JPWO2018180228A1 - メモリ装置 - Google Patents
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- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 claims description 43
- 238000003491 array Methods 0.000 claims description 19
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 27
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 23
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 23
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 101100328886 Caenorhabditis elegans col-2 gene Proteins 0.000 description 9
- 101100440696 Caenorhabditis elegans cor-1 gene Proteins 0.000 description 9
- 101100328884 Caenorhabditis elegans sqt-3 gene Proteins 0.000 description 9
- 101710082414 50S ribosomal protein L12, chloroplastic Proteins 0.000 description 8
- 101100522322 Caenorhabditis elegans clr-1 gene Proteins 0.000 description 8
- 101710114762 50S ribosomal protein L11, chloroplastic Proteins 0.000 description 7
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
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- H10B63/34—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices comprising selection components having three or more electrodes, e.g. transistors of the vertical channel field-effect transistor type
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/80—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays
- H10B63/84—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays arranged in a direction perpendicular to the substrate, e.g. 3D cell arrays
- H10B63/845—Arrangements comprising multiple bistable or multi-stable switching components of the same type on a plane parallel to the substrate, e.g. cross-point arrays arranged in a direction perpendicular to the substrate, e.g. 3D cell arrays the switching components being connected to a common vertical conductor
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/003—Cell access
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/10—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
- H01L27/105—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration including field-effect components
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B63/00—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices
- H10B63/30—Resistance change memory devices, e.g. resistive RAM [ReRAM] devices comprising selection components having three or more electrodes, e.g. transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
- H10N70/20—Multistable switching devices, e.g. memristors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
