CN110612319A - 含氟醚化合物的制造方法和含氟醚化合物 - Google Patents
含氟醚化合物的制造方法和含氟醚化合物 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110612319A CN110612319A CN201880028663.0A CN201880028663A CN110612319A CN 110612319 A CN110612319 A CN 110612319A CN 201880028663 A CN201880028663 A CN 201880028663A CN 110612319 A CN110612319 A CN 110612319A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- group
- carbon
- compound
- oxygen atom
- etheric oxygen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 ether compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 87
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 68
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 67
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims abstract description 67
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 57
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 71
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 65
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 36
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 243
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 103
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 65
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 50
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 27
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 14
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims 5
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 abstract description 12
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 31
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 20
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 13
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 12
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 11
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 10
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 4
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 4
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 3
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 3
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N hypofluorous acid Chemical compound FO AQYSYJUIMQTRMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LUMVCLJFHCTMCV-UHFFFAOYSA-M potassium;hydroxide;hydrate Chemical compound O.[OH-].[K+] LUMVCLJFHCTMCV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJSRKJAHJGCPGC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane Chemical compound FC(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F XJSRKJAHJGCPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(2,2,2-trifluoroethoxy)ethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)OCC(F)(F)F CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USPWUOFNOTUBAD-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C(F)(F)F)C(F)=C1F USPWUOFNOTUBAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=N1 UWKQJZCTQGMHKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021555 Chromium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004721 HSiCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000012448 Lithium borohydride Substances 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005948 SO2Cl Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEDZLBFUGJTJGQ-UHFFFAOYSA-N [Na].COCCO[AlH]OCCOC Chemical compound [Na].COCCO[AlH]OCCOC JEDZLBFUGJTJGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 description 1
- RMRFFCXPLWYOOY-UHFFFAOYSA-N allyl radical Chemical compound [CH2]C=C RMRFFCXPLWYOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N anhydrous collidine Natural products CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- CBHOOMGKXCMKIR-UHFFFAOYSA-N azane;methanol Chemical compound N.OC CBHOOMGKXCMKIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical compound [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N collidine Natural products CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- LAIZPRYFQUWUBN-UHFFFAOYSA-L nickel chloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Ni+2] LAIZPRYFQUWUBN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N osmium dioxide Inorganic materials O=[Os]=O XSXHWVKGUXMUQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950008618 perfluamine Drugs 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N perfluorotripropylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JAJLKEVKNDUJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012419 sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride Substances 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N sym-collidine Natural products CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N trihydridoboron Substances B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical compound C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/321—Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds
- C08G65/325—Polymers modified by chemical after-treatment with inorganic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
- C08G65/48—Polymers modified by chemical after-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyethers (AREA)
Abstract
本发明提供含氟醚化合物的制造方法,其能够以低成本且生产性良好地制造适合用于表面处理剂的含氟醚化合物或可用作该含氟醚化合物的中间体的含氟醚化合物。含氟醚化合物的制造方法是使NH3与A‑O‑Q‑(Rf1O)m‑Rf2‑R1‑CO‑Z反应,得到A‑O‑Q‑(Rf1O)m‑Rf2‑R1‑CO‑NH2。其中,A是碳数1~20的全氟烷基,Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基等,Rf1和Rf2分别独立地为全氟亚烷基,m是2~200的整数,(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,R1是单键、亚烷基等,Z是‑OR4等,R4是1价的烃基。
Description
技术领域
本发明涉及含氟醚化合物的制造方法和含氟醚化合物。
背景技术
具有聚(氧基全氟亚烷基)链的含氟醚化合物因为能够在基材的表面形成显示高润滑性、斥水斥油性等的表面层,所以适合用于表面处理剂。含有含氟醚化合物的表面处理剂在要求长期维持表面层即使用手指反复摩擦斥水斥油性也不易降低的性能(耐摩擦性)和通过擦拭能够容易地除去附着于表面层的指纹的性能(指纹污迹除去性)的用途中,例如用作构成触摸面板的手指接触面的部件的表面处理剂。
作为能够在基材的表面形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐化学品性和耐光性优良的表面层的含氟醚化合物,提出了在含氟醚化合物的一末端通过基于氮原子的分支结构引入2个水解性甲硅烷基而得的含氟醚化合物(专利文献1)。
专利文献1中记载的含氟醚化合物(下式(1A)所示的化合物)如下制造。
通过使用还原剂将下式(14)所示的化合物氢还原,得到下式(15)所示的化合物。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-COOR…(14)
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2OH…(15)
其中,A1是碳数1~20的全氟烷基,Rf11是全氟亚烷基,x是1~198的整数,R是烷基。
在含氟溶剂中、碱性化合物的存在下,使CF3SO2Cl与上述式(15)所示的化合物反应,得到下式(16)所示的化合物。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2OSO2CF3…(16)
在碱性化合物的存在下,使HN(CH2CH=CH2)2与上述式(16)所示的化合物反应,得到下式(17)所示的化合物。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-N(CH2CH=CH2)2…(17)
使上述式(17)所示的化合物和HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应,得到下式(1A)所示的化合物。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]2…(1A)
其中,R13是氢原子或1价的烃基,X1是水解性基团,n1是0~2的整数。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2017/038832号
发明内容
发明所要解决的技术问题
可是,专利文献1中记载的方法具有以下问题。
·与式(15)所示的化合物进行反应的CF3SO2Cl的价格高、含氟醚化合物的制造成本高。
·在使HN(CH2CH=CH2)2与式(16)所示的化合物反应以得到式(17)所示的化合物时,生成难以处理的三氟甲基磺酸副产物。三氟甲基磺酸的处理耗费时间,因此含氟醚化合物的生产性差。
本发明的目的是提供能够以低成本且生产性良好地制造适合用于表面处理剂的含氟醚化合物或可用作该含氟醚化合物的中间体的含氟醚化合物的含氟醚化合物的制造方法、和可用作适合用于表面处理剂的含氟醚化合物的中间体的含氟醚化合物。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明提供具有下述[1]和[2]的构成的含氟醚化合物的制造方法、具有下述[3]的构成的含氟醚化合物的制造方法、具有下述[4]和[5]的构成的含氟醚化合物的制造方法、具有下述[6]的构成的含氟醚化合物的制造方法、具有下述[7]~[10]的构成的含氟醚化合物的制造方法、具有下述[11]和[12]的构成的含氟醚化合物、以及具有下述[13]和[14]的构成的含氟醚化合物。
[1]一种含氟醚化合物的制造方法,其特征是,使NH3与下式(1)所示的化合物反应,得到下式(2)所示的化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-Z…(1)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,
Z是-OH、-OR4、-R5、卤原子或氢原子,R4和R5分别是1价的烃基。
[2]如[1]所述的制造方法,其中,上述Z是-OR4,使NH3与式(1)所示的化合物在醇溶剂或含氟溶剂中反应。
[3]一种含氟醚化合物的制造方法,其特征是,使还原剂与下式(2)所示的化合物反应,得到下式(3)所示的化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。
[4]一种含氟醚化合物的制造方法,其特征是,使YR21与下式(3)所示的化合物反应,得到下式(4)所示的化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NR21 2…(4)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,
Y是HO-、R6O-或卤原子,R6是1价的烃基,
R21是在末端具有乙烯基的1价的有机基团或除末端具有乙烯基的基团以外的1价的烃基。
[5]如[4]所述的制造方法,其中,上述Y是卤原子,上述R21是烯丙基或烯丙氧基烷基。
[6]一种含氟醚化合物的制造方法,其特征是,使下式(4a)所示的化合物与HSiR3 nX3-n进行氢化硅烷化反应,得到下式(5)所示的化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NR22 2…(4a)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-N[-R2-SiR3 nX3-n]2…(5)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,
R22是在末端具有乙烯基的1价的有机基团,2个R22可以相同也可以不同,
R2是来源于R22的2价的有机基团,
R3是氢原子或1价的烃基,
X是水解性基团,
n为0~2的整数。
[7]一种含氟醚化合物的制造方法,其特征是,经过下述工序1~4,从下式(1)所示的化合物得到下式(5)所示的化合物,
工序1:使NH3与下式(1)所示的化合物反应,得到下式(2)所示的化合物的工序;
工序2:使还原剂与下式(2)所示的化合物反应,得到下式(3)所示的化合物的工序;
工序3:使YR22与下式(3)所示的化合物反应,得到下式(4a)所示的化合物的工序;
工序4:使下式(4a)所示的化合物与HSiR3 nX3-n进行氢化硅烷化反应,得到下式(5)所示的化合物的工序;
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-Z…(1)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NR22 2…(4a)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-N[-R2-SiR3 nX3-n]2…(5)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,
Z是-OH、-OR4、-R5、卤原子或氢原子,R4和R5分别是1价的烃基,
Y是HO-、R6O-或卤原子,R6是1价的烃基,
R22是在末端具有乙烯基的1价的有机基团,
R2是来源于R22的2价的有机基团,
R3是氢原子或1价的烃基,
X是水解性基团,
n为0~2的整数。
[8]如[7]所述的制造方法,其中,上述Z是-OR4,使NH3与式(1)所示的化合物在醇溶剂或含氟溶剂中反应。
[9]如[7]或[8]所述的制造方法,其中,上述Y是卤原子,上述R22是烯丙基或烯丙氧基烷基。
