JPWO2017169602A1 - カチオン変性シリカ原料分散液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】カチオン変性シリカ原料分散液であって、pH7.0未満に調整して保管されている、カチオン変性シリカ原料分散液。
【選択図】なし
Description
本発明は、カチオン変性シリカ原料分散液であって、pH7.0未満に調整して保管されている、カチオン変性シリカ原料分散液である。本発明の好ましい実施形態によれば、本発明は、研磨剤の調製に用いられるカチオン変性シリカ原料分散液であって、pH7.0未満に調整して保管されている、カチオン変性シリカ原料分散液である。本発明を別の観点で考えれば、カチオン変性シリカ原料分散液は、pH7.0未満に調整されている原料分散液である。そして、当該原料分散液をpH7.0未満に調整しておくことによって、時間経過による粘度の変化が抑制されるカチオン変性シリカ分散液を提供することができ、ひいては、それを原料として使った製品(例えば、研磨剤)の性能のバラツキを抑制することができる。
シリカとしては、研磨傷の発生を抑制する観点から、コロイダルシリカを用いることが好ましい。
本発明によれば、シリカは、カチオン変性されている。そして、本発明の好ましい実施形態によれば、カチオン変性が、アミノ基修飾によるものである。かかる実施形態によれば、本発明の効果をより高めることができる。
上記のようにして得られたカチオン変性シリカの分散液において、当該カチオン変性シリカの平均一次粒子径、平均二次粒子径、および粒度分布や、当該分散液における含有量等については、公知の条件を適宜参照して適用することができる。
本発明のカチオン変性シリカ原料分散液は、pH7.0未満に調整して保管されている。本発明の実施形態において、カチオン変性シリカ原料分散液の保管時のpHは7.0未満であれば特に制限されないが、粘度変化抑制の効果を効率よく発揮させる観点から、6.0以下であることが好ましく、5.0以下であることがより好ましく、4.0以下であることがさらに好ましい。
本発明のカチオン変性シリカ原料分散液は、pH7.0未満に調整して保管されている。ここで、本発明の好ましい実施形態によれば、カチオン変性シリカ原料分散液の保管とは、撹拌等の操作を行わずに、静置または放置(輸送を含む)され、製品(例えば、研磨剤)の製造(調製)に用いられるまでの状態を言う。
本発明においては、上記のpH7.0未満に調整して保管されたカチオン変性シリカ原料分散液を、研磨剤の原料として準備する、準備工程を有する、研磨剤の製造方法が提供される。
本発明においては、上記の研磨剤の製造方法によって研磨剤を得、それを使って研磨対象物を研磨する、研磨方法が提供される。また、本発明においては、研磨方法を有する、基板の製造方法も提供される。本発明の研磨方法を用いて、研磨前の基板を研磨することによって、性能が安定した基板を提供することができる。
研磨対象物としては、特に制限されず、含ケイ素材料や、各種金属材料等などが挙げられる。
本発明においては、カチオン変性シリカ原料分散液は、pH7.0未満に調整して保管されることによって、粘度の変化が抑制されている。
・市販品のアミノ基修飾シリカの分散液(pH=9.28)(分散媒:水)(以下、市販分散液)と、
・pH調整剤としてリン酸(関東化学株式会社製、特級、95%)と、
を準備した。
上記市販分散液を1000mL量り取り、マグネティックスターラーにて攪拌しながらリン酸を用いて、pH1.22(実施例)、pH1.98(実施例)、pH3.75(実施例)、pH7.64(比較例)とした4点の試料を準備した。
上記項目2.にて調製した試料4点およびリン酸を添加していない市販分散液(pH=9.28)を各300mLずつポリプロピレン容器に量り取り(試料点数:5点)、60℃、80℃に設定された恒温乾燥機(DK−600、ヤマト科学株式会社製)にて7日間保管した。なお、60℃および80℃による保管は、加速試験であり、常温(25℃)に換算すると、それぞれ、約80日、約300日に相当しうる。
粘度は、粘度計(キャノンフェンスケ、柴田科学株式会社製)を用いて測定し、次式に従い算出した(粘度の測定は25℃で行った)。
表1中の「25℃ 0日」における粘度の数値は、上記5点を調製して(各300mLずつポリプロピレン容器に量り取って)遅滞なく、測定したものであり、表1中の「60℃ 7日」における粘度の数値は、60℃で7日間保管した後、25℃の環境下にて静置し、25℃に戻したものを測定したものであり、表1中の「80℃ 7日」における粘度の数値は、80℃で7日間保管した後、25℃の環境下にて静置し、25℃に戻したものを測定したものである。
表1に示されるように、実施例のカチオン変性シリカ原料分散液は、pH7.0未満に調整して保管されているため、粘度の変化が抑制されている。よって、かようなカチオン変性シリカ原料分散液を、製品(例えば、研磨剤)の製造(調製)に用いた場合、研磨性能の影響を有意に低減することができることが示唆される。
Claims (9)
- カチオン変性シリカ原料分散液であって、
pH7.0未満に調整して保管されている、カチオン変性シリカ原料分散液。 - pH4.0以下に調整されている、請求項1に記載のカチオン変性シリカ原料分散液。
- カチオン変性が、アミノ基修飾によるものである、請求項1または2に記載のカチオン変性シリカ原料分散液。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のカチオン変性シリカ原料分散液を、研磨剤の原料として準備する、準備工程を有する、研磨剤の製造方法。
- 前記準備工程が、前記カチオン変性シリカ原料分散液の粘度の変化率を確認する、確認工程を有する、請求項4に記載の製造方法。
- カチオン変性シリカ原料分散液の保管方法であって、
pH7.0未満に調整して保管することを有する、カチオン変性シリカ原料分散液の保管方法。 - カチオン変性シリカ原料分散液の粘度の変化を抑制する方法であって、
前記カチオン変性シリカ原料分散液のpHを7.0未満に調整して保管することを有する、方法。 - 請求項4に記載の製造方法によって研磨剤を得;
前記研磨剤を使って、研磨対象物を研磨することを有する、研磨方法。 - 請求項8に記載の研磨方法を有する、基板の製造方法。
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