JPWO2019177119A1 - 光学フィルム、偏光板、画像表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、ポリマー支持体と光配向膜との密着性に優れ、かつ、逆波長分散性を有する液晶化合物が均一に配向された光学フィルムを提供することである。また、本発明の他の課題は、上記光学フィルム用いた偏光板、並びに、上記光学フィルム又は上記偏光板を用いた画像表示装置を提供することである。本発明の光学フィルムは、添加剤を含むポリマー支持体、光配向膜、及び光学異方性膜をこの順に積層してなる光学フィルムであって、上記光学異方性膜は、逆波長分散性の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物から形成されており、前記光配向膜において上記光学異方性膜との境界領域に含まれる、上記ポリマー支持体の添加剤に由来する成分の量が光配向膜全質量に対して０．１０〜０．５０質量％である。

Description

本発明は、光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。

光学補償シート及び位相差フィルム等の光学フィルムは、画像着色解消及び視野角拡大のために、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、光学フィルムの薄型化及び高機能化の要請から、延伸複屈折フィルムに代えて、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物から形成される光学異方性膜を有する光学フィルムが提案されている。

このような光学異方性膜は、重合性液晶化合物を配向させるために、光学異方性膜を形成するポリマー支持体上に予め配向膜を設けることが知られており、また、この配向膜として、ラビング処理に代えて光配向処理を施した光配向膜が知られている（例えば特許文献１及び２）。

光配向膜は膜への接触無く光照射のみで配向規制力を付与できることから、従来用いられてきたラビング処理での課題であった配向膜上の異物に起因する面状故障を低減できると期待されている。また、ロールトゥロールプロセスにおいて、照射する偏光の方向及び照射角度を調整するだけでフィルム搬送方向に対して自由な向きの配向規制力を付与できる利点がある。

特許第５４５９５２０号公報

発明者らは生産性に優れるロールトゥロールプロセスに光配向処理を適用すべく、光学特性に優れた長尺状のポリマー支持体上に光配向膜を設けようとしたところ、ポリマー支持体と光配向膜との密着性に課題があることが分かった。

また、年々高まる表示装置の表示品質向上の要請に応えるべく、波長に比例して屈折率異方性が大きくなる、いわゆる逆波長分散性の重合性液晶化合物が提案されている。しかし、逆波長分散性の重合性液晶化合物は従来の重合性化合物に比べ分子構造が複雑で配向制御が難しいことから、特にポリマー支持体との密着性に優れる光配向膜を適用すると、ロールトゥロールプロセスでは配向が均一に形成されない場合があることが分かった。

そこで、本発明は、ポリマー支持体と光配向膜との密着性に優れ、かつ、逆波長分散性を有する液晶性化合物が均一に配向された光学フィルムを提供することを課題とする。
また、本発明は、上記光学フィルム用いた偏光板、並びに、上記光学フィルム又は上記偏光板を用いた画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、光配向膜をポリマー支持体上に形成する際に光配向膜の表面に抽出されるポリマー支持体由来の成分の量を一定量に制御することにより、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を解決することができることを見出した。

［１］ 添加剤を含むポリマー支持体、光配向膜、及び光学異方性膜をこの順に積層してなる光学フィルムであって、
前記光学異方性膜は、逆波長分散性の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物から形成されており、
上記光配向膜において前記光学異方性膜との境界領域に含まれる、上記ポリマー支持体の添加剤に由来する成分の量が光配向膜全質量に対して０．１０〜０．５０質量％である、光学フィルム。
［２］ 上記逆波長分散性の重合性液晶化合物が、後述する一般式（１）で表される化合物である、［１］に記載の光学フィルム。
［３］ 上記光配向膜が、
架橋性基を含む重合体と、シンナメート基を有する低分子化合物と、を含む光配向膜形成用組成物から形成されるか、又は、
架橋性基及び光配向性基を含む重合体を含む光配向膜形成用組成物から形成される、［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
［４］ 上記ポリマー支持体が、添加剤を含むセルロースアシレートフィルムである、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］ 上記添加剤が、ポリエステル化合物又は糖エステル化合物である、［４］に記載の光学フィルム。
［６］ 上記ポリマー支持体のＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）が−１０〜１５ｎｍである、［４］又は［５］に記載の光学フィルム。
［７］ 上記光学異方性膜が、上記光配向膜に対して剥離可能に設けられている、［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルム。
［８］ ［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
［９］［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルム、又は［８］に記載の偏光板を有する、画像表示装置。

本発明によれば、光配向膜とポリマー支持体との密着性に優れ、かつ、逆波長分散性を有する液晶性化合物が均一に配向された光学フィルムを提供できる。
また、本発明によれば、上記光学フィルム用いた偏光板、並びに、上記光学フィルム又は上記偏光板を用いた画像表示装置を提供できる。

本発明の光学フィルムの一例を示す断面模式図である。 図１Ａに示した断面模式図において、光配向膜と光学異方性膜との境界領域について特に詳細に説明した概念図である。 本発明の光学フィルムを含む偏光板の一例を示す断面模式図である。 本発明の光学フィルムから転写された光学異方性膜を含む偏光板の一例を示す断面模式図である。 ロールトゥロールプロセスによって本発明の光学フィルムを製造する製造方法の一例を示す概念図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に制限されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において「（メタ）アクリル」との記載は、「アクリル及びメタクリルのいずれか一方又は双方」を意図する。また、「（メタ）アクリロイル基」との記載は、「アクリロイル及びメタクリロイルのいずれか一方又は双方」を意図する。

面内レターデーション（Ｒｅ（λ））および厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（λ））は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。
具体的には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１にて、平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、添加剤を含むポリマー支持体、光配向膜、及び光学異方性膜をこの順に積層してなる光学フィルムである。ポリマー支持体と光配向膜とは密着しており、光学異方性膜中の液晶性化合物は、光配向膜の配向規制力により配向状態が制御されている。また、光学異方性膜は、光配向膜と密着して剥離しないように設けられていてもよいし、光配向膜との間で剥離できるように設けられていてもよい。なお、光学異方性膜が光配向膜に対して剥離できるように設けられている場合、偏光板等の他の被転写体に上記光学異方性膜を転写し得る。

〔ポリマー支持体〕
ポリマー支持体は、少なくともポリマーと添加剤とを含む。ロールトゥロールプロセスに適用できる点で、長尺状のポリマーフィルムであることが好ましい。バラツキの少ない一定の性能を示す領域を長く設け、搬送のために巻回体にする観点からは、長尺状のポリマーフィルムの長さは５００〜２００００ｍが好ましく、１０００〜１５０００ｍがより好ましく、２０００〜１００００ｍがさらに好ましい。

ポリマー支持体の厚さは特に制限されないが、ポリマー支持体と光学異方性膜とを分離せず一体に用いて表示装置に適用する場合は、光学フィルムの厚みを薄くできる等の理由から５〜４５μｍが好ましい。ポリマー支持体と光学異方性膜とを剥離可能に設ける場合は、剥離のしやすさ及び取扱性の観点から１０〜８０μｍが好ましい。

ポリマー支持体は、ポリマー支持体と光学異方性膜とを分離せず一体に用いて表示装置に適用する場合、光学的に透明であることが好ましく、全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。なお、全光線透過率の上限値は、例えば、１００％以下である。
また、ポリマー支持体の光学異方性については任意に設定することができるが、好ましい一例として、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション（Ｒｅ（５５０））が０〜１０ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ（５５０））が−１０〜１５ｎｍである態様が挙げられる。

本発明の光学フィルムの製造に当たっては、光配向膜の形成並びに光学異方性膜の形成において加熱され得ることから、ポリマー支持体のガラス転移温度が１２５℃以上であることが好ましく、１４０℃以上であるとより好ましい。このようなポリマー支持体は、ロールトゥロールプロセスにおける搬送張力の下でも変形及びシワを生じることが無く、均一で高品質な光学フィルムを得ることを可能にする。上限は特に制限されないが、一般に入手できる透明なポリマー支持体のガラス転移温度は２００℃以下のものが多い。

ここで、本明細書においては、示差走査熱量測定装置（Ｘ−ＤＳＣ７０００（アイティー計測制御（株）製））にて、ポリマー支持体のサンプル２０ｍｇを測定パンに入れ、これを窒素気流中で速度１０℃／分で３０℃から１２０℃まで昇温して１５分間保持した後、３０℃まで−２０℃／分で冷却した。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温して、ベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度Ｔｇとする。

＜ポリマー＞
上記ポリマー支持体を構成するポリマーとしては、具体的には、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、及びラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー等のアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、及びアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、及びエチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；並びにこれらのポリマーを混合したポリマー等が挙げられる。

上記ポリマー支持体を構成するポリマーとしては、これらのうち、透明性及び耐熱性の観点から、アクリル系ポリマー、熱可塑性ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、又は、トリアセチルセルロースに代表されるセルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」ともいう。）等が好ましい。なかでも、特に耐熱性と透明性に優れる点で、セルロース系ポリマーがより好ましい。

＜添加剤＞
上記ポリマー支持体は、添加剤を含む。
ここでいう添加剤とは、ポリマー支持体を構成する上述のポリマーの改質、及び／又はフィルムの高機能化のために加えられる化合物を指し、例えば、可塑剤、ＵＶ（ultraviolet）吸収剤、光学異方性発現剤、光学異方性低減剤、疎水化剤、及び耐久性改良剤等が該当する。

上述したポリマーとの相溶性の観点から、これらの添加剤の分子量は、典型的には１００〜５０００であり、３００〜３０００が好ましく、７００〜２０００がより好ましい。

添加剤として使用し得る化合物及びその機能はポリマー支持体を構成するポリマーによって異なる。したがって、以下においては、ポリマー支持体に使用し得るポリマーと添加剤との具体的な組合せについて、ポリマー種毎に説明する。

（セルロースアシレートフィルム）
上記ポリマー支持体の好ましい一態様として、セルロースアシレートフィルムを用いることができる。セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。

セルロースの水酸基に置換する炭素数２〜２２のアシル基としては、特に制限されず、脂肪族基でも芳香族基でもよく、また単一でも２種類以上の混合物でもよい。これらの基が置換したセルローアシレートとしては、例えば、セルロースのアルキルカルボニルエステル、セルロースのアルケニルカルボニルエステル、セルロースの芳香族カルボニルエステル、及びセルロースの芳香族アルキルカルボニルエステル等が挙げられ、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。
好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、及びシンナモイル基等が挙げられる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、又はシンナモイル基が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、又はブタノイル基がより好ましい。特に、合成の容易さ、コスト、及び置換基分布の制御のしやすさ等の観点から、アセチル基、又はプロピオニル基が更に好ましく、アセチル基が特に好ましい。また、２種以上のアシル基が置換する場合、アセチル基とプロピオニル基の組み合わせが好ましい。

セルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基へのアシル置換度については特に制限されないが、偏光板保護フィルム及び光学フィルム等の用途に用いる場合、アシル置換度が高い方が、各種の添加剤をよく相溶するため好ましい。このため、セルロースの水酸基へのアシル置換度（総置換度）は、２．５０〜３．００であることが好ましく、２．７０〜２．９６であることがより好ましく、２．８０〜２．９５であることが更に好ましい。また、セルロースアシレートにおいてアセチル基のみが置換する場合、上記アセチル基の置換度は、２．７０〜２．９６であることが好ましく、２．８０〜２．９５であることがより好ましい。また、セルロースアシレートにおいてプロピオニル基のみが置換する場合、上記プロピオニル基の置換度は、０．２０〜２．６０が好ましい。
セルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の置換度（アシル置換度）の測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じた方法、及びＮＭＲ（核磁気共鳴）法が挙げられる。

セルロースアシレートフィルムにおいては、セルロースアシレートとして置換基、置換度、重合度、及び分子量分布等の観点で、単一又は異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