- G11C2213/71—Three dimensional array
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
- G11C2213/79—Array wherein the access device being a transistor
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
1.第1の実施の形態
複数のビット線を互い違いに配置した例(図1〜図8)
比較例:複数のビット線を格子状に配置した例(図9)
2.第1の実施の形態の変形例
変形例A:選択ゲート線の短絡を割愛した例(図10)
変形例B:グローバルビット線の本数を増やした例(図11)
変形例C:4ビット同時アクセスを行う例(図12)
3.第2の実施の形態
左右の櫛状のワード線をそれぞれ2分割した例(図13〜図19)
4.第2の実施の形態の変形例
4ビット同時アクセスを行う例
5.第3の実施の形態
選択ゲート線の制御によりアクセス電流の集中を回避した例(図20〜図22)
6.第4の実施の形態
複数のメモリセルアレイを備えた例(図23〜図26)
[構成]
図1は、第1の実施の形態に係る情報処理システムの機能ブロックの一例を表したものである。この情報処理システムは、ホストコンピュータ100およびメモリ装置200を備えている。メモリ装置200は、メモリコントローラ300、メモリセルアレイユニット400および電源回路500を備えている。
ホストコンピュータ100は、メモリ装置200を制御するものである。具体的には、ホストコンピュータ100は、アクセス先の論理アドレスを指定するコマンドを発行して、そのコマンドやデータをメモリ装置200に供給する。また、ホストコンピュータ100は、メモリ装置200から出力されたデータを受け取る。ここで、コマンドは、メモリ装置200を制御するためのものであり、例えば、データの書き込み処理を指示するライトコマンド、または、データの読み出し処理を指示するリードコマンドを含む。また、論理アドレスは、ホストコンピュータ100が定義するアドレス空間において、ホストコンピュータ100がメモリ装置200にアクセスする際のアクセス単位の領域ごとに割り振られたアドレスである。このアクセス単位の領域を以下、「セクタ」と称する。
メモリコントローラ300は、メモリセルアレイユニット400を制御するものである。メモリコントローラ300は、ホストコンピュータ100から、論理アドレスを指定するライトコマンドを受け取る。また、メモリコントローラ300は、ライトコマンドに従って、データの書き込み処理を実行する。この書き込み処理においては、論理アドレスが物理アドレスに変換され、その物理アドレスにデータが書き込まれる。ここで、物理アドレスは、メモリコントローラ300がメモリセルアレイユニット400にアクセスする際のアクセス単位ごとにメモリセルアレイユニット400において割り振られたアドレスである。メモリコントローラ300がメモリセルアレイユニット400にアクセスする単位は、例えば、セクタと同一であるものとする。この場合、メモリセルアレイユニット400において、セクタごとに物理アドレスが割り当てられる。また、メモリコントローラ300は、論理アドレスを指定するリードコマンドを受け取ると、その論理アドレスを物理アドレスに変換し、その物理アドレスからデータを読み出す。そして、メモリコントローラ300は、読み出したデータをリードデータとしてホストコンピュータ100に出力する。メモリコントローラ300によるアクセス単位は、ホストコンピュータ100によるアクセス単位と同一となっていてもよいし、異なっていてもよい。
電源回路500は、メモリセルアレイユニット400に対して所望の電圧を供給するものである。具体的には、電源回路500は、後述のGBLドライバ21、WLドライバ22およびSGドライバ23に対して、動作モード(書込、読出など)などに応じて必要となる各種電圧を供給する。
次に、メモリセルアレイユニット400について説明する。図2は、メモリセルアレイユニット400の機能ブロックの一例を表したものである。メモリセルアレイユニット400は、例えば、半導体チップで構成されている。メモリセルアレイユニット400は、メモリセルアレイ10および駆動回路20を有している。駆動回路20は、メモリコントローラ300との間で、コマンド、ライトデータおよびリードデータなどをやりとりする。駆動回路20は、ライトコマンドに従って、メモリセルアレイ10にデータを書き込み、リードコマンドに従って、メモリセルアレイ10からデータを読み出す。駆動回路20については、後に詳述するものとする。
メモリセルアレイ10は、所謂クロスポイントアレイ構造を備えており、例えば、図3〜図6に示したように、各ワード線WLと各ビット線BLとが互いに対向する位置(クロスポイント)ごとに1つずつ、抵抗変化型のメモリセルMCを備えている。つまり、メモリセルアレイ10は、複数のワード線WLと、複数のビット線BLと、クロスポイントごとに1つずつ配置された複数のメモリセルMCとを備えている。クロスポイントには、例えば、図6の右下の図に示したように、ビット線BLの周囲を覆う抵抗変化層Rxが配置されており、この抵抗変化層Rxを挟み込むようにして、ワード線WLおよびビット線BLが配置されている。抵抗変化層Rxは、例えば、印加電圧を所定の閾値電圧以上に上げることにより低抵抗状態に変化し、印加電圧を上記の閾値電圧より低い電圧に下げることにより高抵抗状態に変化するものである。ワード線WLは、本開示の「第1配線」の一具体例に相当する。ビット線BLは、本開示の「第3配線」の一具体例に相当する。なお、以下では、ワード線WLを簡潔に「WL」とだけ記載するものとする。同様に、ビット線BLを簡潔に「BL」とだけ記載するものとする。
