JPWO2017150678A1 - 金属張積層板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の金属層3は、金属蒸着層4と、金属蒸着層4の表面上に形成された金属めっき層5により構成されている。
本発明の金属シート6としては、特に制限はなく、例えば、銅、金、銀、ニッケル、アルミニウム、及びステンレスなどを挙げることができ、導電性、取り扱い性、及びコスト等の観点から、銅箔やステンレス箔を使用することが好ましい。なお、銅箔としては、圧延法や電解法によって製造されるものを使用することができる。
本発明の熱可塑性液晶ポリマーフィルム2の原料は、特に限定されるものではない。例えば、以下に例示する(1)から(4)に分類される化合物およびその誘導体から導かれる公知のサーモトロピック液晶ポリエステルおよびサーモトロピック液晶ポリエステルアミドを挙げることができる。但し、光学的に異方性の溶融相を形成し得るポリマーを得るために、各々の原料化合物の組み合わせには適当な範囲があることは言うまでもない。
m=(Zo/△z)X[1−νmax /νo] …(1)
(ここで、Zoは装置定数、△zは物体の平均厚、νmaxはマイクロ波の振動数を変化させたとき、最大のマイクロ波透過強度を与える振動数、νoは平均厚ゼロのとき(即ち、物体がないとき)の最大マイクロ波透過強度を与える振動数である。)
靱性=伸度×最大引張強度×1/2 …(2)
まず、長尺な熱可塑性液晶ポリマーフィルム2を緊張状態にし、熱可塑性液晶ポリマーフィルム2の片面に、長尺な金属シート6を重ね、これらを加熱ロール間で圧着して積層させる。
まず、真空蒸着装置における蒸着用チャンバー内に、蒸着源(例えば、純度が99%以上のCu)を入れた蒸着ボート(抵抗体であるタングステンやモリブテンにより形成されたもの)を載置する。次に、この蒸着用ボートに電流を流して加熱することにより、熱可塑性液晶ポリマーフィルム2の表面上に金属を蒸着し、片面金属張積層板19における熱可塑性液晶ポリマーフィルム2の表面に金属蒸着層4を形成する。
次に、電解めっき法を使用して、金属蒸着層4の表面上に、金属めっき層5を形成する。より具体的には、上述の蒸着工程により形成した金属蒸着層(下地金属膜)4上に金属(例えば、銅)の電解めっきを行うことにより、金属蒸着層4と金属めっき層5により構成された金属層3を形成する。
本発明においては、回路形成工程において、サブトラクティブ法やセミアディティブ法で回路形成してもよい。
<片面銅張積層板の作製>
まず、50μmの厚みを有する熱可塑性液晶ポリマーフィルム((株)クラレ製、商品名:ベクスターCT−Z)を準備した。次に、連続熱プレス装置を使用して、熱可塑性液晶ポリマーフィルムと、12μm厚みの電解銅箔(三井金属鉱業(株)製、商品名:3EC M2S−VLP(表面粗さ:2.0μm)を、耐熱ゴムロールと加熱金属ロールの間に導入して圧着することにより接合し、片面銅張積層板を作製した。
次に、真空蒸着装置(ロック技研工業(株)製、商品名:RVC−W−300)を使用したロールツーロール方式を採用して、片面銅張積層板における熱可塑性液晶ポリマーフィルムのもう一方の片面に銅蒸着層(厚み:0.3μm)を形成した。
作製した銅張積層板において、検査照明の入射光軸に対する反射光軸から皺の有無を目視により確認した。以上の結果を表6に示す。
次に、電解めっき法により、銅蒸着層の表面上に銅めっき層(厚み:12μm)を形成して、銅蒸着層と銅めっき層により構成された銅層12.3μmを形成し、銅張積層板を作製した。なお、ハイスロータイプの硫酸度基本浴(40〜100g/Lの硫酸銅および150〜250g/Lの硫酸を含有する硫酸銅めっき基本組成)の浴中に入れて銅めっき層の厚みが12μmになるようにした。
次に、作製した銅張積層板に対して、IPC−TM−650.2.2.4に準じて、加熱処理(150℃±2℃に保たれたオーブンに、30分±2分間、投入し、その後23℃±2℃、50%±5RHで24時間放置)を行い、加熱処理前の寸法に対する加熱処理後の寸法の変化率(%)を測定し、平均値を加熱による寸法変化率とした。そして、長手方向および幅方向の寸法変化率が共に±0.1%以下の場合を、寸法安定性が良好であるとした。以上の結果を表6に示す。
銅蒸着層のピール強度:銅蒸着面にめっき処理が施された銅張積層板を使用して、1.0cm幅の剥離試験片を作製した。次に、熱可塑性液晶ポリマーフィルムを両面接着テープで平板に固定し、JIS C 5016に準じて、90°法により、銅蒸着層(銅層)を50mm/分の速度で剥離したときの強度を測定した。
作製した銅張積層板を用いて、裏面に導体箔が形成された板状誘電体基板の表面に線状の導体箔が形成された構造を有し、電磁波を伝達する50Ωの伝送路(マイクロストリップライン)を作製した。次に、マイクロ波ネットワークアナライザー(アジレント(株)製、商品名:8722ES)を用い、プローブ(カスケードマイクロテック(株)製、商品名:ACP40−250)を用いて、40GHzで伝送損失を測定した。
熱可塑性液晶ポリマーフィルムとして、50μmの厚みを有する融点280℃の熱可塑性液晶ポリマーフィルム((株)クラレ製、商品名:ベクスターCT−F)を使用し、銅蒸着層を形成する際の加熱ロールの温度を230℃に設定したこと以外は、上述の実施例1と同様にして銅張積層板を作製した。その後、上述の実施例1と同様にして、寸法安定性評価、ピール強度測定、伝送損失測定、及び外観評価を行った。以上の結果を表6に示す。
金属シートとして、12μm厚みの圧延銅箔(JX日鉱日石金属(株)製、商品名:BHY−X、表面粗さ:1.0μm)を用いたこと以外は実施例1と同様にして銅張積層板を作製した。その後、上述の実施例1と同様にして、寸法安定性評価、ピール強度測定、伝送損失測定、及び外観評価を行った。以上の結果を表6に示す。
まず、50μmの厚みを有する熱可塑性液晶ポリマーフィルム((株)クラレ製、商品名:ベクスターCT−Z)を準備した。次に、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に、上述の実施例1と同様にして、銅蒸着層及び銅めっき層からなる銅層を形成し、両面に銅蒸着層が形成された銅張積層板を作製した。