[10]如[7]~[9]中任一项所述的制造方法,其中,上述Q和上述R1均为单键。
[11]下式(2)所示的含氟醚化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。
[12]如[11]所述的化合物,其中,上述Q和上述R1均为单键。
[13]下式(3)所示的含氟醚化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。
[14]如[13]所述的化合物,其中,上述Q和上述R1均为单键。
发明效果
根据本发明的含氟醚化合物的制造方法,能够以低成本且生产性良好地制造适合用于表面处理剂的含氟醚化合物或可用作该含氟醚化合物的中间体的含氟醚化合物。
本发明的含氟醚化合物可用作适合用于表面处理剂的含氟醚化合物的中间体。
具体实施方式
本说明书中,将式(1)所示的化合物记为化合物(1)。以其他式表示的化合物也同样如此记载。
本说明书中的以下用语的含义和化学式的记载方式如下所述。
氧基全氟亚烷基的化学式以其氧原子位于全氟亚烷基的右侧的方式表示。
“醚性氧原子”是指在碳原子-碳原子间形成醚键(-O-)的氧原子。
“水解性甲硅烷基”是指能够通过水解反应来形成硅烷醇基(Si-OH)的基团。例如,式(5)中的SiR3 nL3-n。
“表面层”是指在基材的表面形成的层。
使用NMR分析法,通过下述方法算出含氟醚化合物的“数均分子量”。
利用1H-NMR和19F-NMR,以末端基团为基准求出氧基全氟亚烷基的数量(平均值),从而算出数均分子量。末端基是例如式(5)中的A或SiR3 nL3-n。
[化合物(5)]
适合用于表面处理剂的化合物(5)是在本发明的含氟醚化合物的制造方法中最终得到的目标物质。
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-N[-R2-SiR3 nX3-n]2…(5)
其中,A是碳数1~20的全氟烷基,Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的末端(但仅限于与(Rf1O)m结合的一侧)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的末端(但仅限于与(Rf1O)m结合的一侧)和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,m是2~200的整数,(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,R1是单键、亚烷基、在亚烷基的末端(但仅限于与Rf2结合的一侧的末端)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的末端(但仅限于与Rf2结合的一侧的末端)和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,R2是来源于后述的化合物(4)的R22的2价有机基团,R3是氢原子或1价的烃基,X是水解性基团,n是0~2的整数。
(A基团)
作为A,从由化合物(5)形成的表面层的润滑性和耐摩擦性更优良的角度考虑,优选碳数1~10的全氟烷基,更优选碳数1~6的全氟烷基,特别优选碳数1~3的全氟烷基。
A在末端具有CF3-,因此化合物(5)的一侧的末端为CF3-,另一侧的末端为水解性甲硅烷基。利用该结构的化合物(5),能够形成低表面能的表面层,因此该表面层的润滑性和耐摩擦性优良。另一方面,两末端具有水解性甲硅烷基的以往的含氟醚化合物的情况下,表面层的润滑性和耐摩擦性不充分。
(Q基团)
作为Q,优选为单键、含有1个以上的氢原子的碳数1~10的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的碳数1~10的氟代亚烷基的末端(但仅限于与(Rf1O)m结合的一侧)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2~10的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、以及在含有1个以上的氢原子的碳数2~10的氟代亚烷基的末端(但仅限于与(Rf1O)m结合的一侧)和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团。
Q不为单键时,从表面层的外观优良的角度考虑,Q中的氢原子数在1以上,优选在2以上,特别优选在3以上。从表面层的斥水斥油性更为优良的角度考虑,Q中的氢原子数优选在(Q的碳数)×2以下,特别优选在(Q的碳数)以下。
Q具有氢原子,从而化合物(5)在液态介质中的溶解性变高。因此,在涂布液中化合物(5)不易凝聚,并且涂布至基材表面后,在干燥过程中化合物(5)不易凝聚,因此表面层的外观更为优良。
作为Q,特别优选单键、-Rf5O-和-Rf5O-Rf6O-。其中,Rf5、Rf6分别独立地表示具有氢原子的碳数2~6的氟代亚烷基。Rf5、Rf6中的氢原子数优选为1或2。
作为Rf5O,优选A-O-所结合的碳原子上具有氢原子的氧基氟代亚烷基,特别优选CHFCF2O。作为Rf6O,优选在Rf5O所结合的碳原子上具有氢原子的氧基氟代亚烷基,可例举CH2CF2O、CH2CF2CF2O、CH2CF2CF2CF2O等。作为-Rf5O-Rf6O-,可例举-CHFCF2O-CH2CF2O-等。
Q特别优选为单键。
((Rf1O)m)
作为Rf1,从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑,优选碳数1~6的全氟亚烷基,更优选碳数1~4的全氟亚烷基,从表面层的润滑性更为优良的角度考虑,特别优选碳数1~2的全氟亚烷基。
化合物(5)具有(Rf1O)m,因此氟原子的含量多。因此,化合物(5)能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性优良的表面层。
另外,Rf1如果是不具有分支结构的全氟亚烷基,则(Rf1O)m为直链结构。根据该结构的化合物(5),表面层的耐摩擦性和润滑性优良。另一方面,在聚(氧基全氟亚烷基)链具有分支结构的情况下,表面层的耐摩擦性和润滑性略差。
m优选为5~150的整数,特别优选为10~100的整数。m如果在上述范围的下限值以上,则表面层的斥水斥油性优良。m如果在上述范围的上限值以下,则表面层的耐摩擦性优良。即,化合物(5)的数均分子量如果过大,则每单位分子量中存在的水解性甲硅烷基的数量减少,表面层的耐摩擦性降低。
在(Rf1O)m中,存在2种以上的Rf1O的情况下,各Rf1O的结合顺序无限定。例如,在存在CF2O和CF2CF2O的情况下,CF2O和CF2CF2O可以无规、交替、嵌段地配置。
存在2种以上的Rf1O是指,存在碳数不同的2种以上的Rf1O,以及存在碳数相同但侧链的有无或侧链的种类(侧链的数量和侧链的碳数等)不同的2种以上的Rf1O。
关于2种以上的Rf1O的配置,例如在实施例的含氟醚化合物的情况下,{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}所示的结构表示x1个(CF2O)和x2个(CF2CF2O)无规地配置。此外,(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3所示的结构表示x3个(CF2CF2O)和x3个(CF2CF2CF2CF2O)交替地配置。
作为(Rf1O)m,从表面层的耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性更优良的角度考虑,优选{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2}、(CF2CF2O)m3、(CF2CF2CF2O)m4、(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m5、和它们的一端或两端具有1~4个其他的(Rf1O)的基团。特别是,在Q是单键的情况下,优选在A-O-侧具有1~4个其他的(Rf1O)的基团。作为它们的一端或两端具有1~4个其他的(Rf1O)的基团,例如可例举(CF2CF2O)2{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2-2}、(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m5-1(CF2CF2O)等。作为(Rf1O)m,特别优选具有{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2}的基团。
其中,m1是1以上的整数,m2是1以上的整数,m1+m2是2~200的整数,m1个的CF2O和m2个的CF2CF2O的结合顺序无限定。m3和m4分别是2~200的整数,m5是1~100的整数。
(Rf2基团)
作为Rf2,从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑,优选碳数1~6的全氟亚烷基,更优选碳数1~4的全氟亚烷基,从表面层的润滑性更为优良的角度考虑,特别优选碳数1~2的全氟亚烷基。
例如,在(Rf1O)m是{(CF2O)m1(CF2CF2O)m2}和(CF2CF2O)m3的情况下,Rf2是碳数1的全氟亚烷基,在(Rf1O)m是(CF2CF2CF2O)m4的情况下,Rf2是碳数2的全氟亚烷基,在(Rf1O)m是(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m5的情况下,Rf2是碳数3的直链的全氟亚烷基。此外,在Rf1是具有支链的全氟亚烷基的情况下,Rf2是具有支链的全氟亚烷基,例如在Rf1是(CF(CF3)CF2O)的情况下,Rf2是CF(CF3)。
Rf2如果是不具有分支结构的全氟亚烷基,则表面层的耐摩擦性和润滑性优良。
(R1基团)