次に、本実施の形態のメモリ装置200の効果について説明する。
以下に、上記実施の形態のメモリセルアレイ10の変形例について説明する。なお、以下では、上記実施の形態と共通の構成要素に対しては、上記実施の形態で付されていた符号と同一の符号が付される。また、上記実施の形態と異なる構成要素の説明を主に行い、上記実施の形態と共通の構成要素の説明については、適宜、省略するものとする。
図10は、上記実施の形態のメモリセルアレイ10の一変形例を表したものである。本変形例のメモリセルアレイ10は、上記実施の形態のメモリセルアレイ10において、接続部SHが省略されたものに相当する。このようにした場合、駆動回路20が、複数のSGのうち互いに隣接しない複数本(例えば、2本)のSGを同時に選択する。これにより、複数のメモリセルMCのうち、対応するGBLおよびWLが互いに異なる複数のメモリセルMC’に対して同時にアクセスがなされたときに、各メモリセルMC’と共通のGBLに対応するメモリセルMCに対しても同時にアクセスがなされることのない複数のメモリセルMC’への同時アクセスが可能である。例えば、GBL<6>,GBL<13>が選択されるとともに、SG<3>,SG<8>が選択されたとき、GBL<6>とSG<6>とが互いに交差する箇所に対応するメモリセルMC’と、GBL<13>とSG<8>とが互いに交差する箇所に対応するメモリセルMC’にアクセスすることができる。従って、上記実施の形態と同様、WLにおける電圧低下を抑えて、高いアクセス速度を得ることができる。
図11は、上記実施の形態のメモリセルアレイ10の一変形例を表したものである。本変形例のメモリセルアレイ10は、複数のメモリセルMCのうち、対応するGBLおよびWLが互いに異なる3つのメモリセルMC’に対して同時にアクセスがなされたときに、各メモリセルMC’と共通のGBLに対応するメモリセルMCに対しても同時にアクセスがなされることのない3つのメモリセルMC’への同時アクセスが可能に構成されている。
図12は、上記実施の形態のメモリセルアレイ10の一変形例を表したものである。本変形例のメモリセルアレイ10は、上記実施の形態のメモリセルアレイ10において、接続部SHの選択数が2となっているものに相当する。本変形例では、例えば、GBL<6>,GBL<8>が選択され、接続部SH1を介して2つのSG<2>が選択され、接続部SH6を介して2つのSG<6>が選択されたとき、GBL<6>と1つ目のSG<2>とが互いに交差する箇所に対応するメモリセルMC’と、GBL<13>と2つ目のSG<2>とが互いに交差する箇所に対応するメモリセルMC’と、GBL<6>と1つ目のSG<6>とが互いに交差する箇所に対応するメモリセルMC’と、GBL<13>と2つ目のSG<6>とが互いに交差する箇所に対応するメモリセルMC’とにアクセスすることができる。従って、本変形例においても、アクセス電流を1本のWLに集中させることなく、複数のメモリセルMC’にアクセスすることができる。
図13は、第2の実施の形態に係る情報処理システムの機能ブロックの一例を表したものである。この情報処理システムは、ホストコンピュータ100およびメモリ装置600を備えている。メモリ装置600は、メモリコントローラ300、メモリセルアレイユニット700および電源回路500を備えている。
駆動回路40は、後述の第1グループG1に対応する複数のSGのうちの1または複数のSGと、後述の第2グループG2に対応する複数のSGのうちの1または複数のSGとを同時に選択することができるように構成されている。具体的には、駆動回路40は、複数のGBLを駆動するGBLドライバ41(第1駆動回路)と、複数のWLを駆動するWLドライバ42(第2駆動回路)と、複数のSGを駆動するSGドライバ23(第3駆動回路)と、書込ラッチ43とを有している。
メモリセルアレイ30は、上記実施の形態のメモリセルアレイ10と同様、所謂クロスポイントアレイ構造を備えており、クロスポイントごとに1つずつ、抵抗変化型のメモリセルMCを備えている。メモリセルアレイ30は、上記実施の形態のメモリセルアレイ10において、各櫛歯配線Corおよび各櫛歯配線ColをY軸方向に2つに分割したものに相当する。メモリセルアレイ30は、右側に、Y軸方向に並んで配置された2つの櫛歯配線Cor1,Cor2を備えており、左側に、Y軸方向に並んで配置された2つの櫛歯配線Col1,Col2を備えている。
次に、本実施の形態のメモリ装置600の効果について説明する。
次に、上記第2の実施の形態のメモリセルアレイ30の変形例について説明する。上記第2の実施の形態のメモリセルアレイ30において、櫛歯配線Cor2,Col2側の複数のSGのうちの複数のSGと、櫛歯配線Cor1,Col1側の複数のSGのうちの複数のSGとが同時に選択されてもよい。例えば、駆動回路40によって、4本のGBLを同時に選択するとともに、櫛歯配線Cor2,Col2側の複数のSGのうちの2つのSGと、櫛歯配線Cor1,Col1側の複数のSGのうちの2つのSGとを同時に選択する。これにより、複数のメモリセルMCのうち、櫛歯配線Cor2,Col2側において、対応するGBLおよびWLが互いに異なる2つのメモリセルMC’に対して同時にアクセスをすることができる。さらに、複数のメモリセルMCのうち、櫛歯配線Cor1,Col1側側において、対応するGBLおよびWLが互いに異なる2つのメモリセルMC’に対して同時にアクセスをすることができる。このとき、各メモリセルMC’と共通のGBLに対応するメモリセルMCに対しては同時にアクセスをすることはない。従って、アクセス電流を1本のWLに集中させることなく、4つのメモリセルMC’にアクセスすることができる。その結果、WLにおける電圧低下を抑えて、高いアクセス速度を得ることができる。
