JPWO2018203491A1 - 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 - Google Patents
含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2018203491A1 JPWO2018203491A1 JP2019515702A JP2019515702A JPWO2018203491A1 JP WO2018203491 A1 JPWO2018203491 A1 JP WO2018203491A1 JP 2019515702 A JP2019515702 A JP 2019515702A JP 2019515702 A JP2019515702 A JP 2019515702A JP WO2018203491 A1 JPWO2018203491 A1 JP WO2018203491A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- terminal
- carbon
- atom
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 fluorinated ether compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 73
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 98
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 89
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 70
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 209
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 89
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 68
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 50
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 31
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 29
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 23
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 21
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 9
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 10
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 58
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 27
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 23
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 14
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 10
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 9
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 7
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 7
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 4
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 4
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(2,2,2-trifluoroethoxy)ethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)OCC(F)(F)F CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USPWUOFNOTUBAD-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C(F)(F)F)C(F)=C1F USPWUOFNOTUBAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=N1 UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012448 Lithium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEDZLBFUGJTJGQ-UHFFFAOYSA-N [Na].COCCO[AlH]OCCOC Chemical compound [Na].COCCO[AlH]OCCOC JEDZLBFUGJTJGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N anhydrous collidine Natural products CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBHOOMGKXCMKIR-UHFFFAOYSA-N azane;methanol Chemical compound N.OC CBHOOMGKXCMKIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical compound [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N collidine Natural products CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N hypofluorous acid Chemical compound FO AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- LYUARYSAVQUGLK-UHFFFAOYSA-N lithium;triethylborane Chemical compound [Li].CCB(CC)CC LYUARYSAVQUGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- LAIZPRYFQUWUBN-UHFFFAOYSA-L nickel chloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Ni+2] LAIZPRYFQUWUBN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229950008618 perfluamine Drugs 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N perfluorotripropylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012419 sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride Substances 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N trihydridoboron Substances B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/321—Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds
- C08G65/325—Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
- C08G65/48—Polymers modified by chemical after-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyethers (AREA)
Abstract
Description
特許文献1に記載の含フッ素エーテル化合物(下式(1A)で表される化合物)は、以下のようにして製造される。
A1−O−(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x−CF2−COOR ・・・(14)
