metal M to the total amount of silver and the metal M unless otherwise specified.
  • the above physical property items (1) to (4) and (6) of the laminated substrate with the laminated film 10A are within a predetermined range. Easy to adjust. Further, the durability of the laminated substrate with transparent film 10A, particularly the chemical durability such as the sweat resistance of the laminated film 12A, for example, the physical property item (5) can be improved within a predetermined range. Furthermore, when the metal layer 123 contains the metal M preferably in the above content, the mechanical durability is also improved. The reason why the mechanical durability is improved is presumed that the hardness of the metal layer 123 is improved by the solid solution of the metal M, and the strength of the entire laminated film 12A structure is improved. When the durability of the laminated film 12A is improved, the transparent substrate with laminated film 10A is suitable for use in a state where the laminated film 12A is exposed to the atmosphere.
  • the metal M one selected from palladium, gold, chromium, cobalt and nickel may be used alone, or two or more may be used in combination. Among these, as the metal M, palladium, gold and the like are preferable when one kind is used alone. As the combination of two or more, nickel and gold, nickel and palladium, etc. are preferable.
  • the optimum amount of the metal M content in the metal layer 123 differs depending on the type of the metal M.
  • the ratio of palladium to the total amount of silver and palladium is preferably 1 to 5% by mass.
  • the content is 1 to 10% by mass for gold, 0.1 to 5% by mass for chromium, 0.1 to 5% by mass for cobalt, and 0.1 to 7% by mass for nickel.
  • nickel and gold are used in combination, it is preferable to contain 0.1 to 7% by mass of nickel and 1 to 10% by mass of gold (however, the total of nickel and gold is 10% by mass or less). .
  • the metal layer 123 can contain additional elements other than silver and metal M.
  • the additive element include metal elements such as copper and titanium.
  • the total content of the additive elements is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and still more preferably 1% by mass or less in all components constituting the metal layer 123.
  • the thickness of the metal layer 123 is preferably 10 to 30 nm.
  • the thickness of the metal layer 123 is 10 nm or more, the physical properties (1) to (4) and (6) of the transparent substrate with laminated film 10A are within the predetermined range, and durability, particularly the chemistry of the laminated film 12A. Durability, for example, the physical property item (5) is improved within a predetermined range.
  • the thickness of the metal layer 123 is 30 nm or less, the items (1) to (4) and (6) of the physical properties of the transparent substrate with laminated film 10A are within a predetermined range, and the productivity of the laminated film 12A is also improved. It becomes good.
  • the thickness of the metal layer represents a geometric thickness (the same applies hereinafter).
  • the first chromium-containing layer 122 is made of chromium (Cr), a nickel chromium alloy (NiCr alloy), a chromium partial nitride obtained by nitriding a part of these, or a nickel chromium alloy partial nitride.
  • Cr chromium
  • NiCr alloy nickel chromium alloy
  • a partial nitride of chromium CrN x (0.5 ⁇ x ⁇ 1.5) is preferable.
  • NiCrN x 0.5 ⁇ x ⁇ 1.5
  • the first chromium-containing layer 122 is preferably made of non-nitrided chromium (Cr) or a nickel chromium alloy (NiCr alloy).
  • the first chromium-containing layer 122 is made of a nickel-chromium alloy (NiCr alloy) or a partially nitrided nickel-chrome alloy (NiCrN x ), a chromium content relative to the total amount of chromium and nickel Is preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more.
  • the first chromium-containing layer 122 is formed so as to be in contact with the metal layer 123.
  • the second chromium-containing layer 124 is composed of the same components as the first chromium-containing layer 122 and is formed so as to be in contact with the metal layer 123. Note that the first chromium-containing layer 122 and the second chromium-containing layer 124 do not necessarily have the same composition and may have different compositions.
  • the first chromium-containing layer 122 and the second chromium-containing layer 124 are used as a light absorbing layer that absorbs visible light and improves heat shielding properties, and when the heat treatment is performed as necessary, the metal layer 123 is oxidized. It functions as a barrier layer or the like that suppresses
  • the thickness of the first chromium-containing layer 122 and the second chromium-containing layer 124 is preferably 0.5 to 10 nm. Note that the thickness of the first chromium-containing layer 122 and the thickness of the second chromium-containing layer 124 may be the same or different from each other.
  • the above-mentioned physical property items (1) to (4) and (6) of the transparent substrate with laminated film 10A are predetermined.
  • the durability, particularly the chemical durability of the laminated film 12A, for example, the physical property item (5) is improved to a predetermined range.
  • the above-mentioned physical property items (1) to (4) and (6) of the transparent substrate with laminated film 10A are predetermined.
  • the productivity of the laminated film 12A is also good.
  • the first silicon nitride layer 121 and the second silicon nitride layer 125 function to adjust the reflectance in the visible range and the like to make the optical characteristics of the laminated film 12A desired characteristics. Further, the first silicon nitride layer 121 and the second silicon nitride layer 125 function to improve the durability of the laminated film 12A.
  • the composition ratio is deviated from this. It may be made of silicon nitride having a non-stoichiometric composition ratio.
  • a nitride or oxide of a metal represented by nitriding + metal name or oxidation + metal name is nitriding with a stoichiometric composition ratio or a non-stoichiometric composition ratio unless otherwise specified. Indicates an object or oxide. If necessary, for example, silicon nitride may be described as SiN x .
  • first silicon nitride layer 121 and the second silicon nitride layer 125 do not necessarily need to be made of only silicon nitride, and an element added to the sputtering target to facilitate sputtering, for example, a conductive material such as aluminum. It can contain an additive element that imparts properties. The content of the additive element is preferably 15% by mass or less in the total amount of silicon nitride and the additive element. Note that the silicon nitrides constituting the first silicon nitride layer 121 and the second silicon nitride layer 125 do not need to have the same composition, and may have different compositions.
  • the thickness of the first silicon nitride layer 121 is preferably 25 to 70 nm.
  • the thickness of the second silicon nitride layer 125 is preferably 35 to 70 nm.
  • the above physical property items (1) to (4), ( 6) tends to fall within a predetermined range, and its durability, particularly the chemical durability of the laminated film 12A, for example, the item (5) of the above physical properties is improved within the predetermined range.
  • the items (1) to (4) and (6) of the physical properties of the transparent substrate with laminated film 10A are predetermined.
  • the productivity of the laminated film 12A is also good.
  • the transparent substrate with laminated film 10A is roughly classified into a non-heat treated product and a heat treated product.
  • the non-heat treated product is a final product in which only the laminated film 12A is formed and is a final product, and heat treatment for strengthening or bending is not performed after the film formation.
  • the heat-treated product is a final product in a final form by performing heat treatment for strengthening or bending after the film formation of the laminated film 12A.
  • the transparent substrate with laminated film 10A may be either a non-heat treated product or a heat treated product.
  • the transparent substrate with laminated film 10A may be manufactured by forming the layers in the above order, and each layer is not necessarily formed after the entire film formation and further after the heat treatment. It is not necessary that the time state, such as composition, thickness, etc., be strictly maintained. However, for the transparent substrate with laminated film 10A, the change of each layer at the time of film formation or heat treatment is basically suppressed, so that each layer remains in the state at the time of film formation even after the entire film formation or heat treatment. It is preferable to maintain.
  • the physical property items (1) to (6) may be within a predetermined range after the film is formed, that is, in a state where the heat treatment is not performed. It is preferable to be within the same range.
  • the transparent substrate with laminated film 10A is a heat treated product
  • the heat treatment for obtaining this is a heat treatment in which the surface temperature of a non-heat treated product having the same configuration as that of the laminated substrate with laminated film 10A is heated to 600 ° C. or higher.
  • the thickness of the first chromium-containing layer 122 is preferably in the range of 2.0 to 10 nm
  • the thickness of the second chromium-containing layer 124 is preferably in the range of 2.0 to 10 nm. Outside the above range, mechanical durability (scratch resistance) may not be sufficient in the laminated film 12A of the laminated substrate 10A with a laminated film obtained as a heat-treated product.
  • FIG. 3 shows a cross-sectional view of a transparent substrate 10B with a laminated film in which the laminated film 12B is formed on the transparent substrate 11 instead of the laminated film 12A in the transparent substrate 10A with the laminated film shown in FIG.
  • the laminated film 12B includes, in order from the transparent substrate 11 side, a first silicon nitride layer 121, a first chromium-containing layer 122, a metal layer 123 mainly composed of silver, a second chromium-containing layer 124, and a second silicon nitride. A layer 125 and a protective layer 126 are formed.
  • the laminated film 12B can be the same as the laminated film 12A except for the protective layer 126.
  • the protective layer 126 has a function of improving the mechanical durability of the laminated film 12B, particularly the scratch resistance of the surface.
  • the protective layer 126 is not particularly limited as long as it improves mechanical durability.
  • a carbon layer containing carbon as a main component is preferable. Note that in the case where the protective layer 126 is a carbon layer, it disappears when heat treatment is performed, but the scratch resistance from film formation to heat treatment can be improved. On the other hand, in the non-heat treated product, when the protective layer 126 which is a carbon layer is formed, the scratch resistance can be improved by reducing the friction coefficient of the outermost surface.
  • the thickness of the protective layer 126 is preferably 1 nm or more. When the thickness of the protective layer 126 is 1 nm or more, the mechanical durability is effectively improved. If the thickness of the protective layer 126 is 15 nm, it is sufficient to ensure mechanical durability, and by making it less than this, the productivity of the protective layer 126 is improved.
  • the thickness of the protective layer 126 is more preferably 10 nm or less, and further preferably 6 nm or less.
  • a metal layer, an oxide layer, a nitride layer, a carbide layer, or a composite compound layer thereof functioning as the above may be provided.
  • an element such as titanium, zirconium, niobium, tantalum, chromium, zinc, aluminum, gallium, indium, silicon, or tin, an oxide layer, a nitride layer, or a carbide layer of these elements Or a composite compound layer.
  • the transparent substrate with laminated film 10A shown in FIG. 2 and the transparent substrate with laminated film 10B shown in FIG. 3 can be manufactured by the following method, for example.
  • the transparent substrates with laminated films 10A and 10B are obtained by cleaning the surface of the transparent substrate 11 and then forming each layer on the surface in order from the transparent substrate side.
  • the film forming method is not particularly limited, and physical vapor deposition (vacuum vapor deposition, ion plating, sputtering), chemical vapor deposition (thermal CVD, plasma CVD, photo CVD), ion beam sputtering Etc. can be applied.
  • the area of the transparent substrate 11 is large, the uniformity of thickness is easy to control and the productivity is excellent, so the direct current or alternating current dual sputtering method is preferable.
  • the first silicon nitride layer 121 and the second silicon nitride layer 125 are formed using, for example, a target containing silicon as a main component as a sputtering target in an atmosphere containing only nitrogen or an atmosphere containing nitrogen and argon. A film is formed by sputtering.
  • the first chromium-containing layer 122 and the second chromium-containing layer 124 are formed by using, for example, a target mainly containing chromium or a nickel chromium alloy as a sputtering target, or an atmosphere containing only argon, or nitrogen and argon.
  • a film is formed by sputtering in an atmosphere containing
  • the metal layer 123 contains, for example, silver as a main component as a sputtering target, and contains at least one metal (metal M) selected from palladium, gold, chromium, cobalt, and nickel, in a total amount of silver and the metal.
  • the film is formed by sputtering in an atmosphere containing only argon using a target that is contained at a ratio of 0.1 to 10% by mass with respect to the mass.
  • the transparent substrate with laminated film 10B has, for example, a carbon layer containing carbon as a main component as the protective layer 126, the carbon layer is sputtered in an atmosphere containing only argon using a carbon target. To form a film.
  • the non-heat-treated product of the transparent substrates with laminated films 10A and 10B is obtained.
  • the transparent substrates with laminated films 10A and 10B are heat-treated, the transparent substrates with laminated films 10A and 10B obtained above are subjected to, for example, a heating temperature for bending or bending according to the purpose in a heating furnace. For a predetermined time at the heating temperature.
  • a heating temperature for bending or bending for a predetermined time at the heating temperature.
  • the transparent substrates 10A and 10B with a laminated film using a float glass substrate as the transparent substrate when the air cooling of the glass substrate is performed, the heat treatment is performed as the surface temperature of the transparent substrates 10A and 10B with the laminated film.
  • a temperature of 500 to 700 ° C. for 1 to 30 minutes is preferable.
  • a transparent substrate with a laminated film having a transparent substrate and a laminated film including a transparent conductive layer and a nitrogen-containing light absorbing layer shown in FIG. 4 or 5 will be described.
  • a transparent substrate with a laminated film 10 ⁇ / b> C shown in FIG. 4 includes a transparent substrate 11 and a laminated film 12 ⁇ / b> C including a transparent conductive layer 221 and a nitrogen-containing light absorbing layer 222 on the transparent substrate 11.
  • the transparent substrate 11 can be made in the same manner as the transparent substrate with a laminated film 10A shown in FIG.
  • the laminated film 12C that the transparent substrate with laminated film 10C shown in FIG. 4 has on the transparent substrate 11 is configured by sequentially forming the transparent conductive layer 221 and the nitrogen-containing light absorbing layer 222 from the transparent substrate 11 side.
  • transparent conductive metal oxide capable of forming a transparent layer on the transparent substrate 11 and having conductivity
  • transparent conductive metal oxide a metal oxide capable of forming a transparent layer on the transparent substrate 11 and having conductivity
  • the transparent conductive metal oxide examples include a metal oxide doped with an element other than the metal constituting the metal oxide itself. Specifically, indium oxide doped with at least one selected from tin, titanium, tungsten, molybdenum, zinc and hydrogen; tin oxide doped with at least one selected from antimony, indium, tantalum, chlorine and fluorine And zinc oxide doped with at least one selected from indium, aluminum, tin, gallium, fluorine and boron.
  • the transparent conductive metal oxide may be used alone or in combination of two or more to form the transparent conductive layer 221.
  • the relationship between the element to be doped and the compound to be doped is, for example, the total amount of the metal oxide to be doped and the oxide of the element to be doped as a ratio of the element to be doped to the metal oxide to be doped. Therefore, the content of the oxide of the element to be doped is 50 mass% or less.
  • the transparent conductive layer 221 is preferably made of a transparent conductive metal oxide mainly composed of indium oxide doped with tin (ITO) from the viewpoint of low resistance, and more preferably made of only ITO.
  • the doping amount of tin in the ITO is preferably 1 to 20 mass% as a content of SnO 2 with respect to the total amount of In 2 O 3 and SnO 2, and more preferably 5 to 15 wt%.
  • the thickness of the transparent conductive layer 221 is not particularly limited as long as the physical property items (1) to (6) are within a predetermined range.
  • the thickness of the transparent conductive layer 221 may be, for example, 10 to 600 nm, preferably 10 to 200 nm, and more preferably 50 to 150 nm.
  • the method for forming the transparent conductive layer 221 is not particularly limited. Usually, after forming as a precursor layer with other each layer on a transparent substrate so that it may mention later, it produces by the method of heat-processing to a transparent substrate with a precursor layer.
  • the mode before the heat treatment of the transparent conductive layer 221 is referred to as a precursor layer of the transparent conductive layer 221.
  • the precursor layer of the transparent conductive layer 221 and the transparent conductive layer 221 after the heat treatment have substantially the same composition, but the degree of oxidation is adjusted by being appropriately oxidized by the oxygen contained in the atmosphere or the transparent substrate during the heat treatment, A transparent conductive layer 221 having a desired resistance value is formed.
  • the heat treatment does not affect the thickness of the transparent conductive layer. Further, when the thickness of the transparent conductive layer 221, that is, the thickness of the precursor layer thereof is the above thickness, there is an effect that non-uniformity in the degree of oxidation does not occur in the depth direction of the layer.
  • the nitrogen-containing light absorbing layer 222 is, for example, a compound having a light absorptivity made of a metal nitride and / or oxynitride that can be formed on the transparent substrate 11 (hereinafter referred to as “nitrogen-containing light absorbing metal compound”). It is not particularly limited as long as it is a layer mainly composed of.
  • a transparent conductive layer 221 and a nitrogen-containing light absorption layer 222 are formed in order from the transparent substrate 11 side.
  • the transparent conductive layer 221 and the nitrogen-containing light absorbing layer 222 are formed from the transparent substrate 11 side from the viewpoint of bringing the physical property items (1) to (6) within a predetermined range. They may be formed in order.
  • the light absorptivity of the nitrogen-containing light absorption layer 222 is preferably a property of absorbing an appropriate amount of light over a wide range from the visible light region to the infrared region.
  • the physical property items (1) to (4) and (6) in the obtained transparent substrate with laminated film 10C are set within a predetermined range. Can contribute.
  • the transparent conductive layer 221 and the nitrogen-containing light absorption layer 222 are provided in contact with each other.
  • oxygen is transferred between the nitrogen-containing light absorbing layer 222 and the transparent conductive layer 221.
  • the transparent conductive layer 221 can play a role of appropriately adjusting the degree of oxidation. That is, in the manufacturing process, even when oxygen is excessively contained in the precursor layer of the transparent conductive layer 221 during the heat treatment, the degree of oxidation is more preferable by passing oxygen to the precursor layer of the nitrogen-containing light absorption layer 222. It is considered that the transparent conductive layer 221 having a low resistance is finally obtained.
  • the nitrogen-containing light absorbing metal compound constituting the nitrogen-containing light absorbing layer 222 is a component obtained by oxidizing the components constituting the precursor layer during the heat treatment.
  • the nitrogen-containing light absorption layer 222 when the nitrogen-containing light absorption layer 222 is not in contact with the transparent conductive layer 221 and there is a barrier layer capable of blocking oxygen transfer, the nitrogen-containing light absorption layer 222 after the heat treatment is configured.
  • the degree of oxidation of the nitrogen-containing light-absorbing metal compound is lower than that in contact with the transparent conductive layer 221.
  • the nitrogen-containing light-absorbing metal compound mainly constituting the nitrogen-containing light absorption layer 222 include zirconium nitride, chromium nitride, titanium nitride, niobium nitride, hafnium nitride, zirconium oxynitride, chromium oxynitride, and titanium oxynitride. , Niobium oxynitride, hafnium oxynitride, and the like.
  • the nitrogen-containing light-absorbing metal compound the metal nitrides exemplified above are preferable.
  • the nitrogen-containing light-absorbing metal compound is an oxynitride of the metal exemplified above, the ratio of oxygen to 1 mol of nitrogen in the compound is preferably 0.5 mol or less, more preferably 0.2 mol or less. .
  • the nitrogen-containing light-absorbing metal compound may be used alone or in combination of two or more thereof to form the nitrogen-containing light-absorbing layer 222.
  • the nitrogen-containing light absorbing layer 222 is preferably made of a nitrogen-containing light-absorbing metal compound mainly composed of titanium nitride, and is preferably made of only titanium nitride.
  • so-called non-stoichiometric composition ratio nitriding in which the composition ratio deviates from the titanium nitride is not necessary. It may be made of titanium. The same applies to the other metal nitrides described above.
  • the precursor layer of the nitrogen-containing light absorption layer 222 is made of titanium nitride and heat-treated as described above, the titanium nitride of the precursor layer is usually oxidized to titanium oxynitride. That is, the nitrogen-containing light absorption layer 222 thus obtained is made of titanium oxynitride.
  • the ratio of oxygen to 1 mol of nitrogen is preferably 0.5 mol or less, and more preferably 0.2 mol or less, as described above. preferable.
  • the thickness of the nitrogen-containing light absorption layer 222 is not particularly limited as long as the above physical property items (1) to (6) are within a predetermined range. Therefore, the thickness of the nitrogen-containing light absorption layer 222 is more than 10 nm, preferably 20 to 60 nm, and more preferably 25 to 50 nm.
  • the said preferable range is a case where the transparent conductive layer 221 and the nitrogen containing light absorption layer 222 are formed in order from the transparent substrate 11 side like the transparent substrate 10C with a laminated film shown in FIG.
  • the thickness of the transparent conductive layer 221 shown above is also a preferable thickness in the stacking order.
  • the thickness of the nitrogen-containing light absorption layer 222 is 10 nm. More than 20 to 60 nm, more preferably 25 to 50 nm. In this case, the thickness of the transparent conductive layer 221 is preferably 10 to 200 nm, and more preferably 50 to 150 nm.
  • FIG. 5 shows a cross-sectional view of a transparent substrate with laminated film 10D having a structure in which a laminated film 12D is formed on the transparent substrate 11 instead of the laminated film 12C in the transparent substrate with laminated film 10C shown in FIG.
  • the laminated film 12D is configured by forming a transparent conductive layer 221, a nitrogen-containing light absorption layer 222, and a dielectric layer 223 in this order from the transparent substrate 11 side.
  • the laminated film 12D can be the same as the laminated film 12C except for the dielectric layer 223.
  • the dielectric layer 223 has a function of improving the mechanical durability and chemical durability of the laminated film 12D and suppressing the nitrogen-containing light absorption layer 222 from being oxidized by oxygen in the atmosphere.
  • the dielectric layer 223 is not particularly limited as long as it has the above-mentioned function.
  • the dielectric layer 223 may be doped with metal nitride such as silicon nitride or aluminum nitride, which may be doped with aluminum or boron, or doped with aluminum or boron. It may be composed of a dielectric containing a metal compound selected from metal oxynitrides such as silicon oxynitride and aluminum oxynitride, which may be used, and metal oxides such as tin zinc oxide.
  • the dielectric layer 223 mainly composed of at least one selected from silicon nitride, silicon oxynitride, silicon nitride doped with aluminum and / or boron, silicon oxynitride, aluminum nitride, aluminum oxynitride, and tin zinc oxide is preferable. .
  • the dielectric metal layer 223 may be formed by using one kind of the metal compound as the dielectric alone or using two or more kinds in combination.
  • the dielectric layer 223 is preferably made of a material mainly composed of silicon nitride which may be doped with aluminum and / or boron.
  • the dielectric layer 223 can have the same material configuration as the first silicon nitride layer 121 and the second silicon nitride layer 125 in the transparent substrate with laminated film 10A shown in FIG.
  • the thickness of the dielectric layer 223 is not particularly limited as long as the physical property items (1) to (6) are within a predetermined range. Specifically, the thickness of the dielectric layer 223 is preferably 20 to 80 nm, and more preferably 30 to 70 nm.
  • a transparent conductive layer 221, a nitrogen-containing light absorption layer 222, and a dielectric layer 223 are formed in this order from the transparent substrate 11 side.
  • each layer constituting the laminated film has an appropriate visible light transmittance, and has high heat shielding properties, low heat insulation properties, and high color rendering properties. If it can be achieved, the nitrogen-containing light absorbing layer 222, the transparent conductive layer 221 and the dielectric layer 223 may be formed in this order from the transparent substrate 11 side.
  • the order of lamination of the three layers in the laminated film is the transparent conductive layer and the nitrogen-containing light in order from the transparent substrate side. It is preferable to use an absorption layer and a dielectric layer.
  • the color tone of reflected light on the transparent substrate side can be adjusted by the film thickness of the transparent conductive layer, and the color tone of reflected light on the laminated film side can be adjusted by the film thickness of the dielectric layer.
  • the laminated film 12C and the laminated film 12D may be formed on the laminated film 12C and the laminated film 12D as necessary and within the limits not departing from the spirit of the present invention.
  • it functions as a barrier layer or the like between the transparent substrate 11 and the transparent conductive layer 221, between the transparent conductive layer 221 and the nitrogen-containing light absorption layer 222, or between the nitrogen-containing light absorption layer 222 and the dielectric layer 223.
  • a metal layer, an oxide layer, a nitride layer, a carbide layer, or a composite compound layer thereof may be provided.
  • an element such as titanium, zirconium, niobium, tantalum, chromium, zinc, aluminum, gallium, indium, silicon, or tin, an oxide layer, a nitride layer, or a carbide layer of these elements Or a composite compound layer.
  • the transparent substrate with laminated film 10C shown in FIG. 4 and the transparent substrate with laminated film 10D shown in FIG. 5 can be manufactured, for example, by the following method.
  • the transparent substrates with laminated films 10C and 10D are obtained by cleaning the surface of the transparent substrate 11, forming a precursor layer of each layer on the surface, and then performing heat treatment.
  • the film forming method is not particularly limited, and the same method as exemplified in the above-mentioned transparent substrate with laminated film 10A, 10B can be applied.
  • the precursor layer of the transparent conductive layer 221 when the precursor layer of the transparent conductive layer 221 is formed by a sputtering method, the precursor layer of the transparent conductive layer 221 can be formed under normal processing conditions using a target of a transparent conductive metal oxide. The thickness can be adjusted by adjusting the sputtering gas type, reaction temperature, and reaction time. Similarly, a precursor layer of the nitrogen-containing light absorption layer 222 is formed. Further, a precursor layer of the dielectric layer 223 is similarly formed in the transparent substrate with laminated film 10D.
  • the transparent substrate with the laminated precursor layer is heat-treated.
  • the heat treatment temperature is preferably 550 to 750 ° C., more preferably 600 to 750 ° C., and particularly preferably 600 to 720 ° C.
  • a glass substrate is used as the transparent substrate, and the transparent substrate with laminated film 10C, 10D can be obtained with an effect that is reinforced with sufficient reliability.
  • the heat treatment temperature may also be 150 to 450 ° C. In this case, 150 to 350 ° C. is more preferable, and 150 to 300 ° C. is particularly preferable.
  • a resin substrate can be used as the transparent substrate.
  • the transparent substrate is a glass substrate, it cannot be strengthened, but since it is a low-temperature treatment, there is an effect that an inexpensive apparatus can be used.
  • the heat treatment time is preferably 1 to 30 minutes when the heat treatment temperature is 550 to 750 ° C. When the heat treatment temperature is 150 to 450 ° C., the heat treatment time is preferably 15 minutes to 4 hours.
  • the heat treatment method is not particularly limited. For example, the method of heating the said transparent substrate with a precursor layer with the heating furnace installed in air
  • the transparent substrate with a laminated film is suitable for buildings, but is not necessarily limited to buildings, and can be used for vehicles such as automobiles to the extent applicable.
  • Example 1 A 3.0 mm thick soda lime glass plate (Asahi Glass Co., Ltd., FL3, visible light transmittance: 90.4%) as a transparent substrate was prepared. Each film was formed so as to have the film configuration and thickness shown in FIG. 6 to produce a transparent substrate A with a laminated film having a laminated film on the transparent substrate. In Table 3, each of the transparent substrate and the laminated film is described in the order of lamination from the left. Each film is indicated by a constituent material and a thickness indicated by a number in parentheses (the unit is all [nm]).
  • An in-line sputtering apparatus is used for film formation, and a silicon target containing 10% by mass of aluminum, a nickel chromium target containing 80% by mass of nickel, and a silver palladium target containing 1% by mass of palladium in the sputtering chamber. , And a carbon target.
  • a cleaned soda lime glass plate was introduced into this in-line type sputtering apparatus and evacuated until the degree of vacuum became 2 ⁇ 10 ⁇ 6 Torr or less in the load lock chamber. Subsequently, a soda lime glass plate was introduced into the sputtering chamber, a silicon nitride layer containing aluminum as the first silicon nitride layer (SiN x : Al layer), and a nickel chromium alloy layer (NiCr layer as the first chromium containing layer).
  • a silver-palladium alloy layer (AgPd layer) as the metal layer, a nickel-chromium alloy layer (NiCr layer) as the second chromium-containing layer, and a silicon nitride layer containing aluminum as the second silicon nitride layer (SiN x : Al Layer) were sequentially formed to form a laminated film.
  • the film forming conditions for each layer are as follows. The film forming pressure was 3 to 5 mTorr. The film thickness of each layer was adjusted by adjusting the sputtering time.
  • first and second silicon nitride layers SiN x : Al layer
  • the nickel chromium alloy layer (NiCr layer) as the first and second chromium-containing layers uses a nickel chromium target containing 80% by mass of nickel, the introduced gas is 100% argon, and the power density is 0.4 W. Film formation was performed at / cm 2 .
  • the silver-palladium alloy layer (AgPd layer) is formed using a silver-palladium target containing 99% by mass of silver and 1% by mass of palladium, with an introduction gas of 100% and a power density of 0.7 W / cm 2. Went.
  • Example 2 As a transparent substrate, a 6.0 mm thick soda lime glass plate (Asahi Glass Co., Ltd., FL6, visible light transmittance: 89.4%) was prepared, and this glass substrate was washed and set in a substrate holder.
  • soda lime glass plate Asahi Glass Co., Ltd., FL6, visible light transmittance: 89.4%
  • a composite oxide sintered body target (hereinafter also referred to as “ITO composite oxide sintered body target”) having a SnO 2 content of 10% by mass with respect to the total amount of In 2 O 3 and SnO 2 and metal Ti.
  • a silicon target containing 10 mass% aluminum (hereinafter referred to as a SiAl target) was attached to a cathode for performing intermittent DC magnetron sputtering. The intermittent period was set to 5 ⁇ s for the ON time and 45 ⁇ s for the OFF time.
  • an ITO layer having a thickness of 96 nm was formed on the glass substrate by an intermittent direct current magnetron sputtering method using an ITO composite oxide sintered target.
  • argon was used as the sputtering gas, and the pressure during sputtering was 3 mTorr.
  • the composition of the deposited ITO layer was equivalent to the target. A small amount of oxygen was introduced into the sputtering gas.
  • TiN x layer a titanium nitride layer having a thickness of 33 nm was formed on the ITO layer by intermittent DC magnetron sputtering using a metal Ti target.
  • the sputtering gas used was argon and nitrogen, and the argon / nitrogen ratio was 17/3.
  • the pressure during sputtering was 3 mTorr.
  • an Al-doped silicon nitride layer (SiN x : Al layer) having a thickness of 55 nm was formed by an intermittent direct current magnetron sputtering method using a SiAl (Al content; 10 mass%) target.
  • SiAl Al content; 10 mass%
  • argon and nitrogen were used as the sputtering gas, and the ratio of argon / nitrogen was 9/7.
  • the pressure during sputtering was 3 mTorr.
  • the glass substrate was not heated during the formation of any of the layers.
  • the obtained glass plate with a precursor layer was subjected to air-cooling strengthening treatment, that is, heat treatment at 650 ° C. for 5 minutes in the air in an electric firing furnace, to obtain a transparent substrate B with a laminated film.
  • Table 3 shows the structure of the laminated film before the heat treatment.
  • Example 3 As a glass substrate with a precursor layer, a glass substrate with a precursor layer was prepared in which the thickness of the ITO layer was 72 nm, the thickness of the titanium nitride layer was 42 nm, and the thickness of the Al-doped silicon nitride layer was 59 nm. Obtained the transparent substrate C with a laminated film in the same manner as in Example 2.
  • Example 4 As a glass substrate with a precursor layer, a glass substrate with a precursor layer in which the thickness of the ITO layer was 131 nm, the thickness of the titanium nitride layer was 32 nm, and the thickness of the Al-doped silicon nitride layer was 40 nm was produced. Obtained the transparent substrate D with a laminated film in the same manner as in Example 2.
  • a soda lime glass plate FL3, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. having a thickness of 3.0 mm was used, and an Al-doped zinc oxide layer (Al: ZnO) was formed on the transparent substrate by the same sputtering apparatus as in Example 1.
  • Layer the same silver palladium alloy layer (AgPd layer) as in Example 1, an Al-doped zinc sacrificial layer (Al: Zn), and an Al-doped zinc oxide layer (Al: ZnO layer) in the order shown in Table 3.
  • a transparent substrate E with a laminated film was obtained.
  • Al-doped zinc oxide layers Al: ZnO layers
  • carbon dioxide gas was introduced using a zinc aluminum metal target containing 2% by mass of aluminum so that the film forming pressure was 4.5 mTorr.
  • the film was formed with a power density of 3.6 W / cm 2 .
  • the Al-doped zinc sacrificial layer Al: Zn
  • the film was formed at 1 W / cm 2 .
  • the Al-doped zinc sacrificial layer is a layer that is included in the Al-doped zinc oxide layer (Al: ZnO layer) formed thereon and does not remain as such.
  • Example 2 As a glass substrate with a precursor layer, a glass substrate with a precursor layer in which the thickness of the ITO layer was 96 nm, the thickness of the titanium nitride layer was 5 nm, and the thickness of the Al-doped silicon nitride layer was 55 nm was prepared. Obtained the transparent substrate F with a laminated film in the same manner as in Example 2.
  • Example 4 A soda lime glass plate (FL6, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a thickness of 6.0 mm was used as the transparent substrate, and a silicon nitride layer (10 nm) and chromium nitride were formed on the transparent substrate by the same sputtering apparatus as in Example 2. A layer (10 nm) and a silicon nitride layer (20 nm) were formed in that order to obtain a transparent substrate H with a laminated film.
  • a Hitachi spectrophotometer (U-3100 type) was used to perform spectroscopic measurement of a transparent substrate with a laminated film. Based on JIS R3106 / 3107 (1998), the heat transmissivity (U value), the solar heat acquisition rate ( ⁇ value) when light enters from the transparent substrate, and the visible light transmittance (Tv) were determined. Further, the color rendering properties of transmitted light evaluated by the average color rendering index (Ra) using a D65 light source in accordance with JIS Z8726 (1990) was determined. Furthermore, the selection coefficient (Tv / ( ⁇ value ⁇ 100)) was calculated from the visible light transmittance (Tv) and the solar heat acquisition rate ( ⁇ value).
  • a sweat resistance test was performed according to ISO12870. Specifically, artificial sweat was poured into a sealed container, and a transparent substrate with a laminated film was placed in the sealed container at a distance of 25 mm from the artificial sweat, and then kept in a sealed state at 55 ⁇ 5 ° C. for 3 days.
  • the artificial sweat is an aqueous solution containing lactic acid 50 g / L and sodium chloride 100 g / L. Thereafter, the transparent substrate with the laminated film was taken out from the sealed container, the surface of the laminated film was observed with a microscope (50 times), the number of defects in the range of 1 mm ⁇ 1 mm was visually measured, and evaluated according to the following criteria.
  • the evaluation standard was a method of expressing the range of the number of defects with a score of 1 to 5. In the following evaluation criteria, it is indicated as “score; range of the number of defects”.
  • FIG. 30 ... Window glass, 10 ... Transparent substrate with laminated film, 11 ... Transparent substrate, 12 ... Laminated film, 10A, 10B, 10C, 10D ... transparent substrate with laminated film 12A, 12B, 12C, 12D ... laminated film 121 ... first silicon nitride layer, 122 ... first chromium-containing layer, 123 ... metal mainly composed of silver Layers, 124 ... second chromium-containing layer, 125 ... second silicon nitride layer, 126 ... protective layer 221 ... transparent conductive layer, 222 ... nitrogen-containing light absorbing layer, 223 ... dielectric layer.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Joining Of Glass To Other Materials (AREA)

