WO2023228715A1 - 熱線反射基板及び窓ガラス - Google Patents

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WO2023228715A1
WO2023228715A1 PCT/JP2023/017335 JP2023017335W WO2023228715A1 WO 2023228715 A1 WO2023228715 A1 WO 2023228715A1 JP 2023017335 W JP2023017335 W JP 2023017335W WO 2023228715 A1 WO2023228715 A1 WO 2023228715A1
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WO
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heat ray
pattern
ray reflective
axis direction
radio wave
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PCT/JP2023/017335
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English (en)
French (fr)
Inventor
康夫 森本
翔 熊谷
モーセン ユーセフベイキ
Original Assignee
Ａｇｃ株式会社
エージーシー グラス ユーロップ
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Filing date
Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/10—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
    • B32B3/14—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material characterised by a face layer formed of separate pieces of material which are juxtaposed side-by-side
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
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    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/26—Reflecting filters
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q15/00—Devices for reflection, refraction, diffraction or polarisation of waves radiated from an antenna, e.g. quasi-optical devices
    • H01Q15/14—Reflecting surfaces; Equivalent structures
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields

Definitions

  • the present invention relates to a heat ray reflective substrate and a window glass.
  • a substrate having a heat ray reflection function When a substrate having a heat ray reflection function is applied to a window glass, for example, high transparency to radio waves of a predetermined frequency is also required.
  • coating a substrate is a method of transmitting radio waves in the frequency band of several hundred MHz to several tens of GHz or more, such as those used in recent fourth generation mobile communication systems (4G) and fifth generation mobile communication systems (5G).
  • the heat ray reflective film may be partially removed by a method such as laser etching.
  • a periodic pattern consisting of a plurality of lines is formed in the area where there is no heat ray reflection film. It is known to remove the heat ray reflective film so as to form, for example, a parallel line shape or a lattice shape.
  • Patent Document 1 describes a method that can relatively quickly laser process a relatively wide area in one process, but the size of the area that can be laser processed in one process is limited to the entire area to be processed. may still be insufficient for its size. For this reason, when laser processing an area larger than that which can be processed in one process, a pattern formed to a predetermined size that can be processed in one process is formed multiple times and then Place it in a specific location. This allows a continuous pattern to be formed over the entire desired area, like so-called patchwork.
  • Patent Document 2 discloses that a first lattice plane is connected to a closed comb-shaped structure of a second lattice plane through an open comb-shaped structure, thereby eliminating a double line-like shift in the overlapping region. It is stated that areas where the coating has not been removed are blocked.
  • Patent Document 2 when forming parallel linear patterns, for example, it is difficult to suppress discontinuities between multiple patterns formed in different processes, and there is freedom in the patterns that can be selected. There are limits to the degree.
  • the present invention provides a heat ray reflective substrate that has a high degree of freedom in pattern selection that can be formed by a portion without a heat ray reflective film in a radio wave transparent region, and has excellent reliability by suppressing pattern discontinuity;
  • An object of the present invention is to provide a window glass including the heat ray reflective substrate.
  • a heat ray reflective substrate comprising a dielectric substrate and a heat ray reflective film on at least one main surface of the dielectric substrate, having a radio wave transparent region on at least a portion of the at least one main surface in plan view;
  • the radio wave transparent region includes a first repeating pattern formed by a slit portion in which no heat ray reflective film is present;
  • the first repeating pattern includes at least two first unit patterns extending along the first axis direction, Each of the first unit patterns includes a first line portion extending in the first axis direction; a first connecting part located at at least one end of the first line part and connected to another first unit pattern of the at least two first unit patterns;
  • the first connecting portion includes a portion extending in a second axial direction different from the first axial direction, and at least a portion of the first connecting portion is connected to the first line portion.
  • the heat ray reflective substrate according to 1 wherein the angle ⁇ (°) between the first axis direction and the second axis direction is 10° ⁇ 120°. 3. 3. The heat ray reflective substrate according to 1 or 2, wherein the first connection portions are located at both ends of the first line portion. 4. 4. The heat ray reflective substrate according to any one of 1 to 3, wherein the radio wave transparent region includes a plurality of the first repeating patterns arranged in parallel. 5. 4. The heat ray reflective substrate according to 4 above, wherein the interval between the first repeating patterns is 100 ⁇ m to 10 mm. 6. 6. The heat ray reflective substrate according to 4 or 5, wherein the first connection portion is not connected to another adjacent first repeating pattern. 7.
  • the length of the component of the first connection part perpendicular to the first axis direction is 10% to 80% of the interval between the first repeating patterns.
  • the radio wave transparent region further includes a second repeating pattern formed by slits, The second repeating pattern includes at least two second unit patterns along a third axis direction different from the first axis direction, Each of the second unit patterns includes a second line portion extending in the third axis direction; a second connecting part located at at least one end of the second line part and connected to another second unit pattern among the at least two second unit patterns; 9.
  • the second connecting portion includes a portion extending in a fourth axial direction different from the third axial direction, and at least a portion thereof is connected to the second line portion.
  • heat ray reflective board 10. 10. The heat ray reflective substrate according to 9, wherein the angle ⁇ (°) between the third axis direction and the fourth axis direction is 10° ⁇ 120°. 11. 11. The heat ray reflective substrate according to 9 or 10, wherein the second connection portions are located at both ends of the second line portion. 12. 12. The heat ray reflective substrate according to any one of 9 to 11, wherein the radio wave transparent region includes a plurality of the second repeating patterns arranged in parallel. 13. 13. 13. The heat ray reflective substrate as described in 12 above, wherein the interval between the second repeating patterns is 100 ⁇ m to 10 mm. 14. 14. 14.
  • the radio wave transparent area includes a rectangular pattern formed from the two adjacent first repeating patterns arranged in parallel and the two second repeating patterns arranged adjacent to each other in parallel, and 17.
  • the present invention it is possible to more reliably connect a plurality of patterns that can be formed in different processes with respect to various patterns that can be formed in a portion where no heat ray reflective film is present.
  • a heat ray reflective substrate that has a high degree of freedom in selecting a pattern that can be formed in a radio wave transparent region and has excellent reliability by suppressing discontinuity in the pattern, and a window glass that includes the heat ray reflective substrate.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating one embodiment of the present heat ray reflective substrate.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating one embodiment of the present heat ray reflective substrate.
  • FIG. 3 is a diagram schematically explaining a method of forming a continuous pattern.
  • FIG. 4 is a diagram schematically explaining simulation conditions.
  • FIG. 5 is a diagram showing simulation results for pattern 1.
  • FIG. 6 is a diagram showing the simulation results of pattern 2.
  • FIG. 7 is a diagram showing the simulation results of pattern 3.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating an embodiment of the first repeating pattern.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating a grid pattern.
  • FIG. 10 is a diagram schematically illustrating a pattern matching the size of a unit processing area.
  • the heat ray reflective substrate according to the present embodiment is a heat ray reflective substrate comprising a dielectric substrate and a heat ray reflective film on at least one main surface of the dielectric substrate.
  • a first repeating pattern having a radio wave transparent region on at least a portion of the at least one main surface in a plan view, the radio wave transparent region being formed by a slit portion in which no heat ray reflective film is present;
  • the first repeating pattern includes at least two first unit patterns extending in the first axial direction, and each of the first unit patterns includes a first line portion extending in the first axial direction; a first connection part located at at least one end of the first line part and connected to another first unit pattern of the at least two first unit patterns, the first connection part being connected to the first unit pattern of the first unit pattern; It includes a portion extending in a second axial direction different from the first axial direction, and at least a portion thereof is connected to the first line portion.
  • FIG. 1 and 2 are diagrams illustrating one embodiment of the present heat ray reflective substrate.
  • A) of FIG. 1 is a top view of the heat ray reflective substrate
  • (B) is an enlarged view of the cross section taken along line XX in (A)
  • (C) is an enlarged view of region Y1 in (A).
  • the heat ray reflective substrate 10 illustrated in FIG. 1 includes a dielectric substrate 11 and a heat ray reflective film 13 on at least one main surface of the dielectric substrate 11.
  • a radio wave transparent region A is provided in at least a portion of the at least one main surface in a plan view.
  • the radio wave transparent region A includes a slit portion 14 in which the heat ray reflective film 13 does not exist.
  • the radio wave transparent area refers to an area that has radio wave transparency due to the formation of a predetermined pattern using slits.
  • a substantially parallel line pattern formed by the slit portions 14 is formed over the entire main surface provided with the heat ray reflective film. Therefore, in the example of FIG. 1, the radio wave transparent region A is the entire main surface provided with the heat ray reflective film 13 in plan view.
  • a part of the main surface on which the heat ray reflective film 13 is formed may be used as the radio wave transparent region A.
  • the slit portion 14 forms a substantially parallel linear pattern in which a plurality of first repeating patterns described later are arranged in parallel.
  • FIGS. 1A and 1B, FIGS. 2 and 3 the specific shapes of each first repeating pattern are omitted and are simply shown as parallel lines.
  • the slit portion is formed by laser etching, for example, there is often a limit to the size of the area that can be laser processed in one process. Therefore, by forming a pattern multiple times to match the size of a unit processing area (hereinafter simply referred to as "unit processing area") that can be processed in a single process and arranging it continuously, a continuous pattern can be created. will be formed.
  • unit processing area a unit processing area
  • a pattern is formed in each of the unit processing areas Za, Zb, and Zc in different steps.
  • a continuous pattern can be formed within these three areas.
  • Za, Zb, and Zc patterns are similarly formed within the unit processing region and the continuous arrangement is repeated to form a continuous pattern within the desired region.
  • the pattern forming position that is, the position where the unit processing area is arranged. Therefore, during processing, it is necessary to take into account that some deviation will occur in the pattern forming position.
  • the inventors of the present invention found that the shape of the pattern formed by the slit portion includes a predetermined repeating pattern, thereby making it easier to distinguish between multiple patterns formed in different processes. They have discovered that the connection can be made reliably, and have completed the present invention. According to the present heat ray reflective substrate, the discontinuity of the pattern in the radio wave transparent region is suppressed, so that the reliability is excellent.
  • the pattern being interrupted means that the physical continuity of the slit portions is interrupted.
  • excellent reliability means that unintentional discontinuities in the pattern due to misalignment of the pattern formation position are suppressed, thereby making it difficult to impair the radio wave transparency of the radio wave transparent region.
  • the present heat ray reflective substrate it is possible to obtain the effect of improving reliability with respect to relatively various pattern shapes, so that the degree of freedom in pattern selection according to desired characteristics etc. can be increased.
  • a heat ray reflective substrate will be explained in more detail.
  • the heat ray reflective substrate 10 illustrated in FIGS. 1 and 2 includes the dielectric substrate 11 and the heat ray reflective film 13 on at least one main surface of the dielectric substrate 11.
  • a radio wave transparent region A is provided in at least a portion of the at least one main surface in a plan view.
  • the radio wave transparent area A includes a first repeating pattern 15 formed by slit portions 14 in which no heat ray reflective film 13 is present.
  • the slit portion is a portion where at least no heat ray reflective film is present in a plan view of the heat ray reflective substrate, and is defined by the heat ray reflective film. In other words, the slit portion may not be covered with the heat ray reflective film, and the dielectric substrate may be exposed. Alternatively, the slit portion may be provided with a film (other film) other than the heat ray reflective film described below on the dielectric substrate.
  • the width of the slit portion can be adjusted as appropriate depending on the desired radio wave transmittance, the device for forming the slit portion, etc., but for example, it is preferably 20 ⁇ m or more, and more preferably 30 ⁇ m or more due to constraints on the processing process. On the other hand, the width of the slit portion is preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 100 ⁇ m or less, and even more preferably 60 ⁇ m or less from the viewpoint of visibility and heat insulation.
  • FIG. 1C is an enlarged view of region Y1 in FIG. 1A, and is a diagram illustrating the configuration of the first repeating pattern.
  • the first repeating pattern 15 includes at least two first unit patterns 151a and 151b extending along the first axis direction. Each of the first unit patterns is located at at least one end of the first line portions 154a and 154b extending in the first axis direction, and is different from the at least two first unit patterns. and first connecting portions 155a and 155b connected to the first unit pattern.
  • the first connection portion connects the first unit patterns
  • the first connection portion 155a is connected to another first unit pattern 151b
  • the first connection portion 155b is connected to another first unit pattern. 151a.
  • the first connecting portions 155a, 155b each include a portion extending in a second axial direction different from the first axial direction, at least a portion of the first connecting portion 155a is connected to the first line portion 154a, and the first connecting portion 155a is connected to the first line portion 154a. At least a portion of the section 155b is connected to the first line section 154b. This means that in one first unit pattern, the first line portion and the first connection portion are formed without interruption.
  • One first repeating pattern may correspond to one line extending along the first axis direction, if an ideal continuous pattern is used.
  • a short line extending along the first axis direction is formed in multiple steps. It is possible to make them consecutive.
  • it is difficult to form one ideal line without interruption Even if you intentionally try to overlap the pattern formation positions, if a positional deviation larger than the width of the slit occurs along the direction perpendicular to the first axis direction, the line will easily be interrupted. It ends up.
  • each of the first unit patterns has a first line portion extending in the first axis direction, and at least a portion thereof is connected to the first line portion, and the first unit pattern extends in the first axis direction.
  • the first connecting portion includes a portion extending in a second axial direction different from the second axial direction. Since the first connection part includes a part extending in the second axis direction, even if the pattern formation position shifts in various directions, it can easily absorb the shift, so heat ray reflection that suppresses pattern discontinuity can be achieved. A substrate is obtained.
  • the first repeating pattern has a configuration in which the first unit patterns are connected via the first connecting portion along the first axis direction, it is not possible to form an ideal single line itself.
  • this embodiment by appropriately connecting the patterns, good radio wave transparency can be ensured in the radio wave transparent region. This is explained from the following simulation results.
  • FIG. 4 is a diagram schematically explaining simulation conditions.
  • TM waves radio waves
  • a grid-like pattern is formed.
  • a lattice-like pattern is formed by overlapping an ideally continuous parallel line pattern including a plurality of straight lines extending along the X-axis direction and a pattern including straight lines extending along the Y-axis direction perpendicular to the parallel line pattern. ing.
  • one straight line extending along the Y-axis direction is interrupted by the lattice pattern being shifted by 50 ⁇ m in the X-axis direction near the midpoint of the straight line, and is divided into two lines.