作为R1,优选单键、碳数1~10的亚烷基、在碳数1~10的亚烷基的末端(但仅限于与Rf2结合的一侧的末端)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2~10的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、以及在碳数2~10的亚烷基的末端(但仅限于与Rf2结合的一侧的末端)和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,特别优选碳数1~7的亚烷基、和在碳数2~7的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。从容易制造化合物(5)的角度考虑,优选选自单键、-CH2-、-CH2CH2-、-CH2OCH2-和-CH2NHCH2-的基团(其中,左侧与Rf2结合)。
R1特别优选为单键。
R1不具有极性高且耐化学品性和耐光性不充分的酯键,因此表面层的初期的斥水性、耐化学品性和耐光性优良。
(R2基团)
作为R2,优选碳数2~10的亚烷基、和在碳数3~10的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,特别优选碳数2~7的亚烷基、和在碳数3~7的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。从容易制造化合物(5)的角度考虑,优选-CH2CH2CH2-或-CH2CH2OCH2CH2CH2-(其中,右侧与Si结合)。
R2不具有极性高且耐化学品性和耐光性不充分的酯键,因此表面层的初期的斥水性、耐化学品性和耐光性优良。
作为R2,从表面层的耐光性优良的角度考虑,特别优选不具有醚性氧原子的基团。
化合物(5)中的2个R2可以相同也可不同。从容易制造化合物(5)的角度考虑,优选2个R2为相同的基团。
(SiR3 nX3-n基团)
SiR3 nX3-n是水解性甲硅烷基。
化合物(5)在末端具有2个水解性甲硅烷基。该结构的化合物(5)与基材牢固地化学结合,因此表面层的耐摩擦性优良。
另外,化合物(5)仅在一侧的末端具有水解性甲硅烷基。该结构的化合物(5)不易凝聚,因此表面层的外观优良。
X是水解性基团。水解性基团是通过水解反应形成羟基的基团。即,化合物(5)的末端的Si-X通过水解反应形成硅烷醇基(Si-OH)。硅烷醇基分子之间进一步反应形成Si-O-Si键。另外,硅烷醇基与基材表面的羟基(基材-OH)发生脱水缩合反应,形成化学键(基材-O-Si)。
作为X,可例举烷氧基、卤原子、酰基、异氰酸酯基(-NCO)等。作为烷氧基,优选碳数1~4的烷氧基。作为卤原子,特别优选氯原子。
作为X,从容易制造化合物(5)的角度考虑,优选烷氧基和卤原子。作为X,从涂布时逸气(日文:アウトガス)少、化合物(5)的保存稳定性优良的角度考虑,优选碳数1~4的烷氧基,在需要化合物(5)具有长期保存稳定性时特别优选乙氧基,在使涂布后的反应时间为短时间时特别优选甲氧基。
R3是氢原子或1价的烃基。作为1价的烃基,可例举烷基、芳基、环烷基、链烯基、将它们的2种以上组合而得的基团等。
作为R3,优选1价的烃基,特别优选1价的饱和烃基。1价的饱和烃基的碳数优选为1~6,更优选1~3,特别优选1~2。R3的碳数如果在该范围,则容易制造化合物(5)。
n优选为0或1,特别优选为0。通过使1个水解性甲硅烷基中存在多个X,从而与基材的密合性更为牢固。
作为SiR3 nX3-n,优选Si(OCH3)3、SiCH3(OCH3)2、Si(OCH2CH3)3、SiCl3、Si(OCOCH3)3和Si(NCO)3。从工业制造上的操作容易度的角度考虑,特别优选Si(OCH3)3。
化合物(5)中的2个SiR3 nX3-n可以相同也可不同。从容易制造化合物(5)的角度考虑,优选为相同的基团。
(化合物(5)的优选形态)
作为化合物(5),例如可例举下式的化合物。从工业上容易制造、容易操作、斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐化学品性和耐光性更为优良的角度考虑,优选该化合物。
[化1]
其中,G是多氟聚醚链、即A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-。G的优选形态是将上述优选的A、Q、(Rf1O)m和Rf2组合而得的形态。
[化合物(1)]
在本发明的含氟醚化合物的制造方法中,化合物(1)是起始物质。
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-Z…(1)
其中,A、Q、(Rf1O)m、Rf2和R1与化合物(5)中说明的A、Q、(Rf1O)m、Rf2和R1相同,优选的形态也相同。Z是-OH、-OR4、-R5、卤原子或氢原子,R4和R5分别是1价的烃基。
作为Z,从反应性优良的角度考虑,优选-OH、-OR4、-R5和卤原子,从反应工序少的角度考虑,特别优选-OR4和-R5。
在R4和R5中,作为1价的烃基,可例举烷基、芳基、环烷基、链烯基、将它们的2种以上组合而得的基团等。其中,从反应工序少的角度考虑,优选烷基。从合成时的分离容易度及对反应体系的影响少的角度考虑,1价的烃基的碳数优选为1~20,更优选1~10,进一步优选1~6,特别优选1。
化合物(1)可根据专利文献1中记载的方法、国际公开第2013/121984号中记载的方法、国际公开第2015/087902号中记载的方法等公知的方法来制造。
[化合物(2)的制造方法]
化合物(2)可用作化合物(5)等适合用于表面处理剂的含氟醚化合物的中间体。
本发明的含氟醚化合物的制造方法的第一形态是使NH3与化合物(1)反应而得到化合物(2)的方法。此外,在本发明是由化合物(1)来制造化合物(5)的方法的情况下,工序1是使NH3与化合物(1)反应而得到化合物(2)的工序。
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
其中,A、Q、(Rf1O)m、Rf2和R1与化合物(5)中说明的A、Q、(Rf1O)m、Rf2和R1相同,优选的形态也相同。
在本发明的含氟醚化合物的制造方法中,因为使用廉价的NH3代替以往的CF3SO2Cl等高价的酰氯,所以能够以低成本制造化合物(2)、以及以化合物(2)作为原料的化合物(3)~(5)。此外,不会生成难以处理的三氟甲基磺酸等副产物,能够以良好的生产性制造化合物(2)、以及以化合物(2)作为原料的化合物(3)~(5)。此外,化合物(1)和NH3的反应在较低的温度及常压的温和条件下进行,所以不需要特殊的装置,能够简便地制造化合物(2)。
(溶剂)
化合物(1)和NH3的反应优选在溶剂中进行。作为溶剂,在Z为-OR4的情况下,优选与Z对应的醇(HOR4)。作为溶剂,还优选使用含氟溶剂。
作为与Z对应的醇,可例举烷基醇(甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、异丁醇、叔丁醇等)等。
作为含氟溶剂,可例举氟代烷烃、氟代芳香族化合物、氟代烷基醚、氟代烷基胺、氟代醇等。
作为氟代烷烃,优选碳数4~8的化合物。作为市售品,可例举例如C6F13H(AGC株式会社制,ASAHIKLIN(注册商标)AC-2000)、C6F13C2H5(AGC株式会社制,ASAHIKLIN(注册商标)AC-6000)、C2F5CHFCHFCF3(科幕公司(ケマーズ社)制、Vertrel(注册商标)XF)等。
作为氟代芳香族化合物,可例举例如六氟苯、三氟甲基苯、全氟甲苯、双(三氟甲基)苯等。
作为氟烷基醚,优选碳数4~12的化合物。作为市售品,可例举例如CF3CH2OCF2CF2H(AGC株式会社制,ASAHIKLIN(注册商标)AE-3000)、C4F9OCH3(3M公司制,Novec(注册商标)7100)、C4F9OC2H5(3M公司制,Novec(注册商标)7200)、C2F5CF(OCH3)C3F7(3M公司制,Novec(注册商标)7300)等。
作为氟代烷基胺,可例举例如全氟三丙胺、全氟三丁胺等。
作为氟代醇,可例举例如2,2,3,3-四氟丙醇、2,2,2-三氟乙醇、六氟异丙醇等。
(反应条件)
反应温度优选为0~400℃,更优选0~300℃,特别优选10~150℃。
反应压力优选为0~30MPa[表压],更优选0~20MPa[表压],特别优选0~10MPa[表压]。
反应时间优选大于0且在400小时以下,更优选0.01~200小时,特别优选1~150小时。
在考虑生产性良好的情况下,高温高压是理想的,但在考虑安全性及操作性、目标物的高选择性的情况下,温和的条件是理想的。
与化合物(1)反应的NH3可以是气体,也可以是液体,也可以溶解于溶剂中。
NH3的量相对于1摩尔的化合物(1)优选为0.5摩尔以上,特别优选为1摩尔以上。上限没有特别限定,但优选1000摩尔。
化合物(1)和NH3的反应可以是连续反应,也可以是批式反应(分批反应)。
[化合物(3)的制造方法]
化合物(3)可用作化合物(5)等适合用于表面处理剂的含氟醚化合物的中间体。
本发明的含氟醚化合物的制造方法的第二形态是使还原剂与化合物(2)反应而得到化合物(3)的方法。此外,在本发明是由化合物(1)来制造化合物(5)的方法的情况下,工序2是使还原剂与化合物(2)反应而得到化合物(3)的工序。
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
其中,A、Q、(Rf1O)m、Rf2和R1与化合物(5)中说明的A、Q、(Rf1O)m、Rf2和R1相同,优选的形态也相同。
(还原剂)
作为还原剂,可例举硼氢化钠、氢化铝锂、硼烷(单硼烷、乙硼烷等)、金属钠、双(2-甲氧基乙氧基)氢化铝钠、氢化二异丁基铝、硼氢化锂、三乙基硼氢化锂、金属催化剂(钯催化剂、铂催化剂等)存在下的氢气等。
可以将它们中的2种组合使用,也可以在还原剂以外使用助催化剂。
作为助催化剂,可例举路易斯酸等。作为路易斯酸,可例举金属卤化物或碘等。作为金属卤化物的例子,可例举氟化铝、氯化铝、三氟化硼、氯化铬、六水合氯化镍、氯化钛、氯化锂等。
(反应条件)
反应温度优选为-20~180℃,更优选-10~150℃,进一步优选0~100℃,特别优选20~90℃。
反应时间优选为0.1~48小时,特别优选3~24小时。