A1−O−(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x−CF2−CH2OH ・・・(15)
ただし、A1は、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、Rf11は、ペルフルオロアルキレン基であり、xは、1〜198の整数であり、Rは、アルキル基である。
A1−O−(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x−CF2−CH2OSO2CF3 ・・・(16)
A1−O−(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x−CF2−CH2−N(CH2CH=CH2)2 ・・・(17)
A1−O−(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x−CF2−CH2−N[CH2CH2CH2−SiR13 n1X1 3−n1]2 ・・・(1A)
ただし、R13は、水素原子または1価の炭化水素基であり、X1は、加水分解性基であり、n1は、0〜2の整数である。
・式(15)で表される化合物に反応させるCF3SO2Clが高価で、含フッ素エーテル化合物の製造コストが高くなる。
・式(16)で表される化合物にHN(CH2CH=CH2)2を反応させて式(17)で表される化合物を得るときに、取り扱いが難しいトリフルオロメチルスルホン酸が副生する。トリフルオロメチルスルホン酸の処理に手間がかかるため、含フッ素エーテル化合物の生産性が悪くなる。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−Z ・・・(1)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、
Zは、−OH、−OR4、−R5、ハロゲン原子または水素原子であり、R4およびR5は、それぞれ1価の炭化水素基である。
[2]前記Zが−OR4であり、アルコール溶媒または含フッ素溶媒中で式(1)で表される化合物にNH3を反応させる、[1]の製造方法。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基である。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NR21 2 ・・・(4)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、
Yは、HO−、R6O−またはハロゲン原子であり、R6は、1価の炭化水素基であり、
R21は、末端にビニル基を有する1価の有機基または1価の炭化水素基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)である。
[5]前記Yがハロゲン原子であり、前記R21が、アリル基またはアリルオキシアルキル基である、[4]の製造方法。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NR22 2 ・・・(4a)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−N[−R2−SiR3 nX3−n]2 ・・・(5)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、
R22は、末端にビニル基を有する1価の有機基であり、2つのR22は、同一であっても異なっていてもよく、
R2は、R22に由来する2価の有機基であり、
R3は、水素原子または1価の炭化水素基であり、
Xは、加水分解性基であり、
nは、0〜2の整数である。
工程1:下式(1)で表される化合物にNH3を反応させて、下式(2)で表される化合物を得る工程。
工程2:下式(2)で表される化合物に還元剤を反応させて、下式(3)で表される化合物を得る工程。
工程3:下式(3)で表される化合物にYR22を反応させて、下式(4a)で表される化合物を得る工程。
工程4:下式(4a)で表される化合物とHSiR3 nX3−nとをヒドロシリル化反応して、下式(5)で表される化合物を得る工程。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−Z ・・・(1)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NR22 2 ・・・(4a)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−N[−R2−SiR3 nX3−n]2 ・・・(5)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、
Zは、−OH、−OR4、−R5、ハロゲン原子または水素原子であり、R4およびR5は、それぞれ1価の炭化水素基であり、
Yは、HO−、R6O−またはハロゲン原子であり、R6は、1価の炭化水素基であり、
R22は、末端にビニル基を有する1価の有機基であり、
R2は、R22に由来する2価の有機基であり、
R3は、水素原子または1価の炭化水素基であり、
Xは、加水分解性基であり、
nは、0〜2の整数である。
[8]前記Zが−OR4であり、アルコール溶媒または含フッ素溶媒中で式(1)で表される化合物にNH3を反応させる、[7]の製造方法。
[9]前記Yがハロゲン原子であり、前記R22が、アリル基またはアリルオキシアルキル基である、[7]または[8]の製造方法。
[10]前記Qおよび前記R1がいずれも単結合である、[7]〜[9]のいずれかの製造方法。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基である。
[12]前記Qおよび前記R1がいずれも単結合である、[11]の化合物。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基である。
[14]前記Qおよび前記R1がいずれも単結合である、[13]の化合物。
本発明の含フッ素エーテル化合物は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本明細書における以下の用語の意味や化学式の記載様式は、以下の通りである。
オキシペルフルオロアルキレン基の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合(−O−)を形成する酸素原子を意味する。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによってシラノール基(Si−OH)を形成し得る基を意味する。たとえば、式(5)中のSiR3 nX3−nである。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、NMR分析法を用い、下記の方法で算出される。
1H−NMRおよび19F−NMRによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数(平均値)を求めることによって算出される。末端基は、たとえば式(5)中のAまたはSiR3 nX3−nである。
表面処理剤に好適に用いられる化合物(5)は、本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法において最終的に得られる目的物質である。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−N[−R2−SiR3 nX3−n]2 ・・・(5)
ただし、Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、mは、2〜200の整数であり、(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、R2は、後述する化合物(4)のR22に由来する2価の有機基であり、R3は、水素原子または1価の炭化水素基であり、Xは、加水分解性基であり、nは、0〜2の整数である。
Aとしては、化合物(5)によって形成される表面層の潤滑性および耐摩擦性にさらに優れる点から、炭素数1〜10のペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基がより好ましく、炭素数1〜3のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。
Qとしては、単結合、1つ以上の水素原子を含む炭素数1〜10のフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含む炭素数1〜10のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2〜10のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、ならびに、1つ以上の水素原子を含む炭素数2〜10のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基が好ましい。
Qが単結合でない場合、Qにおける水素原子の数は、表面層の外観に優れる点から、1以上であり、2以上が好ましく、3以上が特に好ましい。Qにおける水素原子の数は、表面層の撥水撥油性にさらに優れる点から、(Qの炭素数)×2以下が好ましく、(Qの炭素数)以下が特に好ましい。