  • An ideally continuous parallel line pattern including a plurality of straight lines extending along the X-axis direction and one first repeating pattern extending along the Y-axis direction perpendicular to the parallel line pattern are formed.
  • FIG. 5 is a diagram showing the simulation results of pattern 1, in which (A) is a diagram showing the configuration of pattern 1, and (B) is a diagram showing the radio wave transmission characteristics of pattern 1.
  • FIG. 6 is a diagram showing the simulation results of pattern 2, in which (A) is a diagram showing the configuration of pattern 2, and (B) is a diagram showing the radio wave transmission characteristics of pattern 2.
  • FIG. 7 is a diagram showing the simulation results of pattern 3, in which (A) is a diagram showing the configuration of pattern 3, and (B) is a diagram showing the radio wave transmission characteristics of pattern 3.
  • (B) of FIG. 5, (B) of FIG. 6, and (B) of FIG. 7 each show the radio wave transmittance for each frequency according to the value of ⁇ in for X-axis direction polarization.
  • Table 1 shows the amount of radio wave transmission at 28 GHz for each pattern and each incident angle ⁇ in .
  • This performance is equivalent to that of an ideal continuous parallel line pattern.
  • pattern 2 where there is a break in the pattern formed along the Y-axis direction, radio waves are more likely to be reflected and radio wave transparency decreases, but the pattern formed along the Y-axis direction is properly connected.
  • Pattern 3 can have good radio wave transparency.
  • the first repeating pattern includes at least two first unit patterns extending along the first axis direction.
  • the first axis direction may be, for example, any linear direction on the surface on which the pattern is formed.
  • the first axis direction may be adjusted depending on the desired radio wave to be transmitted, and is preferably a direction perpendicular to the polarization plane of the desired radio wave, for example.
  • the heat ray reflective substrate is stood perpendicular to the ground and the first axis direction is horizontal to the ground, it will have high radio wave transparency for vertically polarized radio waves. Easy to obtain.
  • the first axial direction may be a direction along an arbitrary curve as long as it does not impede the effects of the present invention.
  • the first repeating pattern may be composed only of first unit patterns having the same shape, or may be composed of a plurality of types of first unit patterns having mutually different shapes.
  • each first unit pattern along the first axis direction is not particularly limited, but may be, for example, equal to or less than the maximum length of the unit processing area along the first axis direction.
  • the first unit pattern includes a first line portion extending in the first axis direction.
  • the first line portion is a portion that mainly constitutes lines along the first axis direction in the first repeating pattern. Therefore, the ratio of the length of the first line portion to the length of the first unit pattern along the first axis direction is preferably 90% or more, more preferably 95% or more. The ratio of the length of the first line portion to the length of the first unit pattern is 100% or less.
  • the first unit pattern includes a first connection part located at at least one end of the first line part and connected to another first unit pattern among the at least two first unit patterns.
  • the first connecting portion includes a portion extending in a second axial direction different from the first axial direction, and at least a portion thereof is connected to the first line portion. Similar to the first axis direction, the second axis direction may be any straight line direction or any direction along any curved line on the surface on which the pattern is formed, as long as it is a direction different from the first axis direction. .
  • each of the first unit patterns included therein is All of the "second axial directions" in one connection part do not need to be in the same direction. That is, in one first unit pattern or one first repeating pattern, a plurality of first connection parts having mutually different directions corresponding to the second axis direction may coexist.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating an embodiment of the first repeating pattern, and (A) to (D) are diagrams each illustrating an embodiment of the first unit pattern. (E) to (H) in FIG. 8 are diagrams each illustrating a form in which a plurality of first unit patterns illustrated in (A) to (D) are connected via a first connection portion.
  • first unit patterns 51a, 51b, 51c, and 51d include first line portions 54a, 54b, 54c, and 54d, first connection portions 55a, 55b, 55c, and 55d, respectively.
  • the first unit patterns 51a, 51b and 51d include first connection parts 55a, 55b and 55d at both ends of the first line parts 54a, 54b and 54d, respectively.
  • the first unit pattern 51c includes a first connection portion 55c at one end of the first line portion.
  • the angle ⁇ (°) between the first axial direction and the second axial direction is preferably 10° ⁇ 120°.
  • the angle formed by the first axial direction and the second axial direction is the angle formed by the imaginary straight line extending the first line part in the first axial direction and the first connecting part in the second axial direction.
  • it refers to the smaller angle, that is, the angle whose angle is greater than 0° and less than or equal to 180°.
  • (A) of FIG. 8 is a diagram illustrating a case where ⁇ is 90°
  • (B) is a diagram illustrating a case where ⁇ is 45°.
  • the range is 10° ⁇ 90°, even more preferably 10° ⁇ 80°, particularly preferably 15° ⁇ 60°, and even more particularly preferably 15° ⁇ 45°. .
  • ⁇ is within the above range, the portion of the first connecting portion that extends in the second axis direction tends to have a well-balanced component that is parallel to the first axis direction and a component that is parallel to the direction perpendicular thereto. This makes it easier to absorb shifts in pattern formation positions in various directions.
  • ⁇ is less than 90°, it is easy to prevent the slits from being crowded in the connection area between the first connection part and another first unit pattern connected thereto, and radio wave transmission It can improve the aesthetic appearance of the sexual area.
  • the angles formed by the respective connecting parts may be the same or different, but as described later, the first unit pattern is axially symmetrical or rotationally symmetrical. It is preferable to set it symmetrically. That is, it is preferable that the angle ⁇ is the same.
  • the first connection parts are at both ends of the first line part.
  • the first connection portions are at both ends of the first line portion.
  • the connecting area has two first connection parts that can easily absorb deviations in the pattern forming position. This makes it easier to absorb shifts in pattern formation positions in various directions.
  • the radio wave transparent region includes a plurality of first repeating patterns arranged in parallel.
  • one first repeating pattern can correspond to one line extending along the first axis direction.
  • the radio wave transparent region includes a plurality of first repeating patterns arranged in parallel, a plurality of lines arranged in parallel, that is, a pattern corresponding to a shape of parallel lines can be formed.
  • a plurality of first repeating patterns 15 are arranged in parallel.
  • the plurality of first repeating patterns arranged in parallel may be composed only of first repeating patterns having the same shape, or may be composed of a plurality of types of first repeating patterns having mutually different shapes.
  • the interval between the first repeating patterns is preferably 100 ⁇ m to 10 mm.
  • the radio wave transparent region includes a periodic pattern of slits, by adjusting the period, radio waves having a desired frequency or the like can be selectively transmitted. Therefore, the interval between the first repeating patterns can be adjusted as appropriate depending on the characteristics of the radio waves to be transmitted. As an example, when it is desired to transmit a high frequency band of several hundred MHz to 100 GHz, the interval between the first repeating patterns is preferably 100 ⁇ m or more, more preferably 200 ⁇ m or more, and even more preferably 300 ⁇ m or more.
  • the spacing is preferably 10 mm or less, more preferably 4000 ⁇ m or less, even more preferably 2000 ⁇ m or less, and particularly preferably 1000 ⁇ m or less.
  • the interval between the first repeating patterns refers to the average distance between the first line portions in each of the first repeating patterns in the direction perpendicular to the first axis direction.
  • the radio wave transparent region includes a plurality of first repeating patterns arranged in parallel, it is preferable that the first connecting portion is not connected to another adjacent first repeating pattern. As a result, the length of the first repeating pattern in the direction perpendicular to the first axis direction is suppressed, so that the shape of the first repeating pattern can be more ideally approximated as a continuous single line.
  • the length of the component perpendicular to the first axis direction of the first connection portion is preferably 10% to 80% of the interval between the first repeating patterns.
  • the ratio of such lengths is more preferably 20% or more, and even more preferably 25% or more.
  • the shape of the first repeating pattern can be more ideally approximated as a continuous single line.
  • the size of the first connecting portion can be kept below a certain level, the amount of coverage of the heat ray reflective film in the radio wave transparent region can be relatively increased. This contributes to improving the heat ray reflectivity of the heat ray reflective substrate and improving the formation efficiency of the slit portion.
  • This ratio is more preferably 50% or less, further preferably 45% or less, particularly preferably 40% or less.
  • the length of the component of the first connection part perpendicular to the first axis direction refers to the length indicated by H in FIG. 8B, for example.
  • the above ratio will be further explained assuming the following pattern. That is, in a plan view of the heat ray reflective substrate, there are a plurality of first repeating patterns in which the first unit pattern 51b in FIG. Assume that they are aligned in parallel due to repetition.
  • the reference pattern may have one adjacent first repeating pattern above and below the reference pattern.
  • the first connection portion 55b of the first unit pattern 51b included in the reference pattern has a component perpendicular to the first axis direction above the first line portion 54b, but does not have the component below.
  • the ratio of the length of the component perpendicular to the first axis direction to the distance between the first repeating pattern adjacent to the upper side is expressed as H/(distance between the first repeating pattern adjacent to the upper side) .
  • this ratio is 0 for the first repeating pattern adjacent to the bottom.
  • the first unit patterns 51d in FIG. It can be said that they are on both sides of the direction perpendicular to one axis (up and down direction).
  • the ratio is within the above range.
  • the length of the component perpendicular to the first axis direction of the first connection part depends on the specific size of the interval between the first repeating patterns, but is preferably from 100 ⁇ m to 1000 ⁇ m, for example, from the same viewpoint as the above ratio. That is, the length of the component perpendicular to the first axis direction is preferably 100 ⁇ m or more, and more preferably 200 ⁇ m or more. Further, the length of the component perpendicular to the first axis direction of the first connection portion is preferably 1000 ⁇ m or less, more preferably 700 ⁇ m or less, and even more preferably 400 ⁇ m or less, for example.
  • the first unit pattern is preferably axially symmetrical or rotationally symmetrical.
  • the expression that the first unit pattern is axially symmetrical means that when the first unit pattern is reversed about a certain straight line, the figure before and after the reversal remains unchanged.
  • the fact that the first unit pattern is rotationally symmetrical means that when the first unit pattern is rotated by 180 degrees around a certain point of symmetry as the center of symmetry, the figure before and after the rotation remains unchanged.
  • the first unit patterns shown in FIGS. 8B and 8D are both axially symmetrical. Furthermore, the first unit patterns shown in FIGS. 8A and 8D are rotationally symmetrical.
  • the first unit patterns have such symmetry, it is easy to connect the first unit patterns even if the device or the heat ray reflective substrate is rotated when forming the first repeating pattern. Furthermore, as shown in FIGS. 8(E), (F), and (H), when first unit patterns that are axially symmetric or rotationally symmetric are connected, the shapes of these connection regions also have symmetry. The appearance of the radio wave transparent area can be improved.
  • the radio wave transparent region further includes a second repeating pattern formed by slit portions depending on the desired pattern shape.
  • the second repeating pattern includes at least two second unit patterns along a third axis direction different from the first axis direction, and each of the second unit patterns extends in the third axis direction. a second line portion; and a second connection portion located at at least one end of the second line portion and connected to another second unit pattern among the at least two second unit patterns;
  • the second connecting portion includes a portion extending in a fourth axial direction different from the third axial direction, and at least a portion thereof is connected to the second line portion.
  • the second repeating pattern is similar to the first repeating pattern except that the repeating direction is along the third axis direction, which is different from the first axis direction.
  • the third axial direction is also defined in the same way as the first axial direction, except that it is a different direction from the first axial direction. Therefore, a preferable aspect of the second repeating pattern is the same as the above-described first repeating pattern when read as follows. That is, for the first repeating pattern, the first unit pattern, the first line part, and the first connection part, "first" may be read as "second", and the first axis direction may be read as the third axis direction. The second axis direction may be read as the fourth axis direction. Preferred embodiments of the second repeating pattern are also illustrated below.
  • the angle ⁇ (°) between the third axis direction and the fourth axis direction is preferably 10° ⁇ 120°, more preferably 10° ⁇ 90°, and even more preferably 10° ⁇ 80°. Preferably, 15° ⁇ 60° is particularly preferred, and 15° ⁇ 45° is even more particularly preferred.
  • ⁇ is within the above range, the portion of the second connecting portion extending in the fourth axis direction tends to have a well-balanced component parallel to the third axis direction and a component parallel to the direction perpendicular thereto. This makes it easier to absorb shifts in pattern formation positions in various directions.
  • ⁇ is less than 90°, it is easy to prevent the slits from being crowded in the connection area between the second connection part and another second unit pattern connected thereto, and radio wave transmission It can improve the aesthetic appearance of the sexual area.
  • the angle ⁇ (°) between the first axis direction and the second axis direction and the angle ⁇ between the third axis direction and the fourth axis direction. (°) is preferably within the above range.
  • the second connecting portions are located at both ends of the second line portion. This makes it easier to absorb shifts in pattern formation positions in various directions.
  • the first connecting portion or the second connecting portion may be present at both ends of at least one of the first line portion and the second line portion. preferable.
  • the radio wave transparent region includes a plurality of second repeating patterns arranged in parallel.
  • a plurality of lines arranged in parallel that is, a pattern corresponding to parallel lines can be formed by the second repeating pattern.
  • the radio wave transparent region includes a first repeating pattern and a second repeating pattern
  • the radio wave transparent region includes at least one of a plurality of first repeating patterns arranged in parallel and a plurality of second repeating patterns arranged in parallel. It is preferable.
  • the interval between the second repeating patterns can be adjusted as appropriate depending on the characteristics of the radio waves to be transmitted, but is preferably 100 ⁇ m to 10 mm, for example. .
  • the interval between the first repeating patterns is preferably 100 ⁇ m or more, more preferably 200 ⁇ m or more, and even more preferably 300 ⁇ m or more.
  • the spacing is preferably 10 mm or less, more preferably 4000 ⁇ m or less, even more preferably 2000 ⁇ m or less, and particularly preferably 1000 ⁇ m or less.
  • the radio wave transparent region includes a plurality of first repeating patterns arranged in parallel and a plurality of second repeating patterns arranged in parallel
  • at least one of the intervals between the first repeating patterns and the intervals between the second repeating patterns is as described above.
  • the range is within the range.
  • the second connecting portion is not connected to another adjacent second repeating pattern.
  • the length of the second repeating pattern in the direction perpendicular to the third axis direction is suppressed, so that the shape of the second repeating pattern can be more ideally approximated as a continuous single line.
  • the length of the component of the second connection part perpendicular to the third axis direction is preferably 10% to 80% of the interval between the second repeating patterns.
  • This ratio is 10% or more, the size of the connecting portion is likely to be sufficient, and deviations in the pattern forming position can be more easily absorbed.
  • the ratio of such lengths is more preferably 20% or more, and even more preferably 25% or more.
  • the ratio is 80% or less, the shape of the second repeating pattern can be more ideally approximated as a continuous single line.
  • the size of the second connecting portion can be kept below a certain level, the amount of coverage of the heat ray reflective film in the radio wave transparent region can be relatively increased. This contributes to improving the heat ray reflectivity of the heat ray reflective substrate and improving the formation efficiency of the slit portion.
  • This ratio is more preferably 50% or less, further preferably 45% or less, particularly preferably 40% or less.
  • the radio wave transparent region includes a plurality of first repeating patterns arranged in parallel and a plurality of second repeating patterns arranged in parallel, in at least one of the first repeating patterns, the first repeating pattern is It is preferable that the length of the component perpendicular to the first axis direction or the length of the component perpendicular to the third axis direction of the second connection portion with respect to the interval between the second repeating patterns is within the above range.
  • the second unit pattern is preferably axially symmetrical or rotationally symmetrical.
  • the second unit pattern has such symmetry, it is easy to connect the second unit pattern even if the device or the heat ray reflective substrate is rotated when forming the second repeating pattern.
  • the shapes of these connecting regions also tend to be symmetrical, and the aesthetic appearance of the radio wave transparent region can be improved.
  • the radio wave transparent region includes the first repeating pattern and the second repeating pattern
  • the radio wave transparent region includes both a plurality of first repeating patterns (first repeating pattern group) arranged in parallel and a plurality of second repeating patterns (second repeating pattern group) arranged in parallel, and
  • first repeating pattern group and the second repeating pattern group are formed so as to overlap with each other
  • the pattern in the overlapping region may be in a so-called lattice shape.
  • the pattern may be a grid shape in which squares or rectangles are periodically arranged.
  • the pattern may be in the form of a lattice in which parallelograms are periodically arranged.
  • FIG. 9A is a diagram illustrating a lattice pattern that can be formed on a radio wave transparent region when the first axis direction and the third axis direction intersect perpendicularly.
  • a first repeating pattern group 50 including a plurality of first repeating patterns 5 arranged in parallel and a second repeating pattern group 60 including a plurality of second repeating patterns 6 arranged in parallel. They are arranged so that they overlap with each other.
  • the radio wave transparent region includes a first repeating pattern and a second repeating pattern that intersects the first repeating pattern
  • the first connecting portion does not touch the second repeating pattern
  • the second connecting portion is Preferably, it does not touch the first repeating pattern.
  • the radio wave transparent area includes a rectangular pattern formed from two adjacent first repeating patterns arranged in parallel and two second repeating patterns arranged next to each other in parallel, the reason is the same as above. Therefore, it is preferable that the first connecting portion does not touch the second repeating pattern, and it is preferable that the second connecting portion does not touch the first repeating pattern. Moreover, in this case, it is more preferable that at least one of the first connection part and the second connection part is located at a midpoint of at least one side forming the quadrangle.
  • FIG. 9B is an enlarged view of region Y2 in FIG. 9A. For example, in (B) of FIG.
  • 6b forms a rectangular pattern S.
  • the second connecting portion 65 is located at the midpoint P1 of the side E1 forming the quadrilateral, and the first connecting portion 55 is located at the midpoint P2 of the side E2.
  • the quadrilateral has symmetry, so that the aesthetic appearance of the radio wave transparent region can be improved.
  • the first connection part is located at the midpoint of the side, if a straight line perpendicular to the side and passing through the midpoint of the side touches the first connection part included in the first unit pattern that constitutes the side. , means to intersect. The same applies to the second connection portion.
  • the shape etc. of each repeating pattern may be the same or different from each other.
  • the intervals between the first repeating patterns and the intervals between the second repeating patterns may be the same. may also be different. These can be adjusted as appropriate depending on desired radio wave transmission performance and other characteristics.
  • the radio wave transparent region may include slits other than those forming the first repeating pattern and the second repeating pattern, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the pattern may include a third repeating pattern including at least two third unit patterns extending along a fifth axis direction that is different from both the first and third axis directions.
  • the third repeating pattern may be defined similarly to the first repeating pattern and the second repeating pattern except for the repeating direction.
  • various patterns can be formed on the radio wave transparent region by variously changing the arrangement of the first repeating pattern and the second repeating pattern formed as necessary.
  • the patterns such as the parallel line shape, lattice shape, and circumferential shape, as exemplified above, can be formed.
  • the third repeating pattern, etc. it is possible to form a pattern in which triangles are arranged periodically and other various patterns.
  • the repetition period, lattice shape, etc. can be changed as appropriate. According to this embodiment, it is possible to obtain a heat ray reflective substrate that has excellent freedom in pattern selection, suppresses pattern discontinuity in each pattern, and has excellent reliability.
  • the dielectric substrate in this embodiment is not particularly limited as long as it is a dielectric substrate, but for example, a glass substrate such as soda lime glass, alkali-free glass, or quartz glass can be used.
  • the glass substrate may be subjected to physical strengthening treatment or chemical strengthening treatment. Further, the glass substrate may be composed of a single piece of glass, or may be composed of a plurality of glasses laminated with a resin film (resin film) interposed therebetween.
  • the dielectric substrate in this embodiment is not limited to a glass substrate, and may be, for example, a resin substrate (resin substrate), a composite substrate in which a resin substrate and a glass substrate are laminated, or the like.
  • the resin substrate include substrates made of acrylic resins such as polymethyl methacrylate, aromatic polycarbonate resins such as polyphenylene carbonate, aromatic polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), and the like.
  • Radio wave transmittance and heat ray reflection properties of the dielectric substrate in this embodiment are not particularly limited as long as the effects of the present invention are achieved, and depending on the physical properties required of the finally obtained heat ray reflective substrate, It may be adjusted as appropriate.
  • the following configuration is preferable, for example.
  • the specific gravity of the glass substrate is preferably 2.4 or more and 3.0 or less.
  • the Young's modulus of the glass substrate is preferably 60 GPa or more and 100 GPa or less.
  • the average coefficient of thermal expansion of the glass substrate from 50° C. to 350° C. is preferably 50 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or more and 120 ⁇ 10 ⁇ 7 /° C. or less. If a glass substrate satisfies these physical property requirements, it can be suitably used as a window material.
  • the shape of the dielectric substrate in this embodiment is also not particularly limited, and may be planar or curved. Further, the thickness of the dielectric substrate in this embodiment is not particularly limited, and can be adjusted as appropriate depending on desired strength, lightness, etc.
  • the heat ray reflective film is not particularly limited as long as it can provide the heat ray reflective substrate with a function of reflecting heat rays.
  • a typical example of a film that can provide a function of reflecting heat rays is a conductive film.
  • the term "conductive film” refers to a film having an electrical resistivity of 10 0 [ ⁇ cm] or less at 20° C., for example.
  • the components of the conductive film are not particularly limited, but for example, tin oxide (SnO 2 ) doped with at least one of silver, aluminum, indium tin oxide (ITO), fluorine, and antimony, which has excellent heat reflectivity.
  • the main component is preferably a metal such as F, Sb), titanium nitride, niobium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, and hafnium nitride (hereinafter also referred to as "conductive film component group A").
  • the term "main component” refers to a content of 50 atomic % or more based on all the constituent components. That is, the conductive film of this embodiment contains at least one member selected from the group consisting of conductive film component group A, and the total content of conductive film component group A in the conductive film of this embodiment is It is preferable that the amount is 50 atomic % or more.
  • the conductive film preferably contains at least one of silver and aluminum as the main component, and the conductive film has silver as the main component (i.e., 50% It is more preferable that the silver content be 95 atomic % or more, and even more preferable that the silver content be 95 atomic % or more.
  • the conductive film mainly composed of silver may contain one or more additive elements such as gold, palladium, copper, bismuth, neodymium, and platinum.
  • additive elements such as gold, palladium, copper, bismuth, neodymium, and platinum.
  • diffusion of silver can be suppressed and moisture resistance can be improved.
  • the additive elements are not limited to those exemplified above, and any element can be added as long as the effects of the present invention are achieved.
  • the thickness of the heat ray reflective film (conductive film) of this embodiment is not particularly limited, and the thickness of the heat ray reflective film (conductive film) is not particularly limited. It may be adjusted as appropriate depending on the nature, appearance, etc.
  • the thickness of the heat ray reflective film is usually 1 nm or more, preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, and even more preferably 6 nm or more. Further, the thickness is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and even more preferably 20 nm or less.
  • the heat ray reflective film may have only one layer (single layer), or may have multiple layers such as two or three layers, and if multiple layers exist, they may be adjacent in the thickness direction of the heat ray reflective film, Other layers may be interposed between the layers and separated from each other.
  • the total thickness may be within the above range.
  • the present heat ray reflective substrate may include a film different from the heat ray reflective film (another film) within the range where the effects of the present invention are achieved.
  • the present heat ray reflective substrate may include, for example, a metal oxide layer or a metal nitride layer, and preferably includes at least one of the metal oxide layer and the metal nitride layer.
  • the heat ray reflective film has a layer structure in which the conductive film is sandwiched between the above-mentioned other layers such as a metal oxide layer or a metal nitride layer.
  • the metal oxide layer includes a metal oxide layer whose main components are aluminum oxide, zinc oxide, indium oxide, titanium oxide, niobium oxide, tin oxide, bismuth oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, zirconium oxide, silicon oxide, etc. can be mentioned.
  • the metal oxide layer preferably contains zinc oxide as a main component because it has good compatibility with silver, which is a preferable component of the conductive film, and improves the durability of the conductive film.
  • the metal nitride layer include a metal nitride layer containing silicon nitride (Si 3 N 4 ), aluminum nitride (AlN), or the like as a main component.
  • the slit portion does not have at least a heat ray reflective film, but the slit portion may be provided with another film as long as the effects of the present invention are achieved.
  • the slit portion may not have a heat ray reflective film but may include another film.
  • the present heat ray reflective substrate preferably has the following characteristics.
  • the radio wave transparent region preferably transmits radio waves with a frequency of about several hundred MHz to several hundred GHz, for example, about 300 MHz to 300 GHz, more preferably about 3 GHz to 100 GHz, and even more preferably about 6 GHz to 40 GHz. It exhibits excellent transparency.
  • the radio wave transparent area can be set to a frequency range of, for example, 25 to 45 GHz, 3 to 6 GHz, 6 to 15 GHz, 50 to 350 GHz, or 50 to 45 GHz. It can exhibit excellent transparency to radio waves in various frequency bands such as 100 GHz.
  • transmission of radio waves of a predetermined frequency is not easily inhibited in the radio wave transparent region. This makes it easy to obtain a heat ray reflective substrate with radio wave transparency required for applications such as window glass.
  • the heat ray reflective substrate of this embodiment preferably has a radio wave transmission loss of 3 dB or less, more preferably 2 dB or less, and even more preferably 1 dB or less in the radio wave transparent region for radio waves with a frequency of 28 GHz.
  • the radio wave transmission loss for radio waves with a frequency of 79 GHz is similarly preferably 3 dB or less, more preferably 2 dB or less, and even more preferably 1 dB or less.
  • the radio wave transmission loss for radio waves with a frequency of 28 GHz (79 GHz) in the radio wave transparent region is calculated from the radio wave transmission loss for radio waves with a frequency of 28 GHz (79 GHz) of the entire heat ray reflective substrate in the radio wave transparent region. This is the value obtained by subtracting the radio wave transmission loss for radio waves (79 GHz).
  • Radio wave transmission loss refers to a value measured by, for example, a free space method. In this way, we have explained the radio wave transmission loss for radio waves with frequencies of 28 GHz and 79 GHz as an example, but the radio wave transmission loss similar to the above can occur not only in the 28 GHz band and 79 GHz band but also in the frequency band of several hundred MHz to 100 GHz. It is preferable that it be obtained.
  • the present heat ray reflective substrate has excellent heat ray reflectivity.
  • the heat ray reflectivity can be evaluated, for example, by the solar reflectance specified in JIS R3106 (1998).
  • the solar reflectance in the radio wave transparent region of the present heat ray reflective substrate is preferably 30% or more, more preferably 35% or more, and even more preferably 40% or more.
  • This heat ray reflective substrate is suitably used in applications that require heat ray reflectivity and radio wave transparency.
  • uses include window glass for architectural uses, vehicle uses, and the like.
  • this heat ray reflective substrate is suitable for window glass applications, where the area and maximum side length of the radio wave transparent area tend to be relatively large, and it is difficult to form a pattern on the radio wave transparent area in a single process. Therefore, it is more suitable for window glass for architectural use. That is, in the present heat ray reflective substrate or a window glass including the same, the maximum side length of the radio wave transparent region on the main surface is preferably, for example, 300 mm or more, and more preferably 500 mm or more.
  • the area of the radio wave transparent region on the main surface is preferably 900 cm 2 or more, and more preferably 2500 cm 2 or more, for example.
  • the present heat ray reflective substrate or a window glass equipped with the same tends to more effectively obtain the effects of the present invention when the area and maximum side length of the radio wave transparent region on the main surface are within the above ranges.
  • the area and maximum side length of the radio wave transparent region can be appropriately selected depending on the application, etc., and may be outside the above range.
  • the maximum side of a radio wave transparent area refers to the long side of a rectangular shape, or the long side of a rectangle circumscribing the shape if the area is a rectangle. Say something.
  • a window glass equipped with this heat ray reflective substrate has excellent reliability because discontinuities in the pattern of the radio wave transparent region are suppressed.
  • the shape of the pattern formed in the radio wave transparent area can be selected with a relatively high degree of freedom depending on the desired characteristics etc. can.
  • the present heat ray reflective substrate includes, for example, preparing a heat ray reflective substrate in which a heat ray reflective film is formed on at least one main surface of a dielectric substrate, and at least a portion of the at least one main surface in a plan view. It can be manufactured by a method including forming a radio wave transparent region by forming a slit portion in which no heat ray reflective film exists. In this method, the slit portions are formed such that the resulting radio wave transparent region includes at least the first repeating pattern formed by the slit portions.
  • the method for preparing a heat ray reflective substrate with a heat ray reflective film formed on at least one main surface of the dielectric substrate is not particularly limited, and a method using a commercially available product may be used. A method may also be used in which a heat ray reflective film is formed on the main surface.
  • the method of forming the heat ray reflective film on at least one main surface of the dielectric substrate is not particularly limited, and includes, for example, physical vapor deposition (vacuum deposition, ion plating, magnetron sputtering, etc.), chemical vapor deposition (thermal deposition, etc.) CVD method, plasma CVD method, optical CVD method, etc.), ion beam sputtering method, etc. can be used.
  • a direct current magnetron sputtering method, a direct current pulsed magnetron sputtering method, or an alternating current dual magnetron sputtering method is preferable because the uniformity of the thickness can be easily controlled and productivity is excellent.
  • the heat ray reflective film in this embodiment may be formed directly on the dielectric substrate or may be formed indirectly.
  • the method of indirectly forming the heat ray reflective film on the dielectric substrate is not particularly limited, but examples include a method of attaching a resin film on which the heat ray reflective film is formed to the dielectric substrate.
  • the heat ray reflective film 13 (including the radio wave transparent area A) is formed on the entire one main surface of the dielectric substrate 11, but only on a part of it. may be formed.
  • the method of forming a radio wave transparent area by forming a slit part is not particularly limited.
  • the heat ray reflective film is examples include a method in which a slit portion is formed by partially removing the heat ray reflective film, and a method in which a radio wave transparent region is obtained by forming a heat ray reflective film only on a predetermined portion on the dielectric substrate.
  • a method is preferred in which the heat ray reflective film is formed and then the heat ray reflective film is partially removed to form the slit portion.
  • methods for partially removing the heat ray reflective film include laser etching and photolithography, and from the viewpoint of cost and practicality, laser etching is preferred.
  • FIG. 10 is a diagram schematically illustrating a pattern matching the size of a unit processing area.
  • (A) in FIG. 10 is a diagram illustrating a "pattern tailored to the size of the unit processing area" when it is desired to form a parallel linear pattern in the radio wave transparent area.
  • the first unit pattern group 510 is preferably a first unit pattern group 510 in which a plurality of first unit patterns 51 are arranged in parallel within the region ZA.
  • FIG. 10B is a diagram illustrating a "pattern tailored to the size of the unit processing area" when it is desired to form a lattice pattern in the radio wave transparent area, and such a pattern is Preferably, it is a composite unit pattern group in which the pattern group 510 and a second unit pattern group 610 in which a plurality of second unit patterns 61 are arranged in parallel are overlapped. Although it depends on the desired pattern shape, in this way, a predetermined unit pattern group is formed in a unit processing area in a single process, and this process is performed multiple times to continuously form a unit pattern group.
  • the unit pattern group is axially symmetrical or rotationally symmetrical. Since the unit pattern groups are axially symmetrical or rotationally symmetrical, even if the substrate is rotated or the orientation is changed when consecutively arranging the unit pattern groups, further unit pattern groups can be arranged accordingly. Since it is not necessary to rotate or the number of rotations can be reduced, it is easy to form a continuous pattern.
  • connection end portion of the unit pattern group having the first connection portion or the second connection portion is connected to the connection end portion of another unit pattern group arranged adjacently. It is preferable to arrange them so that they overlap.
  • L1 and L2 each indicate the connection end portions of the first unit pattern group 510.
  • FIG. 10C is a diagram illustrating a case where two first unit pattern groups 510 are consecutively arranged. In (C) of FIG. 10, the connection end L1 of one first unit pattern group 510 is arranged so as to overlap the connection end L2 of the other first unit pattern group 510 that is arranged next to each other. has been done.
  • the overlap width W is preferably 50 ⁇ m or more, more preferably 100 ⁇ m or more, and even more preferably 200 ⁇ m or more from the viewpoint of suppressing pattern discontinuity.
  • W is preferably 2000 ⁇ m or less, more preferably 1000 ⁇ m or less, and even more preferably 500 ⁇ m or less.
  • the width at which the ends of two consecutive (connected to each other) first unit patterns in the first repeating pattern overlap is preferably the same as the overlapping width W described above. This also applies to the width where the ends of two consecutive second unit patterns in the second repeating pattern overlap.
  • the present heat ray reflective substrate can be obtained.
  • the unit pattern group exemplified above as a "pattern tailored to the size of the unit processing area” includes a plurality of first unit patterns and second unit patterns, but “patterns tailored to the size of the unit processing area”
  • the "pattern” may be of various types, such as being composed of only one first unit pattern, depending on the characteristics of the processing device or the desired pattern, for example.
  • the method for manufacturing the present heat ray reflective substrate is not limited to the method exemplified above, and may be modified as appropriate within the range where the effects of the present invention can be obtained.
  • First repeating pattern 50 First repeating pattern group 151a, 151b, 51, 51a, 51b, 51c, 51d First unit Patterns 154a, 154b, 54a, 54b, 54c, 54d First line portions 155a, 155b, 55, 55a, 55b, 55c, 55d First connection portion 510 First unit pattern group 6, 6a, 6b Second repeating pattern 60 2 repeated pattern group 65 2nd connection part 610 2nd unit pattern group A Radio wave transparent area Za, Zb, Zc, ZA, ZB Unit processing area

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Abstract

熱線反射基板（１０）は、誘電体基板（１１）と、その少なくとも一方の主面上に熱線反射膜（１３）とを備え、前記少なくとも一方の主面上の、平面視における少なくとも一部に電波透過性領域（Ａ）を有し、電波透過性領域（Ａ）は、熱線反射膜が存在しないスリット部（１４）により形成される第１繰り返しパターン（１５）を含み、第１繰り返しパターン（１５）は、第１軸方向に沿って伸びる少なくとも２つの第１単位パターン（１５１ａ、１５１ｂ）を含み、第１単位パターン（１５１ａ、１５１ｂ）のそれぞれは、第１軸方向に伸びる第１ライン部（１５４ａ、１５４ｂ）と、所定の構成を有する第１接続部（１５５ａ、１５５ｂ）とを含む。

Description

熱線反射基板及び窓ガラス
　本発明は、熱線反射基板及び窓ガラスに関する。
　近年、地球温暖化防止のために、エアコン等による冷房を控えるなど、電力消費量を低減させることが一般的に行われている。これに対応して、車両や建築物等の窓に熱線（赤外線）を反射させる機能を持たせることで、太陽光からの車内や屋内へ熱の取り込みを抑える試みがなされている。
　窓等に熱線反射機能を持たせる方法としては、例えば銀などの熱線反射機能を有する金属を含有する薄膜（熱線反射膜）を、ガラス等の基板上に形成する方法が挙げられる。
　熱線反射機能を有する基板を例えば窓ガラスに適用する場合、所定の周波数の電波に対する高透過性も求められる。例えば、近年の第４世代移動通信システム（４Ｇ）や第５世代移動通信システム（５Ｇ）において用いられるような数百ＭＨｚ～数十ＧＨｚ以上の周波数帯域の電波を透過させる方法として、基板をコーティングする熱線反射膜を、レーザーエッチング等の方法で部分的に除去することが挙げられる。
　なかでも、熱線反射機能を保持しつつ、所定の周波数等を有する電波を好適に透過させる方法として、熱線反射膜が存在しない部分が複数の線から構成される周期的なパターンを形成するように、例えば平行線状や格子状を形成するように、熱線反射膜を除去することが知られている。
　レーザーエッチングにより熱線反射膜を除去する場合、一般に、一回の工程でレーザー加工できる領域の大きさには制限がある。例えば特許文献１では、一回の工程で比較的広い領域を比較的迅速にレーザー加工し得る方法について記載されているものの、一回の工程でレーザー加工できる領域の大きさは、加工したい領域全体の大きさに対して依然として不十分な場合がある。このため、一回の工程で加工できる領域よりも大きな領域に対してレーザー加工する場合には、一回の加工で加工可能な所定の大きさに形成されたパターンを、複数回形成して連続的に配置する。これにより、いわゆるパッチワークのように、所望の領域全体に連続的なパターンを形成できる。
　このとき、電波透過性や美観を損なわないようにするため、互いに異なる工程で形成された複数のパターン同士のつなぎ目でパターンの途切れやずれが生じないことが理想的である。しかし、パターン形成位置の完全な制御は難しく、レーザー加工の際にはパターン形成位置に多少の誤差が生じることを考慮する必要がある。特に、パターンが途切れると電波透過性を損ないやすいため、これを抑制するために、パターン同士をできるだけ確実に接続することが求められる。
　これに対し、例えば格子状のパターンを形成する場合、互いに異なる工程で形成される複数の格子パターン同士を、一部重複させるように配置することで、電波透過性を損なうようなパターンの途切れを抑制し得る。特許文献２には、第１の格子面が、開いた櫛形構造を介して、第２の格子面の閉じられた櫛形構造に接続していることによって、重複領域における二重線のようなずれやコーティングを除去されていない領域が阻止されることが記載されている。
米国特許出願公開第２０１３／０２９５３００号明細書 日本国特開２０１７－１８６２５１号公報
　しかしながら、特許文献２に記載の技術では、例えば平行線状のパターンを形成する際に、互いに異なる工程で形成される複数のパターン同士の途切れを抑制することは困難であり、選択できるパターンの自由度に制限がある。
　そこで本発明は、電波透過性領域において、熱線反射膜が存在しない部分により形成され得るパターン選択の自由度が高く、かつ、パターンの途切れが抑制されることで信頼性に優れる熱線反射基板、及び当該熱線反射基板を備える窓ガラスを提供することを目的とする。
　本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、熱線反射膜が存在しない部分により電波透過性領域に形成されるパターンの形状を所定の構成とすることで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は以下の１～１９に関する。
１．誘電体基板と、前記誘電体基板の少なくとも一方の主面上に熱線反射膜とを備える熱線反射基板であって、
　前記少なくとも一方の主面上の、平面視における少なくとも一部に電波透過性領域を有し、
　前記電波透過性領域は、熱線反射膜が存在しないスリット部により形成される第１繰り返しパターンを含み、
　前記第１繰り返しパターンは、第１軸方向に沿って伸びる少なくとも２つの第１単位パターンを含み、
　前記第１単位パターンのそれぞれは、前記第１軸方向に伸びる第１ライン部と、
　前記第１ライン部の少なくとも一方の端部にあり、前記少なくとも２つの第１単位パターンのうち別の第１単位パターンに接続される第１接続部とを含み、
　前記第１接続部は、前記第１軸方向とは異なる第２軸方向へ伸びる部分を含み、少なくとも一部が前記第１ライン部と接続されている、熱線反射基板。
２．前記第１軸方向と、前記第２軸方向とのなす角度θ（°）が１０°≦θ≦１２０°である、前記１に記載の熱線反射基板。
３．前記第１接続部が、前記第１ライン部の両方の端部にある、前記１又は２に記載の熱線反射基板。
４．前記電波透過性領域は、平行に整列した複数の前記第１繰り返しパターンを含む、前記１～３のいずれか１に記載の熱線反射基板。
５．前記第１繰り返しパターン同士の間隔が１００μｍ～１０ｍｍである、前記４に記載の熱線反射基板。
６．前記第１接続部は、隣り合う別の第１繰り返しパターンに接続していない、前記４又は５に記載の熱線反射基板。
７．前記第１接続部の、前記第１軸方向に垂直な成分の長さが、前記第１繰り返しパターン同士の間隔に対して１０％～８０％である、前記４～６のいずれか１に記載の熱線反射基板。
８．前記第１単位パターンは、軸対称又は回転対称である、前記１～７のいずれか１に記載の熱線反射基板。
９．前記電波透過性領域は、スリット部により形成される第２繰り返しパターンをさらに含み、
　前記第２繰り返しパターンは、前記第１軸方向と異なる第３軸方向に沿って少なくとも２つの第２単位パターンを含み、
　前記第２単位パターンのそれぞれは、前記第３軸方向に伸びる第２ライン部と、
　前記第２ライン部の少なくとも一方の端部にあり、前記少なくとも２つの第２単位パターンのうち別の第２単位パターンに接続される第２接続部とを含み、
　前記第２接続部は、前記第３軸方向とは異なる第４軸方向へ伸びる部分を含み、少なくとも一部が前記第２ライン部と接続されている、前記１～８のいずれか１に記載の熱線反射基板。
１０．前記第３軸方向と、前記第４軸方向とのなす角度θ（°）が１０°≦θ≦１２０°である、前記９に記載の熱線反射基板。
１１．前記第２接続部が、前記第２ライン部の両方の端部にある、前記９又は１０に記載の熱線反射基板。
１２．前記電波透過性領域は、平行に整列した複数の前記第２繰り返しパターンを含む、前記９～１１のいずれか１に記載の熱線反射基板。
１３．前記第２繰り返しパターン同士の間隔が１００μｍ～１０ｍｍである、前記１２に記載の熱線反射基板。
１４．前記第２接続部は、隣り合う別の第２繰り返しパターンに接続していない、前記１２又は１３に記載の熱線反射基板。
１５．前記第２接続部の、前記第３軸方向に垂直な成分の長さが、前記第２繰り返しパターン同士の間隔に対して１０％～８０％である、前記１２～１４のいずれか１に記載の熱線反射基板。
１６．前記第２単位パターンは、軸対称又は回転対称である、前記９～１５のいずれか１に記載の熱線反射基板。
１７．前記電波透過性領域は、平行に整列して隣り合う２つの前記第１繰り返しパターンと、平行に整列して隣り合う２つの前記第２繰り返しパターンとから形成される四角形パターンを含み、前記四角形を形成する少なくとも一辺の中点に、前記第１接続部及び前記第２接続部の少なくとも一方が位置する、前記９～１６のいずれか１に記載の熱線反射基板。
１８．前記電波透過性領域は、周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢ以下である、前記１～１７のいずれか１に記載の熱線反射基板。
１９．前記１～１８のいずれか１に記載の熱線反射基板を備える窓ガラス。
　本発明によれば、熱線反射膜が存在しない部分により形成され得る様々なパターンについて、互いに異なる工程で形成され得る複数のパターン同士をより確実に接続できる。これにより、電波透過性領域に形成可能なパターン選択の自由度が高く、かつパターンの途切れが抑制されることで信頼性に優れる熱線反射基板及び当該熱線反射基板を備える窓ガラスを提供できる。
図１は、本熱線反射基板の一実施形態を例示する図である。 図２は、本熱線反射基板の一実施形態を例示する図である。 図３は、連続的なパターンを形成する方法を模式的に説明する図である。 図４は、シミュレーションの条件を模式的に説明する図である。 図５は、パターン１のシミュレーション結果を示す図である。 図６は、パターン２のシミュレーション結果を示す図である。 図７は、パターン３のシミュレーション結果を示す図である。 図８は、第１繰り返しパターンの実施形態を例示する図である。 図９は、格子状パターンを例示する図である。 図１０は、単位加工領域の大きさに合わせたパターンを模式的に例示する図である。
　以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施できる。また、数値範囲を示す「～」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。以下の図面において、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明することがあり、重複する説明は省略または簡略化することがある。また、図面に記載の実施形態は、本発明を明瞭に説明するために模式化されており、実際の製品のサイズや縮尺を必ずしも正確に表したものではない。本明細書において、「垂直」「平行」といった用語は、その定義を厳密に満足することを意図するものではなく、本発明の効果が得られる範囲において、多少の誤差があってもよい。例えば、ある直線Ａが他の直線Ｂに垂直又は平行であるという場合、当該直線Ａは、直線Ｂに対し厳密に垂直又は平行である場合と比べて、±２０°以内の傾きがあってもよい。
　本実施形態に係る熱線反射基板（以下、「本熱線反射基板」ともいう。）は、誘電体基板と、前記誘電体基板の少なくとも一方の主面上に熱線反射膜とを備える熱線反射基板であって、前記少なくとも一方の主面上の、平面視における少なくとも一部に電波透過性領域を有し、前記電波透過性領域は、熱線反射膜が存在しないスリット部により形成される第１繰り返しパターンを含み、前記第１繰り返しパターンは、第１軸方向に沿って伸びる少なくとも２つの第１単位パターンを含み、前記第１単位パターンのそれぞれは、前記第１軸方向に伸びる第１ライン部と、前記第１ライン部の少なくとも一方の端部にあり、前記少なくとも２つの第１単位パターンのうち別の第１単位パターンに接続される第１接続部とを含み、前記第１接続部は、前記第１軸方向とは異なる第２軸方向へ伸びる部分を含み、少なくとも一部が前記第１ライン部と接続されている。
　図１及び図２は、本熱線反射基板の一実施形態を例示する図である。図１の（Ａ）は熱線反射基板の上面図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＸ－Ｘ線における断面の拡大図であり、（Ｃ）は（Ａ）における領域Ｙ１の拡大図である。
　図１に例示される熱線反射基板１０は、誘電体基板１１と、誘電体基板１１の少なくとも一方の主面上に熱線反射膜１３とを備える。そして、上記少なくとも一方の主面上の、平面視における少なくとも一部に電波透過性領域Ａを有する。電波透過性領域Ａは、熱線反射膜１３が存在しないスリット部１４を備える。ここで、電波透過性領域とは、スリット部により所定のパターンが形成されることで電波透過性を有する領域のことをいう。図１の例では、スリット部１４により形成される実質的に平行線状のパターンが、熱線反射膜を備える主面の全面に形成されている。よって、図１の例では熱線反射膜１３を備える主面上の平面視における全部が電波透過性領域Ａである。一方で、図２に例示するように、熱線反射膜１３が形成された主面上の一部を電波透過性領域Ａとしてもよい。
　ここで、図１、図２及び後述する図３において、スリット部１４は、後述する第１繰り返しパターンを平行に複数整列させた、実質的に平行線状のパターンを形成している。ただし、図１の（Ａ）及び（Ｂ）、図２並びに図３では、各第１繰り返しパターンの具体的な形状を省略し、単に平行線として示している。
　前述の通り、スリット部が例えばレーザーエッチングにより形成される場合、一回の工程でレーザー加工可能な領域の大きさには制限があることが多い。そのため、一回の工程で加工可能な単位加工領域（以下、単に「単位加工領域」ともいう。）の大きさに合わせたパターンを複数回形成し、連続的に配置することで、連続したパターンを形成することとなる。図３は、この方法を模式的に説明する図である。誘電体基板の少なくとも一方の主面上に熱線反射膜１３を備える熱線反射基板１０ａにおいて、例えば、単位加工領域Ｚａ内、Ｚｂ内及びＺｃ内にそれぞれ異なる工程でパターン（スリット部１４）を形成しつつ、各単位加工領域を一部重複するように隣接させて連続的に配置すれば、これら３つの領域内に連続したパターンを形成できる。そして、Ｚａ、Ｚｂ及びＺｃ以外の領域についても、同様に単位加工領域内にパターンを形成し、連続的に配置することを繰り返して、所望の領域内に連続したパターンを形成できる。
　上述した通り、図３で例示した方法において、パターン形成位置、すなわち単位加工領域を配置する位置の完全な制御は難しい。よって、加工の際にはパターン形成位置に多少のずれが生じることを考慮する必要がある。これに対し、本発明者らは鋭意検討の結果、スリット部により形成されるパターンの形状として、所定の繰り返しパターンを含む構成とすることで、互いに異なる工程で形成された複数のパターン同士をより確実に接続できることを見出し、本発明を完成するに至った。本熱線反射基板によれば、電波透過性領域におけるパターンの途切れが抑制されているため、信頼性に優れる。ここで、パターンが途切れるとは、スリット部の物理的な連続が途切れることをいう。また、信頼性に優れるとは、パターン形成位置のずれに起因する、パターンの意図しない途切れが抑制されることで、電波透過性領域の電波透過性を損ないにくいことをいう。本熱線反射基板によれば、比較的多様なパターン形状について信頼性を向上する効果が得られるため、所望の特性等に応じたパターン選択の自由度を高められる。以下、このような本熱線反射基板についてより詳細に説明する。
　（第１繰り返しパターン）
　先に述べた通り、図１及び図２に例示される熱線反射基板１０は、誘電体基板１１と、誘電体基板１１の少なくとも一方の主面上に熱線反射膜１３とを備える。そして、上記少なくとも一方の主面上の、平面視における少なくとも一部に電波透過性領域Ａを有する。電波透過性領域Ａは、熱線反射膜１３が存在しないスリット部１４により形成される第１繰り返しパターン１５を含む。
　スリット部は、熱線反射基板の平面視において少なくとも熱線反射膜が存在しない部分であり、熱線反射膜によって区画される。換言すれば、スリット部は熱線反射膜によって被覆されておらず、誘電体基板が露出した形態であり得る。または、スリット部は、誘電体基板上に後述する熱線反射膜以外の膜（その他の膜）を備える形態であってもよい。スリット部の幅は、所望の電波透過性や、スリット部を形成する装置等に応じて適宜調整できるが、例えば加工プロセスの制約から２０μｍ以上が好ましく、３０μｍ以上がより好ましい。一方で、スリット部の幅は、視認性と遮熱性の観点から２００μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましく、６０μｍ以下がさらに好ましい。
　図１の（Ｃ）は、（Ａ）における領域Ｙ１の拡大図であり、第１繰り返しパターンの構成を例示する図である。第１繰り返しパターン１５は、第１軸方向に沿って伸びる少なくとも２つの第１単位パターン１５１ａ、１５１ｂを含む。前記第１単位パターンのそれぞれは、前記第１軸方向に伸びる第１ライン部１５４ａ、１５４ｂと、前記第１ライン部の少なくとも一方の端部にあり、前記少なくとも２つの第１単位パターンのうち別の第１単位パターンに接続される第１接続部１５５ａ、１５５ｂとを含む。換言すれば、第１接続部は第１単位パターン同士を接続するものであり、第１接続部１５５ａは別の第１単位パターン１５１ｂに接続され、第１接続部１５５ｂは別の第１単位パターン１５１ａに接続されている。第１接続部１５５ａ、１５５ｂは、前記第１軸方向とは異なる第２軸方向へ伸びる部分をそれぞれ含み、第１接続部１５５ａの少なくとも一部は第１ライン部１５４ａと接続され、第１接続部１５５ｂの少なくとも一部は第１ライン部１５４ｂと接続されている。これは、１つの第１単位パターンにおいて、第１ライン部と第１接続部とが途切れずに形成されることを意味する。
　本熱線反射基板は、電波透過性領域がかかる第１繰り返しパターンを含むことで、パターンの途切れが抑制され、信頼性に優れたものとなる。１つの第１繰り返しパターンは、理想的に連続するパターンで例えれば、第１軸方向に沿って伸びる１本の線に相当し得る。第１軸方向に沿って伸びる１本の線を複数回の工程に分けて形成する場合、理想的には、第１軸方向に沿って伸びる短い線を、第１軸方向に沿って複数個連続させることが考えられる。しかしながら、パターン形成位置のずれを考慮すると、理想的な１本の線を途切れなく形成することは難しい。仮に、意図的にパターン形成位置を重複させようとした場合であっても、第１軸方向と垂直な方向に沿ってスリット部の幅よりも大きい位置ずれが生じれば、線は容易に途切れてしまう。これに対し、上述の第１繰り返しパターンは、第１単位パターンのそれぞれが、第１軸方向に伸びる第１ライン部とともに、少なくとも一部が当該第１ライン部に接続され、かつ、第１軸方向とは異なる第２軸方向へ伸びる部分を含む第１接続部を備える。第１接続部が第２軸方向へ伸びる部分を含むことで、パターン形成位置が種々の方向にずれた場合であってもそのずれを吸収しやすくなるので、パターンの途切れが抑制された熱線反射基板が得られる。
　なお、第１繰り返しパターンは、第１軸方向に沿って、第１接続部を介して第１単位パターンが接続される構成であるため、理想的な一本線そのものを形成することはできない。しかしながら、本実施形態においては、適切にパターンが接続されていることで、電波透過性領域において良好な電波透過性を確保し得る。このことは、次のシミュレーション結果から説明される。
　電波透過性領域に、スリット部により次のパターン１～３をＸ軸方向及びＹ軸方向にそれぞれ無限に繰り返したパターンが形成されていると仮定して、以下の条件でシミュレーションを行った。
　（条件）
　図４は、シミュレーションの条件を模式的に説明する図である。図４において、誘電体基板１１の一方の主面上に熱線反射膜１３及びスリット部１４を備える熱線反射基板１０の厚さ方向の断面図が例示される。この熱線反射基板１０に、ＸＺ面内に電界を持つ直線偏波の平面波が誘電体基板に対してＸＺ面内の角度θｉｎで入射する場合の電波（ＴＭ波）の通過特性（電波透過特性）をシミュレーションした。このとき、熱線反射膜の厚みを９ｎｍ、平行に隣り合うスリット部同士の間隔を１ｍｍ、スリット部の幅を５０μｍと仮定した。シミュレーションには、ＡＮＳＹＳ社製のソフトウェア「ＨＦＳＳ」を用いた。
　（パターン１）
　Ｘ軸方向に沿って伸びる複数の直線を含み、理想的に連続する平行線パターンと、これに直交するＹ軸方向に沿って伸び、理想的に連続する１本の直線を含むパターンとを重ねてなる格子状のパターンが形成されている。
　（パターン２）
　Ｘ軸方向に沿って伸びる複数の直線を含み、理想的に連続する平行線パターンと、これに直交するＹ軸方向に沿って伸びる直線を含むパターンとを重ねてなる格子状のパターンが形成されている。パターン２では、Ｙ軸方向に沿って伸びる１本の直線が、その中点付近を境にして格子状パターンがＸ軸方向に５０μｍずれることで途切れ、２本に分断されている。
　（パターン３）
　Ｘ軸方向に沿って伸びる複数の直線を含み、理想的に連続する平行線パターンと、これに直交するＹ軸方向に沿って伸びる１つの第１繰り返しパターンが形成されている。
　図５は、パターン１のシミュレーション結果を示す図であり、（Ａ）はパターン１の構成を示す図であり、（Ｂ）はパターン１の電波透過特性を示す図である。図６は、パターン２のシミュレーション結果を示す図であり、（Ａ）はパターン２の構成を示す図であり、（Ｂ）はパターン２の電波透過特性を示す図である。図７は、パターン３のシミュレーション結果を示す図であり、（Ａ）はパターン３の構成を示す図であり、（Ｂ）はパターン３の電波透過特性を示す図である。図５の（Ｂ）、図６の（Ｂ）及び図７の（Ｂ）はそれぞれ、Ｘ軸方向偏波について、θｉｎの値による周波数ごとの電波透過性を示す。各図において、負の値で表される電波透過量（ｄＢ）の値が小さいほど、すなわち、負の値の絶対値が大きい程、その条件での電波透過損失が大きく、電波透過特性に劣ることを意味する。表１には、各パターン及び各入射角θｉｎにおける２８ＧＨｚでの電波透過量を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　図５によれば、理想的に連続する平行線パターンであるパターン１では２８ＧＨｚでθｉｎ＝０°で－２．７ｄＢ、θｉｎ＝１５°で－３．０ｄＢの通過特性となった。そして、Ｙ軸方向に沿って伸びる直線がＸ軸方向にずれたことで直線が途中で途切れたパターン２の通過特性は、図６のように、２８ＧＨｚでθｉｎ＝０°で－４．１ｄＢ、θｉｎ＝１５°で－４．０ｄＢに劣化する結果となった。これに対して、接続部があることでＸ軸方向にずれがあった場合でもパターンが途切れないように形成されたパターン３では、図７のようにθｉｎ＝０°で－２．７ｄＢ、θｉｎ＝１５°で－３．０ｄＢの通過特性となった。これは、理想的に連続する平行線パターンの場合と同等の性能である。すなわち、Ｙ軸方向に沿って形成されたパターンに途切れがあるパターン２では、電波を反射しやすくなることで電波透過性が低下するものの、Ｙ軸方向に沿って形成されたパターンが適切に接続されているパターン３では、Ｙ軸方向に沿って形成されたパターンが理想的に連続するパターン１と同様に、良好な電波透過性を有し得る。
　以下、第１繰り返しパターンのより好ましい態様を詳述する。
　第１繰り返しパターンは、第１軸方向に沿って伸びる少なくとも２つの第１単位パターンを含む。第１軸方向とは、例えば、パターンが形成される面上の任意の直線方向であってよい。第１軸方向は、透過させたい所望の電波に応じて調整されてもよく、例えば、所望の電波の偏波面に対して直交する方向であることが好ましい。より具体的な例として、熱線反射基板を地面に対して垂直に立てるとともに、第１軸方向を地面に対して水平方向となるようにすると、垂直偏波の電波に対して高い電波透過性が得られやすい。第１軸方向は、本発明の効果を妨げない範囲において、任意の曲線に沿った方向であってもよい。第１繰り返しパターンは、同じ形状の第１単位パターンのみから構成されてもよく、互いに形状の異なる複数種の第１単位パターンから構成されてもよい。
　第１単位パターン１つあたりの、第１軸方向に沿った長さは特に限定されないが、例えば、単位加工領域の第１軸方向に沿った最大長さと同等か、それ以下であり得る。
　第１単位パターンは、第１軸方向に伸びる第１ライン部を含む。第１ライン部は、第１繰り返しパターンにおいて、第１軸方向に沿った線を主に構成する部分である。したがって、第１軸方向に沿った、第１単位パターンの長さに対する第１ライン部の長さの割合は９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。第１単位パターンの長さに対する第１ライン部の長さの割合は１００％以下である。
　第１単位パターンは、第１ライン部の少なくとも一方の端部にあり、前記少なくとも２つの第１単位パターンのうち別の第１単位パターンに接続される第１接続部を含む。第１接続部は、第１軸方向とは異なる第２軸方向へ伸びる部分を含み、少なくとも一部が前記第１ライン部と接続されている。第２軸方向は、第１軸方向とは異なる方向であれば、第１軸方向と同様に、パターンが形成される面上の任意の直線方向または任意の曲線に沿った方向であってよい。また、第１ライン部の両端に第１接続部が位置する場合や、第１繰り返しパターン内に、互いに異なる複数の形状の第１単位パターンが混在する場合において、それに含まれる１つ１つの第１接続部における「第２軸方向」の全てが同一方向である必要はない。すなわち、１つの第１単位パターンや、１つの第１繰り返しパターンにおいて、第２軸方向に相当する方向が互いに異なる複数の第１接続部が混在していてもよい。
　図８は、第１繰り返しパターンの実施形態を例示する図であり、（Ａ）～（Ｄ）はそれぞれ、第１単位パターンの実施形態を例示する図である。図８の（Ｅ）～（Ｈ）はそれぞれ、（Ａ）～（Ｄ）に例示される第１単位パターンを複数個、第１接続部を介して接続した形態を例示する図である。図８の（Ａ）～（Ｄ）において、第１単位パターン５１ａ、５１ｂ、５１ｃ、及び５１ｄは、第１ライン部５４ａ、５４ｂ、５４ｃ、及び５４ｄ、並びに第１接続部５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、及び５５ｄをそれぞれ含む。第１単位パターン５１ａ、５１ｂ及び５１ｄは、第１ライン部５４ａ、５４ｂ及び５４ｄの両端に第１接続部５５ａ、５５ｂ及び５５ｄをそれぞれ備える。第１単位パターン５１ｃは、第１ライン部の一端に第１接続部５５ｃを備える。
　第１軸方向と、第２軸方向とのなす角度θ（°）は、１０°≦θ≦１２０°が好ましい。本明細書において、第１軸方向と、第２軸方向とのなす角とは、第１ライン部を第１軸方向へ伸ばした仮想直線と第２軸方向にある第１接続部とがなす角のうち、小さいほうの角、すなわち角度が０°超１８０°以下である角をいう。例えば、図８の（Ａ）は、θが９０°である場合を例示する図であり、（Ｂ）は、θが４５°である場合を例示する図である。また１０°≦θ≦９０°の範囲にあることがより好ましく、１０°≦θ≦８０°がさらに好ましく、１５°≦θ≦６０°が特に好ましく、１５°≦θ≦４５°がさらに特に好ましい。θが上記範囲にある場合、第１接続部の、第２軸方向へ伸びる部分は第１軸方向に平行な成分と、これに垂直な方向に平行な成分とを共にバランスよく有しやすい。これにより、様々な方向へのパターン形成位置のずれをより吸収しやすい。または、θが９０°未満であると、第１接続部とこれに接続される別の第１単位パターンとの接続領域において、スリット部が混み合って形成されるのを抑制しやすく、電波透過性領域の美観を向上できる。
　なお、第１ライン部の両端に接続部を有する場合、それぞれの接続部のなす角は、同じでもよいし違っていてもよいが、後述するように、第１単位パターンが、軸対称又は回転対称となるように設定することが好ましい。すなわち、同じ角度θとすることが好ましい。
　第１接続部は、第１ライン部の両方の端部にあることが好ましい。上述の通り、図８の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｄ）では、第１接続部は、第１ライン部の両方の端部にある。図８の（Ｅ）、（Ｆ）及び（Ｈ）に例示される通り、第１ライン部の両方の端部に第１接続部を備える第１単位パターン同士を接続させると、それらの接続領域には、パターン形成位置のずれを吸収しやすい第１接続部を２つ有することとなる。これにより、様々な方向へのパターン形成位置のずれをより吸収しやすい。
　電波透過性領域は、平行に整列した複数の第１繰り返しパターンを含むことが好ましい。上述の通り、理想的に連続するパターンで例えれば、１つの第１繰り返しパターンは第１軸方向に沿って伸びる１本の線に相当し得る。電波透過性領域が、平行に整列した複数の第１繰り返しパターンを含むことで、平行に整列した複数の線、すなわち平行線状に相当するパターンを形成し得る。例えば図１の（Ｃ）では、第１繰り返しパターン１５が平行に複数整列している。平行に整列した複数の第１繰り返しパターンは、同じ形状の第１繰り返しパターンのみから構成されてもよく、互いに形状の異なる複数種の第１繰り返しパターンを含んで構成されてもよい。
　電波透過性領域が平行に整列した複数の第１繰り返しパターンを含む場合、第１繰り返しパターン同士の間隔は、１００μｍ～１０ｍｍであることが好ましい。電波透過性領域がスリット部による周期的なパターンを含む場合、その周期を調整することによって、所望の周波数等を有する電波を選択的に透過させ得る。したがって、第１繰り返しパターン同士の間隔は、透過させたい電波の特性に応じて適宜調整できる。一例として、数百ＭＨｚ～１００ＧＨｚの高周波数帯を透過させたい場合には、第１繰り返しパターン同士の間隔は１００μｍ以上であることが好ましく、２００μｍ以上がより好ましく、３００μｍ以上がさらに好ましい。一方で、同様の観点から、間隔は１０ｍｍ以下が好ましく、４０００μｍ以下がより好ましく、２０００μｍ以下がさらに好ましく、１０００μｍ以下が特に好ましい。なお、第１繰り返しパターン同士の間隔とは、それぞれの第１繰り返しパターン中の第１ライン部間の、第１軸方向に直交する方向の距離の平均のことをいう。
　電波透過性領域が平行に整列した複数の第１繰り返しパターンを含む場合、第１接続部は、隣り合う別の第１繰り返しパターンに接続していないことが好ましい。これにより、第１繰り返しパターンの、第１軸方向と垂直な方向の長さが抑制されるため、第１繰り返しパターンの形状をより理想的に連続した一本線状に近いものとできる。
　第１接続部の、第１軸方向に垂直な成分の長さは、第１繰り返しパターン同士の間隔に対して１０％～８０％であることが好ましい。第１軸方向に垂直な成分の長さが第１繰り返しパターン同士の間隔に対して１０％以上であることで、接続部の大きさが十分なものとなりやすく、パターン形成位置のずれをより吸収しやすい。かかる長さの比率は２０％以上がより好ましく、２５％以上がさらに好ましい。一方で、比率が８０％以下であることで、第１繰り返しパターンの形状をより理想的に連続した一本線状に近いものとできる。また、第１接続部の大きさをある程度以下とできるので、電波透過性領域における熱線反射膜の被覆量を相対的に大きくできる。これは、熱線反射基板の熱線反射性の向上や、スリット部の形成効率向上に寄与する。かかる比率は５０％以下がより好ましく、４５％以下がさらに好ましく、４０％以下が特に好ましい。第１接続部の、第１軸方向に垂直な成分の長さとは、例えば図８の（Ｂ）において、Ｈで示される長さのことをいう。
　なお、上記比率について、次のようなパターンを仮定してさらに説明する。すなわち、熱線反射基板の平面視で、図８の（Ｂ）における第１単位パターン５１ｂを紙面の左右方向に沿って繰り返した第１繰り返しパターンが、紙面の上下方向に、所定の間隔で複数個繰り返されることで平行に整列していると仮定する。このうち１つの第１繰り返しパターンを基準パターンとすると、基準パターンは、その上側と下側に、隣り合う別の第１繰り返しパターンを１つずつ有し得る。基準パターンに含まれる第１単位パターン５１ｂの第１接続部５５ｂは、第１ライン部５４ｂからみて上側に、第１軸方向に垂直な成分を有するが、下側には当該成分を有しない。この場合、上側に隣り合う第１繰り返しパターンとの間隔に対する、第１軸方向に垂直な成分の長さの比率は、Ｈ／（上側に隣り合う第１繰り返しパターンとの間隔）で表される。一方で、下側に隣り合う第１繰り返しパターンに対しては、かかる比率は０である。このように、第１接続部の第１軸方向に垂直な成分が、第１ライン部からみて第１軸方向に垂直な方向（上下方向）の片側のみにある場合には、当該片側において隣り合う第１繰り返しパターンとの間隔に対する、第１軸方向に垂直な成分の比率が上記範囲内であるのが好ましい。一方で、図８の（Ｄ）の第１単位パターン５１ｄを同様に繰り返し整列させたと仮定した場合、第１接続部５５ｄの第１軸方向に垂直な成分が、第１ライン部５４ｄからみて第１軸方向に垂直な方向（上下方向）の両側にあるといえる。この場合は、上側に隣り合う第１繰り返しパターンとの間隔と、下側に隣り合う第１繰り返しパターンとの合計に対する、第１接続部５５ｄ全体の第１軸方向に垂直な成分の長さの比率が上記範囲内であるのが好ましい。
　第１接続部の第１軸方向に垂直な成分の長さは、第１繰り返しパターン同士の間隔の具体的な大きさにもよるが、例えば上記比率と同様の観点から１００μｍ～１０００μｍが好ましい。すなわち、第１軸方向に垂直な成分の長さは例えば１００μｍ以上が好ましく、２００μｍ以上がさらに好ましい。また、第１接続部の第１軸方向に垂直な成分の長さは、例えば１０００μｍ以下が好ましく、７００μｍ以下がより好ましく、４００μｍ以下がさらに好ましい。
　第１単位パターンは、軸対称又は回転対称であることが好ましい。第１単位パターンが軸対称であるとは、ある直線を軸として第１単位パターンを反転させた際に、反転前後の図形が不変であることをいう。第１単位パターンが回転対称であるとは、ある対称点を対称中心として第１単位パターンを１８０°回転させた際に、回転前後の図形が不変であることをいう。図８の（Ｂ）及び（Ｄ）にそれぞれ示す第１単位パターンは、いずれも軸対称である。また、図８の（Ａ）及び（Ｄ）にそれぞれ示す第１単位パターンは、いずれも回転対称である。第１単位パターンがこのような対称性を有することで、第１繰り返しパターンを形成する際に、装置や熱線反射基板を回転したとしても第１単位パターンを接続させやすい。また、図８の（Ｅ）、（Ｆ）及び（Ｈ）に示されるように、軸対称又は回転対称である第１単位パターン同士を接続した場合、これらの接続領域の形状も対称性を有するものとなりやすく、電波透過性領域の美観を向上できる。
　（第２繰り返しパターン）
　本熱線反射基板において、電波透過性領域は、所望のパターン形状に応じて、スリット部により形成される第２繰り返しパターンをさらに含むことが好ましい。ここで、前記第２繰り返しパターンは、前記第１軸方向と異なる第３軸方向に沿って少なくとも２つの第２単位パターンを含み、前記第２単位パターンのそれぞれは、前記第３軸方向に伸びる第２ライン部と、前記第２ライン部の少なくとも一方の端部にあり、前記少なくとも２つの第２単位パターンのうち別の第２単位パターンに接続される第２接続部とを含み、前記第２接続部は、前記第３軸方向とは異なる第４軸方向へ伸びる部分を含み、少なくとも一部が前記第２ライン部と接続されている。
　第２繰り返しパターンは、その繰り返し方向が第１軸方向と異なる第３軸方向に沿ったものであること以外は、第１繰り返しパターンと同様のものである。第３軸方向も、第１軸方向と異なる方向であること以外は、第１軸方向と同様に定義される。
　したがって、第２繰り返しパターンの好ましい態様は、上述した第１繰り返しパターンについて、次のような読み替えを行った場合と同様である。すなわち、第１繰り返しパターン、第１単位パターン、第１ライン部及び第１接続部は、それぞれ「第１」を「第２」と読み替えればよく、第１軸方向は第３軸方向と読み替えればよく、第２軸方向は第４軸方向と読み替えればよい。第２繰り返しパターンの好ましい態様は、以下にも例示される。
　第３軸方向と、第４軸方向とのなす角度θ（°）は、１０°≦θ≦１２０°が好ましく、１０°≦θ≦９０°がより好ましく、１０°≦θ≦８０°がさらに好ましく、１５°≦θ≦６０°が特に好ましく、１５°≦θ≦４５°がさらに特に好ましい。θが上記範囲にある場合、第２接続部の、第４軸方向へ伸びる部分は第３軸方向に平行な成分と、これに垂直な方向に平行な成分とを共にバランスよく有しやすい。これにより、様々な方向へのパターン形成位置のずれをより吸収しやすい。または、θが９０°未満であると、第２接続部とこれに接続される別の第２単位パターンとの接続領域において、スリット部が混み合って形成されるのを抑制しやすく、電波透過性領域の美観を向上できる。
　電波透過性領域が第１繰り返しパターン及び第２繰り返しパターンを含む場合、第１軸方向と第２軸方向とのなす角度θ（°）及び第３軸方向と第４軸方向とのなす角度θ（°）の少なくとも一方が上記範囲にあることが好ましい。
　第２接続部は、第２ライン部の両方の端部にあることが好ましい。これにより、様々な方向へのパターン形成位置のずれをより吸収しやすい。
　電波透過性領域が第１繰り返しパターン及び第２繰り返しパターンを含む場合、第１ライン部及び第２ライン部の少なくとも一方の、両方の端部に第１接続部又は第２接続部があることが好ましい。
　電波透過性領域は、平行に整列した複数の第２繰り返しパターンを含むことが好ましい。これにより、第２繰り返しパターンによって平行に整列した複数の線、すなわち平行線状に相当するパターンを形成し得る。
　電波透過性領域が第１繰り返しパターン及び第２繰り返しパターンを含む場合、電波透過性領域は、平行に整列した複数の第１繰り返しパターン及び平行に整列した複数の第２繰り返しパターンの少なくとも一方を含むことが好ましい。
　電波透過性領域が平行に整列した複数の第２繰り返しパターンを含む場合、第２繰り返しパターン同士の間隔は透過させたい電波の特性に応じて適宜調整できるが、例えば１００μｍ～１０ｍｍであることが好ましい。第１繰り返しパターン同士の間隔は１００μｍ以上であることが好ましく、２００μｍ以上がより好ましく、３００μｍ以上がさらに好ましい。一方で、同様の観点から、間隔は１０ｍｍ以下が好ましく、４０００μｍ以下がより好ましく、２０００μｍ以下がさらに好ましく、１０００μｍ以下が特に好ましい。
　電波透過性領域が平行に整列した複数の第１繰り返しパターン及び平行に整列した複数の第２繰り返しパターンを含む場合、第１繰り返しパターン同士の間隔及び第２繰り返しパターン同士の間隔の少なくとも一方が上記範囲であることが好ましい。
　第２接続部は、隣り合う別の第２繰り返しパターンに接続していないことが好ましい。これにより、第２繰り返しパターンの、第３軸方向と垂直な方向の長さが抑制されるため、第２繰り返しパターンの形状をより理想的に連続した一本線状に近いものとできる。
　第２接続部の、第３軸方向に垂直な成分の長さは、第２繰り返しパターン同士の間隔に対して１０％～８０％であることが好ましい。かかる比率が１０％以上であることで、接続部の大きさが十分なものとなりやすく、パターン形成位置のずれをより吸収しやすい。かかる長さの比率は２０％以上がより好ましく、２５％以上がさらに好ましい。一方で、比率が８０％以下であることで、第２繰り返しパターンの形状をより理想的に連続した一本線状に近いものとできる。また、第２接続部の大きさをある程度以下とできるので、電波透過性領域における熱線反射膜の被覆量を相対的に大きくできる。これは、熱線反射基板の熱線反射性の向上や、スリット部の形成効率向上に寄与する。かかる比率は５０％以下がより好ましく、４５％以下がさらに好ましく、４０％以下が特に好ましい。
　電波透過性領域が平行に整列した複数の第１繰り返しパターン及び平行に整列した複数の第２繰り返しパターンを含む場合、それらの少なくとも一方において、第１繰り返しパターン同士の間隔に対する第１接続部の第１軸方向に垂直な成分の長さ、又は第２繰り返しパターン同士の間隔に対する第２接続部の第３軸方向に垂直な成分の長さが上記範囲であるのが好ましい。
　第２単位パターンは、軸対称又は回転対称であることが好ましい。第２単位パターンがこのような対称性を有することで、第２繰り返しパターンを形成する際に、装置や熱線反射基板を回転したとしても第２単位パターンを接続させやすい。また、軸対称又は回転対称である第２単位パターン同士を接続した場合、これらの接続領域の形状も対称性を有するものとなりやすく、電波透過性領域の美観を向上できる。
　電波透過性領域が第１繰り返しパターン及び第２繰り返しパターンを含む場合、第１単位パターン及び第２単位パターンの少なくとも一方が軸対称又は回転対称であることが好ましい。
　電波透過性領域が、平行に整列した複数の第１繰り返しパターン（第１繰り返しパターン群）と、平行に整列した複数の第２繰り返しパターン（第２繰り返しパターン群）とをともに含み、かつ、第１繰り返しパターン群と第２繰り返しパターン群が互いに重複して形成される場合、当該重複した領域におけるパターンは、いわゆる格子状となり得る。例えば、第１軸方向と第３軸方向とが垂直に交わる場合には、パターンは正方形又は長方形が周期的に配列した格子状となり得る。また、第１軸方向と第３軸方向とが垂直でない場合には、パターンは平行四辺形が周期的に配列した格子状となり得る。図９の（Ａ）は、第１軸方向と第３軸方向とが垂直に交わる場合の、電波透過性領域上に形成され得る格子状パターンを例示する図である。図９の（Ａ）において、平行に整列した複数の第１繰り返しパターン５を含む第１繰り返しパターン群５０と、平行に整列した複数の第２繰り返しパターン６を含む第２繰り返しパターン群６０とが互いに重複するように配置されている。
　電波透過性領域が、第１繰り返しパターンと、当該第１繰り返しパターンに交差する第２繰り返しパターンとを含む場合、第１接続部は第２繰り返しパターンに接しないことが好ましく、第２接続部は第１繰り返しパターンに接しないことが好ましい。これにより、スリット部が一部の領域に混み合って形成されるのを抑制でき、電波透過性領域の美観を向上できる。
　電波透過性領域は、平行に整列して隣り合う２つの第１繰り返しパターンと、平行に整列して隣り合う２つの第２繰り返しパターンとから形成される四角形パターンを含む場合、上記と同様の理由から、第１接続部は第２繰り返しパターンに接しないことが好ましく、第２接続部は第１繰り返しパターンに接しないことが好ましい。またこの場合、前記四角形を形成する少なくとも一辺の中点に、前記第１接続部及び前記第２接続部の少なくとも一方が位置することがより好ましい。図９の（Ｂ）は、（Ａ）の領域Ｙ２の拡大図である。例えば図９の（Ｂ）において、第１繰り返しパターン５ａ及びこれに平行に整列して隣り合う第１繰り返しパターン５ｂ、並びに第２繰り返しパターン６ａ及びこれに平行に整列して隣り合う第２繰り返しパターン６ｂは、四角形パターンＳを形成している。そして、かかる四角形を形成する辺Ｅ１の中点Ｐ１に第２接続部６５が位置し、辺Ｅ２の中点Ｐ２に第１接続部５５が位置している。辺Ｅ１及び辺Ｅ２のそれぞれの対辺も同様である。すなわち、図９の（Ｂ）に例示される四角形パターンＳではその４つの辺全ての中点に、第１接続部又は第２接続部がそれぞれ位置している。四角形を形成する少なくとも一辺の中点に、第１接続部及び第２接続部の少なくとも一方が位置することで、四角形が対称性を有するので、電波透過性領域の美観を向上できる。ここで、第１接続部が辺の中点に位置するとは、当該辺に垂直かつ辺の中点を通る直線が、当該辺を構成する第１単位パターンに含まれる第１接続部と接するか、交差することをいう。第２接続部の場合も同様である。
　電波透過性領域が、第１繰り返しパターンと第２繰り返しパターンとをともに含む場合、各々の繰り返しパターンの形状等は同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。また、電波透過性領域が第１繰り返しパターン群と第２繰り返しパターン群とをともに含む場合も、例えば第１繰り返しパターン同士の間隔と、第２繰り返しパターン同士の間隔とは、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。これらは、所望の電波透過性能やその他の特性等に応じて適宜調整できる。また、電波透過性領域は、本発明の効果を阻害しない範囲において、第１繰り返しパターン及び第２繰り返しパターンを形成する以外のスリット部を含んでいてもよい。たとえば、第１軸及び第３軸方向のいずれとも異なる第５軸方向に沿って伸びる少なくとも２つの第３単位パターンを含む、第３繰り返しパターンを含んでいてもよい。なお、第３繰り返しパターンは、繰り返し方向が異なる以外には第１繰り返しパターンや第２繰り返しパターンと同様に定義されるものであってもよい。
　本実施形態によれば、第１繰り返しパターンや、必要に応じ形成される第２繰り返しパターンの配置を種々変更することで、電波透過性領域上に多様なパターンを形成し得る。例えば、先に例示した平行線状、格子状、円周状といったパターンを形成できる。また、上述の第３繰り返しパターン等をさらに備えることで、三角形を周期的に配置したようなパターンや、その他の多様なパターンをも形成し得る。そして、本実施形態においては、それらの繰り返し周期や、格子形状等を適宜変更することが出来る。本実施形態によれば、このようにパターン選択の自由度に優れ、かつ、それぞれのパターンにおいてパターンの途切れが抑制された、信頼性に優れる熱線反射基板が得られる。
　次に、本熱線反射基板のその他の構成について説明する。
　（誘電体基板）
　本実施形態における誘電体基板は、誘電体からなる基板であれば特に限定されないが、例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラス、石英ガラス等のガラス基板を使用できる。ガラス基板には物理強化処理や化学強化処理が施されていてもよい。またガラス基板は一枚のガラスから構成されてもよく、複数のガラスが樹脂製の膜（樹脂膜）等を挟んで積層されて構成してもよい。
　また、本実施形態における誘電体基板はガラス基板に限定されず、例えば樹脂製の基板（樹脂基板）や、樹脂基板とガラス基板とを積層した複合基板等でもよい。樹脂基板としては例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂やポリフェニレンカーボネート等の芳香族ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の芳香族ポリエステル系樹脂等からなる基板が挙げられる。
　本実施形態における誘電体基板の電波透過性や熱線反射性等の物性も、本発明の効果を奏する限りにおいて特に限定はされず、最終的に得られる熱線反射基板に求められる物性に応じて、適宜調整すればよい。
　本実施形態における誘電体基板としてガラス基板を用いる場合は、例えば下記の構成が好ましい。ガラス基板の比重は、２．４以上、３．０以下が好ましい。また、ガラス基板のヤング率は６０ＧＰａ以上、１００ＧＰａ以下が好ましい。また、ガラス基板の、５０℃から３５０℃までの平均熱膨張係数は５０×１０－７／℃以上、１２０×１０－７／℃以下が好ましい。ガラス基板がこれらの物性要件を満たせば、窓材として充分好適に使用できる。
　本実施形態における誘電体基板の形状も特に限定されず、平面状であっても曲面状であってもよい。また、本実施形態における誘電体基板の厚さも特に限定されず、所望の強度や軽量性等に応じて適宜調整できる。
　（熱線反射膜）
　熱線反射膜は、熱線反射基板に熱線を反射する機能を付与できるものであれば特に限定されない。熱線を反射する機能を付与できる膜として、典型的には、導電性膜が挙げられる。
　本明細書において「導電性膜」とは、例えば、２０℃における電気抵抗率が１００［Ω・ｃｍ］以下の膜をいう。導電性膜の成分は特には限定されないが、例えば、優れた熱線反射性を有する、銀、アルミニウム、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素及びアンチモンの少なくとも一つがドープされた酸化スズ（ＳｎＯ２：Ｆ，Ｓｂ）、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化クロム、窒化ジルコニウム及び窒化ハフニウム（以下「導電性膜成分群Ａ」ともいう）等の金属を主成分とすることが好ましい。なお、本明細書において、主成分とは、全構成成分に対する含有率が５０原子％以上であることをいう。すなわち、本実施形態の導電性膜は、導電性膜成分群Ａからなる群より選ばれる少なくとも１種を含有し、本実施形態の導電性膜における、導電性膜成分群Ａの含有率は合計で５０原子％以上であることが好ましい。
　電波透過性領域が優れた熱線反射性を奏するためには、導電性膜は、銀及びアルミニウムの少なくとも１種が主成分であれば好ましく、導電性膜は銀を主成分とする（すなわち５０％原子以上含有する）ことがより好ましく、銀を９５原子％以上含有することがさらに好ましい。
　また、上記の銀を主成分とする導電性膜は、金、パラジウム、銅、ビスマス、ネオジウム、白金等の添加元素を１種又は複数種含有してもよい。銀を主成分とする導電性膜にこのような添加元素を含有させることで、銀の拡散を抑制し耐湿性を向上できる。なお、添加元素は上記に例示したものに限定されず、本発明の効果を奏する限りにおいて任意の元素を添加できる。
　また、本実施形態の熱線反射膜（導電性膜）の厚さは特に限定されず、最終的に得られる熱線反射基板において求められる所定の周波数の電波透過性や、熱線反射性、可視光透過性、外観等に応じて適宜調整すればよい。熱線反射膜の厚さは、通常は１ｎｍ以上であればよく、３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、６ｎｍ以上がさらに好ましい。また、該厚さは、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましい。また、熱線反射膜は、１層のみ（単層）でもよく、２層や３層等の複層でもよく、複層存在する場合それらが熱線反射膜の厚さ方向において隣接してもよく、層間にその他の層が介在して離間してもよい。なお、熱線反射膜が複層の場合において、合計の厚さは、上記の範囲内であればよい。
　本熱線反射基板は、本発明の効果を奏する範囲において、熱線反射膜とは異なる膜（その他の膜）を備えてもよい。
　本熱線反射基板は、例えば、金属酸化物層や金属窒化物層を備えてもよく、金属酸化物層および金属窒化物層のうち少なくとも一方の層を含むと好ましい。特に、熱線反射膜は、導電性膜が金属酸化物層や金属窒化物層等の上記その他の層で挟まれている層構成を有すると耐久性の点で好ましい。金属酸化物層としては、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化スズ、酸化ビスマス、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素等を主成分とする金属酸化物の層が挙げられる。これらのうち、導電性膜の好ましい成分である銀との相性がよく、導電性膜の耐久性を高められる点で、金属酸化物層は酸化亜鉛を主成分とすることが好ましい。金属窒化物層としては、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）等を主成分とする金属窒化物の層が挙げられる。なお、本熱線反射基板の電波透過性領域において、スリット部は少なくとも熱線反射膜を有しないが、本発明の効果を奏する範囲において、スリット部はその他の膜を備えていてもよい。たとえば、スリット部を予め形成した熱線反射基板上にさらにその他の膜を形成した場合、スリット部は熱線反射膜を有しないが、その他の膜を備える形態であり得る。