化合物(2)和还原剂的反应可以是连续反应,也可以是批式反应(分批反应)。
[化合物(4)的制造方法]
化合物(4)可用作化合物(5)等适合用于表面处理剂的含氟醚化合物的中间体。
本发明的含氟醚化合物的制造方法的第三形态是使YR21与化合物(3)反应而得到化合物(4)的方法。此外,在本发明是由化合物(1)来制造化合物(5)的方法的情况下,工序3是使YR22与化合物(3)反应而得到化合物(4a)的工序。其中,R22仅表示R21中在末端具有乙烯基的1价的有机基团。
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NR21 2…(4)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NR22 2…(4a)
其中,A、Q、(Rf1O)m、Rf2和R1与化合物(5)中说明的A、Q、(Rf1O)m、Rf2和R1相同,优选的形态也相同。Y是HO-、R6O-或卤原子,R6是1价的烃基,R21是在末端具有乙烯基的1价的有机基团或1价的烃基(但末端具有乙烯基的基团除外),R22是在末端具有乙烯基的1价的有机基团。
(YR21、YR22)
作为Y,从反应性优良的角度考虑,优选HO-或卤原子,特别优选卤原子。作为卤原子,可例举F、Cl、Br、I。
R6中,作为1价的烃基,可例举烷基、芳基、环烷基、链烯基、将它们的2种以上组合而得的基团等。其中,从反应工序少的角度考虑,优选烷基。从合成时的分离容易度及对反应体系的影响少的角度考虑,1价的烃基的碳数优选为1~20,更优选1~10,进一步优选1~6,特别优选1。
作为R21,从容易制造化合物(5)的角度考虑,优选在末端具有乙烯基的1价的有机基团,R22是在末端具有乙烯基的1价的有机基团。
R21、R22中,作为在末端具有乙烯基的1价的有机基团,优选在末端具有乙烯基的碳数2~10的脂肪族烃基、和在末端具有乙烯基的碳数3~10的脂肪族烃基的碳-碳原子间(乙烯基的碳-碳原子间除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团,更优选在末端具有乙烯基的碳数2~7的脂肪族烃基、和在末端具有乙烯基的碳数3~7的脂肪族烃基的碳-碳原子间(乙烯基的碳-碳原子间除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团。
作为R22和在末端具有乙烯基的1价的有机基团R21,从容易获得YR21、YR22的角度考虑,优选烯丙基和烯丙氧基烷基,更优选烯丙基和烷基部分的碳数为2~6的烯丙氧基烷基,特别优选-CH2CH=CH2和-CH2CH2OCH2CH=CH2。
此外,化合物(4)中的2个R21、和化合物(4a)中的2个R22可以不同。从容易制造化合物(4)和化合物(4a)的角度考虑,优选2个R21、2个R22是相同的基团。
R21中,作为1价的烃基(但是末端具有乙烯基的基团除外),可例举烷基、芳基、环烷基、链烯基(但是末端具有乙烯基的基团除外)、将它们中的2种以上组合而得的基团等。1价的烃基(但是末端具有乙烯基的基团除外)的碳数优选为1~20,更优选1~10,进一步优选1~6,特别优选1。
作为YR21、YR22的优选的具体例,可例举FCH2CH=CH2、ClCH2CH=CH2、BrCH2CH=CH2、ICH2CH=CH2、FCH2CH2OCH2CH=CH2、ClCH2CH2OCH2CH=CH2、BrCH2CH2OCH2CH=CH2、ICH2CH2OCH2CH=CH2、FCH2CH2OCH=CH2、ClCH2CH2OCH=CH2、BrCH2CH2OCH=CH2、ICH2CH2OCH=CH2。
(碱性化合物)
从能够促进反应的角度考虑,化合物(3)和YR21、YR22的反应优选在碱性化合物的存在下进行。
作为碱性化合物,可例举碱性有机化合物、碱性无机化合物。
作为碱性有机化合物,可例举烷基胺化合物、芳基胺化合物、链烯基胺化合物、杂环胺化合物等,从通用性优良的角度考虑,优选烷基胺化合物、杂环胺化合物。
作为烷基胺化合物,可例举三乙胺。
作为杂环胺化合物,可例举吡啶、二甲基吡啶、三甲基吡啶、吡咯、嘧啶、N,N-二甲基-4-氨基吡啶、2,6-二甲基吡啶、2,6-二叔丁基吡啶等。
作为碱性无机化合物,可例举碱金属氢化物(氢化钠等)、碳酸盐(碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯等)、碳酸氢盐(碳酸氢钠、碳酸氢钾等)、碱金属氢氧化物(氢氧化钠、氢氧化钾等)、碱金属醇盐(叔丁醇钾等)等。
碱性化合物可单独使用1种,也可以将2种以上组合使用。
(相转移催化剂)
化合物(3)和YR21、YR22的反应可以在相转移催化剂的存在下进行。
作为相转移催化剂,可例举四丁基溴化铵、苄基三乙基氯化铵等季铵盐。
(溶剂)
从溶解性优良的角度考虑,化合物(3)和YR21、YR22的反应优选在含氟溶剂中进行。
作为含氟溶剂,可例举与能够在化合物(2)的制造中使用的含氟溶剂相同的含氟溶剂,优选的形态也相同。
溶剂可单独使用1种,也可以将2种以上组合使用。
(反应条件)
反应温度优选为0~200℃,更优选20~150℃,特别优选50~100℃。
反应时间优选为0.01~24小时,更优选0.3~20小时,特别优选0.3~15小时。
YR21、YR22的量相对于1摩尔的化合物(3)优选为0.5~20摩尔,更优选1~15摩尔,特别优选2~8摩尔。
化合物(3)和YR21、YR22的反应可以是连续反应,也可以是批式反应(分批反应)。
[化合物(5)的制造方法]
本发明的含氟醚化合物的制造方法的第四形态是使HSiR3 nX3-n与化合物(4a)进行氢化硅烷化反应而得到化合物(5)的方法。此外,在本发明是由化合物(1)来制造化合物(5)的方法的情况下,工序4是使HSiR3 nX3-n与化合物(4a)进行氢化硅烷化反应而得到化合物(5)的工序。
(HSiR3 nX3-n)
HSiR3 nX3-n中的R3、X和n与化合物(5)中说明的R3、X和n相同,优选的形态也相同。
作为HSiR3 nX3-n,优选HSi(OCH3)3、HSiCH3(OCH3)2、HSi(OCH2CH3)3、HSiCl3、Si(OCOCH3)3、和HSi(NCO)3。从工业制造上的操作容易度的角度考虑,特别优选HSi(OCH3)3。
(氢化硅烷化反应)
氢化硅烷化反应优选使用铂、钯、银、金、铑等过渡金属催化剂或有机过氧化物等自由基引发剂来进行。
反应温度优选为0~150℃,更优选10~100℃,特别优选20~60℃。
反应时间优选为0.01~24小时,更优选1~15小时,特别优选3~10小时。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行更详细的说明,但本发明并不限定于这些实施例。
以下,只要没有特别限定,“%”表示“质量%”。
例1~13为实施例。
[评价]
(转化率和选择率)
对反应生成物通过气相色谱、1H-NMR和19F-NMR进行分析,从而进行组成解析,算出了转化率和选择率。
(数均分子量)
利用1H-NMR和19F-NMR,以末端基为基准求出氧基全氟亚烷基的数量(平均值),从而算出含氟醚化合物的数均分子量。
[例1]
参照专利文献1的实施例的例1-1~例1-4,得到了化合物(1-1)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CO-OCH3…(1-1)
单元数x1的平均值:18,单元数x2的平均值:20,化合物(1-1)的数均分子量:4030。
接着,向镍制的100mL高压釜中投入10.1g化合物(1-1)和30g甲醇(纯正化学株式会社制),向高压釜内以1.0MPa的压力装入42g液体NH3,使其在50℃反应150小时。反应结束后,用蒸发器将粗反应液浓缩,得到了7.6g化合物(2-1)。转化率和选择率示于表1。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CO-NH2…(2-1)
化合物(2-1)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:四甲基硅烷(TMS))δ(ppm):7.2(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):-52.5~-55.9(36F)、-81.7(1F)、-82.5(3F)、-83.2(1F)、-89.3~-91.1(90F)、-130.9(2F)。
单元数x1的平均值:18,单元数x2的平均值:20,化合物(2-1)的数均分子量:4020。
[例2~4]
除了将化合物(1-1)和液体NH3的反应条件改为表1中记载的条件以外,与例1同样地得到了化合物(2-1)。转化率和选择率示于表1。
[表1]
将例1、2和4比较时,在化合物(1-1)和NH3的反应中,存在反应温度越高则到获得等量的化合物(2-1)为止的反应时间越缩短、选择率越下降的倾向。将例2和3比较时,存在反应时间越长则转化率越提高的倾向。
化合物(2-1)中若残留未反应物或副产物,则影响作为最终生成物(制品)的化合物(5-1)。因此,为了减少未反应物,转化率以高为宜。此外,为了减少副产物,选择率以高为宜。因此,化合物(1-1)和NH3的反应较好在低温下、以长时间进行。
[例5]
向镍制的100mL高压釜中投入10.0g的化合物(1-1)、100g的二氯五氟丙烷(AGC株式会社制、AK-225)、5.0g的2.0mol/L的氨-甲醇溶液,在25℃下搅拌8小时。蒸馏除去溶剂,得到了14.8g的化合物2-1(转化率99.0,收率98.9%)。
[例6]
在100mL的三口烧瓶中,使20g例3中得到的化合物(2-1)溶解在20g的四氢呋喃(以下记为THF)中,一边将其在冰浴中冷却一边缓慢地滴加入溶解有0.34g氢化铝锂的THF溶液。滴加完毕后,升温至70℃,搅拌15小时。然后,进行冰冷却,用氢氧化钾水溶液和水淬灭后,用硅藻土过滤,蒸馏除去溶剂,得到了19.9g的化合物(3-1)(收率99%、转化率99.0%、选择率100.0%)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-NH2…(3-1)