[構成]
図20は、第3の実施の形態に係る情報処理システムの機能ブロックの一例を表したものである。この情報処理システムは、ホストコンピュータ100およびメモリ装置800を備えている。メモリ装置800は、メモリコントローラ300、メモリセルアレイユニット900および電源回路500を備えている。
次に、本実施の形態のメモリ装置800の効果について説明する。
[構成]
図23は、第4の実施の形態に係る情報処理システムにおけるメモリセルアレイの機能ブロックの一例を表したものである。図24は、本実施の形態のメモリセルアレイの断面構成の一例を表したものである。本実施の形態のメモリセルアレイは、X軸方向に並んで配置された複数のメモリセルアレイ10を備えている。複数のメモリセルアレイ10は、接続線11同士が互いに隣接するように配置されるとともに、接続線12同士が互いに隣接するように配置されている。
(1)
メモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイへのアクセスを行う駆動回路と
を備え、
前記メモリセルアレイは、
第1方向に延在し、前記第1方向と直交する第2方向と、前記第1方向および前記第2方向と直交する第3方向とに並んで配置された複数の第1配線と、
前記第1方向に延在し、前記第2方向に並んで配置された複数の第2配線と、
前記第3方向に延在し、前記第1方向と前記第2方向とに並んで配置されるとともに、前記第3方向から見たときに前記第2方向において互いに隣接する2つの前記第1配線の
間隙を貫通するように配置された複数の第3配線と、
各前記第3配線と各前記第1配線とが互いに対向する箇所ごとに1つずつ設けられた複数の抵抗変化型のメモリセルと、
前記第3配線ごとに1つずつ設けられ、各々のゲートが、対応する前記第2配線に接続された複数のトランジスタと、
前記第2方向に延在し、前記第1方向に並んで配置され、前記第2方向に並んで配置された複数の前記第3配線ごとに1本ずつ設けられ、各々が、対応する複数の前記第3配線に対して、前記トランジスタを介して接続された複数の第4配線と
を有し、
前記メモリセルアレイは、複数の前記メモリセルのうち、対応する前記第4配線および前記第1配線が互いに異なる複数の第1メモリセルに対して同時にアクセスがなされたときに、各前記第1メモリセルと共通の前記第4配線に対応する前記メモリセルに対しても同時にアクセスがなされることのない複数の前記第1メモリセルへの同時アクセスが可能に構成されている
メモリ装置。
(2)
複数の前記第3配線は、前記第1方向に複数の前記第4配線の配列ピッチのn倍(nは2以上の整数)の大きさで等間隔に並んで配置されるとともに、前記第2方向に複数の前記第1配線の配列ピッチのn倍の大きさで等間隔に並んで配置されている
(1)に記載のメモリ装置。
(3)
前記第2方向に並んで配置された複数の前記第1配線のうち、偶数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続され、第1櫛歯配線の櫛歯を構成し、
前記第2方向に並んで配置された複数の前記第1配線のうち、奇数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続され、第2櫛歯配線の櫛歯を構成している
(1)または(2)に記載のメモリ装置。
(4)
前記第2方向に並んで配置された複数の前記第1配線は、1番目からk番目までの複数の前記第1配線からなる第1グループと、k+1番目からm番目までの複数の前記第1配線からなる第2グループとに分けられ、
前記第1グループに属する偶数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続された、第3櫛歯配線の櫛歯を構成し、
前記第1グループに属する奇数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続された、第4櫛歯配線の櫛歯を構成し、
前記第2グループに属する偶数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続された、第5櫛歯配線の櫛歯を構成し、
前記第2グループに属する奇数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続された、第6櫛歯配線の櫛歯を構成している
(1)または(2)に記載のメモリ装置。
(5)
前記メモリセルアレイは、複数の前記第2配線のうち互いに隣接しない複数本の前記第2配線同士を電気的に接続する複数の接続部をさらに有する
(1)ないし(3)のいずれか一項に記載のメモリ装置。
(6)
前記駆動回路は、複数の前記第2配線のうち互いに隣接しない複数本の前記第2配線を同時に選択する
(1)ないし(3)のいずれか一項に記載のメモリ装置。
(7)
前記駆動回路は、前記第1グループに対応する複数の前記第2配線のうちの1または複数の前記第2配線と、前記第2グループに対応する複数の前記第2配線のうちの1または複数の前記第2配線とを同時に選択する
(4)に記載のメモリ装置。
(8)
前記駆動回路を含み、前記メモリセルアレイと電気的に接続された回路基板を更に備え、
複数の前記第1櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第1接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第1接続部は、階段状に配置されており、
複数の前記第2櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第2接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第2接続部は、階段状に配置されており、