セルロースアシレートフィルムが含む添加剤としては、例えば、可塑剤、疎水化剤、紫外線吸収剤、及びレターデーション調整剤等が挙げられる。添加剤のより具体的な一例としては、ポリエステルオリゴマー及び糖エステル化合物、並びにリン酸エステル化合物等が挙げられる。後述するようにフィルムを偏光子保護フィルムとしての機能を兼ねる場合、湿熱耐久性に優れる観点からは、ポリエステルオリゴマー及び糖エステル化合物が好ましい。

上記ポリエステルオリゴマーは、ジカルボン酸とジオールとからなる繰り返し単位を有し、ジカルボン酸とジオールの脱水縮合反応、又は、ジオールへの無水ジカルボン酸の付加及び脱水縮合反応等の公知の方法にて合成できる。

上記ジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸を使用できる。脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。芳香族ジカルボン酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、及び１，４−ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。

上記ジオール（グリコール）としては、炭素数２〜１２の脂肪族若しくは脂環族ジオール、炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオール、及び炭素数６〜２０の芳香族環含有ジオールが挙げられ、これらから選択される２種以上を併用してもよい。芳香族ジオールの炭素数は６〜１２であることが好ましい。

上記ポリエステルオリゴマーの両末端は、少なくとも一方の末端が封止されることが好ましい。上記末端は、なかでも、炭素数１〜２２の脂肪族基、炭素数６〜２０の芳香族環含有基、炭素数１〜２２の脂肪族カルボニル基、及び炭素数６〜２０の芳香族カルボニル基から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

両末端を封止した場合、上記ポリエステルオリゴマーは常温での状態が固体形状となりにくく、ハンドリングが良好となる。また、結果として、湿度安定性及び偏光板耐久性に優れたポリマーフィルムを得ることができる。

セルロースアシレートフィルム中、添加剤としてのポリエステルオリゴマーの含有量（複数含まれる場合はその合計含有量）は、セルロースアシレートに対して１〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましく、５〜１５質量％であることが更に好ましい。

上記糖エステル化合物とは、上記化合物を構成する糖骨格構造中の置換可能な基（例えば、水酸基及びカルボキシル基）の少なくとも１つと、少なくとも１種の置換基とがエステル結合されている化合物のことを言う。すなわち、ここで言う糖エステル化合物には広義の糖誘導体類も含まれ、例えばグルコン酸のような糖残基を構造として含む化合物も含まれる。つまり、この糖エステル化合物には、グルコースとカルボン酸のエステル体、及びグルコン酸とアルコールのエステル体も含まれる。

上記糖エステル化合物としては、フラノース構造若しくはピラノース構造を１個有する化合物（Ｍ）のＯＨ基の全て若しくは一部をアルキルエステル化した糖エステル化合物であるか、又は、フラノース構造若しくはピラノース構造の少なくとも１種を２個結合した化合物（Ｄ）のＯＨ基の全て若しくは一部をアルキルエステル化した糖エステル化合物であることが好ましい。フラノース構造又はピラノース構造の単環であり、その構造の水酸基の全て若しくは一部をアルキルエステル化した糖エステル化合物であることがより好ましく、グルコース構造の水酸基の全て若しくは一部をアルキルエステル化した糖エステル化合物であることが更に好ましい。

化合物（Ｍ）としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、及びアラビノースが挙げられ、グルコース、又はフルクトースが好ましく、グルコースがより好ましい。
化合物（Ｄ）としては、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース、及びケストースが挙げられる。また、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、及びガラクトシルスクロース等も挙げられる。
これらの化合物（Ｄ）の中で、特にフラノース構造とピラノース構造との双方を有する化合物が好ましく、スクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、又はスタキオースがより好ましく、スクロースが更に好ましい。

化合物（Ｍ）及び化合物（Ｄ）中のＯＨ基の全て若しくは一部をアルキルエステル化するために脂肪族モノカルボン酸を用いることが好ましい。
上記脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、及びラクセル酸等の飽和脂肪酸；ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、及びオクテン酸等の不飽和脂肪酸；等が挙げられ、それらの中でも酢酸、プロピオン酸、又はイソ酪酸が好ましい。すなわち、上記糖エステル化合物中の上記置換基が、アセチル基、プロピオニル基、又はイソブチリル基であることが好ましい。

また、前述のＯＨ基の全て若しくは一部をアルキルエステル化するのに用いられる脂肪族モノカルボン酸としては、２種以上の脂肪族モノカルボン酸であってもよく、その少なくとも１種が分岐鎖状の脂肪族モノカルボン酸であることが好ましい。分岐鎖状の脂肪族モノカルボン酸としては、なかでもイソ酪酸が好ましい。
上記態様をより具体的に説明すると、前述のＯＨ基の全て若しくは一部は酢酸とイソ酪酸でエステル化することが好ましい。言い換えると、上記糖エステル化合物中の上記置換基がアセチル基とイソブチリル基であることが好ましい。置換基がアセチル基とイソブチリル基のみからなる場合、その割合はアセチル基／イソブチリル基＝１／７〜４／４であることが好ましく、１／７〜３／５であることがより好ましく、２／６であることが更に好ましい。

これら脂肪族モノカルボン酸で置換された脂肪族糖エステル化合物の製造方法は、例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載されている。

セルロースアシレートフィルム中、前述の添加剤の含有量（添加剤が複数含まれる場合にはその合計含有量）は、セルロースアシレートに対して５〜２０質量％であることが好ましい。

また、本発明の光学フィルムをポリマー支持体側で偏光子と貼合する場合、用いるセルロースアシレートフィルムに偏光子の湿熱劣化を抑制する観点から下記の一般式（４）の化合物を添加することができる。

一般式（４）

上記一般式（４）中、Ｒ^１１、Ｒ^１３及びＲ^１５は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数１〜２０のアラルキル基、又は炭素数６〜２０の芳香族基を表す。

これらの化合物、並びにその合成法に関しては、特開２０１３−１７４８６１号公報の内容（化合物としては、同公報段落番号００９０〜０１２２に記載の化合物を利用することができる。）を参酌できる。
セルロースアレートフィルムが上記一般式（４）で表される化合物を含む場合、上記一般式（４）で表される化合物の含有量は、セルロースアシレートポリマーに対して１〜２０質量％であることが好ましい。

セルロースアシレートフィルムは、マット剤として微粒子を含んでいることが好ましい。微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、及びリン酸カルシウム等を使用できる。

微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。これにより、ロールトゥロールプロセスにおいて本発明の光学フィルムを長尺の巻回体とする際、フィルム同士のこすれによる品質劣化、及び／又は、フィルム同士が接着する現象（ブロッキングとも言う）を未然に防止することができる。

微粒子は、セルロースアシレートフィルムの両表面に凹凸が設けられるように添加してもよいが、光学異方性膜の配向制御のため光配向膜表面を平坦にするという要請から、セルロースアシレートフィルムの光配向膜が設けられる側とは反対の表面のみに凹凸が設けられるように添加することが好ましい。

（アクリル樹脂フィルム）
上記ポリマー支持体の好ましい他の一態様として、アクリル樹脂フィルムを用いることができる。アクリル樹脂は、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）の他、耐熱性に優れる点で、主鎖に環状構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を用いることができる。主鎖に環状構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、グルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、無水グルタル酸環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、無水マレイン酸環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、及び、マレイミド環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂等が挙げられる。

ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報、及び特開２００６−１７１４６４号公報に記載の合成法、並びにそれによって製造されたものを用いることができる。
グルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、国際公開第０５／０５４３１１号、国際公開第０５／１０８４３８号、特開２０１０−２６１０２５号公報、特開２０１０−２７０１６２号公報、特開２０１０−２８４８４０号公報、特開２０１１−８８４４０号公報、特開２０１１−１３８１１９号公報、及び特開２０１１−２４５６２４号公報等に記載の合成法、並びにそれによって製造されたものを用いることができる。

アクリル樹脂フィルムが含むことができる添加剤としては、例えば、可塑剤、疎水化剤、紫外線吸収剤、レターデーション調整剤、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、及びアミン等）、及び上述した一般式（４）で表される化合物等が挙げられる。特に、溶融押出し法を用いてアクリル樹脂フィルムを作製する場合、劣化防止剤を使用することが好ましい。

劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、及び同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。また、上記劣化防止剤の含有量は、調製する溶液（ドープ）に対して０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがより好ましい。調製する溶液（ドープ）中の劣化防止剤の含有量が０．０１質量％以上であれば、劣化防止剤の効果が十分に発揮されるので好ましく、含有量が１質量％以下であれば、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）等が生じにくいので好ましい。劣化防止剤としては、なかでも、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）又はトリベンジルアミン（ＴＢＡ）が好ましい。

〔光配向膜〕
本発明の光学フィルムを構成する光配向膜は、光配向膜形成用組成物を用いてポリマー支持体上に形成されており、ポリマー支持体とは逆側の面に光学異方性膜が配置される。
光配向膜において光学異方性膜側の境界領域に含まれる、前述のポリマー支持体の添加剤に由来する成分の量は、光配向膜全質量に対して０．１０〜０．５０質量％である。

光配向膜中の光学異方性膜との境界領域に含まれる前述のポリマー支持体の添加剤に由来する成分の量は、光配向膜中の光学異方性膜との境界領域を二次イオン質量分析法によって分析する以下の方法により求められる。
まず、光配向膜中の光学異方性膜との境界領域を二次イオン質量分析法によって分析する。次いで、ポリマー支持体の添加剤（以下「添加剤成分」ともいう。）に由来する二次イオンピーク値を総検出イオン量で除すことで、上記添加剤成分の規格化二次イオン量を求める。そして、別途求めた検量線によって、その他の光配向膜成分に対する上記添加剤成分の質量比を算出する。この算出された数値から、光配向膜中の光学異方性膜との境界領域に含まれる上記添加剤成分に由来する成分の光配向膜全質量に対する量（質量％）が求められる。
本発明の光学フィルムにおいて、光学異方性膜が光配向膜に対して剥離可能に設けられている場合においては、光学異方性膜を剥離除去した後に表出する光配向膜の表面を二次イオン質量分析法に供することで、光配向膜の光学異方性膜側境界領域に存在する上記添加剤成分由来の規格化二次イオン量を求めることができる。本発明の光学フィルムが光配向膜と光学異方性膜との間で剥離できない場合においては、光学フィルムの断面（必要により斜め切削による切削面でもよい）に対し、図１Ｂに示す要領で領域を特定して、断面若しくは切削面の二次イオン質量分析プロファイルを測定することで、光配向膜の光学異方性膜側境界領域に存在する上記添加剤成分由来の規格化二次イオン量を求めることができる。
ここでいう光配向膜の光学異方性膜側の境界領域とは、光学的に観察される光配向膜と光学異方性膜との境界線から約５０ｎｍの深さまでの領域を指すものとする。図１Ｂを参照して具体的に説明すると、光配向膜の光学異方性膜側の境界領域１５とは、光学的に観察される光配向膜と光学異方性膜との境界線１３から約５０ｎｍの深さまでの領域を指す。

詳細は不明であるが、発明者らは、上述したような光配向膜を形成することで密着性が優れ、かつ光学異方性膜を形成する逆分散液晶配向化合物が均一に配向するメカニズムを以下のように考えている。

光配向膜を形成する際、後述するようにポリマー支持体上に光配向膜形成用組成物を塗工するが、この時、塗膜に含まれる溶媒がポリマー支持体表面を膨潤することにより光配向膜の成分がポリマー支持体を構成するポリマーと絡み合い、密着性を高めていると推測される。この膨潤の際、ポリマー支持体に含まれる添加剤もその一部が塗膜側に抽出されるため、一定量のポリマー支持体由来の成分が光配向膜に混入することがポリマー支持体と光配向膜の密着性を保証する指標になると考えている。