Abstract

　低緯度から中緯度の暑熱地域での使用に適した高遮熱性の窓ガラスおよび高遮熱性の積層膜付き透明基板を提供する。透明基板と前記透明基板上に成膜された積層膜を有する積層膜付き透明基板からなり、前記積層膜が室内側の大気に露出した状態で使用され、ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される熱貫流率（Ｕ値）が３．４～４．７Ｗ／ｍ２・Ｋ、日射熱取得率（η値）が０．１７～０．４４、および可視光透過率（Ｔｖ）が３５％以上であり、　ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上であり、ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に前記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である窓ガラス。

Description

窓ガラスおよび積層膜付き透明基板
　本発明は、窓ガラスおよび積層膜付き透明基板に関する。
　暑熱地域、例えば、東南アジア等の低緯度から中緯度の地域における建築用窓ガラスの省エネルギー性能を考える場合、高い可視光透過率を有するとともに、高遮熱性能を有することが求められる。一方で、断熱性能に関しては意識されないが、窓ガラスが高断熱性能を有する場合、室内に取り込まれた日射熱が放出されず、結果として冷房負荷が上がってしまう。そのため、建築用窓ガラスには、高可視光透過率、高遮熱性能に加えて低断熱性能が求められる。
　ここで、窓ガラスに高遮熱性能を持たせるためには放射率を低くすることが必要とされるが、放射率を過度に低くすると断熱性能が増大することが知られており、放射率を適度に調整する必要があった。さらに、建築用窓ガラスには、透過光や反射光が自然光に近い、すなわち、演色性が高い性質が求められていた。
　上記機能を達成する窓ガラスとして、ガラス基板に、銀を主成分として含有する金属層を含む銀系光学多層膜を成膜した単板の窓ガラスが考えられる。しかしながら、従来、銀系光学多層膜は、高断熱性能を有する複層ガラスの内側に設けられて使用されて高遮熱性能を発揮していたものであり、これが露出した状態では化学的耐久性および機械的耐久性が十分に得られない点で問題であった。
　また、例えば、緑色や青色に着色された熱線吸収ガラスに化学的耐久性および機械的耐久性を備えるドープ酸化錫等を含む遮熱膜を成膜したガラス物品が知られている（例えば、特許文献１参照）。このようなガラス物品では、高可視光透過率、高遮熱性能に加えて低断熱性能が得られているが、演色性が十分でない点で問題であった。
　このように、ガラス基板のような透明基板と各種コーティング膜の組み合わせにおいて、低緯度から中緯度の暑熱地域における窓ガラスとしての使用に適した上記各種特性を満足する、透明基板とコーティング膜を組み合わせた遮熱性の高い窓ガラスが得られていないのが現状であった。
特表２００５－５２９８２３号公報
　本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、低緯度から中緯度の暑熱地域での使用に適した高遮熱性の窓ガラスおよび高遮熱性の積層膜付き透明基板の提供を目的とする。
　本発明の第１の態様の窓ガラスは、透明基板と前記透明基板上に成膜された積層膜を有する積層膜付き透明基板からなり、前記積層膜が室内側の大気に露出した状態で使用され、ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される熱貫流率（Ｕ値）が３．４～４．７Ｗ／ｍ２・Ｋ、日射熱取得率（η値）が０．１７～０．４４、および可視光透過率（Ｔｖ）が３５％以上であり、ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上であり、ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に前記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である。
　本発明の第２の態様の窓ガラスは、透明基板と前記透明基板上に成膜された積層膜を有する積層膜付き透明基板からなり、前記積層膜が室内側の大気に露出した状態で使用され、ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される日射熱取得率（η値）および可視光透過率（Ｔｖ）を用いて、Ｔｖ／（η値×１００）の式で算出される選択係数が１．１以上、かつ日射熱取得率（η値）が０．６０以下であり、ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上であり、ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に前記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である。
　本発明の第３の態様の積層膜付き透明基板は、透明基板と前記透明基板上に成膜された積層膜を有し、ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される熱貫流率（Ｕ値）が３．４～４．７Ｗ／ｍ２・Ｋ、前記積層膜側で測定される日射熱取得率（η値）が０．１７～０．４４、および可視光透過率（Ｔｖ）が３５％以上であり、ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上である。
　本発明の第４の態様の積層膜付き透明基板は、透明基板と前記透明基板上に成膜された銀を主体とする金属層を含む積層膜を有し、ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に前記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である。
　本発明によれば、低緯度から中緯度の暑熱地域での使用に適した高遮熱性の窓ガラスおよび高遮熱性の積層膜付き透明基板を提供できる。
本発明の窓ガラスの一実施形態の使用時の一例を示す断面図である。 積層膜付き透明基板の一実施形態の断面図である。 積層膜付き透明基板の一実施形態の変形例を示す断面図である。 積層膜付き透明基板の別の実施形態を示す断面図である。 積層膜付き透明基板の別の実施形態の変形例を示す断面図である。
　以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。なお、本発明は、下記説明に限定して解釈されるものではない。
［窓ガラスおよび積層膜付き透明基板］
　図１は、本発明の窓ガラスの一実施形態の使用時の一例を示す断面図である。図２、図３は本発明の窓ガラスを構成する積層膜付き透明基板の一実施形態およびその変形例を示す拡大断面図である。さらに、図４、図５は本発明の窓ガラスを構成する積層膜付き透明基板の別の実施形態およびその変形例を示す拡大断面図である。
　図１に示すように、本発明の一実施形態の窓ガラス３０は、透明基板１１と透明基板１１上に成膜された積層膜１２を有する積層膜付き透明基板１０からなり、積層膜１２が室内側の大気に露出した状態で使用される。本明細書において「窓ガラス」とは、窓ガラス本体をいい、例えば、使用に際して窓ガラスの開閉等のために取り付けられる取っ手や、窓ガラスを窓枠に取り付けるためのサッシ等の枠体等の付属品を含まない、窓ガラス自体をいう。
　本発明の第１の態様の窓ガラスにおいて、積層膜付き透明基板１０は、ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される以下の（１－ａ）～（３－ａ）の物性値を満足するとともに、以下の（４－ａ）および（５－ａ）の物性値を満足するものである。
（１－ａ）熱貫流率（Ｕ値）が３．４～４．７Ｗ／ｍ２・Ｋである。
（２－ａ）日射熱取得率（η値）が０．１７～０．４４である。
（３－ａ）可視光透過率（Ｔｖ）が３５％以上である。
（４－ａ）ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上である。
（５－ａ）ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に上記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数（以下、単に「耐汗試験による欠点数」ともいう。）が５０以下である。
　建物側面の全面積における窓の面積の割合が大きい方が、太陽光から建物内部により多くの可視光を取り込むことが可能であるが、同時に取り込まれる日射熱量も多くなる。一般的な大型建築物においては、ＷＷＲ（Window to Wall Ratio）と呼称される建物側面の全面積における窓の面積の割合が、０．４以上の建物が多く、０．７を超える建物も多く存在する。また、低緯度から中緯度の暑熱地域において、建物側面から外部の熱が窓や壁を通して建物内部に伝わる熱量と、日射熱として窓から入り込む熱量の合計量を建物側面の全面積（壁と窓の合計面積）で除した値としてＯＴＴＶ（Overall Thermal Transfer Value）が知られている。例えば、これらの指標を用いて暑熱地域において窓ガラスに求められる遮熱性能を示せば、ＷＷＲが０．４以上の建物において、ＯＴＴＶを５０Ｗ／ｍ２以下とすることが求められている。
　窓ガラス３０を構成する積層膜付き透明基板１０が、上記（１－ａ）および（２－ａ）を満足することで、例えば、ＷＷＲが０．４以上の建物において、ＯＴＴＶを５０Ｗ／ｍ２以下とすることが可能となる。
　なお、熱貫流率（Ｕ値）は３．４～４．４Ｗ／ｍ２・Ｋが好ましく、３．４～４．２Ｗ／ｍ２・Ｋがより好ましい。熱貫流率（Ｕ値）は、積層膜付き透明基板１０の室内外で温度差が１度あったときの１時間あたり１ｍ２を通過する熱量（Ｗ）を示し、断熱性を測る指標となる。熱貫流率（Ｕ値）が小さいほど断熱性に優れることを意味する。
　また、日射熱取得率（η値）は０．１７～０．４０が好ましく、０．１７～０．３５がより好ましい。ここで、日射熱取得率（η値）は、積層膜付き透明基板１０の透明基板１１側から入射した太陽エネルギーを１としたときの積層膜１２側に流入する熱量の割合を示す値である。日射熱取得率（η値）により、遮熱性、すなわち太陽光によって生じる熱（日射熱）をどの程度遮断するかを知ることができる。
　日射熱取得率は、透明基板１１側から入射した太陽エネルギーに対する、積層膜付き透明基板１０を直接透過する熱（以下「透過熱」ともいう。）と、積層膜付き透明基板１０に吸収されてその後積層膜１２側へ放出される熱（以下、「輻射熱」ともいう。）との合計の熱量の割合である。日射熱取得率は、０から１の間の数で表される。なお、日射熱取得率は、具体的には積層膜付き透明基板１０における分光特性および放射率を測定し、所定の計算式に導入することで算出できる。日射熱取得率が小さいほど、積層膜付き透明基板１０において透明基板１１側から入射した日射熱量に対する、透過熱および輻射熱の合計の熱量の割合が少なくなる。
　なお、上記の例示においては、窓からの採光性を高めることを目的として、ＷＷＲが０．４以上の場合を基準としている。ＷＷＲが概ね０．４以上の建物であれば、可視光透過率（Ｔｖ）を上記（３－ａ）の範囲とすることで、建物内への採光を十分とすることができる。可視光透過率（Ｔｖ）は、昼間の日射が強い東南アジア等の低緯度から中緯度の地域における窓ガラスに求められる防眩性の観点から６５％以下が好ましい。可視光透過率（Ｔｖ）は、４０～６０％が特に好ましい。
　上記（４－ａ）による演色性が９０％以上であることで、建物の外側から窓ガラス３０を見た際の外観が自然な中間色となる。演色性は９１％以上が好ましく、９２％以上がより好ましい。なお、演色性の上限値は１００％である。
　積層膜付き透明基板１０は、図１に示されるとおり、積層膜１２が室内側の大気に露出した状態で使用される。そのため、耐久性の観点から、上記（５－ａ）に示す物性値を満足することが必須である。
　耐汗試験は、具体的には、水を溶媒とし、乳酸５０ｇ／Ｌ、および塩化ナトリウム１００ｇ／Ｌを含有する人工汗液を密閉容器中に注入するとともに、この密閉容器中に人工汗液から２５ｍｍ離して積層膜付き透明基板１０を配置し、密閉状態にして５５±５℃で３日間保持した後の、積層膜１２表面を顕微鏡により５０倍の倍率で観察することにより行うことができる。
　顕微鏡（５０倍）で観察される欠点は、具体的には、積層膜１２における銀の凝集、変色および剥離である。本明細書において耐汗試験で評価される欠点数は、特に断りのない限りこの３種の欠点の個数の合計をいう。なお、これらの判定は、顕微鏡（５０倍）を介して目視で行うこととする。上記耐汗試験による欠点数としては３０以下であることが好ましく、５以下がより好ましい。
　以上説明した本発明の第１の態様の窓ガラスを構成する積層膜付き透明基板の物性値を以下の表１にまとめる。表１において、行は物性の項目であり、列は物性値であり（ａ）が必須の範囲、（ｂ）が好ましい範囲、（ｃ）がより好ましい範囲を示す。（１）Ｕ値の（ａ）列の範囲を、（１－ａ）と示す。積層膜付き透明基板の物性値の範囲は、（１）～（５）の各項目において、それぞれ（ａ）、（ｂ）、（ｃ）のいずれかを選択して組み合わせたものであってよい。
　本発明の第１の態様の窓ガラスを構成する積層膜付き透明基板は、表１に示される（１）～（５）の各項目の（ａ）の列の範囲を必須とする積層膜付き透明基板である。また、積層膜付き透明基板において、最も好ましい物性値の範囲の組み合わせは、表１の（１－ｃ）、（２－ｃ）、（３－ｃ）、（４－ｃ）および（５－ｃ）の組み合わせである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　本発明の第２の態様の窓ガラスにおいては、積層膜付き透明基板は、ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される以下の（６－ａ’）および（２－ａ’）の物性値を満足するとともに、以下の（４－ａ’）および（５－ａ’）の物性値を満足するものである。
　（６－ａ’）日射熱取得率（η値）および可視光透過率（Ｔｖ）を用いて、Ｔｖ／（η値×１００）の式で算出される選択係数が１．１以上である。
　（２－ａ’）日射熱取得率（η値）が０．６０以下である。
　（４－ａ’）ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上である。
　（５－ａ’）ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に上記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である。
　上記（６－ａ’）における選択係数は、可視光透過率（Ｔｖ）と日射熱取得率（η値）とのバランスをみる指標であり、選択係数が上記範囲にあれば、適度な可視光透過性かつ高遮蔽性を実現することができる。選択係数は、１．２以上が好ましく、１．２５以上がより好ましい。
　第２の態様の窓ガラスにおける積層膜付き透明基板の（４－ａ’）および（５－ａ’）の物性値は、それぞれ第１の態様の窓ガラスにおける積層膜付き透明基板の（４－ａ）および（５－ａ）の物性値と同じである。
　本発明の第２の態様における積層膜付き透明基板の物性を、上記第１の態様における積層膜付き透明基板の物性と同様に、以下の表２にまとめる。表２において、行は物性の項目であり、（２）、（４）、（５）は表１と同様である。（６）は選択係数である。表２において、列は物性値であり（ａ’）が必須の範囲、（ｂ’）が好ましい範囲、（ｃ’）がより好ましい範囲を示す。（２）η値の（ａ’）列の範囲を、（２－ａ’）と示す。積層膜付き透明基板の物性値の範囲は、（２）、（４）、（５）および（６）の各項目において、それぞれ（ａ’）、（ｂ’）、（ｃ’）のいずれかを選択して組み合わせたものであってよい。ただし、（２）η値は、（ｂ’）、（ｃ’）を特に有しない。