化合物(3-1)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):3.2(2H)、5.2(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):-52.0~-55.7(36F)、-74.3(1F)、-82.1(3F)、-89.5~-91.1(90F)、-130.3(2F)。
单元数x1的平均值:18,单元数x2的平均值:20,化合物(3-1)的数均分子量:4010。
[例7]
在50mL的三口烧瓶内,使0.1g的碳酸氢钾(关东化学株式会社制)溶解在23.7gTHF和10.5g二甲亚砜的混合溶剂中。向烧瓶内的溶液中添加10.3g例6中得到的化合物(3-1)和1.2g的BrCH2CH=CH2(东曹有机化学株式会社制),在70℃下搅拌了20小时。反应结束后,过滤粗反应液,减压蒸馏除去溶剂,用气相色谱进行分离,得到了10.1g的化合物(4-1)(收率94%)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N(-CH2CH=CH2)2…(4-1)
化合物(4-1)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):2.9(2H)、3.1(4H)、5.2(4H)、5.7(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):-52.1~-55.7(36F)、-74.3(1F)、-82.2(3F)、-89.5~-91.0(90F)、-130.4(2F)。
单元数x1的平均值:18,单元数x2的平均值:20,化合物(4-1)的数均分子量:4090。
[例8]
添加10.1g的例7中得到的化合物(4-1)、0.03g的铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量:2%)、1.2g的HSi(OCH3)3、0.01g的二甲亚砜、0.4g的1,3-双(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制),在40℃下搅拌了10小时。反应结束后,将溶剂等减压蒸馏除去,用0.2μm孔径的膜滤器进行过滤,得到了化合物(4-1)的2个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(5-1)9.5g(收率89%)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N[-CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2…(5-1)
化合物(5-1)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):0.5(4H)、1.5(4H)、2.5(4H)、3.0(2H)、3.4(18H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):-52.2~-55.5(36F)、-74.1(1F)、-76.9(1F)、-82.3(3F)、-89.3~-91.2(90F)、-130.8(2F)。
单元数x1的平均值:18,单元数x2的平均值:20,化合物(5-1)的数均分子量:4330。
[例9]
参照国际公开第2013/121984号的实施例的例6-1~例6-4,得到了化合物(1-2)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3-CF2CF2O-CF2CF2CF2-CO-OCH3…(1-2)
单元数x3的平均值为13,化合物(1-2)的数均分子量为4800。
接着,向镍制的100mL高压釜中投入10.0g化合物(1-2)和20g甲醇(纯正化学株式会社制),向高压釜内以1.0MPa的压力装入35g液体NH3,使其在25℃反应210小时。反应结束后,用蒸发器将粗反应液浓缩,得到了9.6g化合物(2-2)(收率96%、转化率94.1%、选择率98.6%)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3-CF2CF2O-CF2CF2CF2-CO-NH2···(2-2)
化合物(2-2)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):7.4(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):56.1(3F)、-83.1~-83.5(54F)、-88.5~-89.2(54F)、-91.1(2F)、-119.5(2F)、-126.7(52F)、-126.8(2F)。
单元数x3的平均值:13,化合物(2-2)的数均分子量:4790。
[例10]
在100mL的三口烧瓶中,使20g例9中得到的化合物(2-2)溶解在20g的THF中,一边将其在冰浴中冷却一边缓慢地滴加入溶解有0.32g氢化铝锂的THF溶液。滴加完毕后,升温至70℃,搅拌15小时。然后,进行冰冷却,用氢氧化钾水溶液和水淬灭后,用硅藻土过滤,蒸馏除去溶剂,得到了19.9g的化合物(3-2)(收率99%、转化率99.0%、选择率100.0%)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3-CF2CF2O-CF2CF2CF2-CH2-NH2…(3-2)
化合物(3-2)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):3.1(2H)、5.4(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):55.9(3F)、-83.8~-84.2(54F)、-89.5~-89.1(54F)、-91.1(2F)、-119.1(2F)、-126.3(52F)、-126.3(2F)。
单元数x3的平均值:13,化合物(3-2)的数均分子量:4770。
[例11]
在50mL的三口烧瓶内,使0.1g的碳酸氢钾(关东化学株式会社制)溶解在23.7gTHF和10.5g二甲亚砜的混合溶剂中。向烧瓶内的溶液中添加10.0g例10中得到的化合物(3-2)和1.0g的BrCH2CH=CH2(东曹有机化学株式会社制),在70℃下搅拌了20小时。反应结束后,过滤粗反应液,减压蒸馏除去溶剂,用气相色谱进行分离,得到了9.6g的化合物(4-2)(收率95%)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3-CF2CF2O-CF2CF2CF2-CH2-N(-CH2CH=CH2)2…(4-2)
化合物(4-2)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):3.1(2H)、3.2(4H)、5.2(4H)、5.8(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.1(54F)、-91.4(2F)、-120.8(2F)、-126.7(54F)。
单元数x3的平均值:13,化合物(4-2)的数均分子量:4800。
[例12]
添加9.0g的例11中得到的化合物(4-2)、0.03g的铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量:2%)、1.0g的HSi(OCH3)3、0.01g的二甲亚砜、0.4g的1,3-双(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制),在40℃下搅拌了10小时。反应结束后,将溶剂等减压蒸馏除去,用0.2μm孔径的膜滤器进行过滤,得到了化合物(4-2)的2个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(5-2)8.5g(收率90%)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3-CF2CF2O-CF2CF2CF2-CH2-N[-CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2…(5-2)
化合物(5-2)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):0.7(4H)、1.6(4H)、2.6(4H)、3.2(2H)、3.6(18H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):56.2(3F)、-83.9(54F)、-89.3(54F)、-91.4(2F)、-121.0(2F)、-126.8(54F)。
单元数x3的平均值:13,化合物(5-2)的数平均分子量:5040。
[例13]
在50mL的三口烧瓶内,使0.1g的碳酸氢钾(关东化学株式会社制)溶解在23.7gTHF和10.5g二甲亚砜的混合溶剂中。向烧瓶内的溶液中添加10.0g例6中得到的化合物(3-1)和1.7g的BrCH2CH2OCH2CH=CH2,在70℃下搅拌了20小时。反应结束后,过滤粗反应液,减压蒸馏除去溶剂,用气相色谱进行分离,得到了9.8g的化合物(4-3)(收率95%)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N(-CH2CH2OCH2CH=CH2)2…(4-3)
化合物(4-3)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):2.5(4H)、2.7(2H)、3.7(4H)、4.1(4H)、5.3(2H)、5.5(2H)、6.1(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):-52.1~-55.6(36F)、-74.4(1F)、-82.2(3F)、-89.5~-91.1(90F)、-130.4(2F)。