Qが水素原子を有することによって、化合物(5)の液状媒体への溶解性が高くなる。そのため、コーティング液中で化合物(5)が凝集しにくく、また、基材の表面に塗布した後、乾燥させる途中に化合物(5)が凝集しにくいため、表面層の外観にさらに優れる。
Rf5Oとしては、A−O−が結合する炭素原子に水素原子を有するオキシフルオロアルキレン基が好ましく、CHFCF2Oが特に好ましい。Rf6Oとしては、Rf5Oが結合する炭素原子に水素原子を有するオキシフルオロアルキレン基が好ましく、CH2CF2O、CH2CF2CF2O、CH2CF2CF2CF2O等が挙げられる。−Rf5O−Rf6O−としては、−CHFCF2O−CH2CF2O−等が挙げられる。
Qは、単結合であることが特に好ましい。
Rf1としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、炭素数1〜6のペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数1〜4のペルフルオロアルキレン基がより好ましく、表面層の潤滑性にさらに優れる点から、炭素数1〜2のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
また、Rf1が分岐構造を有しないペルフルオロアルキレン基であれば、(Rf1O)mが直鎖構造となる。該構造の化合物(5)によれば、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。一方、ポリ(オキシペルフルオロアルキレン)鎖が分岐構造を有する場合、表面層の耐摩擦性および潤滑性がやや劣る。
2種以上のRf1Oが存在するとは、炭素数の異なる2種以上のRf1Oが存在すること、および、炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類(側鎖の数や側鎖の炭素数等)が異なる2種以上のRf1Oが存在することをいう。
2種以上のRf1Oの配置については、たとえば実施例の含フッ素エーテル化合物の場合、{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}で表される構造は、x1個の(CF2O)とx2個の(CF2CF2O)とがランダムに配置されていることを表す。また、(CF2CF2O−CF2CF2CF2CF2O)x3で表される構造は、x3個の(CF2CF2O)とx3個の(CF2CF2CF2CF2O)とが交互に配置されていることを表す。
ただし、m1は1以上の整数であり、m2は1以上の整数であり、m1+m2は2〜200の整数であり、m1個のCF2Oおよびm2個のCF2CF2Oの結合順序は限定されない。m3およびm4は、それぞれ、2〜200の整数であり、m5は、1〜100の整数である。
Rf2としては、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性にさらに優れる点から、炭素数1〜6のペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数1〜4のペルフルオロアルキレン基がより好ましく、表面層の潤滑性にさらに優れる点から、炭素数1〜2のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
Rf2は、たとえば、(Rf1O)mが、{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2}および(CF2CF2O)m3である場合、炭素数1のペルフルオロアルキレン基であり、(CF2CF2CF2O)m4である場合、炭素数2のペルフルオロアルキレン基であり、(CF2CF2O−CF2CF2CF2CF2O)m5である場合、炭素数3の直鎖のペルフルオロアルキレン基である。また、Rf1が分岐を有するペルフルオロアルキレン基の場合は、Rf2は分岐を有するペルフルオロアルキレン基となることがあり、たとえば、Rf1が(CF(CF3)CF2O)である場合は、Rf2は、CF(CF3)となる。
Rf2が分岐構造を有しないペルフルオロアルキレン基であれば、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。
R1としては、単結合、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数1〜10のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2〜10のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、ならびに、炭素数2〜10のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基が好ましく、炭素数1〜7のアルキレン基、および、炭素数2〜7のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基が特に好ましい。化合物(5)の製造のしやすさの点からは、単結合、−CH2−、−CH2CH2−、−CH2OCH2−および−CH2NHCH2−からなる群から選ばれる基(ただし、左側がRf2に結合する。)が好ましい。
R1は、単結合であることが特に好ましい。
R1は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、表面層の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。
R2としては、炭素数2〜10のアルキレン基、および、炭素数3〜10のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基が好ましく、炭素数2〜7のアルキレン基、および、炭素数3〜7のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基が特に好ましい。化合物(5)の製造のしやすさの点からは、−CH2CH2CH2−および−CH2CH2OCH2CH2CH2−(ただし、右側がSiに結合する。)が好ましい。
R2は、極性が高くかつ耐薬品性や耐光性が不充分なエステル結合を有しないため、表面層の初期の撥水性、耐薬品性および耐光性に優れる。
R2としては、表面層の耐光性に優れる点からは、エーテル性酸素原子を有しないものが特に好ましい。
化合物(5)中の2つのR2は、同一であっても異なっていてもよい。化合物(5)の製造のしやすさの点から、2つのR2は同一の基であることが好ましい。
SiR3 nX3−nは、加水分解性シリル基である。
化合物(5)は、末端に加水分解性シリル基を2つ有する。該構造の化合物(5)は基材と強固に化学結合するため、表面層は耐摩擦性に優れる。
また、化合物(5)は、一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する。該構造の化合物(5)は凝集しにくいため、表面層は外観に優れる。
Xとしては、化合物(5)の製造のしやすさの点から、アルコキシ基およびハロゲン原子が好ましい。Xとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物(5)の保存安定性に優れる点から、炭素数1〜4のアルコキシ基が好ましく、化合物(5)の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
R3としては、1価の炭化水素基が好ましく、1価の飽和炭化水素基が特に好ましい。1価の飽和炭化水素基の炭素数は、1〜6が好ましく、1〜3がより好ましく、1〜2が特に好ましい。R3の炭素数がこの範囲であると、化合物(5)を製造しやすい。
化合物(5)中の2つのSiR3 nX3−nは、同一であっても異なっていてもよい。化合物(5)の製造のしやすさの点から、同一の基であることが好ましい。
化合物(5)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性および耐光性にさらに優れる点から好ましい。
化合物(1)は、本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法において、出発物質となる。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−Z ・・・(1)
ただし、A、Q、(Rf1O)m、Rf2およびR1は、化合物(5)で説明したA、Q、(Rf1O)m、Rf2およびR1と同じであり、好ましい形態も同様である。Zは、−OH、−OR4、−R5、ハロゲン原子または水素原子であり、R4およびR5は、それぞれ1価の炭化水素基である。
化合物(2)は、化合物(5)等の、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第1の態様は、化合物(1)にNH3を反応させて化合物(2)を得る方法である。また、本発明が化合物(1)から化合物(5)を製造する方法である場合、工程1は、化合物(1)にNH3を反応させて化合物(2)を得る工程である。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
ただし、A、Q、(Rf1O)m、Rf2およびR1は、化合物(5)で説明したA、Q、(Rf1O)m、Rf2およびR1と同じであり、好ましい形態も同様である。