　本発明の第２の態様の窓ガラスを構成する積層膜付き透明基板は、表２に示される（２）、（４）、（５）および（６）の各項目の（ａ’）の列の範囲を必須とする積層膜付き透明基板である。また、積層膜付き透明基板において、最も好ましい物性値の範囲の組み合わせは、表２の（２－ａ’）、（４－ｃ’）、（５－ｃ’）および（６－ｃ’）の組み合わせである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　上記本発明の窓ガラスにおける積層膜付き透明基板は、上記表１の必須の物性範囲に従う第１の態様のものであっても、上記表２の必須の物性範囲に従う第２の態様のものであっても、透明基板側の反射光の色調は、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色度座標で、ａ＊≦１０、ｂ＊≦５が好ましい。ａ＊≦１０、ｂ＊≦５の場合、透明基板側の反射光の赤味が抑制されるために好ましい。ａ＊は、－２５≦ａ＊≦７がより好ましく、－１５≦ａ＊≦３がさらに好ましい。ｂ＊は、－２５≦ｂ＊≦５がより好ましく、－２３≦ｂ＊≦５がさらに好ましい。
　また、上記第１の態様および第２の態様による積層膜付き透明基板において、積層膜側の反射光の色調は、上記座標で、ａ＊≦１５、ｂ＊≦５が好ましい。ａ＊≦１５、ｂ＊≦５の場合、積層膜側の反射光の赤味が抑制されるために好ましい。ａ＊は、－２５≦ａ＊≦１５がより好ましく、－１５≦ａ＊≦１２がさらに好ましく、－１５≦ａ＊≦８が特に好ましい。ｂ＊は、－３５≦ｂ＊≦０がより好ましく、－３０≦ｂ＊≦０がさらに好ましい。
　さらに、上記積層膜付き透明基板の透明基板側の可視光反射率（Ｒｖ１）は２５％以下が好ましく、積層膜側の可視光反射率（Ｒｖ２）は２０％以下が好ましい。なお、可視光反射率（Ｒｖ）は、ＪＩＳ　Ｒ３１０６：１９９８に規定されるものである。
　本発明は、第３の態様として、透明基板と前記透明基板上に成膜された積層膜を有する積層膜付き透明基板であって、上記（１－ａ）、（２－ａ）、（３－ａ）および（４－ａ）の特性を満足する積層膜付き透明基板を提供する。このような特性を満足する本発明の第３の態様の積層膜付き透明基板を、以下、積層膜付き透明基板（Ａ）という。積層膜付き透明基板（Ａ）は、さらに、上記（５－ａ）に示す物性値を満足することが耐久性の観点から好ましい。
　積層膜付き透明基板（Ａ）の物性値を、上記表１を参照して説明すると、積層膜付き透明基板（Ａ）が有する物性値は、表１の物性の項目（１）～（４）について、それぞれ、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）のいずれかを選択して組み合わせたものであってよい。積層膜付き透明基板（Ａ）が有する物性値は、これらに、さらに、（５－ａ）、（５－ｂ）または（５－ｃ）を組み合わせたものであってよい。このように、積層膜付き透明基板（Ａ）が備えるべき物性を選択する場合に、（５）の耐汗試験による欠点数は任意の項目である。積層膜付き透明基板（Ａ）における最も好ましい物性値の範囲の組み合わせは、（１－ｃ）、（２－ｃ）、（３－ｃ）、（４－ｃ）および（５－ｃ）の組み合わせである。
　本発明は、第４の態様として、透明基板と前記透明基板上に成膜された銀を主体とする金属層を含む積層膜を有する積層膜付き透明基板であって、上記（５－ａ）の特性を必須の物性値として有する積層膜付き透明基板を提供する。このような本発明の第４の態様の積層膜付き透明基板を、以下積層膜付き透明基板（Ｂ）という。
　積層膜付き透明基板（Ｂ）においては、耐汗試験による欠点数については、上記（５－ｂ）の特性を有することが好ましく、上記（５－ｃ）の特性を有することがより好ましい。積層膜付き透明基板（Ｂ）においては、積層膜が銀を主体とする金属層を含むことにより、表１の物性の項目（１）～（４）においても、（ａ）の条件を達成しうるといえる。
　積層膜付き透明基板（Ａ）および積層膜付き透明基板（Ｂ）の用途は限定されない。上記のとおり単板で窓ガラスとして上記積層膜を室内側の大気に露出した状態で使用してもよく、合わせガラスや複層ガラスとして使用してもよい。なお、積層膜付き透明基板（Ａ）を上記のようにして単板で窓ガラスとして用いる場合、上記（５－ａ）の特性を満足するものが用いられる。
　合わせガラスとしては、例えば、対向配置された２枚の透明基板が中間膜を挟持し該中間膜により接着された構成の合わせガラスが挙げられる。このような合わせガラスの透明基板の一方または両方に積層膜付き透明基板（Ａ）、積層膜付き透明基板（Ｂ）を用いることができる。その場合、積層膜は中間膜側に配置されてもよく、大気に露出した状態であってもよい。合わせガラスとしては３枚以上の透明基板を有するものであってもよい。
　複層ガラスとしては、例えば、対向配置した２枚の透明基板をその周縁部にスペーサを介して封止し対向する透明基板間に中間層を形成した構成の複層ガラスが挙げられる。中間層は通常、空気、アルゴンガス等の気体が密封された、または真空の層である。このような複層ガラスの透明基板の一方または両方に積層膜付き透明基板（Ａ）、積層膜付き透明基板（Ｂ）を用いることができる。その場合、積層膜は中間層側に配置されてもよく、大気に露出した状態であってもよい。複層ガラスとしては３枚以上の透明基板を有するものであってもよい。
　なお、積層膜付き透明基板（Ａ）を上記のようにして合わせガラスや複層ガラスの透明基板として用いる際に積層膜が大気に露出した状態で用いられ場合には、上記（５－ａ）の特性を満足するものが用いられる。
　ここで本明細書において、窓ガラス、合わせガラス、複層ガラス等の「ガラス」とは、必ずしもそれらが無機ガラス基板を用いているものに限定されず、有機ガラスを含む透明基板を用いて得られる透明物品の概念で用いられる。
［積層膜付き透明基板の構成］
　上記本発明の第１の態様の窓ガラスにおける積層膜付き透明基板、第２の態様の窓ガラスにおける積層膜付き透明基板、および積層膜付き透明基板（Ａ）は、いずれも、積層膜が、例えば、銀を主体とする金属層を含む積層膜、または透明導電層と窒素含有光吸収層とを含む積層膜で構成される。積層膜付き透明基板（Ｂ）が有する積層膜は、上記のとおり銀を主体とする金属層を含む積層膜である。
　以下、本発明に係る積層膜付き透明基板の各構成要素について、上記積層膜の構成別に図面を参照しながら説明する。図２は透明基板と銀を主体とする金属層を含む積層膜とを有する積層膜付き透明基板の一例の断面図である。図３は、透明基板と銀を主体とする金属層を含む積層膜とを有する積層膜付き透明基板の変形例の断面図である。図４は、透明基板と、透明導電層および窒素含有光吸収層を含む積層膜とを有する積層膜付き透明基板の一例の断面図である。図５は、透明基板と、透明導電層および窒素含有光吸収層を含む積層膜とを有する積層膜付き透明基板の変形例の断面図である。
　まず、図２または図３に示す、透明基板と、銀を主体とする金属層を含む積層膜を有する積層膜付き透明基板について説明する。
　図２に示す積層膜付き透明基板１０Ａは、透明基板１１と、透明基板１１上に銀を主体とする金属層１２３を含む積層膜１２Ａを有する。
（透明基板）
　透明基板１１は、特に限定されず、例えば、建築物用の窓ガラスや通常使用されるフロートガラス、またはロールアウト法によって製造されるソーダライムガラス等の無機質の透明性を有するガラス基板を使用できる。ガラス基板としては、クリアガラス、高透過ガラス等の無色のもの等が使用できる。透明基板１１として、有機質の透明基板を用いてもよい。有機質の透明基板としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂やポリフェニレンカーボネート等の芳香族ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の芳香族ポリエステル系樹脂等からなる透明基板が挙げられる。
　積層膜付き透明基板１０Ａとしての可視光透過率（Ｔｖ）を上記範囲とするために、透明基板１１の可視光透過率（Ｔｖ）は、８０～９２％が好ましく、８３～９２％がより好ましい。このような可視光透過率を考慮すると、クリアガラス、高透過ガラス等の無色ガラスが好ましい。また、高い演色性を得る観点からも無色ガラスが好ましい。
　透明基板１１としては、また、風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の各種強化ガラスも使用できる。さらには、ホウケイ酸塩ガラス、低膨張ガラス、ゼロ膨張ガラス、低膨張結晶化ガラス、ゼロ膨張結晶化ガラス等の各種ガラスを用いることができる。透明基板１１の厚さは、必ずしも限定されないが、透明基板１１自体の可視光透過率（Ｔｖ）を上記範囲とでき、かつ十分な機械的強度を確保できる厚さが好ましく、例えば０．５～２０ｍｍが好適である。
（銀を主体とする金属層を含む積層膜）
　図２に示す積層膜付き透明基板１０Ａが透明基板１１上に有する積層膜１２Ａは、透明基板１１側から順に、第１の窒化ケイ素層１２１、第１のクロム含有層１２２、銀を主体とする金属層１２３、第２のクロム含有層１２４、および第２の窒化ケイ素層１２５が成膜されて構成される。このように銀を主体とする金属層が２層のクロム含有層に接するように挟持され、さらに２層の窒化ケイ素層に挟持される構成とすることで、積層膜付き透明基板１０Ａは、良好な化学的耐久性、機械的耐久性、および熱的耐久性を有する。
　金属層１２３は、銀を主成分として含有する。本明細書においてある成分を主成分として含有するとは、全構成成分に対する主成分として含有する成分の割合が５０質量％を超えることをいう。金属層１２３は、主成分としての銀以外に、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を含有することが好ましい。以下、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を金属Ｍともいう。金属層１２３における金属Ｍの含有量は、銀と金属Ｍとの合計量に対して０．１～１０質量％の割合が好ましい。以下、金属Ｍの含有量とは、特に断りのない限り、銀と金属Ｍとの合計量に対する金属Ｍの割合（質量％）をいう。
　銀を主体とする金属層１２３が金属Ｍを好ましくは上記含有量で含有することで、積層膜付き透明基板１０Ａの上記物性の項目（１）～（４）、（６）を所定の範囲に調整しやすい。また、積層膜付き透明基板１０Ａの耐久性、特に積層膜１２Ａの耐汗性等の化学的耐久性、例えば、上記物性の項目（５）を所定の範囲に向上できる。さらに、金属層１２３が金属Ｍを好ましくは上記含有量で含有することで、機械的耐久性も良好となる。機械的耐久性が向上する理由として、金属Ｍの固溶化により金属層１２３の硬度が向上し、積層膜１２Ａ構造全体としても強度が向上するものと推定される。積層膜１２Ａの耐久性が良好となることで、積層膜付き透明基板１０Ａを積層膜１２Ａが大気に露出するような状態で使用する用途に好適なものとなる。
　上記金属Ｍとしては、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらのうちでも金属Ｍとしては、１種を単独で使用する場合には、パラジウム、金等が好ましい。２種以上の組合せとしては、ニッケルと金、ニッケルとパラジウム等が好ましい。
　なお、金属層１２３における金属Ｍの含有量の最適な量は金属Ｍの種類により異なる。金属Ｍとして、パラジウムを用いる場合には、銀とパラジウムとの合計量に対するパラジウムの割合は、１～５質量％が好ましい。同様に金については１～１０質量％、クロムについては０．１～５質量％、コバルトについては０．１～５質量％、ニッケルについては０．１～７質量％の含有量がそれぞれ好ましい。また、ニッケルと金を組み合せて用いる場合には、ニッケルを０．１～７質量％、金を１～１０質量％（ただし、ニッケルと金の合計として１０質量％以下）、含有させることが好ましい。
　金属層１２３は、銀および金属Ｍ以外の添加元素を含有できる。添加元素としては、例えば、銅、チタン等の金属元素が挙げられる。添加元素を含有する場合、添加元素の合計した含有量は、金属層１２３を構成する全成分中、５質量％以下が好ましく、３質量％以下がより好ましく、１質量％以下がさらに好ましい。
　金属層１２３の厚さは、１０～３０ｎｍが好ましい。金属層１２３の厚さが１０ｎｍ以上の場合、積層膜付き透明基板１０Ａの上記物性の項目（１）～（４）、（６）が所定の範囲内となり、耐久性、特に積層膜１２Ａの化学的耐久性、例えば、上記物性の項目（５）が所定の範囲に向上する。金属層１２３の厚さが３０ｎｍ以下の場合、積層膜付き透明基板１０Ａの上記物性の項目（１）～（４）、（６）が所定の範囲内となるとともに、積層膜１２Ａの生産性も良好となる。なお、金属層の厚さは、幾何学的厚さを表す（以下、同様である。）。
　第１のクロム含有層１２２は、クロム（Ｃｒ）もしくはニッケルクロム合金（ＮｉＣｒ合金）またはこれらの一部が窒化されたクロムの部分窒化物もしくはニッケルクロム合金の部分窒化物からなる。クロムの部分窒化物としては、ＣｒＮｘ（０．５＜ｘ＜１．５）が好適なものとして挙げられる。ニッケルクロム合金の部分窒化物としては、ＮｉＣｒＮｘ（０．５＜ｘ＜１．５））が好適なものとして挙げられる。積層膜付き透明基板１０Ａの熱的耐久性の観点からは、第１のクロム含有層１２２は、窒化されていないクロム（Ｃｒ）またはニッケルクロム合金（ＮｉＣｒ合金）からなることが好ましい。
　第１のクロム含有層１２２がニッケルクロム合金（ＮｉＣｒ合金）またはその一部が窒化されたニッケルクロム合金の部分窒化物（ＮｉＣｒＮｘ）からなる場合、クロムとニッケルとの合計量に対するクロムの含有量の割合は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。また、第１のクロム含有層１２２は、金属層１２３に接するように成膜される。
　第２のクロム含有層１２４は、第１のクロム含有層１２２と同様の成分で構成され、金属層１２３に接するように成膜される。なお、第１のクロム含有層１２２と第２のクロム含有層１２４とは、必ずしも同一組成である必要はなく、互いに組成が異なってもよい。
　第１のクロム含有層１２２、第２のクロム含有層１２４は、可視光を吸収して遮熱性を向上させる光吸収層として、また、必要に応じて熱処理が行われるときに金属層１２３の酸化を抑制するバリア層等として機能する。
　第１のクロム含有層１２２、第２のクロム含有層１２４の厚さは０．５～１０ｎｍが好ましい。なお、第１のクロム含有層１２２の厚さと第２のクロム含有層１２４の厚さとは、互いに同一の厚さでもよいし、異なる厚さでもよい。第１のクロム含有層１２２、第２のクロム含有層１２４の厚さが０．５ｎｍ以上の場合、積層膜付き透明基板１０Ａの上記物性の項目（１）～（４）、（６）が所定の範囲内となり、その耐久性、特に積層膜１２Ａの化学的耐久性、例えば、上記物性の項目（５）が所定の範囲に向上する。また、第１のクロム含有層１２２、第２のクロム含有層１２４の厚さが１０ｎｍ以下の場合、積層膜付き透明基板１０Ａの上記物性の項目（１）～（４）、（６）が所定の範囲内になりやすく、積層膜１２Ａの生産性も良好となる。
　第１の窒化ケイ素層１２１、第２の窒化ケイ素層１２５は、可視域での反射率等を調整して、積層膜１２Ａの光学特性を所望の特性とするように機能する。また、第１の窒化ケイ素層１２１、第２の窒化ケイ素層１２５は、積層膜１２Ａの耐久性を向上させるように機能する。
　第１の窒化ケイ素層１２１、第２の窒化ケイ素層１２５は、必ずしも化学量論的な組成比の窒化ケイ素（Ｓｉ：Ｎ＝３：４）からなる必要はなく、例えば組成比がこれからずれた非化学量論的な組成比の窒化ケイ素からなるものでもよい。本明細書において、窒化＋金属名、酸化＋金属名で表記される金属の窒化物や酸化物は、特に断りのない限り化学量論的な組成比または非化学量論的な組成比の窒化物や酸化物を示す。必要に応じて、例えば、窒化ケイ素であればＳｉＮｘのように記載することもある。