銅蒸着層を形成する際の加熱ロールの温度を250℃に設定したこと以外は、上述の比較例1と同様にして、両面に銅蒸着層が形成された銅張積層板を作製した。
まず、50μmの厚みを有する熱可塑性液晶ポリマーフィルム((株)クラレ製、商品名:ベクスターCT−Z)を準備した。次に、熱可塑性液晶ポリマーフィルムの両面に、上述の実施例1と同様にして、圧延銅箔を圧着することにより接合し、両面に銅箔が設けられた銅張積層板を作製した。
2 熱可塑性液晶ポリマーフィルム
3 金属層
4 金属蒸着層
5 金属めっき層
6 金属シート(金属箔)
7 加熱ロール
8 耐熱ゴムロール
9 加熱金属ロール
10 連続熱プレス装置
12 巻き出しロール
13 加熱ロール
14 巻き取りロール
17 坩堝
18 電子銃
19 片面金属張積層板
20 蒸着装置
Claims (8)
- 熱可塑性液晶ポリマーフィルムと、
前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムの片面に積層された金属蒸着層と、
前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムのもう一方の片面に積層された金属シートと
を備える金属張積層板。 - 150℃で30分間、加熱処理した後の、長手方向および幅方向の寸法変化率が±0.1%以下である請求項1に記載の金属張積層板。
- 前記金属蒸着層の厚みが0.1μm以上0.5μm以下であり、前記金属シートの厚みが2μm以上18μm以下である請求項1または請求項2に記載の金属張積層板。
- 前記金属蒸着層を形成する金属の結晶粒子径が0.1μm以上である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の金属張積層板。
- 前記金属蒸着層に回路パターンが形成されている請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の金属張積層板。
- 前記金属蒸着層上に金属めっき層が設けられている請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の金属張積層板。
- 熱可塑性液晶ポリマーフィルムの片面に金属シートを積層して、金属シートを備える片面金属張積層板を形成する工程と、
前記片面金属張積層板をロールツーロール方式で搬送しながら、加熱ロールを備えた蒸着装置を用いて、前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムのもう一方の片面に金属蒸着層を形成する工程と
を備える金属張積層板の製造方法。 - 前記熱可塑性液晶ポリマーフィルムの融点をMpとした場合、前記加熱ロールの温度がMp−65℃以上Mp−40℃以下である請求項7に記載の金属張積層板の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018150549A1 (ja) * | 2017-02-17 | 2018-08-23 | 株式会社クラレ | 金属蒸着層付き熱可塑性液晶ポリマーフィルムの製造方法、該製造方法を用いた金属蒸着層付き熱可塑性液晶ポリマーフィルム、金属張積層板の製造方法、及び金属張積層板 |
EP3608100A4 (en) * | 2017-04-07 | 2020-12-09 | Kuraray Co., Ltd. | METAL-PLATED LAMINATE SHEET AND ITS MANUFACTURING PROCESS |
JP7338619B2 (ja) * | 2018-04-20 | 2023-09-05 | Agc株式会社 | ロールフィルム、ロールフィルムの製造方法、銅張積層体の製造方法、及びプリント基板の製造方法 |
KR20210084475A (ko) * | 2018-10-29 | 2021-07-07 | 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 | 금속장 적층판 및 금속장 적층판의 제조 방법 |
WO2020116306A1 (ja) * | 2018-12-04 | 2020-06-11 | 株式会社クラレ | 高電圧用回路基板およびそれを用いた高電圧デバイス |
US11917753B2 (en) | 2019-09-23 | 2024-02-27 | Ticona Llc | Circuit board for use at 5G frequencies |
TWI740515B (zh) | 2019-12-23 | 2021-09-21 | 長春人造樹脂廠股份有限公司 | 液晶高分子膜及包含其之積層板 |
JP2021171963A (ja) * | 2020-04-22 | 2021-11-01 | 東洋鋼鈑株式会社 | 金属積層フィルム及びその製造方法 |
WO2023243491A1 (ja) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | 株式会社クラレ | 金属張積層板ロールおよびその製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0542603A (ja) * | 1991-04-05 | 1993-02-23 | Kuraray Co Ltd | 積層体の製造方法 |
JP2002020513A (ja) * | 2000-07-06 | 2002-01-23 | Toray Ind Inc | エッチング方法 |
JP2007158017A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 配線基板およびその製造方法 |
JP2012140552A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-07-26 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 銅張積層板及びその製造方法 |
JP2013063649A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-04-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層基材の製造方法、液晶ポリエステルフィルムの製造方法 |