化合物(1)とNH3との反応は、溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、Zが−OR4の場合はZに対応したアルコール(HOR4)が好ましい。溶媒としては、含フッ素溶媒を用いることも好ましい。
含フッ素溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数4〜12の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばCF3CH2OCF2CF2H(旭硝子社製、アサヒクリン(登録商標)AE−3000)、C4F9OCH3(3M社製、ノベック(登録商標)7100)、C4F9OC2H5(3M社製、ノベック(登録商標)7200)、C2F5CF(OCH3)C3F7(3M社製、ノベック(登録商標)7300)等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
反応温度は、0〜400℃が好ましく、0〜300℃がより好ましく、10〜150℃が特に好ましい。
反応圧力は、0〜30MPa[gauge]が好ましく、0〜20MPa[gauge]がより好ましく0〜10MPa[gauge]が特に好ましい。
反応時間は、0超〜400時間が好ましく、0.01〜200時間がより好ましく、1〜150時間が特に好ましい。
生産性の高さを考慮した場合には高温高圧の方が望ましいが、安全性や操作性、目的物の高い選択性を考慮した場合には穏やかな条件が望ましい。
NH3の量は、化合物(1)の1モルに対して、0.5モル以上が好ましく、1モル以上が特に好ましい。上限は特に問わないが、1,000モルが好ましい。
化合物(1)とNH3との反応は、連続反応であっても回分反応(バッチ反応)であってもよい。
化合物(3)は、化合物(5)等の、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第2の態様は、化合物(2)に還元剤を反応させて化合物(3)を得る方法である。また、本発明が化合物(1)から化合物(5)を製造する方法である場合、工程2は、化合物(2)に還元剤を反応させて化合物(3)を得る工程である。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
ただし、A、Q、(Rf1O)m、Rf2およびR1は、化合物(5)で説明したA、Q、(Rf1O)m、Rf2およびR1と同じであり、好ましい形態も同様である。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ボラン(モノボラン、ジボラン等)、金属ナトリウム、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、金属触媒(パラジウム触媒、白金触媒等)の存在下の水素ガス等が挙げられる。
これらのうちの2種を併用してもよく、還元剤以外に助触媒を用いてもよい。
助触媒としてはルイス酸などが挙げられる。ルイス酸としては、金属ハロゲン化物やヨウ素などが挙げられる。金属ハロゲン化物の例としてはフッ化アルミニウム、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素、塩化クロム、塩化ニッケル六水和物、塩化チタン、塩化リチウムなどが挙げられる。
反応温度は、−20〜180℃が好ましく、−10〜150℃がより好ましく、0〜100℃がさらに好ましく、20〜90℃が特に好ましい。
反応時間は、0.1〜48時間が好ましく、3〜24時間が特に好ましい。
化合物(2)と還元剤との反応は、連続反応であっても回分反応(バッチ反応)であってもよい。
化合物(4)は、化合物(5)等の、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第3の態様は、化合物(3)にYR21を反応させて化合物(4)を得る方法である。また、本発明が化合物(1)から化合物(5)を製造する方法である場合、工程3は、化合物(3)にYR22を反応させて化合物(4a)を得る工程である。ただし、R22は、R21のうち末端にビニル基を有する1価の有機基のみを意味する。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NR21 2 ・・・(4)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NR22 2 ・・・(4a)
ただし、A、Q、(Rf1O)m、Rf2およびR1は、化合物(5)で説明したA、Q、(Rf1O)m、Rf2およびR1と同じであり、好ましい形態も同様である。Yは、HO−、R6O−またはハロゲン原子であり、R6は、1価の炭化水素基であり、R21は、末端にビニル基を有する1価の有機基または1価の炭化水素基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)であり、R22は、末端にビニル基を有する1価の有機基である。
Yとしては、反応性に優れる点から、HO−またはハロゲン原子が好ましく、ハロゲン原子が特に好ましい。ハロゲン原子としては、F、Cl、Br、Iが挙げられる。
R6において、1価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、これらの2種以上を組み合わせた基等が挙げられる。中でも反応工程が少ない点から、アルキル基が好ましい。1価の炭化水素基の炭素数は、合成時の分離の容易さや反応系に与える影響が少ない点から、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6がさらに好ましく、1が特に好ましい。
R21、R22において、末端にビニル基を有する1価の有機基としては、末端にビニル基を有する炭素数2〜10の脂肪族炭化水素基、および、末端にビニル基を有する炭素数3〜10の脂肪族炭化水素基の炭素−炭素原子間(ビニル基の炭素−炭素原子間を除く。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基が好ましく、末端にビニル基を有する炭素数2〜7の脂肪族炭化水素基、および、末端にビニル基を有する炭素数3〜7の脂肪族炭化水素基の炭素−炭素原子間(ビニル基の炭素−炭素原子間を除く。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基がより好ましい。
R22および末端にビニル基を有する1価の有機基であるR21としては、YR21、YR22を入手しやすい点から、アリル基およびアリルオキシアルキル基が好ましく、アリル基およびアルキル部分の炭素数が2〜6のアリルオキシアルキル基がさらに好ましく、−CH2CH=CH2および−CH2CH2OCH2CH=CH2が特に好ましい。
また、化合物(4)における2つのR21、および化合物(4a)における2つのR22は異なっていてもよい。化合物(4)および化合物(4a)の製造のしやすさの点から、2つのR21、2つのR22は同一の基であることが好ましい。
化合物(3)とYR21、YR22との反応は、反応を促進させる点から、塩基性化合物の存在下に行うことが好ましい。
塩基性化合物としては、塩基性有機化合物、塩基性無機化合物が挙げられる。
アルキルアミン化合物としては、トリエチルアミンが挙げられる。
複素環アミン化合物としては、ピリジン、ルチジン、コリジン、ピロール、ピリミジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン、2,6−ジメチルピリジン、2,6−ジ−tert−ブチルピリジン等が挙げられる。
塩基性化合物は、1種を単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
化合物(3)とYR21、YR22との反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。
相間移動触媒としては、臭化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等の第四級アンモニウム塩が挙げられる。
化合物(3)とYR21、YR22との反応は、溶解性に優れる点から、含フッ素溶媒中で行うことが好ましい。
含フッ素溶媒としては、化合物(2)の製造に用いることができる含フッ素溶媒と同様のものが挙げられ、好ましい形態も同様である。
溶媒は、1種を単独で用いても2種以上を併用して用いてもよい。
反応温度は、0〜200℃が好ましく、20〜150℃がより好ましく、50〜100℃が特に好ましい。
反応時間は、0.01〜24時間が好ましく、0.3〜20時間がより好ましく、0.3〜15時間が特に好ましい。
YR21、YR22の量は、化合物(3)の1モルに対して、0.5〜20モルが好ましく、1〜15モルがより好ましく、2〜8モルが特に好ましい。
化合物(3)とYR21、YR22との反応は、連続反応であっても回分反応(バッチ反応)であってもよい。
本発明の含フッ素エーテル化合物の製造方法の第4の態様は、化合物(4a)とHSiR3 nX3−nとをヒドロシリル化反応して、化合物(5)を得る方法である。また、本発明が化合物(1)から化合物(5)を製造する方法である場合、工程4は、化合物(4a)とHSiR3 nX3−nとをヒドロシリル化反応して、化合物(5)を得る工程である。