单元数x1的平均值:18,单元数x2的平均值:20,化合物(4-3)的数均分子量:4170。
[例14]
添加9.0g的例13中得到的化合物(4-3)、0.03g的铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量:2%)、1.1g的HSi(OCH3)3、0.01g的二甲亚砜、0.4g的1,3-双(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制),在40℃下搅拌了10小时。反应结束后,将溶剂等减压蒸馏除去,用0.2μm孔径的膜滤器进行过滤,得到了化合物(4-3)的2个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(5-3)8.6g(收率90%)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)2{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N[-CH2CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2…(5-3)
化合物(5-3)的NMR谱:
1H-NMR(300.4MHz、溶剂:CDCl3、基准:TMS)δ(ppm):0.6(4H)、1.5(4H)、2.5(4H)、2.7(2H)、3.4(4H)、3.5(18H)、3.6(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂:CDCl3、基准:CFCl3)δ(ppm):-52.3~-55.2(36F)、-74.4(1F)、-77.1(1F)、-82.4(3F)、-89.3~-91.3(90F)、-130.9(2F)。
单元数x1的平均值:18,单元数x2的平均值:20,化合物(5-3)的数均分子量:4410。
产业上利用的可能性
通过本发明的制造方法得到的含氟醚化合物可用于要求赋予润滑性及斥水斥油性的各种用途。例如可以用于触摸面板等显示输入装置;透明的玻璃制或透明的塑料制构件的表面保护涂层、厨房用防污涂层;电子设备、热交换器、电池等的斥水防湿涂层和防污涂层、化妆用具防污涂层;导电并需要斥液的部件上的涂层;热交换器的斥水、防水和滑水涂层;振动筛和活塞内部等的表面低摩擦涂层等。
这里引用2017年5月2日提出申请的日本专利申请2017-091740号的说明书、权利要求书和摘要的全部内容作为本发明的说明书的揭示。
Claims (14)
1.一种含氟醚化合物的制造方法,其特征在于,使NH3与下式(1)所示的化合物反应,得到下式(2)所示的化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-Z…(1)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,
Z是-OH、-OR4、-R5、卤原子或氢原子,R4和R5分别是1价的烃基。
2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述Z是-OR4,使NH3与式(1)所示的化合物在醇溶剂或含氟溶剂中反应。
3.一种含氟醚化合物的制造方法,其特征在于,使还原剂与下式(2)所示的化合物反应,得到下式(3)所示的化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。
4.一种含氟醚化合物的制造方法,其特征在于,使YR21与下式(3)所示的化合物反应,得到下式(4)所示的化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NR21 2…(4)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,
Y是HO-、R6O-或卤原子,R6是1价的烃基,
R21是在末端具有乙烯基的1价的有机基团或除末端具有乙烯基的基团以外的1价的烃基。
5.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于,所述Y是卤原子,所述R21是烯丙基或烯丙氧基烷基。
6.一种含氟醚化合物的制造方法,其特征在于,使下式(4a)所示的化合物与HSiR3 nX3-n进行氢化硅烷化反应,得到下式(5)所示的化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NR22 2…(4a)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-N[-R2-SiR3 nX3-n]2…(5)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,
R22是在末端具有乙烯基的1价的有机基团,2个R22可以相同也可以不同,
R2是来源于R22的2价的有机基团,
R3是氢原子或1价的烃基,
X是水解性基团,
n为0~2的整数。
7.一种含氟醚化合物的制造方法,其特征在于,经过下述工序1~4,从下式(1)所示的化合物得到下式(5)所示的化合物,
工序1:使NH3与下式(1)所示的化合物反应,得到下式(2)所示的化合物的工序;
工序2:使还原剂与下式(2)所示的化合物反应,得到下式(3)所示的化合物的工序;
工序3:使YR22与下式(3)所示的化合物反应,得到下式(4a)所示的化合物的工序;
工序4:使下式(4a)所示的化合物与HSiR3 nX3-n进行氢化硅烷化反应,得到下式(5)所示的化合物的工序;
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-Z…(1)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NR22 2…(4a)
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-N[-R2-SiR3 nX3-n]2…(5)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团,
Z是-OH、-OR4、-R5、卤原子或氢原子,R4和R5分别是1价的烃基,
Y是HO-、R6O-或卤原子,R6是1价的烃基,
R22是在末端具有乙烯基的1价的有机基团,
R2是来源于R22的2价的有机基团,
R3是氢原子或1价的烃基,
X是水解性基团,
n为0~2的整数。
8.如权利要求7所述的制造方法,其特征在于,所述Z是-OR4,使NH3与式(1)所示的化合物在醇溶剂或含氟溶剂中反应。
9.如权利要求7或8所述的制造方法,其特征在于,所述Y是卤原子,所述R22是烯丙基或烯丙氧基烷基。
10.如权利要求7~9中任一项所述的制造方法,其特征在于,所述Q和所述R1均为单键。
11.下式(2)所示的含氟醚化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CO-NH2…(2)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。
12.如权利要求11所述的化合物,其特征在于,所述Q和所述R1均为单键。
13.下式(3)所示的含氟醚化合物,
A-O-Q-(Rf1O)m-Rf2-R1-CH2-NH2…(3)
其中,
A是碳数1~20的全氟烷基,
Q是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的仅与(Rf1O)m结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团,
Rf1和Rf2分别独立地是全氟亚烷基,
m是2~200的整数,
(Rf1O)m可以由2种以上的Rf1O构成,
R1是单键、亚烷基、在亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的仅与Rf2结合的一侧的末端和碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。
14.如权利要求13所述的化合物,其特征在于,所述Q和所述R1均为单键。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017-091740 | 2017-05-02 | ||
JP2017091740A JP2017137511A (ja) | 2017-05-02 | 2017-05-02 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 |
PCT/JP2018/016480 WO2018203491A2 (ja) | 2017-05-02 | 2018-04-23 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110612319A true CN110612319A (zh) | 2019-12-24 |
Family
ID=59566726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201880028663.0A Pending CN110612319A (zh) | 2017-05-02 | 2018-04-23 | 含氟醚化合物的制造方法和含氟醚化合物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2017137511A (zh) |
CN (1) | CN110612319A (zh) |
WO (1) | WO2018203491A2 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019102832A1 (ja) * | 2017-11-21 | 2019-05-31 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 |