JP2014160738A (ja) * | 2013-02-19 | 2014-09-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | めっき積層体の製造方法、及びめっき積層体 |
JP2016215458A (ja) * | 2015-05-19 | 2016-12-22 | 大日本印刷株式会社 | ロール状積層基板の製造方法及び積層基板 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3659721B2 (ja) | 1995-12-22 | 2005-06-15 | ジャパンゴアテックス株式会社 | 接着性表面又は金属表面を有する液晶ポリマーフィルム延伸物 |
JP2001239585A (ja) | 2000-02-28 | 2001-09-04 | Kuraray Co Ltd | 金属張積層体およびその製造方法。 |
TW528676B (en) | 2001-03-07 | 2003-04-21 | Kuraray Co | Method for producing metal laminate |
AU2003267221A1 (en) * | 2002-09-16 | 2004-04-30 | World Properties, Inc. | Liquid crystalline polymer composites, method of manufacture thereof, and articles formed therefrom |
JP2006137011A (ja) | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Kuraray Co Ltd | 金属張積層体およびその製造方法 |
JP2006339365A (ja) | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 配線基板およびその製造方法、多層積層配線基板の製造方法並びにビアホールの形成方法 |
JP5421598B2 (ja) | 2009-01-16 | 2014-02-19 | 株式会社ファインテック | フレキシブルプリント基板の製造方法 |
JP2012020513A (ja) * | 2010-07-15 | 2012-02-02 | Canon Inc | 印刷装置 |
JP6028711B2 (ja) | 2013-10-23 | 2016-11-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 両面成膜方法と金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 |
EP3287260B1 (en) * | 2015-04-20 | 2019-12-18 | Kuraray Co., Ltd. | Metal-clad laminate sheet manufacturing method, and metal-clad laminate sheet using the same |
US20170208680A1 (en) * | 2016-01-15 | 2017-07-20 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper Foil, Copper-Clad Laminate Board, Method For Producing Printed Wiring Board, Method For Producing Electronic Apparauts, Method For Producing Transmission Channel, And Method For Producing Antenna |
-
2017
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- 2017-03-02 TW TW106106768A patent/TWI787174B/zh active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0542603A (ja) * | 1991-04-05 | 1993-02-23 | Kuraray Co Ltd | 積層体の製造方法 |
JP2002020513A (ja) * | 2000-07-06 | 2002-01-23 | Toray Ind Inc | エッチング方法 |
JP2007158017A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 配線基板およびその製造方法 |
JP2012140552A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-07-26 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 銅張積層板及びその製造方法 |
JP2013063649A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-04-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層基材の製造方法、液晶ポリエステルフィルムの製造方法 |
JP2014160738A (ja) * | 2013-02-19 | 2014-09-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | めっき積層体の製造方法、及びめっき積層体 |
JP2016215458A (ja) * | 2015-05-19 | 2016-12-22 | 大日本印刷株式会社 | ロール状積層基板の製造方法及び積層基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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