前記メモリセルアレイは、
複数の前記第1接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第1接続配線と、
複数の前記第2接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第2接続配線と、
前記駆動回路に電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第2方向に並んで配置された複数の第3接続配線と、
複数の前記第1接続配線の各々と、複数の前記第3接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第4接続配線と、
複数の前記第2接続配線の各々と、複数の前記第3接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第5接続配線と
を有する
(1)ないし(3)のいずれか一項に記載のメモリ装置。
(9)
前記駆動回路を含み、前記メモリセルアレイと電気的に接続された回路基板を更に備え、
複数の前記第3櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第3接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第3接続部は、階段状に配置されており、
複数の前記第4櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第4接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第4接続部は、階段状に配置されており、
複数の前記第5櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第5接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第5接続部は、階段状に配置されており、
複数の前記第6櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第6接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第6接続部は、階段状に配置されており、
前記メモリセルアレイは、
複数の前記第3接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第6接続配線と、
複数の前記第4接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第7接続配線と、
複数の前記第5接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第8接続配線と、
複数の前記第6接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第9接続配線と、
前記駆動回路に電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第2方向に並んで配置された複数の第10接続配線と、
複数の前記第6接続配線の各々と、複数の前記第10接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第11接続配線と、
複数の前記第7接続配線の各々と、複数の前記第10接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第12接続配線と、
複数の前記第8接続配線の各々と、複数の前記第10接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第13接続配線と、
複数の前記第9接続配線の各々と、複数の前記第10接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第14接続配線と
を有する
(4)に記載のメモリ装置。
(10)
前記第1方向に並んで配置された複数の前記メモリセルアレイを備え、
前記駆動回路は、
複数の前記メモリセルアレイへのアクセスの制御を行うコントローラと、
前記コントローラによる制御に基づいて、複数の前記メモリセルアレイのうちの1つである第1メモリセルアレイに含まれる複数の前記第4配線の中から複数の前記第4配線を選択する第1駆動回路と、
前記コントローラによる制御に基づいて、前記第1メモリセルアレイに含まれる複数の前記第1配線の中から複数の前記第1配線と、複数の前記メモリセルアレイのうち前記第1メモリセルアレイに隣接する第2メモリセルアレイに含まれる複数の前記第1配線の中から複数の前記第1配線とを同時に選択する第2駆動回路と、
前記コントローラによる制御に基づいて、前記第1メモリセルアレイに含まれる複数の前記第2配線の中から複数の前記第2配線と、前記第2メモリセルアレイに含まれる複数の前記第2配線の中から複数の前記第2配線とを同時に選択する第3駆動回路と
を有し、
前記第1駆動回路は、前記第1メモリセルアレイに含まれる複数の前記第4配線と対向する位置に設けられ、
前記第2駆動回路は、前記第1駆動回路に隣接する位置であって、かつ前記第1方向において隣接する位置に設けられている
(1)ないし(3)のいずれか一項に記載のメモリ装置。
(11)
メモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイへのアクセスを行う駆動回路と
を備え、
前記メモリセルアレイは、