HSiR3 nX3−nにおけるR3、Xおよびnは、化合物(5)で説明したR3、Xおよびnと同じであり、好ましい形態も同様である。
HSiR3 nX3−nとしては、HSi(OCH3)3、HSiCH3(OCH3)2、HSi(OCH2CH3)3、HSiCl3、Si(OCOCH3)3、および、HSi(NCO)3が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、HSi(OCH3)3が特に好ましい。
ヒドロシリル化反応は、白金、パラジウム、銀、金、ロジウム等の遷移金属触媒または有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いて行うことが好ましい。
反応温度は、0〜150℃が好ましく、10〜100℃がより好ましく、20〜60℃が特に好ましい。
反応時間は、0.01〜24時間が好ましく、1〜15時間がより好ましく、3〜10時間が特に好ましい。
以下、「%」は特に断りのない限り「質量%」である。
例1〜13は実施例である。
(転化率および選択率)
反応生成物についてガスクロマトグラフィ、1H−NMRおよび19F−NMRで分析することによって組成解析を行い、転化率および選択率を算出した。
含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、1H−NMRおよび19F−NMRによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数(平均値)を求めることによって算出した。
特許文献1の実施例の例1−1〜例1−4を参照して、化合物(1−1)を得た。
CF3CF2CF2−O−(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}−CF2−CO−OCH3 ・・・(1−1)
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(1−1)の数平均分子量:4,030。
CF3CF2CF2−O−(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}−CF2−CO−NH2 ・・・(2−1)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):7.2(2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):−52.5〜−55.9(36F)、−81.7(1F)、−82.5(3F)、−83.2(1F)、−89.3〜−91.1(90F)、−130.9(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(2−1)の数平均分子量:4,020。
化合物(1−1)と液体NH3との反応条件を表1に記載の条件に変更した以外は例1と同様にして化合物(2−1)を得た。転化率および選択率を表1に示す。
化合物(2−1)に未反応物や副生成物が残留すると最終生成物(製品)である化合物(5−1)に影響する。そのため、未反応物を減らすために転化率は高い方が望まれる。また、副生成物を減らすために選択率は高い方が望まれる。よって、化合物(1−1)とNH3との反応は、低温かつ長時間で行うことが望ましい。
ニッケル製の100mLのオートクレーブに、化合物(1−1)の10.0g、ジクロロペンタフルオロプロパン(旭硝子社製、AK−225)100g、2.0mol/Lのアンモニア−メタノール溶液の5.0gを入れ、25℃で8時間撹拌した。溶媒を留去し、化合物2−1の14.8g(転化率99.0収率98.9%)を得た。
100mLの3つ口フラスコに例3で得た化合物(2−1)の20gをテトラヒドロフラン(以下、THFと記す。)の20gに溶解させ、これを氷浴で冷却しながら水素化アルミニウムリチウムの0.34gを溶解させたTHF溶液にゆっくり滴下した。滴下後、70℃まで昇温し、15時間撹拌した。その後、氷冷し、水酸化カリウム水溶液および水でクエンチした後、セライトで濾過し、溶媒を留去し、化合物(3−1)の19.9g(収率99%、転化率99.0%、選択率100.0%)を得た。
CF3CF2CF2−O−(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}−CF2−CH2−NH2 ・・・(3−1)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):3.2(2H)、5.2(2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):−52.0〜−55.7(36F)、−74.3(1F)、−82.1(3F)、−89.5〜−91.1(90F)、−130.3(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(3−1)の数平均分子量:4,010。
50mLの3つ口フラスコ内で、炭酸水素カリウムの0.1g(関東化学社製)をTHFの23.7gおよびジメチルスルホキシドの10.5gの混合溶媒に溶解させた。フラスコ内の溶液に、例6で得た化合物(3−1)の10.3gおよびBrCH2CH=CH2(東ソー有機化学社製)の1.2gを加え、70℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応粗液をろ過し、溶媒を減圧留去し、ガスクロマトグラフで分画し、化合物(4−1)の10.1g(収率94%)を得た。
CF3CF2CF2−O−(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}−CF2−CH2−N(−CH2CH=CH2)2 ・・・(4−1)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):2.9(2H)、3.1(4H)、5.2(4H)、5.7(2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):−52.1〜−55.7(36F)、−74.3(1F)、−82.2(3F)、−89.5〜−91.0(90F)、−130.4(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(4−1)の数平均分子量:4,090。
例7で得た化合物(4−1)の10.1g、白金/1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2%)の0.03g、HSi(OCH3)3の1.2g、ジメチルスルホキシドの0.01gおよび1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(東京化成工業社製)の0.4gを入れ、40℃で10時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径0.2μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物(4−1)の2つのアリル基がヒドロシリル化された化合物(5−1)の9.5g(収率89%)を得た。
CF3CF2CF2−O−(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}−CF2−CH2−N[−CH2CH2CH2−Si(OCH3)3]2 ・・・(5−1)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):0.5(4H)、1.5(4H)、2.5(4H)、3.0(2H)、3.4(18H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):−52.2〜−55.5(36F)、−74.1(1F)、−76.9(1F)、−82.3(3F)、−89.3〜−91.2(90F)、−130.8(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(5−1)の数平均分子量:4,330。
国際公開第2013/121984号の実施例の例6−1〜例6−4を参照して、化合物(1−2)を得た。
CF3−O−(CF2CF2O−CF2CF2CF2CF2O)x3−CF2CF2O−CF2CF2CF2−CO−OCH3 ・・・(1−2)
単位数x3の平均値:13、化合物(1−2)の数平均分子量:4,800。
CF3−O−(CF2CF2O−CF2CF2CF2CF2O)x3−CF2CF2O−CF2CF2CF2−CO−NH2・・・(2−2)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):7.4(2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):56.1(3F)、−83.1〜−83.5(54F)、−88.5〜−89.2(54F)、−91.1(2F)、−119.5(2F)、−126.7(52F)、−126.8(2F)。
単位数x3の平均値:13、化合物(2−2)の数平均分子量:4,790。
100mLの3つ口フラスコに例9で得た化合物(2−2)の20gをTHFの20gに溶解させ、これを氷浴で冷却しながら水素化アルミニウムリチウムの0.32gを溶解させたTHF溶液にゆっくり滴下した。滴下後、70℃まで昇温し、15時間撹拌した。その後、氷冷し、水酸化カリウム水溶液および水でクエンチした後、セライトで濾過し、溶媒を留去し、化合物(3−2)の19.9g(収率99%、転化率99.0%、選択率100.0%)を得た。