　また、第１の窒化ケイ素層１２１、第２の窒化ケイ素層１２５は、必ずしも窒化ケイ素のみからなる必要はなく、スパッタリングを容易にするためにスパッタリングターゲットに添加される元素、例えば、アルミニウム等の導電性を付与する添加元素を含有できる。添加元素の含有量は、窒化ケイ素と添加元素との合計量中、１５質量％以下が好ましい。なお、第１の窒化ケイ素層１２１、第２の窒化ケイ素層１２５を構成する窒化ケイ素は、互いに同一の組成を有する必要はなく、異なる組成を有するものでもよい。
　第１の窒化ケイ素層１２１の厚さは２５～７０ｎｍが好ましい。第２の窒化ケイ素層１２５の厚さは３５～７０ｎｍが好ましい。第１の窒化ケイ素層１２１の厚さが２５ｎｍ以上、第２の窒化ケイ素層１２５の厚さが３５ｎｍ以上の場合、積層膜付き透明基板１０Ａの上記物性の項目（１）～（４）、（６）が所定の範囲内になりやすく、その耐久性、特に積層膜１２Ａの化学的耐久性、例えば、上記物性の項目（５）が所定の範囲に向上する。また、第１の窒化ケイ素層１２１、第２の窒化ケイ素層１２５の厚さが７０ｎｍ以下の場合、積層膜付き透明基板１０Ａの上記物性の項目（１）～（４）、（６）が所定の範囲内になりやすく、積層膜１２Ａの生産性も良好となる。
　ここで、積層膜付き透明基板１０Ａは、非熱処理品と熱処理品とに大別される。非熱処理品は、積層膜１２Ａの成膜のみが行われて最終的な形態である完成品となり、成膜後に強化または曲げのための熱処理が行われないものである。熱処理品は、積層膜１２Ａの成膜後、強化または曲げのための熱処理が行われて最終的な形態である完成品となるものである。積層膜付き透明基板１０Ａは、非熱処理品または熱処理品のいずれでもよい。
　なお、積層膜付き透明基板１０Ａは、各層が上記順序で成膜されることによって製造されたものであればよく、全体の成膜後、さらには熱処理後については、必ずしも各層はそれらの成膜時の状態、例えば、組成、厚さ等が厳密に維持されている必要はない。しかし、積層膜付き透明基板１０Ａについては、成膜時や熱処理時の各層の変化が基本的に抑制されることから、全体の成膜後や熱処理後についても各層はその成膜時の状態を維持していることが好ましい。また、上記物性の項目（１）～（６）については、成膜後の状態、すなわち熱処理されていない状態で所定の範囲内となればよいが、熱処理が行われる場合には熱処理後についても同様の範囲内となることが好ましい。
　特に、積層膜付き透明基板１０Ａが熱処理品であって、これを得るための熱処理が積層膜付き透明基板１０Ａと同様の構成の非熱処理品の表面温度を６００℃以上に加熱する熱処理である場合、第１のクロム含有層１２２の厚さが２．０～１０ｎｍ、かつ第２のクロム含有層１２４の厚さが２．０～１０ｎｍの範囲であることが好ましい。上記範囲外では、熱処理品として得られる積層膜付き透明基板１０Ａの積層膜１２Ａにおいて機械的耐久性（耐擦傷性）が十分でなくなるおそれがある。
　図３は、図２に示す積層膜付き透明基板１０Ａにおいて透明基板１１上に積層膜１２Ａの代わりに積層膜１２Ｂが成膜された構成の積層膜付き透明基板１０Ｂの断面図を示す。積層膜１２Ｂは、透明基板１１側から順に、第１の窒化ケイ素層１２１、第１のクロム含有層１２２、銀を主体とする金属層１２３、第２のクロム含有層１２４、第２の窒化ケイ素層１２５および保護層１２６が成膜されて構成されている。積層膜１２Ｂは、保護層１２６以外は、積層膜１２Ａと同様とできる。
　保護層１２６は、積層膜１２Ｂの機械的耐久性、特に表面の耐擦傷性を向上させる機能を有する。保護層１２６としては、機械的耐久性を向上させるものであれば特に制限されないが、例えば、炭素を主成分として含有する炭素層が好ましい。なお、保護層１２６が炭素層の場合、熱処理を行ったときに消失するが、成膜から熱処理までの耐擦傷性を向上できる。一方、非熱処理品においても、炭素層である保護層１２６が成膜された場合、最表面の摩擦係数が低下することにより耐擦傷性を向上できる。
　保護層１２６の厚さは、１ｎｍ以上が好ましい。保護層１２６の厚さが１ｎｍ以上の場合、機械的耐久性が効果的に向上する。保護層１２６の厚さは、１５ｎｍもあれば機械的耐久性の確保に十分であり、これ以下とすることで保護層１２６の生産性が向上する。保護層１２６の厚さは、１０ｎｍ以下がより好ましく、６ｎｍ以下がさらに好ましい。
　なお、図示しないが、積層膜１２Ａや積層膜１２Ｂには、上記した各層に加えて、必要に応じて、かつ本発明の趣旨に反しない限度において、他の層を成膜してもよい。例えば、第１の窒化ケイ素層１２１と第１のクロム含有層１２２との間、または第２のクロム含有層１２４と第２の窒化ケイ素層１２５との間に、光吸収層、またはバリア層等として機能する金属層、酸化物層、窒化物層、炭化物層、またはこれらの複合化合物層を設けてもよい。具体的には、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、クロム、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、またはスズ等の元素を含有する金属層、これらの元素の酸化物層、窒化物層、炭化物層、または複合化合物層が挙げられる。
　図２に示す積層膜付き透明基板１０Ａおよび図３に示す積層膜付き透明基板１０Ｂは例えば、以下の方法で製造できる。
　積層膜付き透明基板１０Ａ、１０Ｂは、透明基板１１の表面を清浄化処理した後、この表面に各層を透明基板側から順に成膜して得られる。成膜方法は、特に限定されず、物理的蒸着法（真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法）、化学的蒸着法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法）、イオンビームスパッタリング法等を適用できる。透明基板１１の面積が大きい場合、厚さの均一性が制御しやすく、生産性に優れることから、直流または交流デュアルスパッタリング法が好ましい。
　第１の窒化ケイ素層１２１、第２の窒化ケイ素層１２５は、例えば、スパッタターゲットとしてケイ素を主成分とするターゲットを使用して、窒素のみを含む雰囲気、または窒素とアルゴンとを含む雰囲気下でスパッタリングを行って成膜する。
　第１のクロム含有層１２２、第２のクロム含有層１２４は、例えば、スパッタターゲットとして、クロムまたはニッケルクロム合金を主成分とするターゲットを使用して、アルゴンのみを含む雰囲気、または窒素とアルゴンとを含む雰囲気下でスパッタリングを行って成膜する。
　金属層１２３は、例えば、スパッタターゲットとして、銀を主成分として含有し、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属（金属Ｍ）を、銀と前記金属との合計量に対して０．１～１０質量％の割合で含有するターゲットを使用して、アルゴンのみを含む雰囲気下でスパッタリングを行って成膜する。
　積層膜付き透明基板１０Ｂが、保護層１２６として、例えば、炭素を主成分として含有する炭素層を有する場合には、該炭素層は、炭素ターゲットを使用して、アルゴンのみを含む雰囲気下でスパッタリングを行って成膜すればよい。
　以上のようにして積層膜付き透明基板１０Ａ、１０Ｂの非熱処理品が得られる。積層膜付き透明基板１０Ａ、１０Ｂを熱処理品とする場合には、上記で得られた積層膜付き透明基板１０Ａ、１０Ｂを加熱炉で目的に応じた、例えば、強化のための加熱温度や曲げ加工のために加熱温度で所定の時間、加熱する。例えば、透明基板としてフロートガラス基板を用いた積層膜付き透明基板１０Ａ、１０Ｂについて、該ガラス基板の風冷強化を行う場合には、加熱処理は、積層膜付き透明基板１０Ａ、１０Ｂの表面温度として５００～７００℃で１～３０分間が好ましい。
　次に、図４または図５に示す、透明基板と、透明導電層および窒素含有光吸収層を含む積層膜とを有する積層膜付き透明基板について説明する。
　図４に示す積層膜付き透明基板１０Ｃは、透明基板１１と、透明基板１１上に透明導電層２２１および窒素含有光吸収層２２２を含む積層膜１２Ｃとを有する。透明基板１１については、上記図２に示す積層膜付き透明基板１０Ａと同様にできる。
（透明導電層および窒素含有光吸収層を含む積層膜）
　図４に示す積層膜付き透明基板１０Ｃが透明基板１１上に有する積層膜１２Ｃは、透明基板１１側から順に、透明導電層２２１および窒素含有光吸収層２２２が成膜されて構成される。
　透明導電層２２１としては、例えば、透明基板１１上に透明な層を形成できる金属酸化物であって、導電性を具備するもの（以下、「透明導電性金属酸化物」という。）を主体とする層であれば特に限定されない。
　透明導電性金属酸化物としては、例えば、金属酸化物自体を構成する金属以外の元素がドープされた金属酸化物が挙げられる。具体的には、スズ、チタン、タングステン、モリブデン、亜鉛および水素から選ばれる少なくとも１種がドープされた酸化インジウム；アンチモン、インジウム、タンタル、塩素およびフッ素から選ばれる少なくとも１種がドープされた酸化スズ；インジウム、アルミニウム、スズ、ガリウム、フッ素およびホウ素から選ばれる少なくとも１種がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記透明導電性金属酸化物は１種を単独で用いて、または２種以上を併用して、透明導電層２２１を形成してもよい。
　なお、本明細書において、ドープする元素とドープされる化合物の関係は、例えば、ドープされる金属酸化物に対するドープする元素の割合として、ドープされる金属酸化物とドープする元素の酸化物の総量に対するドープする元素の酸化物の含有量が５０質量％以下となる関係である。
　透明導電層２２１は、低抵抗とできる観点からスズがドープされた酸化インジウム（ＩＴＯ）を主体とする透明導電性金属酸化物からなることが好ましく、ＩＴＯのみからなることがより好ましい。ＩＴＯにおけるスズのドープ量としては、Ｉｎ２Ｏ３とＳｎＯ２との総量に対するＳｎＯ２の含有量として１～２０質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。
　透明導電層２２１の厚さは、上記物性の項目（１）～（６）を所定の範囲内とできる厚さであれば特に制限されない。透明導電層２２１の厚さは、例えば、１０～６００ｎｍであってよく、１０～２００ｎｍであることが好ましく、５０～１５０ｎｍであることがより好ましい。
　透明導電層２２１の形成方法は特に制限されない。通常、後述するように透明基板上にその他の各層とともに前駆層として形成された後、前駆層付き透明基板に熱処理を施す方法で作製される。透明導電層２２１の熱処理前の態様を透明導電層２２１の前駆層という。透明導電層２２１の前駆層と熱処理後の透明導電層２２１はほぼ同様の組成であるが、熱処理時に雰囲気中や透明基板中に含まれる酸素により適度に酸化されることで酸化度が調整され、所望の抵抗値の透明導電層２２１が形成される。通常、熱処理において、該熱処理が透明導電層の厚さに影響を及ぼすことはない。また、透明導電層２２１の厚さ、すなわちその前駆層の厚さが、上記厚さであると、層の深さ方向で酸化の程度に不均一が生じないという効果を奏する。
　窒素含有光吸収層２２２は、例えば、透明基板１１上に成膜可能な金属の窒化物および／または酸窒化物からなる光吸収性を具備する化合物（以下、「窒素含有光吸収性金属化合物」という。）を主体とする層であれば特に限定されない。図４に示す積層膜付き透明基板１０Ｃにおいては、透明基板１１側から順に、透明導電層２２１および窒素含有光吸収層２２２が形成されている。上記物性の項目（１）～（６）を所定の範囲内とする観点において透明導電層２２１および窒素含有光吸収層２２２は、透明基板１１側から窒素含有光吸収層２２２、透明導電層２２１の順で形成されてもよい。
　窒素含有光吸収層２２２が有する光吸収性としては、可視光領域から赤外領域にかけて広範囲に適度な量の光を吸収する性質が好ましい。窒素含有光吸収層２２２がこのような光吸収性を有することで、得られる積層膜付き透明基板１０Ｃにおける上記物性の項目（１）～（４）、（６）を所定の範囲内とすることに寄与できる。
　積層膜付き透明基板１０Ｃにおいては、透明導電層２２１と窒素含有光吸収層２２２は互いに接するように設けられている。このような構成とすれば、例えば、上記熱処理を伴う製造方法により積層膜付き透明基板１０Ｃを製造する際の熱処理時に、窒素含有光吸収層２２２と透明導電層２２１で酸素の受け渡しが発生し、透明導電層２２１の酸化度を適度に調整する役割を果たすことができる。すなわち、製造の過程において、熱処理時に透明導電層２２１の前駆層に過剰に酸素が含まれていても、窒素含有光吸収層２２２の前駆層に酸素を受け渡すことで、酸化度がより好ましい程度に調整されて、最終的に抵抗が低い透明導電層２２１が得られると考えられる。
　なお、この場合、窒素含有光吸収層２２２を構成する窒素含有光吸収性金属化合物は、その前駆層を構成する成分が上記熱処理時に酸化されて得られる成分である。ここで、窒素含有光吸収層２２２が透明導電層２２１と接しておらず、酸素の受け渡しを遮る能力を持つバリア層が存在する場合には、上記熱処理後の窒素含有光吸収層２２２を構成する窒素含有光吸収性金属化合物の酸化度は、透明導電層２２１と接している場合に比べて低い。
　窒素含有光吸収層２２２を主として構成する窒素含有光吸収性金属化合物として、具体的には、窒化ジルコニウム、窒化クロム、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化ハフニウム、酸窒化ジルコニウム、酸窒化クロム、酸窒化チタン、酸窒化ニオブ、および酸窒化ハフニウム等が挙げられる。窒素含有光吸収性金属化合物としては、上に例示した金属窒化物が好ましい。窒素含有光吸収性金属化合物が、上に例示した金属の酸窒化物である場合、該化合物中の窒素１モルに対する酸素の割合は０．５モル以下が好ましく、０．２モル以下がより好ましい。上記窒素含有光吸収性金属化合物は１種を単独で用いて、または２種以上を併用して、窒素含有光吸収層２２２を形成してもよい。
　窒素含有光吸収層２２２は窒化チタンを主体とする窒素含有光吸収性金属化合物からなることが好ましく、窒化チタンのみからなるものが好ましい。なお、窒化チタンは必ずしも化学量論的な組成比の窒化チタン（Ｔｉ：Ｎ＝１：１）からなる必要はなく、例えば、組成比がこれからずれた所謂非化学量論的な組成比の窒化チタンからなるものでもよい。上記した他の金属の窒化物についても同様である
　また、例えば、窒素含有光吸収層２２２の前駆層を窒化チタンで構成し、これを上記のように熱処理した場合は、前駆層の窒化チタンは通常、酸化され酸窒化チタンとなる。すなわち、このようにして得られる窒素含有光吸収層２２２は酸窒化チタンからなり、この場合、上記同様に窒素１モルに対する酸素の割合は０．５モル以下が好ましく、０．２モル以下がより好ましい。
　窒素含有光吸収層２２２の厚さは、上記物性の項目（１）～（６）を所定の範囲内とできる厚さであれば特に制限されない。そのために、窒素含有光吸収層２２２の厚さは、１０ｎｍ超であり、２０～６０ｎｍが好ましく、２５～５０ｎｍがより好ましい。なお、上記好ましい範囲は、図４に示す積層膜付き透明基板１０Ｃのように、透明基板１１側から順に、透明導電層２２１および窒素含有光吸収層２２２が形成されている場合である。上に示した透明導電層２２１の厚さも該積層順における好ましい厚さである。
　透明導電層２２１および窒素含有光吸収層２２２が透明基板１１側から窒素含有光吸収層２２２、透明導電層２２１の順で形成されている場合は、窒素含有光吸収層２２２の厚さは、１０ｎｍ超であり、２０～６０ｎｍが好ましく、２５～５０ｎｍがより好ましい。また、この場合、透明導電層２２１の厚さは、１０～２００ｎｍが好ましく、５０～１５０ｎｍがより好ましい。
　図５は、図４に示す積層膜付き透明基板１０Ｃにおいて透明基板１１上に積層膜１２Ｃの代わりに積層膜１２Ｄが成膜された構成の積層膜付き透明基板１０Ｄの断面図を示す。積層膜１２Ｄは、透明基板１１側から順に、透明導電層２２１、窒素含有光吸収層２２２および誘電体層２２３が成膜されて構成されている。積層膜１２Ｄは、誘電体層２２３以外は、積層膜１２Ｃと同様とできる。
　誘電体層２２３は、積層膜１２Ｄの機械的耐久性、化学的耐久性を向上させ、窒素含有光吸収層２２２が雰囲気中の酸素によって酸化されることを抑制する機能を有する。誘電体層２２３としては、上記機能を有するものであれば特に制限されないが、例えば、アルミニウム、ホウ素等がドープされていてもよい窒化ケイ素、窒化アルミニウム等の金属窒化物、アルミニウム、ホウ素等がドープされていてもよい酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム等の金属酸窒化物、スズ亜鉛酸化物等の金属酸化物等から選ばれる金属化合物を含む誘電体で構成できる。
　窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、アルミニウムおよび／またはホウ素がドープされた窒化ケイ素または酸窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウム、スズ亜鉛酸化物から選ばれる少なくとも１種を主体とする誘電体層２２３が好ましい。上記誘電体である金属化合物は１種を単独で用いて、または２種以上を併用して、誘電体層２２３を形成してもよい。
　誘電体層２２３は、アルミニウムおよび／またはホウ素等がドープされていてもよい窒化ケイ素を主体とする材料で構成されることが好ましい。この場合、誘電体層２２３は、例えば、上記図２に示す積層膜付き透明基板１０Ａにおける第１の窒化ケイ素層１２１、第２の窒化ケイ素層１２５と同様の材料構成とすることができる。
　誘電体層２２３の厚さは、上記物性の項目（１）～（６）を所定の範囲内とできる厚さであれば特に制限されない。誘電体層２２３の厚さは、具体的には、２０～８０ｎｍが好ましく、３０～７０ｎｍがより好ましい。
　図５に示す積層膜付き透明基板１０Ｄにおいては、透明基板１１側から順に、透明導電層２２１、窒素含有光吸収層２２２および誘電体層２２３が形成されている。上記積層膜付き透明基板１０Ｃと同様、積層膜付き透明基板１０Ｄにおいても、上記積層膜を構成する各層は、適度な可視光透過率を有するとともに、高遮熱性、低断熱性および高演色性を達成できるのであれば、透明基板１１側から窒素含有光吸収層２２２、透明導電層２２１および誘電体層２２３の順で形成されてもよい。
　積層膜付き透明基板における積層膜が、透明導電層、窒素含有光吸収層および誘電体層を有する場合、積層膜における上記３層の積層順は、透明基板側から順に透明導電層、窒素含有光吸収層および誘電体層とすることが好ましい。このような積層膜とすることで、透明基板側の反射光の色調を透明導電層の膜厚により調整でき、積層膜側の反射光の色調を誘電体層の膜厚により調整できるという利点を有する。
　なお、図示しないが、積層膜１２Ｃや積層膜１２Ｄには、上記した各層に加えて、必要に応じて、かつ本発明の趣旨に反しない限度において、他の層を成膜してもよい。例えば、透明基板１１と透明導電層２２１との間、透明導電層２２１と窒素含有光吸収層２２２との間、窒素含有光吸収層２２２と誘電体層２２３との間に、バリア層等として機能する金属層、酸化物層、窒化物層、炭化物層、またはこれらの複合化合物層を設けてもよい。具体的には、チタン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、クロム、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、またはスズ等の元素を含有する金属層、これらの元素の酸化物層、窒化物層、炭化物層、または複合化合物層が挙げられる。
　図４に示す積層膜付き透明基板１０Ｃおよび図５に示す積層膜付き透明基板１０Ｄは例えば、以下の方法で製造できる。
　積層膜付き透明基板１０Ｃ、１０Ｄは、透明基板１１の表面を清浄化処理した後、この表面に各層の前駆層を成膜した後、熱処理を施すことで得られる。成膜方法は、特に限定されず、上記積層膜付き透明基板１０Ａ、１０Ｂにおいて例示したのと同様の方法が適用できる。
　例えばスパッタリング法によって透明導電層２２１の前駆層を形成する場合、透明導電性金属酸化物のターゲットを用い、通常の処理条件で透明導電層２２１の前駆層を形成することができる。スパッタガス種、反応温度、反応時間を調整することで厚さを調整することができる。同様にして、窒素含有光吸収層２２２の前駆層を形成する。さらに、積層膜付き透明基板１０Ｄにおいては同様に誘電体層２２３の前駆層を形成する。
　次いで、上記積層前駆層付き透明基板を熱処理する。熱処理温度は５５０～７５０℃が好ましく、６００～７５０℃がより好ましく、６００～７２０℃が特に好ましい。熱処理がこのような温度の場合、透明基板としてはガラス基板が用いられ、積層膜付き透明基板１０Ｃ、１０Ｄとして、十分な信頼性を持って強化されたものが得られるという効果を奏する。
　上記熱処理温度はまた１５０～４５０℃であってもよい。この場合、１５０～３５０℃がより好ましく、１５０～３００℃が特に好ましい。熱処理がこのような温度の場合、透明基板としては樹脂基板を用いることも可能である。また、透明基板がガラス基板の場合、強化はできないが、低温処理なので安価な装置を用いることができるという効果を奏する。
　熱処理時間は、熱処理温度が５５０～７５０℃の場合には、１～３０分間が好ましい。熱処理温度が１５０～４５０℃の場合には、熱処理時間は、１５分間～４時間が好ましい。熱処理方法は特に限定されない。例えば大気中に設置した加熱炉で上記前駆層付き透明基板を加熱する方法が挙げられる。すなわち、熱処理工程では、気密な構造の加熱炉を用いて、例えば酸化性ガスを含まない不活性ガス雰囲気や真空雰囲気などに制御された雰囲気下で熱処理を行わなくてもよい。それにより、簡単な構造の加熱炉を用いることができて好ましい。
　以上、本発明の実施形態について説明したが、これらの実施形態は例として提示したものであり、発明の範囲を限定しない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。例えば、積層膜付き透明基板は、建築物用に好適であるが、必ずしも建築物用に限られず、適用可能な限度において自動車等の車両用に用いることもできる。
　以下、実施例および比較例によって、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
（実施例１）
　透明基板としての厚さ３．０ｍｍのソーダライムガラス板（旭硝子株式会社製、ＦＬ３、可視光透過率；９０．４％）を準備し、その一方の主面上に、スパッタリング法により、表３に示す膜構成および厚さとなるように各膜を成膜して、透明基板上に積層膜を有する積層膜付き透明基板Ａを製造した。表３において、透明基板、積層膜の各膜は左から積層順に記載されている。各膜は構成材料と括弧内の数字で示す厚さ（単位は全て［ｎｍ］である）で表示した。
　成膜にはインライン型スパッタ装置を使用し、スパッタ室に、１０質量％のアルミニウムを含有するケイ素ターゲット、８０質量％のニッケルを含有するニッケルクロムターゲット、およびパラジウムを１質量％含有する銀パラジウムターゲット、および炭素ターゲットを設置した。
　このインライン型スパッタ装置に洗浄したソーダライムガラス板を導入し、ロードロック室において真空度が２×１０－６Ｔｏｒｒ以下になるまで真空排気した。続いて、ソーダライムガラス板をスパッタ室に導入し、第１の窒化ケイ素層としてアルミニウムを含有する窒化ケイ素層（ＳｉＮｘ：Ａｌ層）、第１のクロム含有層としてニッケルクロム合金層（ＮｉＣｒ層）、金属層として銀パラジウム合金層（ＡｇＰｄ層）、第２のクロム含有層としてニッケルクロム合金層（ＮｉＣｒ層）、および第２の窒化ケイ素層としてアルミニウムを含有する窒化ケイ素層（ＳｉＮｘ：Ａｌ層）を順に成膜して積層膜とした。各層の成膜条件は以下に示す通りである。なお、成膜圧力はいずれも３～５ｍＴｏｒｒとした。また、各層の膜厚の調整はスパッタ時間を調整することにより行った。
　第１および第２の窒化ケイ素層（ＳｉＮｘ：Ａｌ層）は、１０質量％のアルミニウムを含有するケイ素ターゲットを使用して、導入ガスを流量比で窒素／アルゴン＝３／７、パワー密度を３．６Ｗ／ｃｍ２として成膜を行った。
　第１および第２のクロム含有層としてのニッケルクロム合金層（ＮｉＣｒ層）は、８０質量％のニッケルを含有するニッケルクロムターゲットを使用して、導入ガスをアルゴン１００％、パワー密度を０．４Ｗ／ｃｍ２として成膜を行った。
　銀パラジウム合金層（ＡｇＰｄ層）は、銀を９９質量％、パラジウムを１質量％含有する銀パラジウムターゲットを使用して、導入ガスをアルゴン１００％、パワー密度を０．７Ｗ／ｃｍ２として成膜を行った。
（実施例２）
　透明基板として、厚さが６．０ｍｍのソーダライムガラス板（旭硝子株式会社製、ＦＬ６、可視光透過率；８９．４％）を用意し、このガラス基板を洗浄後、基板ホルダーにセットした。
　Ｉｎ２Ｏ３とＳｎＯ２との総量に対してＳｎＯ２含有量が１０質量％である複合酸化物焼結体ターゲット（以下、「ＩＴＯ複合酸化物焼結体ターゲット」ともいう。）および金属Ｔｉターゲット、１０質量％のアルミニウムを含む珪素ターゲット（以下、ＳｉＡｌターゲットとする）を、間欠直流マグネトロンスパッタを行うカソードに取り付けた。なお、間欠周期はＯＮ時間を５μｓ、ＯＦＦ時間を４５μｓとした。
　次に、成膜室内を真空に排気した後、間欠直流マグネトロンスパッタ法により、ＩＴＯ複合酸化物焼結体ターゲットを用いて、厚さが９６ｎｍのＩＴＯ層をガラス基板上に形成した。ここでスパッタガスとしてアルゴンのみを用い、スパッタ時の圧力は３ｍＴｏｒｒとした。成膜されたＩＴＯ層の組成はターゲットと同等であった。なお、スパッタガスに少量の酸素を導入した。
　次に、間欠直流マグネトロンスパッタ法で、金属Ｔｉターゲットを用いて厚さが３３ｎｍの窒化チタン層（ＴｉＮｘ層）をＩＴＯ層上に形成した。スパッタガスはアルゴンと窒素を用い、アルゴン／窒素の比率は１７／３とした。スパッタ時の圧力は、３ｍＴｏｒｒとした。
　次に、間欠直流マグネトロンスパッタ法で、ＳｉＡｌ（Ａｌ含有量；１０質量％）ターゲットを用いて厚さが５５ｎｍのＡｌドープ窒化ケイ素層（ＳｉＮｘ：Ａｌ層）を形成した。ここでスパッタガスとしてアルゴンと窒素を用い、アルゴン／窒素の比率は９／７とした。スパッタ時の圧力は、３ｍＴｏｒｒとした。
　なお、いずれの層の成膜時にも、ガラス基板の加熱は行わなかった。得られた前駆層付きガラス板に風冷強化処理、すなわち、電気焼成炉で、大気中、６５０℃、５分間の熱処理を施し、積層膜付き透明基板Ｂを得た。なお、表３には、熱処理前の積層膜の構成を示す。
（実施例３）
　実施例２において、前駆層付きガラス基板として、ＩＴＯ層の厚さを７２ｎｍ、窒化チタン層の厚さを４２ｎｍ、Ａｌドープ窒化ケイ素層の厚さを５９ｎｍとした前駆層付きガラス基板を作製した以外は、実施例２と同様にして積層膜付き透明基板Ｃを得た。
（実施例４）
　実施例２において、前駆層付きガラス基板として、ＩＴＯ層の厚さを１３１ｎｍ、窒化チタン層の厚さを３２ｎｍ、Ａｌドープ窒化ケイ素層の厚さを４０ｎｍとした前駆層付きガラス基板を作製した以外は、実施例２と同様にして積層膜付き透明基板Ｄを得た。
（比較例１）
　透明基板として、厚さが３．０ｍｍのソーダライムガラス板（旭硝子株式会社製、ＦＬ３）を用い、該透明基板上に実施例１と同様のスパッタ装置により、Ａｌドープ酸化亜鉛層（Ａｌ：ＺｎＯ層）、実施例１と同様の銀パラジウム合金層（ＡｇＰｄ層）、Ａｌドープ亜鉛犠牲層（Ａｌ：Ｚｎ）、Ａｌドープ酸化亜鉛層（Ａｌ：ＺｎＯ層）、をその順に表３に示す厚さとなるように成膜し、積層膜付き透明基板Ｅを得た。
　なお、Ａｌドープ酸化亜鉛層（Ａｌ：ＺｎＯ層）はいずれも、２質量％のアルミニウムを含有する亜鉛アルミ金属ターゲットを使用して、成膜圧力が４．５ｍＴｏｒｒとなるように二酸化炭素ガスを導入し、パワー密度を３．６Ｗ／ｃｍ２として成膜した。また、Ａｌドープ亜鉛犠牲層（Ａｌ：Ｚｎ）は、２質量％のアルミニウムを含有する亜鉛アルミ金属ターゲットを使用して、成膜圧力が４ｍＴｏｒｒとなるようにアルゴンを導入し、パワー密度を０．１Ｗ／ｃｍ２として成膜した。ここで、Ａｌドープ亜鉛犠牲層は、その上に形成されるＡｌドープ酸化亜鉛層（Ａｌ：ＺｎＯ層）の成膜時に、該層に包含されてそれ自体は残らない層である。
（比較例２）
　実施例２において、前駆層付きガラス基板として、ＩＴＯ層の厚さを９６ｎｍ、窒化チタン層の厚さを５ｎｍ、Ａｌドープ窒化ケイ素層の厚さを５５ｎｍとした前駆層付きガラス基板を作製した以外は、実施例２と同様にして積層膜付き透明基板Ｆを得た。
（比較例３）
　透明基板として、厚さが６．０ｍｍの緑色の熱線吸収ガラス板（旭硝子株式会社製、可視光透過率；６９．０％、表３中において「ＴＧ」と示す。）を作製する際に、ガラスを製造するフロートライン上に設置したＣｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（ＣＶＤ）装置にて、ＳｉＯＣ層（８０ｎｍ）、ＳｂドープＳｎＯ２（Ｓｂ：Ｓｎ（質量比）＝３：９７）層（３２０ｎｍ）をその順に成膜し、積層膜付き透明基板Ｇを得た。
（比較例４）
　透明基板として、厚さが６．０ｍｍのソーダライムガラス板（旭硝子株式会社製、ＦＬ６）を用い、該透明基板上に実施例２と同様のスパッタ装置により、窒化ケイ素層（１０ｎｍ）、窒化クロム層（１０ｎｍ）、窒化ケイ素層（２０ｎｍ）をその順に成膜し、積層膜付き透明基板Ｈを得た。
　次に、実施例および比較例の積層膜付き透明基板Ａ～Ｈについて、以下の評価を行った。結果を表４に示す。
（光学特性）
　日立分光光度計（Ｕ－３１００型）を使用して積層膜付き透明基板の分光測定を行った。ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して、熱貫流率（Ｕ値）、透明基板から光が入射する場合の日射熱取得率（η値）、可視光透過率（Ｔｖ）を求めた。また、ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性を求めた。さらに、可視光透過率（Ｔｖ）と日射熱取得率（η値）から、選択係数（Ｔｖ／（η値×１００））を算出した。
（耐久性；耐汗試験）
　ＩＳＯ１２８７０に準じて耐汗試験を行った。すなわち、密閉容器中に人工汗液を注入するとともに、この密閉容器中に人工汗液から２５ｍｍ離して積層膜付き透明基板を配置した後、密閉状態にして５５±５℃で３日間保持した。なお、人工汗液は、乳酸５０ｇ／Ｌ、および塩化ナトリウム１００ｇ／Ｌを含有する水溶液である。その後、密閉容器から積層膜付き透明基板を取り出して、積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察し、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数を目視で計測し、以下の基準で評価した。評価基準は、欠点数の範囲を１～５の評点で表す方法とした。以下の評価基準では「評点；欠点数の範囲」として示す。
＜評価基準＞
５；欠点数が１０１個以上
４；欠点数が５１～１００個
３；欠点数が３１～５０個
２；欠点数が６～３０個
１；欠点数が０～５個
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 （括弧内は膜厚を示す。単位はすべて［ｎｍ］である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　３０…窓ガラス、１０…積層膜付き透明基板、１１…透明基板、１２…積層膜、
　１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ…積層膜付き透明基板
　１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ……積層膜
　１２１…第１の窒化ケイ素層、１２２…第１のクロム含有層、１２３…銀を主体とする金属層、１２４…第２のクロム含有層、１２５…第２の窒化ケイ素層、１２６…保護層
　２２１…透明導電層、２２２…窒素含有光吸収層、２２３…誘電体層。

Claims (13)

  1. 　透明基板と前記透明基板上に成膜された積層膜を有する積層膜付き透明基板からなる窓ガラスであって、
    　前記積層膜が室内側の大気に露出した状態で使用され、
    　ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される熱貫流率（Ｕ値）が３．４～４．７Ｗ／ｍ２・Ｋ、日射熱取得率（η値）が０．１７～０．４４、および可視光透過率（Ｔｖ）が３５％以上であり、
    　ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上であり、
    　ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に前記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である窓ガラス。
  2. 　透明基板と前記透明基板上に成膜された積層膜を有する積層膜付き透明基板からなる窓ガラスであって、
    　前記積層膜が室内側の大気に露出した状態で使用され、
    　ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される日射熱取得率（η値）および可視光透過率（Ｔｖ）を用いて、Ｔｖ／（η値×１００）の式で算出される選択係数が１．１以上、かつ日射熱取得率（η値）が０．６０以下であり、
    　ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上であり、
    　ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に前記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である窓ガラス。
  3. 　前記積層膜が銀を主体とする金属層を含む請求項１または２に記載の窓ガラス。
  4. 　前記積層膜が透明導電層と窒素含有光吸収層とを含む請求項１または２に記載の窓ガラス。
  5. 　透明基板と前記透明基板上に成膜された積層膜を有し、
    　ＪＩＳ　Ｒ３１０６／３１０７（１９９８）に準拠して測定される熱貫流率（Ｕ値）が３．４～４．７Ｗ／ｍ２・Ｋ、前記積層膜側で測定される日射熱取得率（η値）が０．１７～０．４４、および可視光透過率（Ｔｖ）が３５％以上であり、
    　ＪＩＳ　Ｚ８７２６（１９９０）に準拠してＤ６５光源を使用し平均演色性評価数（Ｒａ）により評価される透過光の演色性が９０％以上である積層膜付き透明基板。
  6. 　ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に前記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である請求項５記載の積層膜付き透明基板。
  7. 　前記積層膜が銀を主体とする金属層を含む請求項５または６記載の積層膜付き透明基板。
  8. 　前記積層膜が透明導電層と窒素含有光吸収層とを含む請求項５または６記載の積層膜付き透明基板。
  9. 　透明基板と前記透明基板上に成膜された銀を主体とする金属層を含む積層膜を有し、
    　ＩＳＯ１２８７０に準拠した３日間の耐汗試験後に前記積層膜表面を顕微鏡（５０倍）で観察して計測される、１ｍｍ×１ｍｍの範囲における欠点数が５０以下である積層膜付き透明基板。
  10. 　前記金属層が、さらに、パラジウム、金、クロム、コバルトおよびニッケルから選ばれる少なくとも１種の金属を含む請求項９記載の積層膜付き透明基板。
  11. 　前記積層膜が、少なくとも前記金属層の透明基体と反対側に、窒化ケイ素を主体とする窒化ケイ素層をさらに有する請求項９または１０記載の積層膜付き透明基板。
  12. 　前記積層膜が、さらに、クロム、ニッケルクロム合金、クロムの部分窒化物、またはニッケルクロム合金の部分窒化物のいずれかからなる２層のクロム含有層を前記金属層に接するように有する請求項９～１１のいずれか１項記載の積層膜付き透明基板。
  13. 　複層ガラスまたは合わせガラスに用いられる請求項５～１２のいずれか１項に記載の積層膜付き透明基板。
PCT/JP2015/078786 2014-10-14 2015-10-09 窓ガラスおよび積層膜付き透明基板 WO2016060083A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MYPI2017701268A MY181691A (en) 2014-10-14 2015-10-09 Window glass and transparent substrate with stacked film