第1方向に延在し、前記第1方向と直交する第2方向と、前記第1方向および前記第2方向と直交する第3方向とに並んで配置された複数の第1配線と、
前記第1方向に延在し、前記第2方向に並んで配置された複数の第2配線と、
前記第3方向に延在し、前記第1方向と前記第2方向とに並んで配置されるとともに、前記第3方向から見たときに前記第2方向において互いに隣接する2つの前記第1配線の間隙を貫通するように配置された複数の第3配線と、
各前記第3配線と各前記第1配線とが互いに対向する箇所ごとに1つずつ設けられた複数の抵抗変化型のメモリセルと、
前記第3配線ごとに1つずつ設けられ、各々のゲートが、対応する前記第2配線に接続された複数のトランジスタと、
前記第2方向に延在し、前記第1方向に並んで配置され、前記第2方向に並んで配置された複数の前記第3配線ごとに1本ずつ設けられ、各々が、対応する複数の前記第3配線に対して、前記トランジスタを介して接続された複数の第4配線と
を有し、
前記駆動回路は、複数の前記メモリセルのうち、対応する前記第4配線が互いに共通するとともに対応する前記第1配線が互いに異なる複数の第1メモリセルに対して同時にアクセスする
メモリ装置。
(12)
複数の前記第3配線は、前記第1方向に複数の前記第4配線の配列ピッチと等しいピッチで並んで配置されるとともに、前記第2方向に複数の前記第1配線の配列ピッチと等しいピッチで並んで配置されている
(11)に記載のメモリ装置。
Claims (12)
- メモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイへのアクセスを行う駆動回路と
を備え、
前記メモリセルアレイは、
第1方向に延在し、前記第1方向と直交する第2方向と、前記第1方向および前記第2方向と直交する第3方向とに並んで配置された複数の第1配線と、
前記第1方向に延在し、前記第2方向に並んで配置された複数の第2配線と、
前記第3方向に延在し、前記第1方向と前記第2方向とに並んで配置されるとともに、前記第3方向から見たときに前記第2方向において互いに隣接する2つの前記第1配線の間隙を貫通するように配置された複数の第3配線と、
各前記第3配線と各前記第1配線とが互いに対向する箇所ごとに1つずつ設けられた複数の抵抗変化型のメモリセルと、
前記第3配線ごとに1つずつ設けられ、各々のゲートが、対応する前記第2配線に接続された複数のトランジスタと、
前記第2方向に延在し、前記第1方向に並んで配置され、前記第2方向に並んで配置された複数の前記第3配線ごとに1本ずつ設けられ、各々が、対応する複数の前記第3配線に対して、前記トランジスタを介して接続された複数の第4配線と
を有し、
前記メモリセルアレイは、複数の前記メモリセルのうち、対応する前記第4配線および前記第1配線が互いに異なる複数の第1メモリセルに対して同時にアクセスがなされたときに、各前記第1メモリセルと共通の前記第4配線に対応する前記メモリセルに対しても同時にアクセスがなされることのない複数の前記第1メモリセルへの同時アクセスが可能に構成されている
メモリ装置。 - 複数の前記第3配線は、前記第1方向に複数の前記第4配線の配列ピッチのn倍(nは2以上の整数)の大きさで等間隔に並んで配置されるとともに、前記第2方向に複数の前記第1配線の配列ピッチのn倍の大きさで等間隔に並んで配置されている
請求項1に記載のメモリ装置。 - 前記第2方向に並んで配置された複数の前記第1配線のうち、偶数番目の複数の前記第 1配線は、互いに電気的に接続され、第1櫛歯配線の櫛歯を構成し、
前記第2方向に並んで配置された複数の前記第1配線のうち、奇数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続され、第2櫛歯配線の櫛歯を構成している
請求項2に記載のメモリ装置。 - 前記第2方向に並んで配置された複数の前記第1配線は、1番目からk番目までの複数の前記第1配線からなる第1グループと、k+1番目からm番目までの複数の前記第1配線からなる第2グループとに分けられ、
前記第1グループに属する偶数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続された、第3櫛歯配線の櫛歯を構成し、
前記第1グループに属する奇数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続された、第4櫛歯配線の櫛歯を構成し、
前記第2グループに属する偶数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続された、第5櫛歯配線の櫛歯を構成し、
前記第2グループに属する奇数番目の複数の前記第1配線は、互いに電気的に接続された、第6櫛歯配線の櫛歯を構成している
請求項2に記載のメモリ装置。 - 前記メモリセルアレイは、複数の前記第2配線のうち互いに隣接しない複数本の前記第2配線同士を電気的に接続する複数の接続部をさらに有する
請求項3に記載のメモリ装置。 - 前記駆動回路は、複数の前記第2配線のうち互いに隣接しない複数本の前記第2配線を同時に選択する
請求項3に記載のメモリ装置。 - 前記駆動回路は、前記第1グループに対応する複数の前記第2配線のうちの1または複数の前記第2配線と、前記第2グループに対応する複数の前記第2配線のうちの1または複数の前記第2配線とを同時に選択する
請求項4に記載のメモリ装置。 - 前記駆動回路を含み、前記メモリセルアレイと電気的に接続された回路基板を更に備え、
複数の前記第1櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第1接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第1接続部は、階段状に配置されており、