　（特性）
　本熱線反射基板は、以下の特性を有することが好ましい。
　本熱線反射基板において、電波透過性領域は、好ましくは数百ＭＨｚ～数百ＧＨｚ程度、例えば３００ＭＨｚ～３００ＧＨｚ程度、より好ましくは３ＧＨｚ～１００ＧＨｚ程度、さらに好ましくは６ＧＨｚ～４０ＧＨｚ程度の周波数の電波に対して優れた透過性を発揮する。具体的には、電波透過性領域においてスリット部により形成されるパターンを適切に変更することにより、電波透過性領域は、例えば２５～４５ＧＨｚ、３～６ＧＨｚ、６～１５ＧＨｚ、５０～３５０ＧＨｚ又は５０～１００ＧＨｚといった様々な周波数帯の電波に対して優れた透過性を発揮し得る。より詳細には、本実施形態の熱線反射基板は、電波透過性領域において、所定の周波数の電波の透過を阻害されにくい。これにより、窓ガラス等の用途で求められる電波透過性を備える熱線反射基板を得やすい。
　本実施形態の熱線反射基板は、例えば、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢ以下であることが好ましく、２ｄＢ以下であることがより好ましく、１ｄＢ以下であることがさらに好ましい。また、周波数７９ＧＨｚの電波に対する電波透過損失も同様に３ｄＢ以下であることが好ましく、２ｄＢ以下であることがより好ましく、１ｄＢ以下であることがさらに好ましい。
　なお、電波透過性領域における周波数２８ＧＨｚ（７９ＧＨｚ）の電波に対する電波透過損失は、電波透過性領域における熱線反射基板全体の周波数２８ＧＨｚ（７９ＧＨｚ）の電波に対する電波透過損失から、誘電体基板の周波数２８ＧＨｚ（７９ＧＨｚ）の電波に対する電波透過損失を差し引いた値である。電波透過損失は、例えば自由空間法によって測定される値をいう。
　このように、周波数２８ＧＨｚ及び７９ＧＨｚの電波に対する電波透過損失を例に挙げて説明したが、２８ＧＨｚ帯及び７９ＧＨｚ帯に限らず、数百ＭＨｚ～１００ＧＨｚ程度の周波数帯において上記と同様の電波透過損失が得られることが好ましい。
　また、本熱線反射基板は、熱線反射性に優れることが好ましい。熱線反射性は、例えばＪＩＳ　Ｒ３１０６（１９９８年）に規定される日射反射率により評価できる。本熱線反射基板の電波透過性領域における日射反射率は、３０％以上が好ましく、３５％以上がより好ましく、４０％以上がさらに好ましい。
　（用途）
　本熱線反射基板は、熱線反射性と電波透過性とを求められる用途に好適に用いられる。かかる用途としては、例えば建築用途又は車両用途等の窓ガラス等が挙げられる。なかでも、本熱線反射基板は、比較的電波透過性領域の面積や最大辺の長さが大きくなりやすく、電波透過性領域上のパターンを一回の工程で形成しにくい窓ガラスの用途に好適であり、建築用途の窓ガラスにより好適である。すなわち、本熱線反射基板又はこれを備える窓ガラスは、主面上の電波透過性領域の最大辺の長さが、例えば３００ｍｍ以上であることが好ましく、５００ｍｍ以上がより好ましい。また、主面上の電波透過性領域の面積は、例えば９００ｃｍ２以上が好ましく、２５００ｃｍ２以上がより好ましい。本熱線反射基板又はこれを備える窓ガラスは、主面上の電波透過性領域の面積や最大辺の長さがが上記範囲である場合に、より効果的に本発明の効果を得やすい。ただし、本発明の効果が得られる範囲において、電波透過性領域の面積や最大辺の長さは用途等に応じて適宜選択でき、上記範囲外であってもよい。なお、電波透過性領域の最大辺とは、当該領域の形状が矩形である場合はその長辺のことをいい、それ以外の形状である場合には、当該形状に外接する四角形の長辺のことをいう。
　本熱線反射基板を備える窓ガラスは、電波透過性領域が備えるパターンの途切れが抑制されているので、信頼性に優れる。そして、本熱線反射基板を備える窓ガラスにおいては、上述の信頼性を確保しつつ、電波透過性領域に形成されるパターンの形状等を、所望の特性等に応じて比較的高い自由度で選択できる。
　（熱線反射基板の製造方法）
　本熱線反射基板は、例えば、誘電体基板の少なくとも一方の主面に熱線反射膜が形成された熱線反射基板を用意することと、前記少なくとも一方の主面上の、平面視における少なくとも一部に熱線反射膜が存在しないスリット部を形成して、電波透過性領域を形成することと、を含む方法で製造できる。かかる方法において、得られる電波透過性領域が、少なくともスリット部により形成される第１繰り返しパターンを含むようにスリット部を形成する。
　誘電体基板の少なくとも一方の主面に熱線反射膜が形成された熱線反射基板を用意する方法としては特に限定されず、市販品等を用いる方法であってもよく、誘電体基板の少なくとも一方の主面に熱線反射膜を形成する方法であってもよい。
　誘電体基板の少なくとも一方の主面に熱線反射膜を形成する方法は特に限定されず、たとえば物理的蒸着法（真空蒸着法、イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタリング法等）、化学的蒸着法（熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等）、イオンビームスパッタリング法等を使用できる。成膜面積が大きい場合、厚さの均一性が制御しやすく、生産性に優れることから、直流マグネトロンスパッタリング法、直流パルスマグネトロンスパッタリング法または交流デュアルマグネトロンスパッタリング法が好ましい。
　本実施形態における熱線反射膜は、誘電体基板に直接形成してもよく、間接的に形成してもよい。熱線反射膜を誘電体基板に間接的に形成する方法は特に限定されないが、熱線反射膜が形成された樹脂フィルムを誘電体基板に貼付する方法などが挙げられる。
　また、図１及び図２に例示する実施形態においては誘電体基板１１の一方の主面の全体に熱線反射膜１３（電波透過性領域Ａを含む）が形成されているが、一部のみに形成されていてもよい。
　スリット部を形成して、電波透過性領域を形成する方法も特に限定されず、例えば、誘電体基板上の所定の領域に連続した（べたの）熱線反射膜を形成した後に該熱線反射膜を部分的に除去してスリット部を形成する方法や、誘電体基板上の所定の部分のみに熱線反射膜を形成することで電波透過性領域を得る方法が挙げられる。なかでも、コスト及び生産容易性の観点から、熱線反射膜を形成した後に該熱線反射膜を部分的に除去してスリット部を形成する方法が好ましい。熱線反射膜を部分的に除去する方法としては、例えばレーザーエッチングやフォトリソグラフィなどが挙げられ、コスト及び実用性の観点から、レーザーエッチングによる方法が好ましい。
　前述の通り、電波透過性領域においてスリット部が形成するパターンを、上述した態様のものとするためには、例えば次の方法によって熱線反射膜を部分的に除去する。すなわち、電波透過性領域を形成したい領域内に、単位加工領域の大きさに合わせたパターンを複数回形成し、これらを連続的に配置することで、連続したパターンを形成する。図１０は、単位加工領域の大きさに合わせたパターンを模式的に例示する図である。例えば、図１０の（Ａ）は、電波透過性領域に平行線状のパターンを形成したい場合の「単位加工領域の大きさに合わせたパターン」を例示する図であり、かかるパターンは、単位加工領域ＺＡ内に、第１単位パターン５１を複数個平行に配置した第１単位パターン群５１０であることが好ましい。図１０の（Ｂ）は、電波透過性領域に格子状のパターンを形成したい場合の「単位加工領域の大きさに合わせたパターン」を例示する図であり、かかるパターンは、前述の第１単位パターン群５１０と、第２単位パターン６１を複数個平行に配置した第２単位パターン群６１０とを重ね合わせた複合単位パターン群であることが好ましい。所望のパターン形状にもよるが、このように、一回の工程で、単位加工領域内に所定の単位パターン群を形成し、かつ、この工程を複数回行って、単位パターン群を連続的に配置させることで、上述した平行線状のパターンや格子状のパターン等、所望のパターンを形成し得る。単位パターン群に含まれる各単位パターンの具体的な態様や、これらの間隔等の好ましい態様は、上述した第１又は第２繰り返しパターンにおける好ましい態様と同様である。また、単位パターン群が軸対称又は回転対称であるとより好ましい。単位パターン群が軸対称又は回転対称であることで、単位パターン群同士を連続的に配置させるときに基板の回転又は向きの変更等を伴った場合であっても、それに応じてさらに単位パターン群を回転させる必要がないか、回転の回数を少なくできるので、連続的なパターンを形成しやすい。
　複数の単位パターン群を連続的に配置させるにあたり、単位パターン群の、第１接続部又は第２接続部を備える接続端部は、隣り合って配置される別の単位パターン群の接続端部と重複されるように配置することが好ましい。図１０の（Ａ）において、Ｌ１及びＬ２は、それぞれ第１単位パターン群５１０の接続端部を示す。そして、図１０の（Ｃ）は、２つの第１単位パターン群５１０を連続的に配置した場合を例示する図である。図１０の（Ｃ）では、一方の第１単位パターン群５１０の接続端部Ｌ１が、隣り合って配置されるもう一方の第１単位パターン群５１０の接続端部Ｌ２と重複されるように配置されている。このとき、重複の幅Ｗは、パターンの途切れを抑制する観点から５０μｍ以上が好ましく、１００μｍ以上がより好ましく、２００μｍ以上がさらに好ましい。一方で、Ｗは２０００μｍ以下が好ましく、１０００μｍ以下がより好ましく、５００μｍ以下がさらに好ましい。換言すれば、第１繰り返しパターン中の、連続する（互いに接続された）２つの第１単位パターンの端部同士が重複する幅は、上述の重複の幅Ｗと同様であることが好ましい。これは、第２繰り返しパターン中の、連続する２つの第２単位パターンの端部同士が重複する幅についても同様である。
　このように熱線反射膜が存在しないスリット部を形成して、電波透過性領域を形成することで、本熱線反射基板が得られる。なお、上記で「単位加工領域の大きさに合わせたパターン」として例示した単位パターン群は複数個の第１単位パターンや第２単位パターンを含むものであるが、「単位加工領域の大きさに合わせたパターン」は、例えば加工装置の特性や所望のパターンに応じて、１つの第１単位パターンのみで構成されるなど、種々のものであってよい。
　本熱線反射基板を製造する方法は、上記で例示した方法に限定されるものではなく、本発明の効果が得られる範囲において適宜変更されてもよい。
　以上、各種の実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。また、発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上記実施の形態における各構成要素を任意に組み合わせてもよい。
　なお、本出願は、２０２２年５月２７日出願の日本特許出願（特願２０２２－０８７１６５）に基づくものであり、その内容は本出願の中に参照として援用される。
１０、１０ａ　熱線反射基板
１１　誘電体基板
１３　熱線反射膜
１４　スリット部
５、５ａ、５ｂ、１５　第１繰り返しパターン
５０　第１繰り返しパターン群
１５１ａ、１５１ｂ、５１、５１ａ、５１ｂ、５１ｃ、５１ｄ　第１単位パターン
１５４ａ、１５４ｂ、５４ａ、５４ｂ、５４ｃ、５４ｄ　第１ライン部
１５５ａ、１５５ｂ、５５、５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ　第１接続部
５１０　第１単位パターン群
６、６ａ、６ｂ　第２繰り返しパターン
６０　第２繰り返しパターン群
６５　第２接続部
６１０　第２単位パターン群
Ａ　電波透過性領域
Ｚａ、Ｚｂ、Ｚｃ、ＺＡ、ＺＢ　単位加工領域

Claims (19)

  1. 　誘電体基板と、前記誘電体基板の少なくとも一方の主面上に熱線反射膜とを備える熱線反射基板であって、
    　前記少なくとも一方の主面上の、平面視における少なくとも一部に電波透過性領域を有し、
    　前記電波透過性領域は、熱線反射膜が存在しないスリット部により形成される第１繰り返しパターンを含み、
    　前記第１繰り返しパターンは、第１軸方向に沿って伸びる少なくとも２つの第１単位パターンを含み、
    　前記第１単位パターンのそれぞれは、前記第１軸方向に伸びる第１ライン部と、
    　前記第１ライン部の少なくとも一方の端部にあり、前記少なくとも２つの第１単位パターンのうち別の第１単位パターンに接続される第１接続部とを含み、
    　前記第１接続部は、前記第１軸方向とは異なる第２軸方向へ伸びる部分を含み、少なくとも一部が前記第１ライン部と接続されている、熱線反射基板。
  2. 　前記第１軸方向と、前記第２軸方向とのなす角度θ（°）が１０°≦θ≦１２０°である、請求項１に記載の熱線反射基板。
  3. 　前記第１接続部が、前記第１ライン部の両方の端部にある、請求項１に記載の熱線反射基板。
  4. 　前記電波透過性領域は、平行に整列した複数の前記第１繰り返しパターンを含む、請求項１に記載の熱線反射基板。
  5. 　前記第１繰り返しパターン同士の間隔が１００μｍ～１０ｍｍである、請求項４に記載の熱線反射基板。
  6. 　前記第１接続部は、隣り合う別の第１繰り返しパターンに接続していない、請求項４に記載の熱線反射基板。
  7. 　前記第１接続部の、前記第１軸方向に垂直な成分の長さが、前記第１繰り返しパターン同士の間隔に対して１０％～８０％である、請求項４に記載の熱線反射基板。
  8. 　前記第１単位パターンは、軸対称又は回転対称である、請求項１に記載の熱線反射基板。
  9. 　前記電波透過性領域は、スリット部により形成される第２繰り返しパターンをさらに含み、
    　前記第２繰り返しパターンは、前記第１軸方向と異なる第３軸方向に沿って少なくとも２つの第２単位パターンを含み、
    　前記第２単位パターンのそれぞれは、前記第３軸方向に伸びる第２ライン部と、
    　前記第２ライン部の少なくとも一方の端部にあり、前記少なくとも２つの第２単位パターンのうち別の第２単位パターンに接続される第２接続部とを含み、
    　前記第２接続部は、前記第３軸方向とは異なる第４軸方向へ伸びる部分を含み、少なくとも一部が前記第２ライン部と接続されている、請求項１に記載の熱線反射基板。
  10. 　前記第３軸方向と、前記第４軸方向とのなす角度θ（°）が１０°≦θ≦１２０°である、請求項９に記載の熱線反射基板。
  11. 　前記第２接続部が、前記第２ライン部の両方の端部にある、請求項９に記載の熱線反射基板。
  12. 　前記電波透過性領域は、平行に整列した複数の前記第２繰り返しパターンを含む、請求項９に記載の熱線反射基板。
  13. 　前記第２繰り返しパターン同士の間隔が１００μｍ～１０ｍｍである、請求項１２に記載の熱線反射基板。
  14. 　前記第２接続部は、隣り合う別の第２繰り返しパターンに接続していない、請求項１２に記載の熱線反射基板。
  15. 　前記第２接続部の、前記第３軸方向に垂直な成分の長さが、前記第２繰り返しパターン同士の間隔に対して１０％～８０％である、請求項１２に記載の熱線反射基板。
  16. 　前記第２単位パターンは、軸対称又は回転対称である、請求項９に記載の熱線反射基板。
  17. 　前記電波透過性領域は、平行に整列して隣り合う２つの前記第１繰り返しパターンと、平行に整列して隣り合う２つの前記第２繰り返しパターンとから形成される四角形パターンを含み、前記四角形を形成する少なくとも一辺の中点に、前記第１接続部及び前記第２接続部の少なくとも一方が位置する、請求項９に記載の熱線反射基板。
  18. 　前記電波透過性領域は、周波数２８ＧＨｚの電波に対する電波透過損失が３ｄＢ以下である、請求項１に記載の熱線反射基板。
  19. 　請求項１～１８のいずれか１項に記載の熱線反射基板を備える窓ガラス。
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