WO2022209502A1 (ja) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | Agc株式会社 | 表面処理剤、物品、物品の製造方法、及び化合物 |
CN117545792A (zh) * | 2021-06-21 | 2024-02-09 | Agc株式会社 | 含氟醚化合物、含氟醚混合物、涂布剂、物品、及物品的制造方法 |
JP7421154B2 (ja) * | 2022-05-25 | 2024-01-24 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5637748A (en) * | 1995-03-01 | 1997-06-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for synthesizing fluorinated nitrile compounds |
US6423871B1 (en) * | 1999-02-26 | 2002-07-23 | University Of South Florida | Efficient synthesis of secondary amines by selective alkylation of primary amines |
JP2015178492A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-10-08 | 三洋化成工業株式会社 | 含フッ素脂肪族アミンの製造方法 |
WO2017038832A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 |
WO2017038830A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 |
CN109310965A (zh) * | 2016-05-27 | 2019-02-05 | 孚洛飞生物技术有限公司 | 氟表面活性剂 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2098007A1 (en) * | 1991-01-11 | 1992-07-12 | Miguel A. Guerra | Curing fluorocarbon elastomers |
JPH07258275A (ja) * | 1994-02-04 | 1995-10-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 含フッ素有機ケイ素化合物 |
JP4192277B2 (ja) * | 1997-06-03 | 2008-12-10 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素ポリエーテル及びその用途 |
JP4174867B2 (ja) * | 1998-09-17 | 2008-11-05 | 凸版印刷株式会社 | 防汚層の形成方法 |
JPWO2009008380A1 (ja) * | 2007-07-06 | 2010-09-09 | 旭硝子株式会社 | 表面処理剤、物品、および新規含フッ素エーテル化合物 |
EP2816047B1 (en) | 2012-02-17 | 2019-05-22 | AGC Inc. | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition and coating liquid, and substrate having surface-treated layer and method for its production |
JP2017137509A (ja) * | 2017-05-02 | 2017-08-10 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 |
JP2017137510A (ja) * | 2017-05-02 | 2017-08-10 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 |
-
2017
- 2017-05-02 JP JP2017091740A patent/JP2017137511A/ja active Pending
-
2018
- 2018-04-23 CN CN201880028663.0A patent/CN110612319A/zh active Pending
- 2018-04-23 WO PCT/JP2018/016480 patent/WO2018203491A2/ja active Application Filing
- 2018-04-23 JP JP2019515702A patent/JP7180593B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5637748A (en) * | 1995-03-01 | 1997-06-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for synthesizing fluorinated nitrile compounds |
US6423871B1 (en) * | 1999-02-26 | 2002-07-23 | University Of South Florida | Efficient synthesis of secondary amines by selective alkylation of primary amines |
JP2015178492A (ja) * | 2014-02-28 | 2015-10-08 | 三洋化成工業株式会社 | 含フッ素脂肪族アミンの製造方法 |
WO2017038832A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 |
WO2017038830A1 (ja) * | 2015-09-01 | 2017-03-09 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品 |
CN109310965A (zh) * | 2016-05-27 | 2019-02-05 | 孚洛飞生物技术有限公司 | 氟表面活性剂 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2018203491A1 (ja) | 2020-03-12 |
JP2017137511A (ja) | 2017-08-10 |
WO2018203491A2 (ja) | 2018-11-08 |
JP7180593B2 (ja) | 2022-11-30 |
WO2018203491A3 (ja) | 2018-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11643572B2 (en) | Fluorinated ether compound, fluorinated ether composition, coating liquid and article | |
CN110612319A (zh) | 含氟醚化合物的制造方法和含氟醚化合物 | |
CN109071797B (zh) | 含氟醚化合物、涂布液、物品和新型化合物 | |
CN105102505B (zh) | 含氟醚化合物、含氟醚组合物及涂布液,以及具有表面层的基材及其制造方法 | |
CN110662785B (zh) | 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法 | |
KR20180044282A (ko) | 함불소 에테르 화합물, 함불소 에테르 조성물, 코팅액 및 물품 | |
CN111032733A (zh) | 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法 | |
KR20140124769A (ko) | 함불소에테르 화합물, 함불소에테르 조성물 및 코팅액, 그리고 표면 처리층을 갖는 기재 및 그 제조 방법 | |
JPWO2019039083A1 (ja) | 含フッ素化合物、組成物、コーティング液、および含フッ素化合物の製造方法 | |
US20230399471A1 (en) | Method for producing fluorine-containing compound and method for producing surface treatment agent | |
JP2017137510A (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
US20080090977A1 (en) | Fluorine-Containing Vinyl Ether Compound And Process For Producing The Same | |
CN110650991B (zh) | 含氟醚化合物的制造方法和含氟醚化合物 | |
JP2017137509A (ja) | 含フッ素エーテル化合物の製造方法 | |
WO2022059623A1 (ja) | 組成物、表面層付き基材、表面層付き基材の製造方法、化合物および化合物の製造方法 | |
US20230406869A1 (en) | Compound, method for producing compound, and method for producing surface treatment agent | |
JP2003048857A (ja) | フルオロアルキルビニルエーテルの製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20191224 |