複数の前記第2櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第2接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第2接続部は、階段状に配置されており、
前記メモリセルアレイは、
複数の前記第1接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第1接続配線と、
複数の前記第2接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第2接続配線と、
前記駆動回路に電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第2方向に並んで配置された複数の第3接続配線と、
複数の前記第1接続配線の各々と、複数の前記第3接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第4接続配線と、
複数の前記第2接続配線の各々と、複数の前記第3接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第5接続配線と
を有する
請求項3に記載のメモリ装置。 - 前記駆動回路を含み、前記メモリセルアレイと電気的に接続された回路基板を更に備え、
複数の前記第3櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第3接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第3接続部は、階段状に配置されており、
複数の前記第4櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第4接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第4接続部は、階段状に配置されており、
複数の前記第5櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第5接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第5接続部は、階段状に配置されており、
複数の前記第6櫛歯配線において、複数の前記第1配線を互いに接続する第6接続部の、前記第1方向の長さは、前記回路基板から離れるにつれて短くなっており、それにより、複数の前記第6接続部は、階段状に配置されており、
前記メモリセルアレイは、
複数の前記第3接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第6接続配線と、
複数の前記第4接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第7接続配線と、
複数の前記第5接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第8接続配線と、
複数の前記第6接続部の各々の、前記第1方向における端縁と電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第1方向および前記第2方向と交差する方向に並んで配置された複数の第9接続配線と、
前記駆動回路に電気的に接続され、前記第3方向に延在し、前記第2方向に並んで配置された複数の第10接続配線と、
複数の前記第6接続配線の各々と、複数の前記第10接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第11接続配線と、
複数の前記第7接続配線の各々と、複数の前記第10接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第12接続配線と、
複数の前記第8接続配線の各々と、複数の前記第10接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第13接続配線と、
複数の前記第9接続配線の各々と、複数の前記第10接続配線のうちの一部の各々とを互いに電気的に接続する複数の第14接続配線と
を有する
請求項4に記載のメモリ装置。 - 前記第1方向に並んで配置された複数の前記メモリセルアレイを備え、
前記駆動回路は、
複数の前記メモリセルアレイへのアクセスの制御を行うコントローラと、
前記コントローラによる制御に基づいて、複数の前記メモリセルアレイのうちの1つである第1メモリセルアレイに含まれる複数の前記第4配線を駆動する第1駆動回路と、
前記コントローラによる制御に基づいて、前記第1メモリセルアレイに含まれる複数の前記第1配線と、複数の前記メモリセルアレイのうち前記第1メモリセルアレイに隣接する第2メモリセルアレイに含まれる複数の前記第1配線とを駆動する第2駆動回路と、
前記コントローラによる制御に基づいて、前記第1メモリセルアレイに含まれる複数の前記第2配線と、前記第2メモリセルアレイに含まれる複数の前記第2配線を駆動する第3駆動回路と
を有し、
前記第1駆動回路は、前記第1メモリセルアレイに含まれる複数の前記第4配線と対向する位置に設けられ、
前記第2駆動回路は、前記第1駆動回路に隣接する位置であって、かつ前記第1方向において隣接する位置に設けられている
請求項3に記載のメモリ装置。 - メモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイへのアクセスを行う駆動回路と
を備え、
前記メモリセルアレイは、
第1方向に延在し、前記第1方向と直交する第2方向と、前記第1方向および前記第2方向と直交する第3方向とに並んで配置された複数の第1配線と、