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-209906 2014-10-14
JP2014209906A JP6459374B2 (ja) 2014-10-14 2014-10-14 窓ガラスおよび積層膜付き透明基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016060083A1 true WO2016060083A1 (ja) 2016-04-21

Family

ID=55746629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/078786 WO2016060083A1 (ja) 2014-10-14 2015-10-09 窓ガラスおよび積層膜付き透明基板

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6459374B2 (ja)
MY (1) MY181691A (ja)
WO (1) WO2016060083A1 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019167900A1 (ja) * 2018-02-28 2019-09-06 Tdk株式会社 透明導電体、調光体及び透明発熱体
JP7476898B2 (ja) * 2019-07-25 2024-05-01 Ａｇｃ株式会社 積層体および積層体の製造方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62216943A (ja) * 1986-03-10 1987-09-24 ロイ　ジエラルド　ゴ−ドン ソ−ラ−遮へいフイルム用保護被覆
JPH0244046A (ja) * 1988-08-03 1990-02-14 Nippon Sheet Glass Co Ltd 青色乃至緑色の反射色を呈する透明板およびその製造方法
JPH0710609A (ja) * 1993-06-29 1995-01-13 Central Glass Co Ltd 熱遮断ガラスおよびそれを用いた複層ガラス
JPH08239245A (ja) * 1995-01-17 1996-09-17 Guardian Ind Corp スパッタ被覆ガラス製品及びその断熱ガラス・ユニット
JPH08268733A (ja) * 1994-12-15 1996-10-15 Guardian Ind Corp スパッタ被覆ガラス製品及びその断熱ガラス・ユニット
JPH09132435A (ja) * 1995-11-02 1997-05-20 Guardian Ind Corp スパッタ被覆ガラス製品並びに断熱ガラス・ユニット及びその製造方法
JP2000229378A (ja) * 1998-12-18 2000-08-22 Asahi Glass Co Ltd ガラス積層体、機能性透明物品およびその製造方法
JP2000281387A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 高遮熱・低放射ガラスと該高遮熱・低放射ガラスを使用したガラス物品
WO2006098285A1 (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Nippon Sheet Glass Company, Limited 温室、温室を使用した植物の栽培方法、及び透過性基板

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62216943A (ja) * 1986-03-10 1987-09-24 ロイ　ジエラルド　ゴ−ドン ソ−ラ−遮へいフイルム用保護被覆
JPH0244046A (ja) * 1988-08-03 1990-02-14 Nippon Sheet Glass Co Ltd 青色乃至緑色の反射色を呈する透明板およびその製造方法
JPH0710609A (ja) * 1993-06-29 1995-01-13 Central Glass Co Ltd 熱遮断ガラスおよびそれを用いた複層ガラス
JPH08268733A (ja) * 1994-12-15 1996-10-15 Guardian Ind Corp スパッタ被覆ガラス製品及びその断熱ガラス・ユニット
JPH08239245A (ja) * 1995-01-17 1996-09-17 Guardian Ind Corp スパッタ被覆ガラス製品及びその断熱ガラス・ユニット
JPH09132435A (ja) * 1995-11-02 1997-05-20 Guardian Ind Corp スパッタ被覆ガラス製品並びに断熱ガラス・ユニット及びその製造方法
JP2000229378A (ja) * 1998-12-18 2000-08-22 Asahi Glass Co Ltd ガラス積層体、機能性透明物品およびその製造方法
JP2000281387A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 高遮熱・低放射ガラスと該高遮熱・低放射ガラスを使用したガラス物品
WO2006098285A1 (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Nippon Sheet Glass Company, Limited 温室、温室を使用した植物の栽培方法、及び透過性基板

Also Published As

Publication number Publication date
MY181691A (en) 2021-01-01
JP6459374B2 (ja) 2019-01-30
JP2016079052A (ja) 2016-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6459373B2 (ja) 積層膜付き透明基板およびその製造方法
JP4965254B2 (ja) 反射防止膜を含む透明基板
JP5711158B2 (ja) 熱特性を有し高屈折率層を含む積重体を備えた基材
JP5395065B2 (ja) 器具用透明物
EP3004014B1 (en) Low-emissivity and anti-solar glazing
JP3974583B2 (ja) ニオブ−チタン層を有する薄膜コーティング
WO2014160357A1 (en) Color shift improvement after heat treatment
BRPI0618333A2 (pt) substrato notadamente substrato vìtreo transparente, vidraça incorporando pelo menos um substrato, e, processo de fabricação do substrato
JP2009514770A (ja) 熱的性質を有する多層コーティングを備えた基板
JP2005534528A (ja) 焼入れ可能な高遮光性コーティング
JPWO2014017448A1 (ja) 積層体
TW202020071A (zh) 含有光吸收材料之以塗層塗覆的物件
KR102565397B1 (ko) 저방사율 코팅, 그를 포함하는 유리 표면, 및 그를 제조하는 방법
WO2014109368A1 (ja) 光学多層膜、積層体、および複層ガラス
JP6092882B2 (ja) ＮｉＣｕ含有合金の層を含む日射調整グレージング
JP6853486B2 (ja) 日射遮蔽部材
JP6601419B2 (ja) 積層膜付きガラス板および複層ガラス
US11279650B2 (en) Heating device equipped with a door comprising a triple glazing
JP2019509245A (ja) 寒い気候における窓のための低放射率被覆
JP6459374B2 (ja) 窓ガラスおよび積層膜付き透明基板
KR20180007424A (ko) 저방사 유리
JP6703267B2 (ja) グレー色調低放射ガラス
KR102269782B1 (ko) 차폐성능이 향상된 열처리 가능한 저방사 유리 및 그 제조방법
JP6631686B2 (ja) 積層膜付き透明基板および窓ガラス
JP6767661B2 (ja) グレー色調低放射ガラス

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15850142

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15850142

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1