CF3−O−(CF2CF2O−CF2CF2CF2CF2O)x3−CF2CF2O−CF2CF2CF2−CH2−NH2 ・・・(3−2)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):3.1(2H)、5.4(2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):55.9(3F)、−83.8〜−84.2(54F)、−89.5〜−89.1(54F)、−91.1(2F)、−119.1(2F)、−126.3(52F)、−126.3(2F)。
単位数x3の平均値:13、化合物(3−2)の数平均分子量:4,770。
50mLの3つ口フラスコ内で、炭酸水素カリウムの0.1g(関東化学社製)をTHFの23.7gおよびジメチルスルホキシドの10.5gの混合溶媒に溶解させた。フラスコ内の溶液に、例10で得た化合物(3−2)の10.0gおよびBrCH2CH=CH2(東ソー有機化学社製)の1.0gを加え、70℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応粗液をろ過し、溶媒を減圧留去し、ガスクロマトグラフで分画し、化合物(4−2)の9.6g(収率95%)を得た。
CF3−O−(CF2CF2O−CF2CF2CF2CF2O)x3−CF2CF2O−CF2CF2CF2−CH2−N(−CH2CH=CH2)2 ・・・(4−2)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):3.1(2H)、3.2(4H)、5.2(4H)、5.8(2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):56.3(3F)、−84.0(54F)、−89.1(54F)、−91.4(2F)、−120.8(2F)、−126.7(54F)。
単位数x3の平均値:13、化合物(4−2)の数平均分子量:4,800。
例11で得た化合物(4−2)の9.0g、白金/1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2%)の0.03g、HSi(OCH3)3の1.0g、ジメチルスルホキシドの0.01gおよび1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(東京化成工業社製)の0.4gを入れ、40℃で10時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径0.2μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物(4−2)の2つのアリル基がヒドロシリル化された化合物(5−2)の8.5g(収率90%)を得た。
CF3−O−(CF2CF2O−CF2CF2CF2CF2O)x3−CF2CF2O−CF2CF2CF2−CH2−N[−CH2CH2CH2−Si(OCH3)3]2 ・・・(5−2)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):0.7(4H)、1.6(4H)、2.6(4H)、3.2(2H)、3.6(18H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):56.2(3F)、−83.9(54F)、−89.3(54F)、−91.4(2F)、−121.0(2F)、−126.8(54F)。
単位数x3の平均値:13、化合物(5−2)の数平均分子量:5,040。
50mLの3つ口フラスコ内で、炭酸水素カリウムの0.1g(関東化学社製)をTHFの23.7gおよびジメチルスルホキシドの10.5gの混合溶媒に溶解させた。フラスコ内の溶液に、例6で得た化合物(3−1)の10.0gおよびBrCH2CH2OCH2CH=CH2の1.7gを加え、70℃で20時間撹拌した。反応終了後、反応粗液をろ過し、溶媒を減圧留去し、ガスクロマトグラフで分画し、化合物(4−3)の9.8g(収率95%)を得た。
CF3CF2CF2−O−(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}−CF2−CH2−N(−CH2CH2OCH2CH=CH2)2 ・・・(4−3)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):2.5(4H)、2.7(2H)、3.7(4H)、4.1(4H)、5.3(2H)、5.5(2H)、6.1(2H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):−52.1〜−55.6(36F)、−74.4(1F)、−82.2(3F)、−89.5〜−91.1(90F)、−130.4(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(4−3)の数平均分子量:4,170。
例13で得た化合物(4−3)の9.0g、白金/1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(白金含有量:2%)の0.03g、HSi(OCH3)3の1.1g、ジメチルスルホキシドの0.01gおよび1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(東京化成工業社製)の0.4gを入れ、40℃で10時間撹拌した。反応終了後、溶媒等を減圧留去し、孔径0.2μmのメンブランフィルタでろ過し、化合物(4−3)の2つのアリル基がヒドロシリル化された化合物(5−3)の8.6g(収率90%)を得た。
CF3CF2CF2−O−(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}−CF2−CH2−N[−CH2CH2OCH2CH2CH2−Si(OCH3)3]2 ・・・(5−3)
1H−NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:TMS) δ(ppm):0.6(4H)、1.5(4H)、2.5(4H)、2.7(2H)、3.4(4H)、3.5(18H)、3.6(4H)。
19F−NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):−52.3〜−55.2(36F)、−74.4(1F)、−77.1(1F)、−82.4(3F)、−89.3〜−91.3(90F)、−130.9(2F)。
単位数x1の平均値:18、単位数x2の平均値:20、化合物(5−3)の数平均分子量:4,410。
なお、2017年05月02日に出願された日本特許出願2017−091740号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (14)
- 下式(1)で表される化合物にNH3を反応させて、下式(2)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−Z ・・・(1)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、
Zは、−OH、−OR4、−R5、ハロゲン原子または水素原子であり、R4およびR5は、それぞれ1価の炭化水素基である。 - 前記Zが−OR4であり、アルコール溶媒または含フッ素溶媒中で式(1)で表される化合物にNH3を反応させる、請求項1に記載の製造方法。
- 下式(2)で表される化合物に還元剤を反応させて、下式(3)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基である。 - 下式(3)で表される化合物にYR21を反応させて、下式(4)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NR21 2 ・・・(4)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、
Yは、HO−、R6O−またはハロゲン原子であり、R6は、1価の炭化水素基であり、
R21は、末端にビニル基を有する1価の有機基または1価の炭化水素基(ただし、末端にビニル基を有するものを除く。)である。 - 前記Yがハロゲン原子であり、前記R21が、アリル基またはアリルオキシアルキル基である、請求項4に記載の製造方法。
- 下式(4a)で表される化合物とHSiR3 nX3−nとをヒドロシリル化反応して、下式(5)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NR22 2 ・・・(4a)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−N[−R2−SiR3 nX3−n]2 ・・・(5)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、
R22は、末端にビニル基を有する1価の有機基であり、2つのR22は、同一であっても異なっていてもよく、
R2は、R22に由来する2価の有機基であり、
R3は、水素原子または1価の炭化水素基であり、
Xは、加水分解性基であり、