前記第1方向に延在し、前記第2方向に並んで配置された複数の第2配線と、
前記第3方向に延在し、前記第1方向と前記第2方向とに並んで配置されるとともに、前記第3方向から見たときに前記第2方向において互いに隣接する2つの前記第1配線の間隙を貫通するように配置された複数の第3配線と、
各前記第3配線と各前記第1配線とが互いに対向する箇所ごとに1つずつ設けられた複数の抵抗変化型のメモリセルと、
前記第3配線ごとに1つずつ設けられ、各々のゲートが、対応する前記第2配線に接続された複数のトランジスタと、
前記第2方向に延在し、前記第1方向に並んで配置され、前記第2方向に並んで配置された複数の前記第3配線ごとに1本ずつ設けられ、各々が、対応する複数の前記第3配線に対して、前記トランジスタを介して接続された複数の第4配線と
を有し、
前記駆動回路は、複数の前記メモリセルのうち、対応する前記第4配線が互いに共通するとともに対応する前記第1配線が互いに異なる複数の第1メモリセルに対して同時にアクセスする
メモリ装置。 - 複数の前記第3配線は、前記第1方向に複数の前記第4配線の配列ピッチと等しいピッチで並んで配置されるとともに、前記第2方向に複数の前記第1配線の配列ピッチと等しいピッチで並んで配置されている
請求項11に記載のメモリ装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017071718 | 2017-03-31 | ||
JP2017071718 | 2017-03-31 | ||
PCT/JP2018/008240 WO2018180228A1 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-05 | メモリ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018180228A1 true JPWO2018180228A1 (ja) | 2020-02-06 |
JP7136766B2 JP7136766B2 (ja) | 2022-09-13 |
Family
ID=63677005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019509075A Active JP7136766B2 (ja) | 2017-03-31 | 2018-03-05 | メモリ装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10991762B2 (ja) |
JP (1) | JP7136766B2 (ja) |
KR (1) | KR20190134998A (ja) |
CN (1) | CN110462815A (ja) |
TW (1) | TWI749195B (ja) |
WO (1) | WO2018180228A1 (ja) |
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US9508430B2 (en) | 2015-03-10 | 2016-11-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Three dimensional memory device including memory cells with resistance change layers |
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US9502103B1 (en) * | 2015-10-06 | 2016-11-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
-
2018
- 2018-03-05 WO PCT/JP2018/008240 patent/WO2018180228A1/ja active Application Filing
- 2018-03-05 JP JP2019509075A patent/JP7136766B2/ja active Active
- 2018-03-05 CN CN201880020150.5A patent/CN110462815A/zh not_active Withdrawn
- 2018-03-05 KR KR1020197027070A patent/KR20190134998A/ko active IP Right Grant
- 2018-03-05 US US16/494,853 patent/US10991762B2/en active Active
- 2018-03-20 TW TW107109428A patent/TWI749195B/zh active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201842504A (zh) | 2018-12-01 |
JP7136766B2 (ja) | 2022-09-13 |
TWI749195B (zh) | 2021-12-11 |
KR20190134998A (ko) | 2019-12-05 |
WO2018180228A1 (ja) | 2018-10-04 |
US10991762B2 (en) | 2021-04-27 |
CN110462815A (zh) | 2019-11-15 |
US20200286953A1 (en) | 2020-09-10 |
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Legal Events
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