一方、光配向膜上に光学異方性膜を形成するための重合性液晶組成物を塗工する際、光配向膜自体が架橋されていれば重合性液晶組成物が含む溶媒には不溶であるが、内部に含まれているポリマー支持体由来の成分は重合性液晶組成物の塗膜中へ拡散していくと推測される。
この時、光配向膜中にもともと含まれるポリマー支持体由来の成分の含有量が十分低い、又は重合性液晶組成物の塗膜へポリマー支持体由来の成分が速やかに拡散する等の理由で、光配向膜における重合性液晶組成物の塗膜側の境界領域でのポリマー支持体由来の成分濃度が十分低下すれば配向に影響はないが、光配向膜における重合性液晶組成物の塗膜側の境界領域でのポリマー支持体由来の成分濃度が高いまま工程を進めると液晶性化合物の配向を形成する段階で配向状態に悪影響を及ぼすとの仮説の下、発明者らはポリマー支持体由来の成分の膜中分布とその制御因子を詳細に検討した結果、本発明に至ったものである。

光配向膜の膜厚としては、素材及び目的に応じて適宜選択することができるが、１０〜１０００ｎｍが好ましく、１０〜７００ｎｍがより好ましい。この範囲であると、上下面での反射光が干渉して露光ムラを生じることがなく、また、配向規制力が十分に付与でき、光学異方性膜を構成する液晶性化合物に均一な配向を実現することができる。

＜光配向膜形成用組成物＞
本発明に用いる光配向膜形成用組成物は、公知のものを利用することができる。ポリマー支持体との密着性の観点、並びに、重合性液晶組成物との濡れ性の観点から選ぶことが好ましい。また、配向規制力及び基材との密着性に優れる観点で、架橋可能であることが好ましい。

光配向膜形成用組成物としては、架橋性基を含む重合体と、光配向性基を有する低分子化合物とを含む光配向膜形成用組成物、及び、架橋性基及び光配向性基を含む重合体を含む光配向膜形成用組成物が挙げられる。
架橋性基を含む重合体と、光配向性基を有する低分子化合物とを含む光配向膜形成用組成物としては、例えば、架橋性基を含む繰り返し単位を含む重合体と、シンナメート基を有する低分子化合物とを含む光配向膜形成用組成物が挙げられる。
また、架橋性基及び光配向性基を含む重合体を含む光配向膜形成用組成物の一例としては、架橋性基を含む繰り返し単位と、シンナメート基を含む繰り返し単位とを含む重合体を含む光配向膜形成用組成物が挙げられる。上記態様の光配向膜形成用組成物においては、光配向性基を有する低分子化合物を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。

ここで、本明細書において、シンナメート基とは、桂皮酸又はその誘導体を基本骨格として含む桂皮酸構造を有する基であって、下記式（Ｉ）又は下記式（ＩＩ）で表される基をいう。

式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ¹は、１価の有機基を表し、＊は結合位置であることを表す。なお、ａが２以上の場合、複数のＲ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。式（ＩＩ）中、Ｒ²は１価の有機基を表す。

式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中のＲ¹及びＲ²で表される１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、及び置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。

以下において、光配向膜形成用組成物の好適な一形態について説明する。
光配向膜形成用組成物としては、架橋性基を含む重合体Ａｐと、シンナメート基を有する低分子化合物Ｂとを含む光配向膜形成用組成物であるか、又は架橋性基及び光配向性基を含む重合体Ａｐ’を含む光配向膜形成用組成物が好ましい。
以下において、架橋性基を含む重合体Ａｐ（以下、単に「重合体Ａｐ」ともいう。）について説明する。なお、上記架橋性基を含む重合体Ａｐは、さらに光配向性基を含んでいることが好ましい。つまり、架橋性基を含む重合体Ａｐは、架橋性基及び光配向性基を含む重合体Ａｐ’であることが好ましい。
以下において、重合体Ａｐ及びシンナメート基を有する低分子化合物Ｂ、並びにその他の添加成分について各々説明する。

（架橋性基を有する重合体Ａｐ（重合体Ａｐ））
重合体Ａｐとしては、架橋性基を含みさえすれば特に制限されず、従来公知の重合体を用いることができる。重合体Ａｐとしては、具体的には、架橋性基を含む繰り返し単位（以下「架橋性基を含む繰り返し単位ａ１」ともいう）を含む重合体が挙げられる。
重合体Ａｐの主骨格としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、（メタ）アクリル系重合体、シクロオレフィン系重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール誘導体、ポリスチレン誘導体、及びポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体等により形成される骨格が挙げられる。特に樹脂フィルム上に配向層を設けるにあたっては、溶媒溶解性と膜の取り扱い性に優れる点から（メタ）アクリル系重合体、及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

重合体Ａｐの好ましい分子量としては、塗布に際しての溶媒溶解性及び溶液の粘度、並びに配向処理後の配向規制力の発現とその維持の観点で、質量平均分子量で１０００〜５０００００が好ましく、２０００〜３０００００がより好ましく、３０００〜２０００００が更に好ましい。
ここで、質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン（ＰＳ）換算値として定義される。本発明におけるＧＰＣによる測定は、具体的には、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ、ＨＺ４０００、ＨＺ２０００を用いて測定される。

また、後述するように、重合体Ａｐは、さらに光配向性基を含むことが好ましく、シンナメート基を含むことがより好ましく、シンナメート基を含む繰り返し単位（以下「シンナメートを含む繰り返し単位ａ２」ともいう）を含んでいることが更に好ましい。
また、後述するように、重合体Ａｐは、さらに架橋性基を含む繰り返し単位ａ１及びシンナメートを含む繰り返し単位ａ２以外のその他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
以下において、架橋性基を含む繰り返し単位ａ１、シンナメートを含む繰り返し単位ａ２、及びその他の繰り返し単位について各々説明する。

《架橋性基を含む繰り返し単位ａ１》
架橋性基を含む繰り返し単位ａ１としては特に制限されないが、例えば（メタ）アクリル系重合体及びポリオルガノシロキサンを例にとると、下記式（Ａ１）又は（Ａ２）で表される繰り返し単位が好ましい。

式（Ａ１）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表し、式（Ａ２）中、Ｒ²は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、又は酸素原子を介して他のケイ素原子と結合していることを表す。また、式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、Ｌは、単結合又は２価の連結基を表し、Ｙは、後述する架橋性基を表す。
式（Ａ２）中、Ｒ²の炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、及びｎ−ブチル基等が挙げられ、なかでも、メチル基、又はエチル基が好ましい。また、Ｒ²の炭素数１〜６のアルコキシ基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、及びｎ−ブトキシ基等が挙げられ、なかでも、メトキシ基、又はエトキシ基が好ましい。

式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、Ｌで表される２価の連結基としては、具体的には、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｐｈ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−、及び−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｃｙ−等が挙げられる。ここで、Ｐｈは、置換基を有していてもよい２価のベンゼン環（例えば、フェニレン基等）を表し、Ｃｙは、置換基を有していてもよい２価のシクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基等）等が挙げられる。ｎは、１〜４の整数を表す。なお、上記式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、Ｌで示される２価の基（例えば、−ＣＯ−Ｏ−）の結合方向は、特に断らない限り制限されない。例えば、Ｌが−ＣＯ−Ｏ−である場合、Ｌと隣接する炭素原子及びＹとの連結形態は、炭素原子−ＣＯ−Ｏ−Ｙであってもよいし、Ｙ−Ｏ−ＣＯ−炭素原子であってもよい。

架橋性基Ｙとしては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、カルボキシル基、水酸基、−ＮＨ−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ（Ｒは、水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和基、及びブロックイソシアネート基等の架橋性官能基を含む基が挙げられる。架橋性基Ｙとしては、なかでも、エポキシ基、オキセタニル基、又は３，４−エポキシシクロヘキシル基が好ましく、エポキシ基、又はオキセタニル基がより好ましい。なお、３員環の環状エーテル基は、エポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基は、オキセタニル基とも呼ばれる。

式（Ａ１）及び式（Ａ２）で表される繰り返し単位の具体例としては、例えば、下記の繰り返し単位が挙げられる。
以下の具体例において、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ、上述した式（Ａ１）及び式（Ａ２）中のＲ¹及びＲ²と同義である。

重合体Ａｐにおける架橋性基の含有率を適切に設計することで、ポリマー支持体の添加剤由来の成分の抽出及び塗膜内での拡散が制御できる。

《シンナメート基を含む繰り返し単位ａ２》
シンナメート基を含む繰り返し単位ａ２としては、上述した一般式（Ａ１）又は（Ａ２）で表される繰り返し単位において、Ｙが架橋性基に代えて各種のシンナメート基を表すものが挙げられる。
シンナメート基の具体例としては、特開２０１５−０２６０５０号公報の［００１６］段落に記載された以下に示す基が挙げられる。下記構造において、＊は、Ｌとの結合位置を示す。なお、一般式（Ａ１）又は（Ａ２）で表される繰り返し単位において、Ｙが、架橋性基に代えて以下に示すシンナメート基を表す場合、一般式（Ａ１）又は（Ａ２）中のＬは、単結合を表すことが好ましい。

《他の繰り返し単位》
上記重合体Ａｐは、上述した繰り返し単位ａ１及び繰り返し単位ａ２以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。共重合体が他の繰り返し単位を含むことで、例えば、基材密着性、溶媒溶解性、及び耐熱性等が向上し得る。
上記重合体Ａｐが含み得るその他の繰り返し単位としては、基材密着性及び溶媒溶解性の観点からは、重合体Ａｐの極性を調整する官能基を含む繰り返し単位が好ましい。具体的には、親水性を付与する観点では、水酸基、カルボン酸基、又はイオン性基を含む繰り返し単位が好ましく、親油性を付与する観点では、高級アルキル基又は芳香族基を含む繰り返し単位が好ましい。また、基材密着性と溶媒溶解性の両立の観点では、５員環以上の複素環、環状ケトン、又は芳香環を含む繰り返し単位が好ましい。また、耐熱性を高める観点からは、剛直な構造を含む繰り返し単位が好ましい。
さらに、後述する光学異方性膜と密着させたい場合は、重合性液晶組成物に含まれる成分と反応可能な官能基を含む繰り返し単位が好ましい。

光配向膜形成用組成物が後述する有機溶媒を含有する場合、ロールトゥロールプロセスに適した塗布液粘度に調整する観点から、光配向膜形成用組成物中の上記重合体Ａｐの含有量は、溶媒１００質量部に対して０．１〜５０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。

（シンナメート基を有する低分子化合物Ｂ）
シンナメート基を有する低分子化合物Ｂ（以下「低分子化合物Ｂ」ともいう。）としては、シンナメート基を有し、重合体Ａｐよりも分子量が小さい化合物であることが好ましい。特に、重合体Ａｐがシンナメート基を含む場合においては、光配向膜形成用組成物が低分子化合物Ｂを含むことで、作製される光配向膜の配向性がより良好となる。
なお、重合体Ａｐがシンナメート基を含まない場合においては、低分子化合物Ｂとして、シンナメート基を有し、重合体Ａｐよりも分子量が小さい化合物であって、且つ重合体Ａｐが有する架橋性基と結合可能な化合物を使用して、その反応生成物を光配向膜として用いることが好ましい。

上記低分子化合物Ｂの分子量としては、特に制限されないが、溶解性及び配向規制力を確保する観点から、２００〜１０００が好ましく、２５０〜７００がより好ましい。

上記低分子化合物Ｂとしては、例えば、下記式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。

式（Ｂ１）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ¹は、１価の有機基を表し、Ｒ²は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ¹は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｒ¹の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、及び、置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられ、なかでも、炭素数１〜２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基、又はエトキシ基が更に好ましい。
また、Ｒ²の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基、及び置換基を有していていてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられ、なかでも、炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、ａは、１であるのが好ましく、Ｒ¹がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、及びアミノ基等が挙げられる。

上記式（Ｂ１）で表される化合物としては、具体的には、オクチルシンナメート、エチル−４−イソプロピルシンナメート、エチル−２，４−ジイソプロピルシンナメート、メチル−２，４−ジイソプロピルシンナメート、プロピル−ｐ−メトキシシンナメート、イソプロピル−ｐ−メトキシシンナメート、イソアミル−ｐ−メトキシシンナメート、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、２−エトキシエチル−ｐ−メトキシシンナメート、２−ヘキシルデカニル−ｐ−メトキシシンナメート、及びシクロヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート等が挙げられる。

光配向膜形成用組成物中、上記低分子化合物Ｂの含有量は、作製される光配向膜の配向性がより良好となる理由から、重合体Ａｐの繰り返し単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％が好ましく、３０〜３００質量％が好ましい。
また、光配向膜形成用組成物が後述する有機溶媒を含有する場合、上記低分子化合物Ｂの含有量は、溶媒１００質量部に対して０．０１〜５０質量部が好ましく、０．１〜１０質量部がより好ましい。

（架橋剤Ｃ）
光配向膜形成用組成物は、ポリマー支持体との密着性が向上する、及び配向規制力が向上するといった理由から、架橋性基を含む繰り返し単位ａ１を含む重合体Ａｐとは別に、重合体Ａｐと反応可能な架橋性基を有する架橋剤Ｃを含んでいることが好ましい。架橋性基量を適切に調整することで、ポリマー支持体の添加剤由来の成分の抽出及び塗膜内での拡散が制御できる。
上記架橋剤Ｃの分子量は、１０００以下が好ましく、１００〜５００がより好ましい。

上記架橋性基は、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基であるのが好ましい。
上記架橋剤Ｃとしては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、及びアルコキシメチル基含有化合物等が挙げられる。
これらのうち、以下に具体例を示す、分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、又はブロックイソシアネート化合物が好ましい。

《分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物》
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
これらは市販品として入手できる。例えば、デナコールＥＸ−６１１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６１４Ｂ、ＥＸ−６２２、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−８２１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８３２、ＥＸ−８４１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−９２０、ＥＸ−９３１、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ、ＤＬＣ−２０１、ＤＬＣ−２０３、ＤＬＣ−２０４、ＤＬＣ−２０５、ＤＬＣ−２０６、ＤＬＣ−３０１、及びＤＬＣ−４０２（以上ナガセケムテックス（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、３０００、及びＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４０１、並びに、セルビナースＢ０１３４、及びＢ０１７７（（株）ダイセル製）等が挙げられる。
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合は、１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

《分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物》
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、及びＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）が挙げられる。

《ブロックイソシアネート化合物》
ブロックイソシアネート化合物は、イソシアネート基が化学的に保護されたブロックイソシアネート基を有する化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子内に２以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。また、上記ブロックイソシアネート基は、９０℃〜２５０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
また、ブロックイソシアネート化合物としては、その骨格は特に制限されるものではなく、１分子中にイソシアネート基を２個有するものであればどのようなものでもよく、脂肪族、脂環族又は芳香族のポリイソシアネートであってよいが、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−トリメチレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，９−ノナメチレンジイソシアネート、１，１０−デカメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、２，２’−ジエチルエーテルジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ｏ−キシレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネート、ｐ−キシレンジイソシアネート、メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、シクロヘキサン−１，３−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジメチレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−メチレンジトリレン−４，４’−ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、テトラクロロフェニレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素化１，３−キシリレンジイソシアネート、及び水素化１，４−キシリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物及びこれらの化合物から派生するプレポリマー型の骨格の化合物を好適に用いることができる。これらのなかでも、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）及びジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、又はイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が好ましい。

ブロックイソシアネート化合物の母構造としては、ビウレット型、イソシアヌレート型、アダクト型、及び２官能プレポリマー型等が挙げられる。
上記ブロックイソシアネート化合物のブロック構造を形成するブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、及びイミド系化合物等が挙げられる。これらのなかでも、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、及びピラゾール化合物から選ばれるブロック剤が好ましい。

ブロックイソシアネート化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ−５０（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＢ−８３０、Ｂ−８１５Ｎ、Ｂ−８２０ＮＳＵ、Ｂ−８４２Ｎ、Ｂ−８４６Ｎ、Ｂ−８７０Ｎ、Ｂ−８７４Ｎ、Ｂ−８８２Ｎ（以上、三井化学（株）製）、デュラネート１７Ｂ−６０ＰＸ、１７Ｂ−６０Ｐ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｘ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、ＭＦ−Ｂ６０Ｘ、ＭＦ−Ｂ６０Ｂ、ＭＦ−Ｋ６０Ｘ、ＭＦ−Ｋ６０Ｂ、Ｅ４０２−Ｂ８０Ｂ、ＳＢＮ−７０Ｄ、ＳＢＢ−７０Ｐ、Ｋ６０００（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、デスモジュールＢＬ１１００、ＢＬ１２６５ ＭＰＡ／Ｘ、ＢＬ３５７５／１、ＢＬ３２７２ＭＰＡ、ＢＬ３３７０ＭＰＡ、ＢＬ３４７５ＢＡ／ＳＮ、ＢＬ５３７５ＭＰＡ、ＶＰＬＳ２０７８／２、ＢＬ４２６５ＳＮ、ＰＬ３４０、ＰＬ３５０、スミジュールＢＬ３１７５（以上、住化バイエルウレタン（株）製）等を好ましく使用できる。

光配向膜形成用組成物が上記架橋剤Ｃを含む場合、上記架橋剤Ｃの含有量は、重合体Ａｐの繰り返し単位ａ１の１００質量部に対して１〜１０００質量部が好ましく、１０〜５００質量部がより好ましい。また、光配向膜形成用組成物が後述する有機溶媒を含有する場合、上記架橋剤Ｃの含有量は、溶媒１００質量部に対して０．０５〜５０質量部が好ましく、１〜１０質量部がより好ましい。

（その他の成分Ｄ）
光配向膜形成用組成物は、上記以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、例えば、架橋促進剤、密着改良剤、レベリング剤、及び可塑剤等が挙げられる。架橋促進剤としては、種々の金属塩キレート化合物、及び熱酸発生剤等が挙げられる。密着改良剤、レベリング剤、及び可塑剤としては、塗布用組成物の添加剤として知られている種々の公知の材料を利用することができる。

（有機溶媒）
光配向膜形成用組成物は、光配向膜を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含むことが好ましい。溶媒を適切に選択することにより光配向膜形成用組成物をポリマー支持体上に塗工した際にポリマー支持体の表面に作用し、光配向膜との密着が強化され、また、ポリマー支持体の添加剤由来の成分の抽出を制御することで光学異方性膜の配向制御を改善することができる。
なかでも、ポリマー支持体の添加剤由来の成分と相溶し易い有機溶媒が好ましい。光配向膜形成用組成物にポリマー支持体の添加剤由来の成分と相溶し易い有機溶媒を使用することで、光配向膜形成用組成物をポリマー支持体上に塗工した際にポリマー支持体の表面に作用して光配向膜との密着が強化され得る。また、上記有機溶媒の含有量を適切に調整することで、ポリマー支持体の添加剤由来の成分の光配向膜形成用組成物への過度な抽出が抑制されることで光学異方性膜の配向制御が改善され得る。
なお、ポリマー支持体が添加剤を含むセルロースアシレートフィルムであり、かつポリエステル化合物又は糖エステル化合物である場合、有機溶媒として、ケトン類、エステル類、又はプロピレングリコールエーテル類を含むことが好ましい。

上記有機溶媒としては、具体的には、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びシクロペンタノン等）、エーテル類（例えば、ジオキサン、及びテトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、及びトリメチルベンゼン等）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、及びクロロトルエン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、及び酢酸ブチル等）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、及びシクロヘキサノール等）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、及びエチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、プロピレングリコールエーテル類（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、及びアミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、及びジメチルアセトアミド等）等が挙げられる。
有機溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

〔光配向膜の製造方法〕
本発明を構成する光配向膜は、上述した光配向膜形成用組成物を用いる以外は従来公知の製造方法により製造することができ、特に、ロールトゥロールプロセスで製造することが好ましい。
具体的な製造方法の一例としては、下記工程１、下記工程２、及び下記工程３を含む製造方法が挙げられる。これらの工程の各条件を適切に調整することにより、ポリマー支持体と光配向膜との密着性を高めつつ、ポリマー支持体の添加剤由来の成分の抽出を制御することで光学異方性膜の配向制御を改善することができる。
工程１：上述した光配向膜形成用組成物を上述のポリマー支持体表面に塗布して塗膜を形成する塗布工程
工程２：加熱することによって上記塗膜を乾燥及び架橋する加熱工程
工程３：上記乾燥及び架橋後の塗膜に対して偏光を照射するか、又は上記乾燥及び架橋後の塗膜の表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程

以下、上記製造方法について、図３を参照しつつ説明する。

＜工程１：塗布工程＞
塗布工程における塗布方法は特に制限されず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、グラビアコーティング、フレキソ印刷、及びインクジェット印刷等が挙げられる。ロールトゥロールプロセスにおいては、なかでも、ダイコーティング、又はグラビアコーティングが好ましい。
図３においては、ポリマー支持体の巻回体（ロール）から巻きだしたポリマー支持体１上にダイ３２を用いて塗布を行っている。

＜工程２：加熱工程＞
加熱工程における加熱方法は特に制限されず、工程１を経て得られる塗膜付きポリマー支持体を公知の方法により加熱すればよい。
加熱方法としては、例えば、加熱雰囲気下に晒すことによって塗膜付きポリマー支持体を加熱する方法、熱媒体を通流させた搬送ロール等に接触させることによって塗膜付きポリマー支持体を加熱する方法、及び熱線を照射することによって塗膜付きポリマー支持体を加熱する方法が挙げられる。加熱温度としては、３０〜２００℃が好ましい。
加熱工程の際に塗膜中の溶媒除去と重合体Ａｐの熱架橋反応とを適切に制御することで、ポリマー支持体と光配向膜との密着性が強化し、かつ、ポリマー支持体の添加剤由来の成分の抽出の制御がなされて光学異方性膜の配向制御が改善し得る。
なお、図３においては、加熱装置３３により、塗膜付きポリマー支持体を加熱を行っている。

＜光照射工程＞
光照射工程において、工程２を経た上記乾燥及び架橋後の塗膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、及び楕円偏光等が挙げられ、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限りは特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

偏光又は非偏光における波長としては、上記乾燥及び架橋後の塗膜中に含まれる液晶分子の配向を制御し得る波長であれば特に制限はないが、例えば、紫外線、近紫外線、及び可視光線等が挙げられる。なかでも、２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの近紫外線が特に好ましい。また、偏光又は非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、及びメタルハライドランプ等が挙げられる。このような光源から得た紫外線及び可視光線に対して、干渉フィルタ及び色フィルタ等を適用することで、照射する波長範囲を適宜制御できる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタ及び偏光プリズムを適用することで、直線偏光が得られる。
なお、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）及びレーザー等の光源を用いた場合には、より簡略な構成で同様の偏光照射を実現できる。

偏光又は非偏光の積算光量としては、上記乾燥及び架橋後の塗膜中に含まれる液晶分子の配向を制御し得る波長であれば特に制限はないが、１〜６００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、１〜３００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましく、５〜１００ｍＪ／ｃｍ²が更に好ましい。
偏光又は非偏光の照度としては、上記乾燥及び架橋後の塗膜中に含まれる液晶分子の配向を制御し得る波長であれば特に制限はないが、０．１〜３００ｍＷ／ｃｍ²が好ましく、１〜１００ｍＷ／ｃｍ²がより好ましい。

なお、図３に示すように、工程２を経た乾燥及び架橋後の塗膜に対して光照射を実施する際は、塗膜中に含まれる液晶分子の配向にムラ及びバラツキを生じさせない点で、ポリマー支持体１が光源に対して揺動することを防止するためのバックアップロール３８を設けることが好ましい。

〔光学異方性膜〕
本発明の光学フィルムを構成する光学異方性膜は、逆波長分散性の重合性液晶化合物を含む組成物（以下、「重合性液晶組成物」ともいう。）を硬化させて得られる層である。
上記光学異方性膜中、液晶化合物の配向状態は固定されている。つまり、光学異方性膜中、液晶化合物は上述した光配向膜の配向規制力によって配向状態を形成し、且つ、硬化処理により液晶化合物中の重合性基が重合したことで、上記配向状態は固定化されている。
また「逆波長分散性の重合液晶性化合物」とは、逆波長分散性の光学異方性膜を形成し得る重合性液晶化合物を意図する。
重合性液晶化合物としては、後述する特定重合性液晶化合物が好ましい。

上記光学異方性膜の厚みは特に制限されないが、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましい。

上記光学異方性膜をポジティブＡプレートとして機能させる場合、特定重合性液晶化合物をホモジニアス（水平）配向させた光学異方性膜であるのが好ましい。
更に、上記光学異方性膜の配向性がより向上する理由から、光学異方性膜は、重合性液晶組成物をスメクチック相に配向した後に重合（配向状態を固定化）して得られる層であるのが好ましい。

本発明の光学フィルムを構成する光学異方性膜は、広帯域にわたり均一な偏光変換機能を示して表示装置に優れた表示性能を付与する観点から、逆波長分散性であって、下記式（ＩＩ）を満たしていることが好ましい。
０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性膜の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
また、上述したように、面内レターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。

上述の式（ＩＩ）は、重合性液晶組成物に、後述する特定重合性液晶化合物を用いることによって達成され得る。以下において、重合性液晶組成物が含む特定重合性液晶化合物及び任意の添加剤について説明する。

＜特定重合性液晶化合物＞
本明細書における特定重合性液晶化合物とは、下記式（１）で表される重合性液晶化合物である。下記式（１）で表される重合性液晶化合物は、逆波長分散性である。つまり、下記式（１）で表される重合性液晶化合物を硬化して光学異方性膜を形成した時、上記光学異方性膜は逆波長分散性を示す。

Ｌ^１−ＳＰ^１−（Ｅ^３−Ａ^１）_ｍ−Ｅ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ^１−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｅ^４）_ｎ−ＳＰ^２−Ｌ^２ ・・・（１）

上記式（１）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１、Ｅ^２、Ｅ^３、及びＥ^４は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、又は−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。なお、上記式（１）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１、Ｅ^２、Ｅ^３、及びＥ^４で示される２価の基（例えば、−ＣＯ−Ｏ−）の結合方向は、特に断らない限り制限されない。例えば、Ｄ^１が−ＣＯ−Ｏ−である場合、Ｄ^１と隣接するＧ^１及びＡｒ^１との連結形態は、Ｇ^１−ＣＯ−Ｏ−Ａｒ^１であってもよいし、Ｇ^１−Ｏ−ＣＯ−Ａｒ^１であってもよい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
また、上記式（１）中、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、又はＮＨ−で置換されていてもよい。
また、上記式（１）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、又はＮＨ−で置換されていてもよい。
また、上記式（１）中、ＳＰ^１及びＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、若しくは−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
また、上記式（１）中、Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒ^１が、下記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である場合、Ｌ^１及びＬ^２並びに下記式（Ａｒ−３）中のＬ^３及びＬ^４の少なくとも１つが重合性基を表す。
また、上記式（１）中、ｍは、０〜２の整数を表し、ｍが２である場合、複数のＥ^３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、上記式（１）中、ｎは、０〜２の整数を表し、ｎが２である場合、複数のＥ^４は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、上記式（１）中、Ａｒ^１は、後述する式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。

上記式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４が示す炭素数１〜４のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

上記式（１）中、Ｇ^１及びＧ^２が示す炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基としては、５員環又は６員環であることが好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。Ｇ^１及びＧ^２で表される２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、特開２０１２−２１０６８号公報の［００７８］段落の記載を参酌でき、この内容は本願明細書に組み込まれる。
これらのうち、シクロヘキシレン基（シクロヘキサン環に由来する２価の基）が好ましく、１，４−シクロヘキシレン基がより好ましく、トランス−１，４−シクロヘキシレン基が更に好ましい。
また、上記式（１）中、Ｇ^１及びＧ^２が示す炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、後述する式（Ａｒ−１）中のＹ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３〜１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（１）中、Ａ^１及びＡ^２が示す炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基としては、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、及び２，６−ナフチレン基等が挙げられ、なかでも、１，４−フェニレン基が好ましく、トランス−１，４−フェニレン基がより好ましい。
また、Ａ^１及びＡ^２が示す炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基としては、上記式（１）中のＧ^１及びＧ^２で説明したものと同様のものが挙げられ、シクロヘキシレン基（シクロヘキサン環に由来する２価の基）が好ましく、１，４−シクロヘキシレン基がより好ましく、トランス−１，４−シクロヘキシレン基が更に好ましい。
また、上記式（１）中、Ａ^１及びＡ^２が示す炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基、及びＡ^１及びＡ^２が示す炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、後述する式（Ａｒ−１）中のＹ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３〜１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（１）中、ＳＰ^１及びＳＰ^２が示す炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、メチルヘキシレン基、又はへプチレン基等が好ましい。なお、ＳＰ^１及びＳＰ^２は、上述した通り、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、若しくは−ＣＯ−に置換された２価の連結基であってもよい。Ｑで表される置換基としては、後述する式（Ａｒ−１）中のＹ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３〜１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（１）中、Ｌ^１及びＬ^２が示す１価の有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、及びシアノ基等が挙げられる。
アルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、又は環状であってもよいが、直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましく、１〜１０が更に好ましい。
また、アリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は、６〜２５が好ましく、６〜１０がより好ましい。
また、ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１〜３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、又は酸素原子が好ましい。ヘテロアリール基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１２がより好ましい。
また、上述した、アルキル基、アリール基、及びヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する式（Ａｒ−１）中のＹ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３〜１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

上記式（１）中、Ｌ^１及びＬ^２の少なくとも一方が示す重合性基は、特に制限されないが、ラジカル重合が可能な重合性基（ラジカル重合性基）又はカチオン重合が可能な重合性基（カチオン重合性基）が好ましい。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、アクリロイル基又はメタクリロイル基が好ましい。アクリロイル基及びメタクリロイル基を比較すると、一般的にアクリロイル基の重合速度の方が速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタクリロイル基も重合性基として同様に使用できる。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、及びビニルオキシ基等が挙げられる。なかでも、脂環式エーテル基、又はビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、又はビニルオキシ基がより好ましい。
重合性基としては、なかでも、下記に例示するものが好ましい。

上記式（１）中、湿熱耐久性がより良好となる理由から、上記式（１）中のＬ^１及びＬ^２が、いずれも重合性基であることが好ましく、アクリロイル基又はメタクリロイル基であることがより好ましい。

一方、上記式（１）中、Ａｒ^１は、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。なお、下記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、＊は、上記式（Ｉ）中のＤ^１又はＤ^２との結合位置を表す。
以下において、式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）について説明する。

ここで、上記式（Ａｒ−１）中、Ｑ^１は、Ｎ、又はＣＨを表し、Ｑ^２は、−Ｓ−、−Ｏ−、又は、−Ｎ（Ｒ^５）−を表し、Ｒ^５は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｙ^１は、置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有してもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
Ｒ^５が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、及びｎ−ヘキシル基等が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、及びナフチル基等のアリール基が挙げられる。
Ｙ^１が示す炭素数３〜１２の芳香族複素環基としては、例えば、チエニル基、チアゾリル基、フリル基、及びピリジル基等のヘテロアリール基が挙げられる。
また、Ｙ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３〜１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、及びハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状、又は環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、及びシクロヘキシル基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基が更に好ましく、メチル基又はエチル基が特に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、及びメトキシエトキシ基等）がより好ましく、炭素数１〜４のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられ、なかでも、フッ素原子、又は塩素原子が好ましい。

また、上記式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、Ｚ^１、Ｚ^２及びＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ^６、−ＮＲ^７Ｒ^８、−ＳＲ^９、−ＣＯＯＲ^Ｘ、又は−ＯＣＯＲ^Ｙを表し、Ｒ^６〜Ｒ^９、Ｒ^Ｘ、及びＲ^Ｙは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｚ^１及びＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
炭素数１〜２０の１価の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基（Ｍｅ）、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基（１，１−ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ−ブチル基（ｔＢｕ）、又は１，１−ジメチル−３，３−ジメチル−ブチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、又はｔｅｒｔ−ブチル基が更に好ましい。
炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、及びエチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、及びシクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１^３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデシル基、及びアダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、及びビフェニル基等が挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられ、なかでも、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましい。
一方、Ｒ^６〜Ｒ^９、Ｒ^Ｘ、及びＲ^Ｙが示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、及びｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−２）及び上記式（Ａｒ−３）中、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１０）−、−Ｓ−、及び−ＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ^１０は、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、上述した式（Ａｒ−１）中のＹ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３〜１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−２）中、Ｘは、水素原子又は置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表す。
また、Ｘが示す第１４〜１６族の非金属原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子、置換基を有する窒素原子、及び置換基を有する炭素原子が挙げられ、置換基としては、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、及び水酸基等が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−３）中、Ｄ^３及びＤ^４は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、又は−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。なお、上記式（Ａｒ−３）中、Ｄ^３及びＤ^４で示される２価の基（例えば、−ＣＯ−Ｏ−）の結合方向は、特に断らない限り制限されない。例えば、Ｄ^３が−ＣＯ−Ｏ−である場合、Ｄ^１と隣接するＳＰ^３及び炭素原子との連結形態は、ＳＰ^３−ＣＯ−Ｏ−炭素原子であってもよいし、ＳＰ^３−Ｏ−ＣＯ−炭素原子であってもよい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
上記式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４が示す炭素数１〜４のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−３）中、ＳＰ^３及びＳＰ^４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、若しくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基としては、上記式（１）中のＳＰ^１及びＳＰ^２において説明したものと同様のものが挙げられる。
Ｑで示される置換基としては、上記式（Ａｒ−１）中のＹ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３〜１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−３）中、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^３及びＬ^４並びに上記式（１）中のＬ^１及びＬ^２の少なくとも１つが重合性基を表す。
１価の有機基としては、上記式（１）中のＬ^１及びＬ^２において説明したものと同様のものが挙げられる。
また、重合性基としては、上記式（１）中のＬ^１及びＬ^２において説明したものと同様のものが挙げられる。

また、上記式（Ａｒ−４）及び上記式（Ａｒ−５）中、Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
また、上記式（Ａｒ−４）及び上記式（Ａｒ−５）中、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
ここで、Ａｘ及びＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
また、上記式（Ａｒ−４）及び上記式（Ａｒ−５）中、Ｑ^３は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。

Ａｘ及びＡｙとしては、特許文献２（国際公開第２０１４／０１０３２５号）の［００３９］〜［００９５］段落に記載されたものが挙げられる。
また、Ｑ^３が示す炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、及びｎ−ヘキシル基等が挙げられる。また、Ｑ^３が示す炭素数１〜６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記式（Ａｒ−１）中のＹ^１が示す炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基及び炭素数３〜１２の芳香族複素環基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。

重合性液晶化合物としては、光学異方性膜の湿熱耐久性がより良好となる理由から、上記式（１）において、ｍが１であり、Ａ^１及びＧ^１がいずれも置換基を有していてもよいシクロヘキシレン基であり、Ｅ^１が単結合であり、ｎが１であり、Ａ^２及びＧ^２がいずれも置換基を有していてもよいシクロヘキシレン基であり、かつＥ^２が単結合を表す化合物であることが好ましい。

また、耐光性がより良好となる理由から、上記式（１）中のＡｒ^１の構造から導かれる、ＨＯ−Ａｒ^１−ＯＨで表されるジフェノール化合物のｐＫａが１１以下であることが好ましい。
ここで、ｐＫａは、２５℃におけるテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）／水＝６／４の体積比である混合溶媒中における酸解離定数の値である。
本発明における酸解離定数の測定方法としては、丸善（株）刊 実験化学講座第２版の２１５ページ〜２１７ページに記載のアルカリ適定法を用いることができる。

このような重合性液晶化合物（１）としては、例えば、下記式（１−１）〜（１−１４）で表される化合物が好ましく、具体的には、下記式（１−１）〜（１−１４）中のＫ（側鎖構造）として、下記表１に示す側鎖構造を有する化合物がそれぞれ挙げられる。
なお、下記表１中、Ｋの側鎖構造に示される「＊」は、芳香環との結合位置を表す。
また、下記表１中１−２、１−１２で表される側鎖構造において、それぞれアクリロイルオキシ基及びメタクリロイル基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

＜他の重合性化合物＞
重合性液晶組成物は、上述した特定重合性液晶化合物以外に、重合性基を１個以上有する他の重合性化合物を含んでいてもよい。
ここで、他の重合性化合物が有する重合性基は特に制限されず、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられる。重合性基としては、なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

他の重合性化合物としては、形成される光学異方性膜の耐久性がより向上する理由から、重合性基を１〜４個有する他の重合性化合物であるのが好ましく、重合性基を２個〜４個有する他の重合性化合物であるのがより好ましい。

このような他の重合性化合物としては、特開２０１４−０７７０６８号公報の［００３０］〜［００３３］段落に記載された式（Ｍ１）、式（Ｍ２）及び式（Ｍ３）で表される化合物が挙げられ、より具体的には、同公報の［００４６］〜［００５５］段落に記載された具体例が挙げられる。

また、波長分散性及び屈折率異方性の大きさの調整、及び塗膜の液晶相転移温度の調整を目的として、公知の重合性液晶化合物を添加してもよい。このような重合性液晶化合物としては、例えば、「液晶便覧」（液晶便覧編集委員会編、丸善）に記載の種々の重合性液晶化合物が挙げられる。

＜重合開始剤＞
重合性液晶組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、及び同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、及び同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、及び米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、並びにアシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、及び特開平１０−２９９９７号公報記載）等が挙げられる。

本発明においては、湿熱耐久性がより良好となる理由から、重合開始剤がオキシム型の重合開始剤であるのが好ましく、具体的には、下記式（Ｉ）で表される重合開始剤であるのがより好ましい。

上記式（Ｉ）中、Ｘ^２は、水素原子又はハロゲン原子を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ａｒ^３は、２価の芳香族基を表し、Ｄ^５は、炭素数１〜１２の２価の有機基を表す。
また、上記式（Ｉ）中、Ｒ^１１は、炭素数１〜１２のアルキル基を表し、Ｙ^２は、１価の有機基を表す。

上記式（Ｉ）中、Ｘ^２が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられ、なかでも、塩素原子であるのが好ましい。
また、上記式（Ｉ）中、Ａｒ^３が示す２価の芳香族基を構成する芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、及びフェナンスロリン環等の芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、及びベンゾチアゾール環等の芳香族複素環；等が挙げられる。
また、上記式（Ｉ）中、Ｄ^５が示す炭素数１〜１２の２価の有機基としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が挙げられ、具体的には、メチレン基、エチレン基、又はプロピレン基が好ましい。
また、上記式（Ｉ）中、Ｒ^１１が示す炭素数１〜１２のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、又はプロピル基が好ましい。
また、上記式（Ｉ）中、Ｙ^２が示す１価の有機基としては、例えば、ベンゾフェノン骨格（（Ｃ₆Ｈ₅）₂ＣＯ）を含む官能基が挙げられる。具体的には、下記式（Ｉａ）及び下記式（Ｉｂ）で表される基のように、末端のベンゼン環が無置換又は１置換であるベンゾフェノン骨格を含む官能基が好ましい。なお、下記式（Ｉａ）及び下記式（Ｉｂ）中、＊は結合位置、すなわち、上記式（Ｉ）におけるカルボニル基の炭素原子との結合位置を表す。

上記式（Ｉ）で表されるオキシム型の重合開始剤としては、例えば、下記式（Ｓ−１）で表される化合物、及び下記式（Ｓ−２）で表される化合物等が挙げられる。

重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
重合性液晶組成物中、重合開始剤の含有量（複数種含まれる場合はその合計含有量）は特に制限されないが、重合性液晶組成物の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。

＜溶媒＞
重合性液晶組成物は、光学異方性膜を形成する作業性等の観点から、溶媒を含むことが好ましい。溶媒を適切に選択することにより、重合性液晶化合物の配向状態をより精密に制御することができる。
溶媒としては、具体的には、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、及びシクロペンタノン等）、エーテル類（例えば、ジオキサン、及びテトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、及びトリメチルベンゼン等）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、トリクロロメタン、及びクロロトルエン等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、及び酢酸ブチル等）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、及びシクロヘキサノール等）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、及びエチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、及びアミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、及びジメチルアセトアミド等）等が挙げられる。
有機溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

＜レベリング剤＞
重合性液晶組成物は、光学異方性膜の表面を平滑に保ち、配向制御を容易にする観点から、レベリング剤を含むことが好ましい。
このようなレベリング剤としては、添加量に対するレベリング効果が高い理由から、フッ素系レベリング剤又はケイ素系レベリング剤であることが好ましく、泣き出し（ブルーム、ブリード）を起こしにくい観点から、フッ素系レベリング剤であることがより好ましい。

レベリング剤としては、具体的には、特開２００７−０６９４７１号公報の［００７９］〜［０１０２］段落の記載に記載された化合物、特開２０１３−０４７２０４号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２０］〜［００３２］段落に記載された化合物）、特開２０１２−２１１３０６号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される化合物（特に［００２２］〜［００２９］段落に記載された化合物）、特開２００２−１２９１６２号公報に記載された一般式（Ｉ）で表される液晶配向促進剤（特に［００７６］〜［００７８］及び［００８２］〜［００８４］段落に記載された化合物）、並びに特開２００５−０９９２４８号公報に記載された一般式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）で表される化合物（特に［００９２］〜［００９６］段落に記載された化合物）等が挙げられる。なお、後述する配向制御剤としての機能を兼ね備えてもよい。

＜配向制御剤＞
重合性液晶組成物は、必要に応じて、配向制御剤を含んでいてもよい。
配向制御剤により、ホモジニアス配向の他、傾斜配向、ハイブリッド配向、及びコレステリック配向等の種々の配向状態を形成することができ、また、特定の配向状態をより均一かつより精密に制御して実現することができる。

ホモジニアス配向を促進する配向制御剤としては、例えば、低分子の配向制御剤、及び高分子の配向制御剤を用いることができる。
低分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００２−２０３６３号公報の［０００９］〜［００８３］段落、特開２００６−１０６６６２号公報の［０１１１］〜［０１２０］段落、及び特開２０１２−２１１３０６公報の［００２１］〜［００２９］段落の記載を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
また、高分子の配向制御剤としては、例えば、特開２００４−１９８５１１号公報の［００２１］〜［００５７］段落、及び特開２００６−１０６６６２号公報の［０１２１］〜［０１６７］段落を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。

重合性液晶組成物が配向制御剤を含む場合、配向制御剤の含有量（複数含まれる場合はその合計含有量）は、重合性液晶組成物中の全固形分質量に対して０．０１〜１０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることがより好ましい。配向制御剤の含有量がこの範囲であると、望む配向状態を実現しつつ、析出及び相分離、並びに配向欠陥等が無く、均一で透明性の高い光学異方性膜を得ることができる。
これらの配向制御剤は、さらに重合性官能基、特に、本発明に用いる重合性液晶組成物を構成する特定重合性液晶化合物と重合可能な重合性官能基を有していてもよい。

＜その他の成分＞
重合性液晶組成物は、上述した成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、例えば、上述した重合性液晶化合物以外の液晶化合物、界面活性剤、チルト角制御剤、配向助剤、可塑剤、及び架橋剤等が挙げられる。配向助剤としては、ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）、及びＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製）等が好ましい。

このような成分を有する重合性液晶組成物を用いた光学異方性膜の形成方法は特に制限されない。
例えば、上述した光配向膜上に、重合性液晶組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（光照射処理（例えば紫外線照射処理）又は加熱処理）を施すことにより形成することができる。なお、光学異方性膜の形成工程は、図３に示すように、光配向膜の形成工程と連続して行うことが好ましい。

＜光学異方性膜の形成方法＞
重合性液晶組成物の塗布は、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、及びダイコーティング法等の公知の方法により実施できる。なお、図３においては、重合性液晶組成物の塗布は、ダイ３５によって行われる。
塗膜から溶媒を除去するに当たっては、光配向膜の形成方法で述べたのと同様の加熱工程を適用できる。加熱条件、特に塗膜から溶媒を除去する条件を調整することによってポリマー支持体の添加剤由来の成分の抽出及び塗膜内での拡散を制御することで、光学異方性膜の配向状態を改善することができる。
なお、図３においては、上記加熱工程は、加熱装置３６によって行われる。

配向状態の固定に係る重合プロセスでは、図３では光源３７による露光でのプロセスを示しているが、光源としては公知のものを制限なく用いることができる。また、熱重合性の重合性液晶化合物を用いる場合は、光源３７に代えて加熱装置を設けることができ、加熱装置３６でこれを兼ねることができる。ロールトゥロールプロセスでは、作製された光学フィルムを巻回体（ロール）３９として巻き取ることができる。

[偏光板]
本発明の光学フィルムと偏光子とを貼り合わせることにより各種の機能を付与した偏光板を構成することができる。また、本発明の光学フィルム中の光学異方性膜が光配向膜と剥離可能である場合、光学フィルムから転写された光学異方性膜と偏光子とを貼り合わせることによって偏光板を構成することもできる。
偏光子としては光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に制限されず、従来公知の吸収型偏光子及び反射型偏光子を利用することができる。

上述した吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、及びポリエン系偏光子等が用いられる。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素又は二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸及び染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、及び特許第４７５１４８６号公報等を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
上述した反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、及び、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子等が用いられる。
なかでも、取り扱い性の点から、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマー、特に、ポリビニルアルコール及びエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。

偏光子の厚みは特に制限されないが、１〜６０μｍが好ましく、１〜３０μｍがより好ましく、２〜２０μｍが更に好ましい。

また、上述した偏光板は、偏光子をポリマーフィルムで支持又は挟持していることが好ましい。こうしたポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、及びラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー等のアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、及びアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、及びポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；並びにこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。

これらのうち、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」ともいう。）を用いるのが好ましい。また、加工性及び光学性能の観点から、アクリル系ポリマーを用いるのも好ましい。
セルロース系ポリマー又はアクリル系ポリマーを用いたフィルムとしては、上述したポリマー支持体と同じものを用いることができる。なお、偏光板としては、上述したポリマー支持体を偏光子とを貼り合わせたものであってもよい。

ポリマーフィルムの厚さは特に制限されないが、偏光板の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましい。下限は特に制限されないが、偏光板の取り扱い性を考慮して通常５μｍ以上である。

以下において、偏光板の構成について図２Ａ及び図２Ｂを参照して説明する。
図２Ａは、直線偏光子２２、ポリマー支持体１６、光配向膜１４、光学異方性膜１２をこの順に有する偏光板２０の概念図である。直線偏光子２２とポリマー支持体１６との間は任意に接着層（図示せず）を設けてもよいし、また、直線偏光子２２のポリマー支持体１６とは反対の面に任意のポリマーフィルム（図示せず）を設けてもよい。
図２Ｂは、直線偏光子２２、本発明の光学フィルムから転写した光学異方性膜１２、及びポジティブＣプレート１８をこの順に有する偏光板の概念図を示す。各層間には感圧性接着層等の接着層（図示せず）及び任意のポリマーフィルム（図示せず）を設けてもよい。

〔円偏光板〕
本発明の光学フィルム又は本発明の光学フィルムから転写された光学異方性膜がλ／４プレートの特性を有する場合、組み合わせる直線偏光子の吸収軸と、本発明の光学フィルム又は本発明の光学フィルムから転写された光学異方性膜の遅相軸とを４５°で交差させることにより、円偏光板を得ることができる。
更に、上記円偏光板を後述する画像表示装置の外光反射防止層として用いる場合においては、反射光の色味を調整することを目的として、組み合わせる直線偏光子の吸収軸と、本発明の光学フィルムあるいは本発明の光学フィルムを構成する光学異方性膜の遅相軸との交差角を４５°±８°の範囲で調整することが好ましい。

〔その他の層〕
上述した偏光板には、本発明の光学フィルム又は本発明の光学フィルムから転写された光学異方性膜、及び上述した任意のポリマーフィルムの他に、さらにその他の層を含んでいてもよい。その他の層としては、具体的には、加飾層、接着層、光拡散層、ガスバリア層、着色層、導電層（タッチパネル）、及び帯電防止層等が挙げられる。また、斜め透過光の偏光変換の最適化を目的として、例えばポジティブＣプレート及びその他の位相差フィルムをさらに組合せてもよい。

［画像表示装置］
本発明の光学フィルム又は上述した偏光板は、画像表示装置に適用できる。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子としては特に制限されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル、及びマイクロＬＥＤディスプレイパネル等が挙げられる。本発明の光学フィルム又は上述した偏光板は、表示画質を向上させるための光学補償の目的で使用することもできるし、外光が表示素子で反射されることによる表示画質の低下を抑制する目的で使用することもできる。

〔液晶表示装置〕
上述した本発明の光学フィルム又は本発明の光学フィルムから転写された光学異方性膜を適用した液晶表示装置の一例としては、上述した本発明の光学フィルム又は本発明の光学フィルムから転写された光学異方性膜を貼り合わせた偏光板と、液晶セルとを有する液晶表示装置が挙げられる。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として上述した偏光板を用いるのが好ましい。必要に応じ、ポジティブＣプレート等をさらに組み合わせて、斜視方向の表示性能を改善することができる。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、又はＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに制限されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ−ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ ｌｉｑｕｉｄ−ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。

ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、及びＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。

ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、及び特開平１０−３０７２９１号公報等に開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
有機ＥＬ表示装置において、本発明の光学フィルム又は本発明の光学フィルムから転写された光学異方性膜を貼り合わせた円偏光板を用いることにより、外部光が有機ＥＬパネルの電極等に反射して表示コントラストを低下させる現象を抑制し高画質の表示を可能にできる。有機ＥＬパネルとしては公知の構成が広く利用でき、また、さらにタッチパネルを具備するものであることができる。上述した円偏光板には、ポジティブＣプレートをさらに組み合わせることにより、斜視方向にも優れた反射色味を呈する表示装置を構成することができる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により制限的に解釈されるべきものではない。

〔重合体Ａｐの合成〕
＜重合体Ａｐ１の合成＞
冷却管、温度計、及び撹拌機を備えたフラスコに、ｎ−ブトキシメチルアクリレート６０．０質量部、アクリルアミド ４０．０質量部、重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）４．８質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル ３１３．９質量部を仕込み、８５℃にて２０時間反応させることにより、架橋性基を有する重合体Ａｐ１の溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。得られた重合体Ａｐ１のＭｎは３，５６０、Ｍｗは４，８２０であった。

＜重合体Ａｐ２の合成＞
Ｌａｎｇｍｕｉｒ,３２（３６）,９２４５−９２５３,（２０１６年）に記載された方法に従い、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）（東京化成試薬）と下記桂皮酸クロリド誘導体を用いて、以下に示すモノマーｍ−１を合成した。

桂皮酸クロリド誘導体

モノマーｍ−１

冷却管、温度計、及び撹拌機を備えたフラスコに、溶媒として２−ブタノン５質量部を仕込み、フラスコ内に窒素を５ｍＬ／ｍｉｎ流しながら、水浴加熱により還流させた。ここに、モノマーｍ−１を５質量部、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（サイクロマーＭ１００、ダイセル社製）５質量部、重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）を１質量部と、溶媒として２−ブタノン５質量部を混合した溶液を、３時間かけて滴下し、さらに３時間還流状態を維持したまま撹拌した。反応終了後、室温まで放冷し、２−ブタノン３０質量部を加えて希釈することで約２０質量％の重合体溶液を得た。得られた重合体溶液を大過剰のメタノール中へ投入して重合体を沈殿させ、回収した沈殿物をろ別し、大量のメタノールで洗浄した後、５０℃において１２時間送風乾燥することにより、架橋性基及び光配向性基を有する重合体Ａｐ２を得た。

重合体Ａｐ２

＜重合体Ａｐ３の合成＞
冷却管、温度計、及び撹拌機を備えたフラスコに、メタクリル酸２．５質量部、メチルメタクリレート ９．２質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート５．０質量部、重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）０．２質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル５０．７質量部を仕込み、７０℃にて２０時間反応させることにより、架橋性基を有する重合体Ａｐ３の溶液（固形分濃度２５質量％）を得た。得られたアクリル共重合体のＭｎは１９，６００、Ｍｗは４５，２００であった。

〔光配向膜用組成物の調製〕
下記組成（Ｐ−１、Ｐ−２、Ｐ−３）の光配向膜用組成物を調製した。なお、得られた各組成物では、各重合体並びに他の成分は添加した量どおりに溶媒に十分に溶解していた。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜用組成物（Ｐ−１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物ＣＩＮ−１ １．００質量部
上記重合体Ａｐ１の溶液（固形分量３５質量％） ２．９０質量部
上記重合体Ａｐ３の溶液（固形分量２５質量％） ４．００質量部
パラトルエンスルホン酸１水和物 ０．１０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４３．７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

化合物ＣＩＮ−１：４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸メチルエステル

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜用組成物（Ｐ−２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記重合体Ａｐ１ ４．６０質量部
下記化合物Ｂ２ ０．８０質量部
下記架橋剤Ｃ−１ ３．００質量部
化合物Ｄ１ ０．８０質量部
酢酸ブチル １２０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（化合物Ｂ２）

（架橋剤Ｃ−１）多官能エポキシ化合物（エポリードＧＴ４０１，ダイセル社製）
（化合物Ｄ１）熱酸発生剤（サンエイドＳＩ−６０、三新化学工業株式会社製）

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜用組成物（Ｐ−３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記重合体Ａｐ２ １０．００質量部
上記化合物Ｄ１ ０．５０質量部
イソプロピルアルコール １．６５質量部
酢酸ブチル １０７．２０質量部
メチルエチルケトン ２６．８０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

〔光学異方性膜用組成物の調製〕
下記組成（Ａ−１〜Ａ−３）の光学異方性膜用塗布液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜用塗布液（Ａ−１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｌ−１ ４２．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ−２ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１ ０．５０質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記重合性液晶化合物Ｌ−１及びＬ−２のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記重合性液晶化合物Ｌ−１及びＬ−２は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

（重合性液晶化合物Ｌ−１）

（重合性液晶化合物Ｌ−２）

（重合性化合物Ａ−１）

（重合開始剤Ｓ−１）

（化合物Ｇ−１）

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（光学異方性膜用塗布液Ａ−２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合性液晶化合物Ｌ−３ ９５．００質量部
・下記重合性液晶化合物Ｌ−４ ５．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１ ０．５０質量部
・上記レベリング剤Ｇ−１ ０．２０質量部
・シクロペンタノン ５７０．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（重合性液晶化合物Ｌ−３）

（重合性液晶化合物Ｌ−４）

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性膜用塗布液（Ａ−３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合性液晶化合物Ｌ−１ ４２．００質量部
・上記重合性液晶化合物Ｌ−２ ４２．００質量部
・上記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１ ０．５０質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・シクロペンタノン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
─────────────────────────────────
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １２質量部
下記の化合物Ｆ ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶媒） ６４質量部
─────────────────────────────────

（化合物Ｆ）

（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
─────────────────────────────────
マット剤溶液
─────────────────────────────────
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶媒） １１質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
─────────────────────────────────

（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙及び平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。ドラム上のフィルムの溶媒含有率が略２０質量％の状態でフィルムを剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルムを作製し、これを実施例１のポリマー支持体（セルロースアシレートフィルム１）とした。セルロースアシレートフィルム１のコア層は厚み３６μｍ、コア層の両側に配置された外層はそれぞれ厚み２μｍであった。得られたセルロースアシレートフィルム１の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは０ｎｍであり、厚み方向のレターデーションは、１ｎｍであった。

（実施例１）
〔光学フィルムの作製〕
作製した長尺状のセルロースアシレートフィルム１を繰り出して搬送しながら、セルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向膜用組成物Ｐ−１を連続的に塗布した。
塗布後、搬送しながら１１５℃の雰囲気下で１５０秒間加熱し、厚さ０．２μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層に偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜ＰＡ−１を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した光学異方性膜用塗布液Ａ−１を連続的に塗布し、組成物層（塗膜）を形成した。
形成した組成物層を１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却し配向を安定化させた。その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性膜を形成し、実施例１の光学フィルム１を作製した。得られた光学積層体の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

（実施例２〜４、比較例１）
光配向膜用組成物及び／又は光配向膜の厚さを表２に記載のように変更し、実施例２〜４の光学フィルム２〜４、比較例１の光学フィルム１１を作製した。なお、光配向膜の厚さの変更は、使用した光配向膜用組成物の面積あたりの塗布量を変更することによって行った。また、光学異方性膜形成用組成物の面積あたりの塗布量を調整することにより、各フィルムの光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは全て１４０ｎｍとした。

（実施例５）
光学異方性膜形成用組成物として光学異方性膜用塗布液Ａ−３を用いた以外は実施例２と同様にして、実施例５の光学フィルム５を作製した。光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

（実施例６）
光学異方性膜形成用組成物として光学異方性膜用塗布液Ａ−２を用いた以外は実施例２と同様にして、実施例６の光学フィルム６を作製した。光学異方性膜の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

（比較例２）
実施例１において、セルロースアシレートフィルム１に代えフィルム２としてポリエチレンテレフタレートフィルム（ＦＤ１００、富士フイルム（株）製。表中ではフィルム２と称する。）を用いた以外は、実施例１と同様にして比較例２の光学フィルム１２を作製した。

（比較例３）
実施例１において、光異性化組成物層の加熱時間を１００秒とした以外は、実施例１と同様にして比較例３の光学フィルム１３を作製した。

（光配向膜の評価）
＜支持体と光配向膜との密着性＞
上記の光学フィルム作製工程中において、支持体上に光配向膜が積層された積層体を取りだし、ＪＩＳ Ｄ０２０２−１９８８に準拠して、碁盤目テープ剥離試験を行った。セロハンテープ(商品名：ＣＴ２４、ニチバン（株）製)を用い、擦り棒を用いてフィルムに密着させた後、剥離した。判定は１００マスの内、剥離するマス目の数で表し、下記の基準に従い評価した。
Ａ：剥離したマスが無い
Ｂ：１〜９マスの剥離が見られる
Ｃ：剥離したマスが１０マス以上

（光学フィルムの評価）
＜光配向膜表面の支持体由来成分量＞
［検量線の作成］
上記の光配向膜用組成物Ｐ−１に、上述したポリエステル化合物Ｂを、組成物Ｐ−１の全固形分量に対して０．１質量％、１．０質量％添加した検量線作成用の組成物Ｐ−１（０．１）、Ｐ−１（１．０）をそれぞれ調製した。光配向膜用組成物Ｐ−１、並びに検量線作成用の組成物Ｐ−１（０．１）及びＰ−１（１．０）を洗浄したガラス板上にそれぞれスピンコートした後１２０℃で１分間加熱し、ガラス板上に設けられた厚さ０．３μｍのモデル膜をそれぞれ作製した。
得られたモデル膜について、Ｕｌｖａｃ−ＰＨＩ社製質量分析装置「ＴＲＩＦＴ Ｖ Ｎａｎｏ ＴＯＦ（一次イオンＢｉ_３ ^＋＋、加速電圧３０ｋＶ）」を用いて、モデル膜にＡｒ−ＧＣＩＢ銃（１５ｋＶ、２．５ｎＡ、５００μｍ四方）でエッチングしながら、膜に含まれるポリエステル化合物Ｂ由来のフラグメントイオンの膜厚方向の総和を総検出イオン量で規格化することで、光配向膜用組成物Ｐ−１に含まれるポリエステル化合物Ｂ比率を測定することにより計算上含まれるポリエステル化合物Ｂの量と検出イオン量との相関を求め、光配向膜中に含まれるポリエステル化合物Ｂ含有量の検量線を作成した。
上述した化合物Ｆについても、同様の操作により検量線を作成した。
また、光配向膜用組成物Ｐ−２、Ｐ−３についても同様の手順により上述のポリエステル化合物Ｂ含有量及び化合物Ｆ含有量の検量線を作成した。

［光配向膜表面の分析］
作製した光学フィルム１、２、４、５、６、１１、１２、及び１３について、光学異方性膜を粘着テープを用いて光配向膜上から除去した後、表出した光配向膜ＰＡ−１の表面を二次イオン質量分析装置で分析した。また、作製した光学フィルム３については、フィルム面から０．６°の角度で斜め切削してその切削面に表出した光配向膜の部位を二次イオン質量分析装置で分析した。得られた各化合物の規格化二次イオンピーク量から、上述した検量線に基づいて、それらの含有量の総量を算出した。つまり、光配向膜全質量に対する、光配向膜において光学異方性膜との境界領域に含まれるポリマー支持体の添加剤に由来する成分の量（質量％）を求めた。結果を表２に示す。

＜配向性＞
作製した光学フィルムについて、偏光顕微鏡を用いて消光位から２度ずらした状態で観察した。その結果、以下の基準で評価した。結果を下記表２に示す。
Ａ：液晶ダイレクタが均一に整って配向している
Ｂ：液晶ダイレクタの乱れがなく、面状が安定している
Ｃ：液晶ダイレクタの乱れが部分的であり、面状が安定している
Ｄ：液晶ダイレクタが広く乱れており、面状が安定していない

＜波長分散＞
ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、面内レターデーション（Ｒｅ（４５０ｎｍ）とＲｅ（５５０ｎｍ））測定波長の光を用いて測定し、波長分散Ｒｅ（４５０ｎｍ）/Ｒｅ（５５０ｎｍ）の値を示す。

表２中、比較例３の「測定不可」とは、配向性が著しく低く、測定できなかったことを意図する。

実施例１〜６は、適切な光配向膜形成用組成物、及び適切な光配向膜の形成条件を経たため、密着に優れ、かつ液晶化合物の配向状態が良好であった。
また、実施例２、実施例５、及び実施例６の対比から、特定重合性液晶化合物が上述した式（１−１）〜（１−１４）で表される化合物に該当する場合、得られる光学フィルムは、液晶化合物の配向状態がより良好であった。

一方、比較例１〜３は、ポリマー支持体と光配向膜形成用組成物との作用、及び光配向膜の形成条件が適切に設計されなかったため、ポリマー支持体と光配向膜との密着性、及び／又は液晶化合物の配向状態の均一性に劣るものであった。
より具体的には、比較例１においては、ポリマー支持体上に形成される光配向膜形成用組成物の塗膜（光異性化組成物層）が厚いことからポリマー支持体に作用する溶媒量が多く、これに起因して、ポリマー支持体の添加剤由来の成分の光異性化組成物層への過度な抽出が生じたことが理由であると推測される。この結果、得られる光学フィルムは、ポリマー支持体と光配向膜との密着性には優れるものの、光異性化組成物層の液晶化合物の配向状態の均一性に劣ると考えられる。
また、比較例２においては、光配向膜形成用組成物中の溶媒がポリマー支持体表面を膨潤する作用がない又は著しく弱いため、得られる光学フィルムのポリマー支持体と光配向膜との密着性が所望の要求を満たさなかったと考えられる。
また、比較例３においては、光配向膜形成用組成物の塗膜（光異性化組成物層）の塗膜の加熱時間を短くしたため光配向膜の架橋密度が小さく、これに起因して、光配向膜上に光学異方性膜形成用組成物の塗膜を形成した際に、ポリマー支持体の添加剤由来の成分の光異性化組成物層への過度な抽出が生じたことが理由であると推測される。この結果、得られる光学フィルムは、光異性化組成物層の液晶化合物の配向状態の均一性に劣ると考えられる。

〔有機ＥＬ用反射防止板（円偏光板）の評価〕
（ポジティブＣプレート膜１の作製）
特開２０１５−２００８６１号公報の［０１２４］段落に記載に記載されたポジティブＣプレートと同様の方法で、形成用仮支持体上にポジティブＣプレート膜Ｃ−１を有するフィルムを作製した。ただし、Ｒｔｈ（５５０）が−６９ｎｍとなるように、ポジティブＣプレートの厚みは制御した。

（円偏光板１の作製）
実施例１の光学フィルム１の光学異方性膜上に粘着剤層を設け、偏光板と貼合させた後セルロースアシレートフィルム１を剥離除去して、偏光板と光学異方性膜とが粘着剤で積層された積層体を作製した。さらに、光学異方性膜側に、粘着剤を介して上記で作製したポジティブＣプレート膜Ｃ−１を転写し、形成用仮支持体は除去し、円偏光板１を得た。

（円偏光板２、４、５、６の作製）
実施例１の光学フィルムに代えて実施例２、４、５、６の光学フィルム２、４、５、６を用いた以外は円偏光板１と同様にして、円偏光板２、４、５、６をそれぞれ作製した。

（円偏光板３の作製）
実施例３の光学フィルム３の光学異方性膜側に、粘着剤を介して上記で作製したポジティブＣプレート膜Ｃ−１を転写し、形成用仮支持体は除去した。また、光学積層体のセルロースアシレートフィルム１側に粘着剤を介して偏光板を貼り合わせて円偏光板３を得た。

（有機ＥＬパネルへの実装・評価）
次に、有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ ＳＩＩを分解し、円偏光板を剥離して、上記で作製した円偏光板１〜６を、ポジティブＣプレート側がパネル側となるよう粘着剤を介して貼合し、それぞれに対応する表示装置を作製した。
得られた表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、極角６０度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察したところ、いずれの円偏光板を用いた表示装置も黒浮きが全くなく、黒表示時のパネル色味はニュートラルであり、表示装置として極めて優れたものであった。

１０ 光学フィルム
３、１２ 光学異方性膜
２、１４ 光配向膜
１、１６ ポリマー支持体
１１ 光学異方性膜の光配向膜側の境界領域
１３ 光配向膜と光学異方性膜との界面
１５ 光配向膜の光学異方性膜側の境界領域
１８ ポジティブＣプレート
２０ 偏光板
２２ 偏光子
３０ 光学フィルムの製造工程
３１、３９ ロール
３２、３５ ダイ
３３、３６ 加熱装置
３４、３７ 光源
３８ バックアップロール

Claims (9)

1. 添加剤を含むポリマー支持体、光配向膜、及び光学異方性膜をこの順に積層してなる光学フィルムであって、
   前記光学異方性膜は、逆波長分散性の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物から形成されており、
   前記光配向膜において前記光学異方性膜との境界領域に含まれる、前記ポリマー支持体の添加剤に由来する成分の量が光配向膜全質量に対して０．１０〜０．５０質量％である、光学フィルム。
2. 前記逆波長分散性の重合性液晶化合物が、下記一般式（１）で表される化合物である、請求項１に記載の光学フィルム。
   Ｌ^１−ＳＰ^１−（Ｅ^３−Ａ^１）_ｍ−Ｅ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ^１−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｅ^４）_ｎ−ＳＰ^２−Ｌ^２ ・・・（１）
   式（１）中、Ｄ^１、Ｄ^２、Ｅ^１、Ｅ^２、Ｅ^３及びＥ^４は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、又は−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、又はＮＨ−で置換されていてもよい。
   Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、又はＮＨ−で置換されていてもよい。
   ＳＰ^１及びＳＰ^２は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、若しくは−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
   Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２の少なくとも一方は重合性基を表す。ただし、Ａｒ^１が、下記式（Ａｒ−３）で表される芳香環である場合、Ｌ^１及びＬ^２並びに下記式（Ａｒ−３）中のＬ^３及びＬ^４の少なくとも１つが重合性基を表す。
   ｍは、０〜２の整数を表し、ｍが２である場合、複数のＥ^３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
   ｎは、０〜２の整数を表し、ｎが２である場合、複数のＥ^４は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
   Ａｒ^１は、下記式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの芳香環を表す。
   式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−５）中、＊は、Ｄ^１又はＤ^２との結合位置を表す。
   Ｑ^１は、Ｎ又はＣＨを表す。
   Ｑ^２は、−Ｓ−、−Ｏ−、又は、−Ｎ（Ｒ^５）−を表し、Ｒ^５は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｙ^１は、置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は置換基を有してもよい炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。
   Ｚ^１、Ｚ^２、及びＺ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の１価の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ^６、−ＮＲ^７Ｒ^８、−ＳＲ^９、−ＣＯＯＲ^Ｘ、又は−ＯＣＯＲ^Ｙを表し、Ｒ^６〜Ｒ^９、Ｒ^Ｘ、及びＲ^Ｙは、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｚ^１及びＺ^２は、互いに結合して芳香環を形成してもよい。
   Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ^１０）−、−Ｓ−、及び−ＣＯ−からなる群から選択される基を表し、Ｒ^１０は、水素原子又は置換基を表す。
   Ｘは、水素原子、又は置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表す。
   Ｄ^３及びＤ^４は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、又は−ＣＯ−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   ＳＰ^３及びＳＰ^４は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ_２−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、若しくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表し、Ｑは、置換基を表す。
   Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、Ｌ^３及びＬ^４並びに前記式（１）中のＬ^１及びＬ^２の少なくとも１つが重合性基を表す。
   Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
   Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選択される少なくとも１つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
   Ａｘ及びＡｙにおける芳香環は、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙとが結合して環を形成していてもよい。
   Ｑ^３は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
3. 前記光配向膜が、
   架橋性基を含む重合体と、シンナメート基を有する低分子化合物と、を含む光配向膜形成用組成物から形成されるか、又は、
   架橋性基及び光配向性基を含む重合体を含む光配向膜形成用組成物から形成される、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 前記ポリマー支持体が、添加剤を含むセルロースアシレートフィルムである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
5. 前記添加剤が、ポリエステル化合物又は糖エステル化合物である、請求項４に記載の光学フィルム。
6. 前記ポリマー支持体のＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）が−１０〜１５ｎｍである、請求項４又は５に記載の光学フィルム。
7. 前記光学異方性膜が、前記光配向膜に対して剥離可能に設けられている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを有する、偏光板。
9. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム、又は請求項８に記載の偏光板を有する、画像表示装置。