nは、0〜2の整数である。 - 下記工程1〜4を経て下式(1)で表される化合物から下式(5)で表される化合物を得ることを特徴とする含フッ素エーテル化合物の製造方法。
工程1:下式(1)で表される化合物にNH3を反応させて、下式(2)で表される化合物を得る工程。
工程2:下式(2)で表される化合物に還元剤を反応させて、下式(3)で表される化合物を得る工程。
工程3:下式(3)で表される化合物にYR22を反応させて、下式(4a)で表される化合物を得る工程。
工程4:下式(4a)で表される化合物とHSiR3 nX3−nとをヒドロシリル化反応して、下式(5)で表される化合物を得る工程。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−Z ・・・(1)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NR22 2 ・・・(4a)
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−N[−R2−SiR3 nX3−n]2 ・・・(5)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基であり、
Zは、−OH、−OR4、−R5、ハロゲン原子または水素原子であり、R4およびR5は、それぞれ1価の炭化水素基であり、
Yは、HO−、R6O−またはハロゲン原子であり、R6は、1価の炭化水素基であり、
R22は、末端にビニル基を有する1価の有機基であり、
R2は、R22に由来する2価の有機基であり、
R3は、水素原子または1価の炭化水素基であり、
Xは、加水分解性基であり、
nは、0〜2の整数である。 - 前記Zが−OR4であり、アルコール溶媒または含フッ素溶媒中で式(1)で表される化合物にNH3を反応させる、請求項7に記載の製造方法。
- 前記Yがハロゲン原子であり、前記R22が、アリル基またはアリルオキシアルキル基である、請求項7または8に記載の製造方法。
- 前記Qおよび前記R1がいずれも単結合である、請求項7〜9のいずれか一項に記載の製造方法。
- 下式(2)で表される含フッ素エーテル化合物。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CO−NH2 ・・・(2)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基である。 - 前記Qおよび前記R1がいずれも単結合である、請求項11に記載の化合物。
- 下式(3)で表される含フッ素エーテル化合物。
A−O−Q−(Rf1O)m−Rf2−R1−CH2−NH2 ・・・(3)
ただし、
Aは、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基であり、
Qは、単結合、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基、1つ以上の水素原子を含むフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)にエーテル性酸素原子を有する基、1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または1つ以上の水素原子を含む炭素数2以上のフルオロアルキレン基の末端(ただし、(Rf1O)mと結合する側に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基であり、
Rf1およびRf2は、それぞれ独立にペルフルオロアルキレン基であり、
mは、2〜200の整数であり、
(Rf1O)mは、2種以上のRf1Oからなるものであってもよく、
R1は、単結合、アルキレン基、アルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の末端(ただし、Rf2と結合する側の末端に限る。)および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは−NH−を有する基である。 - 前記Qおよび前記R1がいずれも単結合である、請求項13に記載の化合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017091740 | 2017-05-02 | ||
JP2017091740A JP2017137511A (ja) | 2017-05-02 | 2017-05-02 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 |
PCT/JP2018/016480 WO2018203491A2 (ja) | 2017-05-02 | 2018-04-23 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018203491A1 true JPWO2018203491A1 (ja) | 2020-03-12 |
JP7180593B2 JP7180593B2 (ja) | 2022-11-30 |
Family
ID=59566726
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017091740A Pending JP2017137511A (ja) | 2017-05-02 | 2017-05-02 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 |
JP2019515702A Active JP7180593B2 (ja) | 2017-05-02 | 2018-04-23 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017091740A Pending JP2017137511A (ja) | 2017-05-02 | 2017-05-02 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2017137511A (ja) |
CN (1) | CN110612319A (ja) |
WO (1) | WO2018203491A2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200084348A (ko) * | 2017-11-21 | 2020-07-10 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 플루오로폴리에테르기 함유 폴리머, 표면처리제 및 물품 |
WO2022209502A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | Agc株式会社 | 表面処理剤、物品、物品の製造方法、及び化合物 |
WO2022270318A1 (ja) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル混合物、コーティング剤、物品、及び物品の製造方法 |
WO2023228980A1 (ja) * | 2022-05-25 | 2023-11-30 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07258275A (ja) * | 1994-02-04 | 1995-10-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
WO1998055464A1 (fr) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolyethers et leur utilisation |
JP2000094567A (ja) * | 1998-09-17 | 2000-04-04 | Toppan Printing Co Ltd | 防汚層の形成方法 |
JP3270469B2 (ja) * | 1991-01-11 | 2002-04-02 | ダイネオン リミティド ライアビリティー カンパニー | 硬化性フルオロカーボンエラストマー |
WO2009008380A1 (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Asahi Glass Company, Limited | 表面処理剤、物品、および新規含フッ素エーテル化合物 |
WO2013121984A1 (ja) * | 2012-02-17 | 2013-08-22 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法 |
WO2017038832A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5637748A (en) * | 1995-03-01 | 1997-06-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for synthesizing fluorinated nitrile compounds |
US6423871B1 (en) * | 1999-02-26 | 2002-07-23 | University Of South Florida | Efficient synthesis of secondary amines by selective alkylation of primary amines |
JP6470591B2 (ja) * | 2014-02-28 | 2019-02-13 | 三洋化成工業株式会社 | 含フッ素脂肪族アミンの製造方法 |
EP4008740B1 (en) * | 2015-09-01 | 2023-05-10 | AGC Inc. | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition, coating liquid and article |
GB201609437D0 (en) * | 2016-05-27 | 2016-07-13 | Sphere Fluidics Ltd | Surfactants |
JP2017137510A (ja) * | 2017-05-02 | 2017-08-10 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 |
JP2017137509A (ja) * | 2017-05-02 | 2017-08-10 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 |
-
2017
- 2017-05-02 JP JP2017091740A patent/JP2017137511A/ja active Pending
-
2018
- 2018-04-23 JP JP2019515702A patent/JP7180593B2/ja active Active
- 2018-04-23 CN CN201880028663.0A patent/CN110612319A/zh active Pending
- 2018-04-23 WO PCT/JP2018/016480 patent/WO2018203491A2/ja active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3270469B2 (ja) * | 1991-01-11 | 2002-04-02 | ダイネオン リミティド ライアビリティー カンパニー | 硬化性フルオロカーボンエラストマー |
JPH07258275A (ja) * | 1994-02-04 | 1995-10-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
WO1998055464A1 (fr) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolyethers et leur utilisation |
JP2000094567A (ja) * | 1998-09-17 | 2000-04-04 | Toppan Printing Co Ltd | 防汚層の形成方法 |
WO2009008380A1 (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Asahi Glass Company, Limited | 表面処理剤、物品、および新規含フッ素エーテル化合物 |
WO2013121984A1 (ja) * | 2012-02-17 | 2013-08-22 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法 |
WO2017038832A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
FRIESEN, CHADRON ET AL.: "Understanding the influence of hydrocarbon insulators in fluorinated amines: Reactivity of poly(hexa", JOURNAL OF FLUORINE CHEMISTRY, vol. 129, JPN6022013350, 2008, pages 193 - 203, ISSN: 0004742874 * |
近藤行成, 外2名: "末端官能基を有するペルフルオロポリエーテルの合成と吸着特性", 色材協会誌, vol. 73巻, 第11号, JPN7022001648, 2000, pages 5 - 10, ISSN: 0004742873 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018203491A2 (ja) | 2018-11-08 |
JP7180593B2 (ja) | 2022-11-30 |
WO2018203491A3 (ja) | 2018-12-27 |
CN110612319A (zh) | 2019-12-24 |
JP2017137511A (ja) | 2017-08-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11643572B2 (en) | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition, coating liquid and article | |
CN109071797B (zh) | 含氟醚化合物、涂布液、物品和新型化合物 | |
JPWO2018203491A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 | |
US11634374B2 (en) | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition, coating liquid, article and its production method | |
CN111051383B (zh) | 含氟醚化合物、组合物及物品 | |
JPWO2019044479A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 | |
KR20180044282A (ko) | 함불소 에테르 화합물, 함불소 에테르 조성물, 코팅액 및 물품 | |
KR20150138179A (ko) | 함불소 에테르 화합물, 함불소 에테르 조성물 및 코팅액, 그리고 표면층을 갖는 기재 및 그 제조 방법 | |
KR20160129829A (ko) | 함불소 에테르 조성물, 그 제조 방법, 코팅액, 표면 처리층을 갖는 기재 및 그 제조 방법 | |
WO2013121985A1 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、ならびに表面処理層を有する基材およびその製造方法 | |
JP7180665B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品及びその製造方法 | |
TW201714918A (zh) | 經含有氟聚醚之聚合物改質的矽烷 | |
JPWO2019039083A1 (ja) | 含フッ素化合物、組成物、コーティング液、および含フッ素化合物の製造方法 | |
JP2019044179A (ja) | 化合物、組成物、表面処理剤、物品および化合物の製造方法 | |
JP2017137510A (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
JP2017137509A (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
JP6705557B2 (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 | |
WO2022059623A1 (ja) | 組成物、表面層付き基材、表面層付き基材の製造方法、化合物および化合物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210209 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210209 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20210916 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220405 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220524 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220809 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221005 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221018 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221031 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7180593 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |