JPWO2016104790A1 - ポリオレフィン微多孔膜、その製造方法及び電池用セパレータ - Google Patents
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Abstract
ポリオレフィン樹脂と結晶造核剤を含む組成物からなり、ポリオレフィン樹脂のMFR値が2.0g/10分以下であり、20μm換算の透気抵抗度が100〜500秒/100ccであり、空孔率が20%〜60%であり、平均流量孔径が100nm以下であることを特徴とするポリオレフィン微多孔膜に関する。このようなポリオレフィン微多孔膜は、突刺強度などの機械的強度および絶縁破壊電圧などの耐電圧特性に優れ、汎用性および安全性が高いという特徴を有する。
Description
本発明は、二次電池のセパレータ、コーティングセパレータ基材などに好適に用いられるポリオレフィン微多孔膜に関する。
近年のリチウムイオン二次電池の高容量化、高出力化に伴い、安全性の観点から、リチウムイオン二次電池用セパレータの突刺し強度などの機械的強度や絶縁破壊電圧などの耐電圧特性の向上が求められている。さらに、リチウムイオン二次電池の高容量化、高出力化を進めるには、電極間距離を短くすることが好適なため、リチウムイオン二次電池用セパレータの薄膜化が進んでいる。このため、リチウムイオン二次電池用セパレータには、破膜や短絡を防止するため、より高い機械的強度および耐電圧特性が求められるようになった。
特許文献1には、ポリオレフィンに特定の大きさの無機粒子を配合することで、耐電圧特性および突刺し強度を向上させる技術が開示されている。しかしながら、多量の微粒子を配合するため、微粒子が均一分散しにくいことや、成膜した後これを除去するため、空孔率が過剰に高くなり、耐電圧特性が十分ではなかった。また、微粒子を多量に用いるプロセスにより形成される微多孔膜であるため、プロセス・設備・メンテナンス上の問題を抱えていた。
また、特許文献2には、高いMFR値を有するポリエチレンを含む層へ造核剤を配合し、微細構造を有する多層微多孔膜を形成することで、シャットダウン特性を向上させるという技術が開示されている。しかしながら、このMFR範囲のポリエチレンを用いると高分子量のポリエチレンを用いた場合と比較して、突き刺し強度が低下するという問題がある。
本発明は、MFR2.0g/10分以下のポリオレフィン樹脂と結晶造核剤を含む組成物からなり、透気抵抗度、空孔率、平均流量孔径が特定の範囲に制御された、突刺し強度、耐電圧特性に優れた微多孔膜に関するものである。
本発明の課題は、突刺し強度などの機械的強度および絶縁破壊電圧などの耐電圧特性に優れた、汎用性および安全性の高いポリオレフィン微多孔膜を提供することである。
本発明の第1の態様は、ポリオレフィン樹脂と結晶造核剤を含む組成物からなり、ポリオレフィン樹脂のMFR値が2.0g/10分以下であり、20μm換算の透気抵抗度が100〜500秒/100ccであり、空孔率が20%〜60%であり、平均流量孔径が100nm以下であることを特徴とするポリオレフィン微多孔膜である。
前記ポリオレフィン樹脂の90質量%以上がポリエチレン樹脂であることが好ましい。
ポリオレフィン微多孔膜の平均流量孔径は、50nm以下であることが好ましく、絶縁破壊電圧は、163V/μm以上であることが好ましく、175V/μm以上であることがより好ましい。
ポリオレフィン微多孔膜の123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2は、2.0分以下であることが好ましく、1.5分以下であることがより好ましい。
本発明の第2の態様は、前記ポリオレフィン微多孔膜からなる電池用セパレータであり、本発明の第3の態様は、前記セパレータを用いた二次電池である。
本発明のポリオレフィン微多孔膜は、突刺し強度などの機械的強度、耐電圧特性に優れた微多孔膜となる。その高強度、高耐電圧特性の特徴から、電池用セパレータとしてのポリオレフィン微多孔膜をさらに薄膜化することができ、電池の容量を向上させることが期待でき、また、短絡する確率が低くなるため、電池の安全性をも向上させることが期待できる。
以下に、本発明の望ましい実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、要旨の範囲内で変化させて実施することができる。
1.ポリオレフィン微多孔膜
本発明のポリオレフィン微多孔膜は、ポリオレフィン樹脂を主成分とする混合物からなる。以下、本発明について、各項目毎に説明する。
本発明のポリオレフィン微多孔膜は、ポリオレフィン樹脂を主成分とする混合物からなる。以下、本発明について、各項目毎に説明する。
(1)ポリオレフィン樹脂
前記、ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(4−メチル−ペンテン−1)、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化塩化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン、ポリカーボネートが例示される。
前記、ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(4−メチル−ペンテン−1)、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化塩化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン、ポリカーボネートが例示される。
前記ポリオレフィン樹脂のMFRは、2.0g/10分以下であり、0.01〜1.0g/10分であることが好ましい。MFRが前記範囲を超えると、得られるポリオレフィン微多孔膜の突刺し強度などの機械強度が低下するからである。なお、前記MFRは、JIS K6922−2に準拠して、190℃、2.16kg荷重にて、溶融したポリマーをダイ(長さ8mm、外径9.5mm、内径2.095mm)より押出して測定した。
前記ポリオレフィン樹脂は、2種以上のポリオレフィンからなる混合物であってもよい。前記ポリオレフィン樹脂が2種以上のポリオレフィンからなる混合物である場合、混合物としてのMFRが前記範囲内となることが好ましい。
(i)ポリエチレン樹脂
(i)ポリエチレン樹脂
前記ポリオレフィン樹脂は、ポリエチレン樹脂を含むことが好ましい。ポリエチレン樹脂の含有量は、ポリオレフィン樹脂中90質量%以上であることが好ましく、95質量%以上であることがより好ましく、99質量%以上であることが特に好ましい。ポリオレフィン樹脂中のポリエチレン樹脂の比率を前記範囲内とすると、得られるポリオレフィン微多孔膜の強度の向上を図ることができる。
前記ポリエチレン樹脂としては、 (i)エチレンホモポリマー、または(ii)エチレンと、プロピレン、ブテン−1、ヘキセン−1等のコモノマーとのコポリマーおよびそれらの混合物を用いることができる。
中でも、経済性および膜強度の観点から、エチレンホモポリマーであることが好ましく、Mwが1×104以上1×106未満の高密度ポリエチレンであることが好ましい。ポリエチレン樹脂の分子量分散(MWD)としては、押出成型性、安定した結晶化制御による物性コントロールの観点から、例えば、1.0〜20が好ましく、3.0〜10.0がより好ましい。
ポリエチレン樹脂としてのコポリマー中のコモノマーの含有量は、コポリマー100モル%を基準として10.0モル%以下であることが好ましい。かかるコポリマーは、チーグラー・ナッタ触媒またはシングルサイト触媒を用いるプロセス等の、いずれかの都合のよい重合プロセスにより製造することができる。コモノマーは、α−オレフィンであってもよく、例えば、所望によりコモノマーは、プロピレン、ブテン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチルペンテン−1、オクテン−1、酢酸ビニル、メタクリル酸メチル、スチレン、または他のモノマーの1つまたは複数である。
前記ポリエチレン樹脂のMFRは、2.0g/10分以下であることが好ましく、0.01〜1.0g/10分の範囲にあることがより好ましい。ポリエチレン樹脂のMFRが前記範囲外であると、得られるポリオレフィン微多孔膜の機械的強度が著しく低下するからである。ここで、前記ポリエチレン樹脂のMFRは、190℃、2.16kg荷重の条件でJIS K6922−2に準拠して測定した値である。
また前記ポリエチレン樹脂として、重量平均分子量1.0×106以上の超高分子量ポリエチレンをポリオレフィン樹脂中1質量%〜90質量%の範囲で含んでもよく、好ましくは1質量%〜80質量%の範囲であり、より好ましくは1質量%〜70質量%である。重量平均分子量1.0×106以上の超高分子量ポリエチレンが上記範囲内で含まれると、ポリオレフィン微多孔膜の生産性を損なうことなく、高強度の微多孔膜を得ることができる。
このポリエチレン樹脂は、単独のポリエチレンであってもよく、2種以上のポリエチレンからなる混合物であってもよい。2種以上のポリエチレンからなる混合物である場合、混合物としてのMFRが2.0g/10分以下であることが好ましい。
(ii)その他の樹脂成分
前記ポリオレフィン樹脂は、必要に応じて、前記ポリエチレン樹脂以外のその他の樹脂成分を含むことができる。その他の樹脂成分としては、耐熱性樹脂であることが好ましく、耐熱性樹脂としては、例えば、融点が150℃以上の結晶性樹脂(部分的に結晶性である樹脂を含む)、及び/又はガラス点移転(Tg)が150℃以上の非晶性樹脂が挙げられる。ここでTgはJIS K7121に準拠して測定した値である。
前記ポリオレフィン樹脂は、必要に応じて、前記ポリエチレン樹脂以外のその他の樹脂成分を含むことができる。その他の樹脂成分としては、耐熱性樹脂であることが好ましく、耐熱性樹脂としては、例えば、融点が150℃以上の結晶性樹脂(部分的に結晶性である樹脂を含む)、及び/又はガラス点移転(Tg)が150℃以上の非晶性樹脂が挙げられる。ここでTgはJIS K7121に準拠して測定した値である。
その他の樹脂成分の具体例としては、ポリエステル、ポリメチルペンテン[PMP又はTPX(トランスパレントポリマーX)、融点:230〜245℃]、ポリアミド(PA、融点:215〜265℃)、ポリアリレンスルフィド(PAS)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)などのフッ化ビニリデン単独重合体やポリテトラフルオロエチレン(PTFE)などのフッ化オレフィンおよびこれらの共重合体などの含フッ素樹脂;ポリスチレン(PS、融点:230℃)、ポリビニルアルコール(PVA、融点:220〜240℃)、ポリイミド(PI、Tg:280℃以上)、ポリアミドイミド(PAI、Tg:280℃)、ポリエーテルサルフォン(PES、Tg:223℃)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK、融点:334℃)、ポリカーボネート(PC、融点:220〜240℃)、セルロースアセテート(融点:220℃)、セルローストリアセテート(融点:300℃)、ポリスルホン(Tg:190℃)、ポリエーテルイミド(融点:216℃)等が挙げられる。樹脂成分は、単一樹脂成分からなるものに限定されず、複数の樹脂成分からなるものでもよい。その他の樹脂成分の好ましいMwは、樹脂の種類により異なるが、一般的に1×103〜1×106であり、より好ましくは1×104〜7×105である。また、前記ポリオレフィン樹脂中のその他の樹脂成分の含有量は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜、調節されるが、前記ポリオレフィン樹脂中おおよそ10質量%以下の範囲で含有される。
また、その他の樹脂成分として、必要に応じて、前記ポリエチレン以外の他のポリオレフィンを含んでもよく、Mwが1×104〜4×106のポリブテン−1ポリブテン−1、ポリペンテン−1、ポリヘキセン−1、ポリオクテン−1及びMwが1×103〜1×104のポリエチレンワックスからなる群から選ばれた少なくとも一種を用いてもよい。
前記ポリエチレン以外のポリオレフィンの含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で、適宜調節できるが、前記ポリオレフィン樹脂中、10質量%以下が好ましく、5質量%未満がさらに好ましく、0質量%であることがより好ましい。
前記ポリエチレン以外のポリオレフィンの含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で、適宜調節できるが、前記ポリオレフィン樹脂中、10質量%以下が好ましく、5質量%未満がさらに好ましく、0質量%であることがより好ましい。
(2)結晶造核剤
本実施態様の微多孔膜に用いることができる結晶造核剤としては、特に限定はなく、ポリオレフィン樹脂用に使用されている一般的な化合物系、微粒子系結晶造核剤を使用できる。結晶造核剤としては、結晶造核剤を予めポリオレフィン樹脂に混合、分散したマスターバッチであってもよい。
本実施態様の微多孔膜に用いることができる結晶造核剤としては、特に限定はなく、ポリオレフィン樹脂用に使用されている一般的な化合物系、微粒子系結晶造核剤を使用できる。結晶造核剤としては、結晶造核剤を予めポリオレフィン樹脂に混合、分散したマスターバッチであってもよい。
結晶造核剤の配合量は特に限定されないが、その上限は、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して10質量部が好ましく、5質量部がより好ましく、その下限は、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して0.01質量部が好ましく、0.1質量部がより好ましい。結晶造核剤の配合量が上記範囲内であると、ポリオレフィン樹脂への良好な分散性、製造プロセス上の良好な取り扱い作業性や経済性が期待できる。
[化合物系結晶造核剤]
化合物系結晶造核剤としては、芳香族リン酸エステル金属塩系造核剤、ソルビトール系造核剤、安息香酸金属塩系造核剤等のカルボン酸金属塩系造核剤およびこれらの混合物などポリオレフィン樹脂用造核剤として一般的に使用されるものが使用できる。中でも、後述するポリオレフィン樹脂溶液への分散性の観点から、基本的にヒドロシリル基を含有しない芳香族リン酸エステル金属塩系造核剤、安息香酸金属塩系造核剤等のカルボン酸金属塩系造核剤およびこれらの混合物であることが好ましい。
化合物系結晶造核剤としては、芳香族リン酸エステル金属塩系造核剤、ソルビトール系造核剤、安息香酸金属塩系造核剤等のカルボン酸金属塩系造核剤およびこれらの混合物などポリオレフィン樹脂用造核剤として一般的に使用されるものが使用できる。中でも、後述するポリオレフィン樹脂溶液への分散性の観点から、基本的にヒドロシリル基を含有しない芳香族リン酸エステル金属塩系造核剤、安息香酸金属塩系造核剤等のカルボン酸金属塩系造核剤およびこれらの混合物であることが好ましい。
例えば、安息香酸ナトリウム、4−第三ブチル安息香酸アルミニウム塩、アジピン酸ナトリウム及び2ナトリウムビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボキシレート、ラウリン酸ナトリウム、ステアリン酸亜鉛等の脂肪族カルボン酸金属塩;ナトリウムビス(4−第三ブチルフェニル)ホスフェート、ナトリウム−2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスフェート及びリチウム−2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスフェート等の芳香族リン酸エステル金属塩;ジベンジリデンソルビトール、ビス(メチルベンジリデン)ソルビトール及びビス(ジメチルベンジリデン)ソルビトール等のソルビトール系化合物を用いることができる。中でも、強度および耐電圧特性向上の観点から、芳香族リン酸エステル系金属塩、カルボン酸金属塩を用いることが、好ましい。
[微粒子系結晶造核剤]
微粒子系結晶造核剤としては、例えば、シリカ、アルミナ等の微粒子系結晶造核剤を用いることができる。
微粒子系結晶造核剤としては、例えば、シリカ、アルミナ等の微粒子系結晶造核剤を用いることができる。
市販されている結晶造核剤としては、例えば、「ゲルオールD」(新日本理化社製:ソルビトール系造核剤)、「アデカスタブ」(アデカ社製:芳香族リン酸エステル金属塩系造核剤)、「Hyperform」(ミリケンケミカル社製:カルボン酸金属塩系造核剤)、または「IRGACLEAR D」(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製:ソルビトール系造核剤)等を用いることができる。また、結晶造核剤が配合されたポリエチレン樹脂マスターバッチとしては、例えば「リケマスター」(理研ビタミン社製:カルボン酸金属塩系造核剤)等が商業的に入手可能である。
(3)その他添加剤
なお、上述したようなポリオレフィン樹脂には、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、などの各種添加剤を本発明の目的を損なわない範囲で配合することができる。
なお、上述したようなポリオレフィン樹脂には、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、染料、などの各種添加剤を本発明の目的を損なわない範囲で配合することができる。
ポリオレフィン樹脂に結晶造核剤以外の添加剤を配合する場合、その配合量は、ポリオレフィン樹脂100質量部に対して、0.01質量部〜10質量部未満であることが好ましい。0.01質量部未満では、十分な効果が得られなかったり、製造時の添加量制御が難しかったり、10質量部以上では経済性に劣ったりする場合があるからである。
(4)ポリオレフィン微多孔膜
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚、空孔率、孔径、透気抵抗度などの物性は、特に制限されないが、以下の範囲に調整されることが好ましい。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚、空孔率、孔径、透気抵抗度などの物性は、特に制限されないが、以下の範囲に調整されることが好ましい。
[空孔率]
本発明のポリオレフィン微多孔膜の空孔率の上限は、膜強度、耐電圧特性向上の観点から、60%以下であり、好ましくは50%以下である。また、リチウムイオン等のイオン透過性および電解液含有量の観点から、空孔率の下限は、20%以上であることが好ましく、より好ましくは30%以上である。空孔率を前記範囲内とすることにより、イオン透過性、膜強度および電界液含有量のバランスが好適となり、電池反応の不均一性が解消され、その結果、デンドライト発生が抑制される。また、膜構造の欠陥が少なくなることから耐電圧特性が向上する。すなわち、本発明のポリオレフィン微多孔膜を電池用セパレータとして用いたリチウムイオン二次電池には良好な安全性、強度、透過性が得られる。空孔率の測定方法は後述する。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の空孔率の上限は、膜強度、耐電圧特性向上の観点から、60%以下であり、好ましくは50%以下である。また、リチウムイオン等のイオン透過性および電解液含有量の観点から、空孔率の下限は、20%以上であることが好ましく、より好ましくは30%以上である。空孔率を前記範囲内とすることにより、イオン透過性、膜強度および電界液含有量のバランスが好適となり、電池反応の不均一性が解消され、その結果、デンドライト発生が抑制される。また、膜構造の欠陥が少なくなることから耐電圧特性が向上する。すなわち、本発明のポリオレフィン微多孔膜を電池用セパレータとして用いたリチウムイオン二次電池には良好な安全性、強度、透過性が得られる。空孔率の測定方法は後述する。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の空孔率は、従来公知の方法で調節可能であるが、混合物の結晶化速度を制御し結晶造核剤などによりポリオレフィン樹脂の結晶を微細化することや、温度や延伸条件を制御することで調整することができる。
[平均流量孔径]
本発明のポリオレフィン微多孔膜の平均流量孔径の上限は、膜強度、耐電圧特性向上の観点から、300nm以下であり、好ましくは100nm以下であり、さらに好ましくは50nm以下である。本発明のポリオレフィン微多孔膜の平均流量孔径の下限は特に限定されないが、後述する透気抵抗度の関係から1nm以上であることが好ましく、5nm以上であることがより好ましい。本発明のポリオレフィン微多孔膜の平均流量孔径が前記範囲であると、微多孔膜の構造が緻密となるため、高強度および高耐電圧特性を有する微多孔膜を得ることができる。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の平均流量孔径の上限は、膜強度、耐電圧特性向上の観点から、300nm以下であり、好ましくは100nm以下であり、さらに好ましくは50nm以下である。本発明のポリオレフィン微多孔膜の平均流量孔径の下限は特に限定されないが、後述する透気抵抗度の関係から1nm以上であることが好ましく、5nm以上であることがより好ましい。本発明のポリオレフィン微多孔膜の平均流量孔径が前記範囲であると、微多孔膜の構造が緻密となるため、高強度および高耐電圧特性を有する微多孔膜を得ることができる。
[最大孔径]
本発明のポリオレフィン微多孔膜の最大孔径の上限は、膜強度、耐電圧特性向上の観点から、500nm以下であり、好ましくは300nm以下であり、さらに好ましくは80nm以下である。本発明のポリオレフィン微多孔膜の最大孔径の下限は特に限定されないが、後述する透気抵抗度の関係から1nm以上であることが好ましく、5nm以上であることがより好ましい。本発明のポリオレフィン微多孔膜の最大孔径が前記範囲であると、構造が緻密な膜となり、膜強度に優れ、高耐電圧特性な微多孔膜を得ることができる。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の最大孔径の上限は、膜強度、耐電圧特性向上の観点から、500nm以下であり、好ましくは300nm以下であり、さらに好ましくは80nm以下である。本発明のポリオレフィン微多孔膜の最大孔径の下限は特に限定されないが、後述する透気抵抗度の関係から1nm以上であることが好ましく、5nm以上であることがより好ましい。本発明のポリオレフィン微多孔膜の最大孔径が前記範囲であると、構造が緻密な膜となり、膜強度に優れ、高耐電圧特性な微多孔膜を得ることができる。
ポリオレフィン微多孔膜の、最大孔径、平均流量孔径は、パームポロメーター(PMI社製、CFP−1500A)を用いて、Dry−up、Wet−upの順で測定することができる。Wet−upには表面張力が既知のPMI社製Galwick(商品名)で十分に浸した微多孔膜に圧力をかけ、空気が貫通し始める圧力から換算される孔径を最大孔径とした。
平均流量孔径については、Dry−up測定で圧力、流量曲線の1/2の傾きを示す曲線と、Wet−up測定の曲線が交わる点の圧力から孔径を換算した。圧力と孔径の換算は下記の数式を用いた。
d=C・γ/P
(上記式中、「d(μm)」は微多孔膜の孔径、「γ(mN/m)」は液体の表面張力、「P(Pa)」は圧力、「C」は定数とした。
平均流量孔径については、Dry−up測定で圧力、流量曲線の1/2の傾きを示す曲線と、Wet−up測定の曲線が交わる点の圧力から孔径を換算した。圧力と孔径の換算は下記の数式を用いた。
d=C・γ/P
(上記式中、「d(μm)」は微多孔膜の孔径、「γ(mN/m)」は液体の表面張力、「P(Pa)」は圧力、「C」は定数とした。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の平均流量孔径や最大孔径は、混合物の結晶化速度を制御し結晶造核剤などによりポリオレフィン樹脂の結晶を微細化することや、温度や延伸条件を制御し、調整することができる。
[透気抵抗度]
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度は、イオン透過性の観点から、100〜1000sec/100ccであり、100〜800sec/100ccであることが好ましく、100〜600sec/100ccであることが特に好ましい。透気抵抗度が1000sec/100ccを超えると、イオン透過性が悪くなり、電池用セパレータとして用いた際の電気抵抗が増加するため好ましくない。一方、透気抵抗度が100sec/100cc未満の場合は、膜構造が過剰に疎になるため、電池用セパレータとして用いた場合、電池内部の温度が上昇した際のシャットダウンが十分に行われなかったり、絶縁破壊電圧が低くなったりするため、好ましくない。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度は、イオン透過性の観点から、100〜1000sec/100ccであり、100〜800sec/100ccであることが好ましく、100〜600sec/100ccであることが特に好ましい。透気抵抗度が1000sec/100ccを超えると、イオン透過性が悪くなり、電池用セパレータとして用いた際の電気抵抗が増加するため好ましくない。一方、透気抵抗度が100sec/100cc未満の場合は、膜構造が過剰に疎になるため、電池用セパレータとして用いた場合、電池内部の温度が上昇した際のシャットダウンが十分に行われなかったり、絶縁破壊電圧が低くなったりするため、好ましくない。
ここで、膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度とは、膜厚T1(μm)の微多孔膜において、JIS P 8117(2009)に準拠して測定した透気抵抗度がP1であったとき、式:P2=(P1×20)/T1によって算出される透気抵抗度P2のことを指す。なお、以下では、膜厚について特に記載がない限り、「透気抵抗度」という語句を「膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度」の意味で用いる。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の透気抵抗度は、混合物の結晶化速度を制御し結晶造核剤などによりポリオレフィン樹脂の結晶を微細化することや、温度や延伸条件を制御し、調整することができる。
[突刺し強度]
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚を20μmとしたときの突刺し強度は400gf以上であることが好ましく、550gf以上であることがより好ましい。このような範囲とすることで、薄膜化しても破膜することがなくなり、安全性が向上するからである。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚を20μmとしたときの突刺し強度は400gf以上であることが好ましく、550gf以上であることがより好ましい。このような範囲とすることで、薄膜化しても破膜することがなくなり、安全性が向上するからである。
ここで、膜厚を20μmとしたときの突刺し強度とは、先端が球面(曲率半径R:0.5mm)の直径1mmの針で、膜厚T1(μm)の微多孔膜を2mm/秒の速度で突刺したときの最大荷重を測定し、その最大荷重の測定値L1(gf)を、式:L2=(L1×20)/T1により、膜厚を20μmとしたときの最大荷重L2に換算したもののことである。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚を20μmとしたときの突刺し強度は、混合物の結晶化速度を制御し結晶造核剤などによりポリオレフィン樹脂の結晶を微細化することや、温度や延伸条件を制御し、調整することができる。
[膜厚]
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚は、好ましくは1〜2000μm、より好ましくは1〜1000μmである。膜厚の測定方法は後述する。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の膜厚は、好ましくは1〜2000μm、より好ましくは1〜1000μmである。膜厚の測定方法は後述する。
[123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2]
本発明のポリオレフィン微多孔膜の123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2の上限は、2.0分であることが好ましく、1.5分であることがより好ましい。123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2の下限は、特に限定されないが、0.02分あることが好ましく、0.1分であることがより好ましい。中でも、ポリオレフィン樹脂の90質量%以上がポリエチレン樹脂である場合、ポリオレフィン微多孔膜の123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2が、上記範囲内であると、ポリオレフィン微多孔膜の機械的強度と耐電圧特性に優れるので好ましい。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2の上限は、2.0分であることが好ましく、1.5分であることがより好ましい。123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2の下限は、特に限定されないが、0.02分あることが好ましく、0.1分であることがより好ましい。中でも、ポリオレフィン樹脂の90質量%以上がポリエチレン樹脂である場合、ポリオレフィン微多孔膜の123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2が、上記範囲内であると、ポリオレフィン微多孔膜の機械的強度と耐電圧特性に優れるので好ましい。
前記123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2は、示差走査熱分析(DSC)による123℃等温結晶化測定で得られる熱量の時間変化のピーク面積が半分になる時間(t1/2)として求めることができる具体的な123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2の測定方法は、後述する。
[絶縁破壊電圧]
本発明のポリオレフィン微多孔膜は、絶縁破壊電圧が135V/μm以上であることが好ましく、150V/μm以上であることがより好ましく、164V/μm以上であることが特に好ましい。絶縁破壊電圧の上限は特に限定されないが、一般的にその上限は300V/μmを超えない程度と考えられる。ポリオレフィン微多孔膜の絶縁破壊電圧が上記範囲内であると、バッテリーセパレータとして使用した際、電池の耐久性、耐電圧性能が良好になることが期待できるからである。
本発明のポリオレフィン微多孔膜は、絶縁破壊電圧が135V/μm以上であることが好ましく、150V/μm以上であることがより好ましく、164V/μm以上であることが特に好ましい。絶縁破壊電圧の上限は特に限定されないが、一般的にその上限は300V/μmを超えない程度と考えられる。ポリオレフィン微多孔膜の絶縁破壊電圧が上記範囲内であると、バッテリーセパレータとして使用した際、電池の耐久性、耐電圧性能が良好になることが期待できるからである。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の絶縁破壊電圧は、例えば、JIS C2110やASTM D149に規定される方法に準じて測定することができる。
2.ポリオレフィン微多孔膜の製造方法
本発明のポリオレフィン微多孔膜の製造方法としては、上述した特性を有するポリオレフィン微多孔膜が製造できれば、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができ、例えば、日本国特許第2132327号および日本国特許第3347835号公報、国際公開2006/137540号等に記載された方法を用いることができる。具体的には、下記の工程(1)〜(5)を含むことが好ましく、下記の工程(6)をさらに含んでもよく、さらに下記の工程(7)及び/又は(8)を含むこともできる。
(1)前記ポリオレフィン樹脂、結晶造核剤および成膜用溶剤を溶融混練し、ポリオレフィン樹脂組成物を調製する工程
(2)前記ポリオレフィン樹脂組成物を押出し、冷却しゲル状シートを形成する工程
(3)前記ゲル状シートを延伸する第1の延伸工程
(4)前記延伸後のゲル状シートから成膜用溶剤を除去する工程
(5)前記成膜用溶剤除去後のシートを乾燥する工程
(6)前記乾燥後のシートを延伸する第2の延伸工程
(7)前記乾燥後のシートを熱処理する工程
(8)前記延伸工程後のシートに対して架橋処理及び/又は親水化処理する工程
以下、各工程についてそれぞれ説明する。
本発明のポリオレフィン微多孔膜の製造方法としては、上述した特性を有するポリオレフィン微多孔膜が製造できれば、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができ、例えば、日本国特許第2132327号および日本国特許第3347835号公報、国際公開2006/137540号等に記載された方法を用いることができる。具体的には、下記の工程(1)〜(5)を含むことが好ましく、下記の工程(6)をさらに含んでもよく、さらに下記の工程(7)及び/又は(8)を含むこともできる。
(1)前記ポリオレフィン樹脂、結晶造核剤および成膜用溶剤を溶融混練し、ポリオレフィン樹脂組成物を調製する工程
(2)前記ポリオレフィン樹脂組成物を押出し、冷却しゲル状シートを形成する工程
(3)前記ゲル状シートを延伸する第1の延伸工程
(4)前記延伸後のゲル状シートから成膜用溶剤を除去する工程
(5)前記成膜用溶剤除去後のシートを乾燥する工程
(6)前記乾燥後のシートを延伸する第2の延伸工程
(7)前記乾燥後のシートを熱処理する工程
(8)前記延伸工程後のシートに対して架橋処理及び/又は親水化処理する工程
以下、各工程についてそれぞれ説明する。
(1)ポリオレフィン樹脂組成物の調製工程
ポリオレフィン樹脂に、結晶造核剤および適当な成膜用溶剤を配合した後、溶融混練し、ポリオレフィン樹脂組成物を調製する。溶融混練方法として、例えば日本国特許第2132327号および日本国特許第3347835号公報に記載の二軸押出機を用いる方法を利用することができる。溶融混練方法は公知であるので説明を省略する。
ポリオレフィン樹脂に、結晶造核剤および適当な成膜用溶剤を配合した後、溶融混練し、ポリオレフィン樹脂組成物を調製する。溶融混練方法として、例えば日本国特許第2132327号および日本国特許第3347835号公報に記載の二軸押出機を用いる方法を利用することができる。溶融混練方法は公知であるので説明を省略する。
ポリオレフィン樹脂組成物中、ポリオレフィン樹脂と成膜用溶剤との配合割合は、特に限定されないが、ポリオレフィン樹脂20〜30質量部に対して、成膜溶剤70〜80質量部であることが好ましい。
ポリオレフィン樹脂組成物に配合する結晶造核剤の配合量は、前記のとおりである。
(2)ゲル状シートの形成工程
ポリオレフィン樹脂組成物を押出機からダイに送給し、シート状に押し出す。同一または異なる組成の複数のポリオレフィン樹脂組成物を、押出機から一つのダイに送給し、そこで層状に積層し、シート状に押出してもよい。
ポリオレフィン樹脂組成物を押出機からダイに送給し、シート状に押し出す。同一または異なる組成の複数のポリオレフィン樹脂組成物を、押出機から一つのダイに送給し、そこで層状に積層し、シート状に押出してもよい。
押出方法はフラットダイ法及びインフレーション法のいずれでもよい。押出し温度は140〜250℃好ましく、押出速度は0.2〜15m/分が好ましい。ポリオレフィン樹脂組成物の各押出量を調節することにより、膜厚を調節することができる。
押出し方法としては、例えば日本国特許第2132327号公報および日本国特許第3347835号公報に開示の方法を利用することができる。
得られた押出し成形体を冷却することによりゲル状シートを形成する。ゲル状シートの形成方法として、例えば日本国特許第2132327号公報および日本国特許第3347835号公報に開示の方法を利用することができる。冷却は少なくともゲル化温度までは50℃/分以上の速度で行うのが好ましい。冷却は25℃以下まで行うのが好ましい。
(3)第1の延伸工程
次に、得られたゲル状シートを少なくとも一軸方向に延伸する。ゲル状シートは成膜用溶剤を含むので、均一に延伸できる。ゲル状シートは、加熱後、テンター法、ロール法、インフレーション法、又はこれらの組合せにより所定の倍率で延伸するのが好ましい。延伸は一軸延伸でも二軸延伸でもよいが、二軸延伸が好ましい。二軸延伸の場合、同時二軸延伸、逐次延伸及び多段延伸(例えば同時二軸延伸及び逐次延伸の組合せ)のいずれでもよい。
(3)第1の延伸工程
次に、得られたゲル状シートを少なくとも一軸方向に延伸する。ゲル状シートは成膜用溶剤を含むので、均一に延伸できる。ゲル状シートは、加熱後、テンター法、ロール法、インフレーション法、又はこれらの組合せにより所定の倍率で延伸するのが好ましい。延伸は一軸延伸でも二軸延伸でもよいが、二軸延伸が好ましい。二軸延伸の場合、同時二軸延伸、逐次延伸及び多段延伸(例えば同時二軸延伸及び逐次延伸の組合せ)のいずれでもよい。
本工程における延伸倍率(面積延伸倍率)は、一軸延伸の場合、2倍以上が好ましく、3〜30倍がより好ましい。二軸延伸の場合、9倍以上が好ましく、16倍以上がより好ましく、25倍以上が特に好ましい。また、長手及び横手方向(MD及びTD方向)のいずれでも3倍以上が好ましく、MD方向とTD方向での延伸倍率は、互いに同じでも異なってもよい。延伸倍率を9倍以上とすると、突刺強度の向上が期待できる。なお、本工程における延伸倍率とは、本工程直前の微多孔膜を基準として、次工程に供される直前の微多孔膜の面積延伸倍率のことをいう。
本工程の延伸温度は、ポリオレフィン樹脂の結晶分散温度(Tcd)〜Tcd+30℃の範囲内にするのが好ましく、結晶分散温度(Tcd)+5℃〜結晶分散温度(Tcd)+28℃の範囲内にするのがより好ましく、Tcd+10℃〜Tcd+26℃の範囲内にするのが特に好ましい。延伸温度が前記範囲内であるとポリオレフィン樹脂延伸による破膜が抑制され、高倍率の延伸ができる。
結晶分散温度(Tcd)は、ASTM D4065による動的粘弾性の温度特性測定により求められる。超高分子量ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン以外のポリエチレン及びポリエチレン組成物は約90〜100℃の結晶分散温度を有するので、延伸温度を90〜130℃とするのが好ましく、より好ましくは110〜120℃にし、さらに好ましくは114〜117℃にする。
以上のような延伸によりポリエチレンラメラ間に開裂が起こり、ポリエチレン相が微細化し、多数のフィブリルが形成される。フィブリルは三次元的に不規則に連結した網目構造を形成する。
(4)成膜用溶剤の除去
洗浄溶媒を用いて、成膜用溶剤の除去(洗浄)を行う。ポリオレフィン相は成膜用溶剤相と相分離しているので、成膜用溶剤を除去すると、微細な三次元網目構造を形成するフィブリルからなり、三次元的に不規則に連通する孔(空隙)を有する多孔質の膜が得られる。洗浄溶媒およびこれを用いた成膜用溶剤の除去方法は公知であるので説明を省略する。例えば日本国特許第2132327号明公報や特開2002−256099号公報に開示の方法を利用することができる。
洗浄溶媒を用いて、成膜用溶剤の除去(洗浄)を行う。ポリオレフィン相は成膜用溶剤相と相分離しているので、成膜用溶剤を除去すると、微細な三次元網目構造を形成するフィブリルからなり、三次元的に不規則に連通する孔(空隙)を有する多孔質の膜が得られる。洗浄溶媒およびこれを用いた成膜用溶剤の除去方法は公知であるので説明を省略する。例えば日本国特許第2132327号明公報や特開2002−256099号公報に開示の方法を利用することができる。
(5)乾燥
成膜用溶剤を除去した微多孔膜を、加熱乾燥法又は風乾法により乾燥する。乾燥温度はポリオレフィン樹脂の結晶分散温度(Tcd)以下であるのが好ましく、特にTcdより5℃以上低いのが好ましい。乾燥は、微多孔膜を100質量部(乾燥重量)として、残存洗浄溶媒が5質量部以下になるまで行うのが好ましく、3質量部以下になるまで行うのがより好ましい。
成膜用溶剤を除去した微多孔膜を、加熱乾燥法又は風乾法により乾燥する。乾燥温度はポリオレフィン樹脂の結晶分散温度(Tcd)以下であるのが好ましく、特にTcdより5℃以上低いのが好ましい。乾燥は、微多孔膜を100質量部(乾燥重量)として、残存洗浄溶媒が5質量部以下になるまで行うのが好ましく、3質量部以下になるまで行うのがより好ましい。
(6)第2の延伸工程
乾燥後の微多孔膜を、少なくとも一軸方向に延伸することが好ましい。微多孔膜の延伸は、加熱しながら前記と同様にテンター法等により行うことができる。延伸は一軸延伸でも二軸延伸でもよい。二軸延伸の場合、同時二軸延伸及び逐次延伸のいずれでもよい。
本工程における延伸温度は、特に限定されないが、通常90〜135℃であり、より好ましくは95〜130℃である。
乾燥後の微多孔膜を、少なくとも一軸方向に延伸することが好ましい。微多孔膜の延伸は、加熱しながら前記と同様にテンター法等により行うことができる。延伸は一軸延伸でも二軸延伸でもよい。二軸延伸の場合、同時二軸延伸及び逐次延伸のいずれでもよい。
本工程における延伸温度は、特に限定されないが、通常90〜135℃であり、より好ましくは95〜130℃である。
本工程における微多孔膜の延伸の一軸方向への延伸倍率(面積延伸倍率)は、下限が1.0倍以上であるのが好ましく、より好ましくは1.1倍以上、さらに好ましくは1.2倍以上である。また、上限が1.8倍以下とするのが好ましい。一軸延伸の場合、MD方向又はTD方向に1.0〜2.0倍とする。二軸延伸の場合、面積延伸倍率は、下限が1.0倍以上であるのが好ましく、より好ましくは1.1倍以上、さらに好ましくは1.2倍以上である。上限は、3.5倍以下が好適であり、MD方向及びTD方向に各々1.0〜2.0倍とし、MD方向とTD方向での延伸倍率が互いに同じでも異なってもよい。なお、本工程における延伸倍率とは、本工程直前の微多孔膜を基準として、次工程に供される直前の微多孔膜の延伸倍率のことをいう。
(7)熱処理
また、乾燥後の微多孔膜は、熱処理を行うことができる。熱処理によって結晶が安定化し、ラメラが均一化される。熱処理方法としては、熱固定処理及び/又は熱緩和処理を用いることができる。熱固定処理とは、膜の寸法が変わらないように保持しながら加熱する熱処理である。熱緩和処理とは、膜を加熱中にMD方向やTD方向に熱収縮させる熱処理である。熱固定処理は、テンター方式又はロール方式により行うのが好ましい。例えば、熱緩和処理方法としては特開2002−256099号公報に開示の方法があげられる。熱処理温度はポリオレフィン樹脂のTcd〜Tmの範囲内が好ましく、微多孔膜の延伸温度±5℃の範囲内がより好ましく、微多孔膜の第2の延伸温度±3℃の範囲内が特に好ましい。
また、乾燥後の微多孔膜は、熱処理を行うことができる。熱処理によって結晶が安定化し、ラメラが均一化される。熱処理方法としては、熱固定処理及び/又は熱緩和処理を用いることができる。熱固定処理とは、膜の寸法が変わらないように保持しながら加熱する熱処理である。熱緩和処理とは、膜を加熱中にMD方向やTD方向に熱収縮させる熱処理である。熱固定処理は、テンター方式又はロール方式により行うのが好ましい。例えば、熱緩和処理方法としては特開2002−256099号公報に開示の方法があげられる。熱処理温度はポリオレフィン樹脂のTcd〜Tmの範囲内が好ましく、微多孔膜の延伸温度±5℃の範囲内がより好ましく、微多孔膜の第2の延伸温度±3℃の範囲内が特に好ましい。
(8)架橋処理、親水化処理
また、接合後又は延伸後の微多孔膜に対して、さらに、架橋処理および親水化処理を行うこともできる。
例えば、微多孔膜に対して、α線、β線、γ線、電子線等の電離放射線の照射することに、架橋処理を行う。電子線の照射の場合、0.1〜100Mradの電子線量が好ましく、100〜300kVの加速電圧が好ましい。架橋処理により微多孔膜のメルトダウン温度が上昇する。
また、親水化処理は、モノマーグラフト、界面活性剤処理、コロナ放電等により行うことができる。モノマーグラフトは架橋処理後に行うのが好ましい。
また、接合後又は延伸後の微多孔膜に対して、さらに、架橋処理および親水化処理を行うこともできる。
例えば、微多孔膜に対して、α線、β線、γ線、電子線等の電離放射線の照射することに、架橋処理を行う。電子線の照射の場合、0.1〜100Mradの電子線量が好ましく、100〜300kVの加速電圧が好ましい。架橋処理により微多孔膜のメルトダウン温度が上昇する。
また、親水化処理は、モノマーグラフト、界面活性剤処理、コロナ放電等により行うことができる。モノマーグラフトは架橋処理後に行うのが好ましい。
3.積層微多孔膜
また、前記ポリオレフィン微多孔膜の少なくとも一方の表面に、多孔層を設け、積層多孔膜としてもよい。多孔層としては、例えば、フィラーと樹脂バインダとを含むフィラー含有樹脂溶液や耐熱性樹脂溶液を用いて形成される多孔層を挙げることができる。
また、前記ポリオレフィン微多孔膜の少なくとも一方の表面に、多孔層を設け、積層多孔膜としてもよい。多孔層としては、例えば、フィラーと樹脂バインダとを含むフィラー含有樹脂溶液や耐熱性樹脂溶液を用いて形成される多孔層を挙げることができる。
前記フィラーとしては、従来公知の無機フィラーや架橋高分子フィラーなどの有機フィラーが使用でき、200℃以上の融点をもち、電気絶縁性が高く、かつリチウムイオン二次電池の使用範囲で電気化学的に安定であるものが好ましい。これらは1種を単独で、又は2種以上を併用することができる。
前記フィラーの平均粒径は特に限定されないが、例えば、好ましくは0.1μm以上3.0μm以下である。
前記フィラーが、前記多孔層中に占める割合(質量分率)としては、耐熱性の点から、好ましくは50%以上99.99%以下である。
前記樹脂バインダとしては、前述のポリオレフィン樹脂に含まれるその他の樹脂成分の項で記載したポリオレフィンや耐熱性樹脂が好適に使用できる。
前記樹脂バインダが、前記フィラーと前記樹脂バインダとの総量に占める割合としては、両者の結着性の点から、体積分率で0.5%以上8%以下であることが好ましい。
前記耐熱性樹脂としては、前述のポリオレフィン樹脂に含まれるその他の樹脂成分の項で記載した耐熱性樹脂と同様のものが好適に使用できる。
前記フィラー含有樹脂溶液や耐熱性樹脂溶液をポリオレフィン微多孔膜の表面に塗布する方法としては、グラビアコーター法など、必要とする層厚や塗布面積を実現できる方法であれば特に限定されない。
前記フィラー含有溶液や耐熱性樹脂溶液の溶媒としては、ポリオレフィン微多孔膜に塗布した溶液から除去され得る溶媒であることが好ましく、特に限定されない。具体的には、例えば、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、水、エタノール、トルエン、熱キシレン、塩化メチレン、ヘキサンが挙げられる。
溶媒を除去する方法としては、ポリオレフィン微多孔膜に悪影響を及ぼさない方法であれば特に限定することない。具体的には、例えば、ポリオレフィン微多孔膜を固定しながらその融点以下の温度で乾燥する方法、減圧乾燥する方法、樹脂バインダや耐熱性樹脂の貧溶媒に浸漬して樹脂を凝固させると同時に溶媒を抽出する方法が挙げられる。
前記多孔層の厚さとしては、耐熱性向上の観点から、好ましくは0.5μm以上100μm以下である。
本発明の積層多孔膜において、前記多孔層の厚さが、積層多孔膜の厚さに占める割合は、目的に応じて適宜調整して使用できる。具体的には、例えば15%以上80%以下であることが好ましく、20%以上75%以下がより好ましい。
また、前記多孔層は、積層多孔膜の一方の表面に形成されてもよく、両表面に形成されてもよい。
4.電池用セパレータ
本発明のポリオレフィン微多孔膜は、水系電解液を使用する電池、非水系電解質を使用する電池のいずれにも好適に使用できる。具体的には、ニッケル−水素電池、ニッケル−カドミウム電池、ニッケル−亜鉛電池、銀−亜鉛電池、リチウム二次電池、リチウムポリマー二次電池等の二次電池のセパレータとして好ましく用いることができる。中でも、リチウムイオン二次電池のセパレータとして用いるのが好ましい。
本発明のポリオレフィン微多孔膜は、水系電解液を使用する電池、非水系電解質を使用する電池のいずれにも好適に使用できる。具体的には、ニッケル−水素電池、ニッケル−カドミウム電池、ニッケル−亜鉛電池、銀−亜鉛電池、リチウム二次電池、リチウムポリマー二次電池等の二次電池のセパレータとして好ましく用いることができる。中でも、リチウムイオン二次電池のセパレータとして用いるのが好ましい。
リチウムイオン二次電池は、正極と負極がセパレータを介して積層されており、セパレータが電解液(電解質)を含有している。電極の構造は特に限定されず、従来公知の構造を用いることができ、例えば、円盤状の正極及び負極が対向するように配設された電極構造(コイン型)、平板状の正極及び負極が交互に積層された電極構造(積層型)、積層された帯状の正極及び負極が巻回された電極構造(捲回型)等にすることができる。
リチウムイオン2次電池に使用される、集電体、正極、正極活物質、負極、負極活物質および電解液は、特に限定されず、従来公知の材料を適宜組み合わせて用いることができる。
なお、本発明は、前記の実施の形態に限定されるものでなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明の実施態様は、これらの実施例に限定されるものではない。
なお、実施例で用いた評価法、分析の各法および材料は、以下の通りである。
なお、実施例で用いた評価法、分析の各法および材料は、以下の通りである。
(1)膜厚(μm)
微多孔膜の95mm×95mmの範囲内における5点の膜厚を接触厚み計(株式会社ミツトヨ製ライトマチック)により測定し、膜厚の平均値を求めた。
微多孔膜の95mm×95mmの範囲内における5点の膜厚を接触厚み計(株式会社ミツトヨ製ライトマチック)により測定し、膜厚の平均値を求めた。
(2)空孔率(%)
微多孔膜の重量w1とそれと等価な空孔のないポリマーの重量w2(幅、長さ、組成の同じポリマー)とを比較した、以下の式によって、空孔率を測定した。
空孔率(%)=(w2−w1)/w2×100
微多孔膜の重量w1とそれと等価な空孔のないポリマーの重量w2(幅、長さ、組成の同じポリマー)とを比較した、以下の式によって、空孔率を測定した。
空孔率(%)=(w2−w1)/w2×100
(3)透気抵抗度(sec/100cc)
膜厚T1(μm)の微多孔膜に対して、JIS P 8117に準拠して、透気抵抗度計(旭精工株式会社製、EGO−1T)で測定した透気抵抗度P1(sec/100cc)を、式:P2=(P1×20)/T1により、膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度P2に換算した。
膜厚T1(μm)の微多孔膜に対して、JIS P 8117に準拠して、透気抵抗度計(旭精工株式会社製、EGO−1T)で測定した透気抵抗度P1(sec/100cc)を、式:P2=(P1×20)/T1により、膜厚を20μmとしたときの透気抵抗度P2に換算した。
(4)最大孔径及び平均流量孔径(nm)
パームポロメーター(PMI社製、CFP−1500A)を用いて、Dry−up、Wet−upの順で、最大孔径及び平均流量孔径を測定した。Wet−upには表面張力が既知のPMI社製Galwick(商品名)で十分に浸した微多孔膜に圧力をかけ、空気が貫通し始める圧力から換算される孔径を最大孔径とした。
平均流量孔径については、Dry−up測定で圧力、流量曲線の1/2の傾きを示す曲線と、Wet−up測定の曲線が交わる点の圧力から孔径を換算した。圧力と孔径の換算は下記の数式を用いた。
d=C・γ/P
(上記式中、「d(μm)」は微多孔膜の孔径、「γ(mN/m)」は液体の表面張力、「P(Pa)」は圧力、「C」は定数とした。
パームポロメーター(PMI社製、CFP−1500A)を用いて、Dry−up、Wet−upの順で、最大孔径及び平均流量孔径を測定した。Wet−upには表面張力が既知のPMI社製Galwick(商品名)で十分に浸した微多孔膜に圧力をかけ、空気が貫通し始める圧力から換算される孔径を最大孔径とした。
平均流量孔径については、Dry−up測定で圧力、流量曲線の1/2の傾きを示す曲線と、Wet−up測定の曲線が交わる点の圧力から孔径を換算した。圧力と孔径の換算は下記の数式を用いた。
d=C・γ/P
(上記式中、「d(μm)」は微多孔膜の孔径、「γ(mN/m)」は液体の表面張力、「P(Pa)」は圧力、「C」は定数とした。
(5)突刺し強度(gf/20μm)
先端が球面(曲率半径R:0.5mm)の直径1mmの針で、膜厚T1(μm)の微多孔膜を2mm/秒の速度で突刺したときの最大荷重を測定した。最大荷重の測定値L1(gf)を、式:L2=(L1×20)/T1により、膜厚を20μmとしたときの最大荷重L2に換算し、突刺し強度とした。
先端が球面(曲率半径R:0.5mm)の直径1mmの針で、膜厚T1(μm)の微多孔膜を2mm/秒の速度で突刺したときの最大荷重を測定した。最大荷重の測定値L1(gf)を、式:L2=(L1×20)/T1により、膜厚を20μmとしたときの最大荷重L2に換算し、突刺し強度とした。
(6)重量平均分子量
UHMWPE及びHDPEのMwは以下の条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により求めた。
・測定装置:Waters Corporation製GPC−150C
・カラム:昭和電工株式会社製Shodex UT806M
・カラム温度:135℃
・溶媒(移動相):o−ジクロルベンゼン
・溶媒流速:1.0 ml/分
・試料濃度:0.1 wt%(溶解条件:135℃/1h)
・インジェクション量:500μl
・検出器:Waters Corporation製ディファレンシャルリフラクトメーター(RI検出器)
・検量線:単分散ポリスチレン標準試料を用いて得られた検量線から、所定の換算定数を用いて作成した。
UHMWPE及びHDPEのMwは以下の条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により求めた。
・測定装置:Waters Corporation製GPC−150C
・カラム:昭和電工株式会社製Shodex UT806M
・カラム温度:135℃
・溶媒(移動相):o−ジクロルベンゼン
・溶媒流速:1.0 ml/分
・試料濃度:0.1 wt%(溶解条件:135℃/1h)
・インジェクション量:500μl
・検出器:Waters Corporation製ディファレンシャルリフラクトメーター(RI検出器)
・検量線:単分散ポリスチレン標準試料を用いて得られた検量線から、所定の換算定数を用いて作成した。
(7)MFR
JIS K6922−2に準拠して、190℃、2.16kg荷重の条件にて、測定した。10分間の試験時間中の樹脂押出し量が2.0gに満たなかった場合、2.0未満と表記した。
JIS K6922−2に準拠して、190℃、2.16kg荷重の条件にて、測定した。10分間の試験時間中の樹脂押出し量が2.0gに満たなかった場合、2.0未満と表記した。
(8)123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2
123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2は、以下の方法で測定した。ポリオレフィン微多孔膜を測定パンに封入し、Parking Elmer製 PYRIS Diamond DSCを用いて、230℃まで昇温して完全に溶融させたのち、123℃まで30℃/minで降温させ、123℃で保持した。123℃での等温制御に入った後の熱量の時間変化を記録し、そのピーク面積が半分になる時間を123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2とした。
123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2は、以下の方法で測定した。ポリオレフィン微多孔膜を測定パンに封入し、Parking Elmer製 PYRIS Diamond DSCを用いて、230℃まで昇温して完全に溶融させたのち、123℃まで30℃/minで降温させ、123℃で保持した。123℃での等温制御に入った後の熱量の時間変化を記録し、そのピーク面積が半分になる時間を123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2とした。
(9)絶縁破壊電圧
一辺150mmの正方形のアルミニウム板上に、直径60mmの円状に切り出した微多孔膜を置き、その上に真鍮製の直径50mm、高さ30mm、重さ 500gの円柱電極を置いて、菊水電子工業製TOS5051A耐絶縁破壊特性試験器を接続した。0.2kV/秒の昇圧速度で電圧を加え、絶縁破壊したときの電圧を読み取った。絶縁破壊電圧の測定はそれぞれ15回行い、平均値を得た。
一辺150mmの正方形のアルミニウム板上に、直径60mmの円状に切り出した微多孔膜を置き、その上に真鍮製の直径50mm、高さ30mm、重さ 500gの円柱電極を置いて、菊水電子工業製TOS5051A耐絶縁破壊特性試験器を接続した。0.2kV/秒の昇圧速度で電圧を加え、絶縁破壊したときの電圧を読み取った。絶縁破壊電圧の測定はそれぞれ15回行い、平均値を得た。
[実施例1]
重量平均分子量(Mw)が2.0×106の超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)30質量部と、Mwが2.8×105の高密度ポリエチレン(HDPE)70質量部とからなるポリエチレン(PE)組成物100質量部にテトラキス[メチレン-3-(3,5-ジ-ターシャリーブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]メタン0.375質量部、および、マスターバッチ リケマスターCN−002(理研ビタミン製:核剤含有量約2質量%)3質量部をドライブレンドし、混合物を得た。
重量平均分子量(Mw)が2.0×106の超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)30質量部と、Mwが2.8×105の高密度ポリエチレン(HDPE)70質量部とからなるポリエチレン(PE)組成物100質量部にテトラキス[メチレン-3-(3,5-ジ-ターシャリーブチル-4-ヒドロキシフェニル)-プロピオネート]メタン0.375質量部、および、マスターバッチ リケマスターCN−002(理研ビタミン製:核剤含有量約2質量%)3質量部をドライブレンドし、混合物を得た。
得られた混合物30質量部を強混練タイプの二軸押出機に投入し、二軸押出機のサイドフィーダーから流動パラフィン70質量部を供給し、スクリュー回転数Nsを180rpmに保持しながら、210℃の温度で溶融混練して、ポリエチレン樹脂組成物を調製した。
得られたポリエチレン樹脂組成物を、二軸押出機からTダイに供給し、シート状成形体となるように押し出した。押し出した成形体を、35℃に温調した冷却ロールで引き取りながら冷却し、ゲル状シートを形成した。得られたゲル状シートを延伸温度115℃でMDに5倍、TDに5倍となるように同時二軸延伸を行った。延伸後の膜を25℃に温調した塩化メチレンの洗浄槽内にて洗浄し、流動パラフィンを除去した。洗浄した膜を60℃に調整された乾燥炉で乾燥し、テンター内にて125℃で40秒間熱固定処理することにより厚さ20μmのポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
[実施例2]
重量平均分子量(Mw)が1.0×106の超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)40質量部と、Mwが2.8×105の高密度ポリエチレン(HDPE)60質量部からなるポリエチレン(PE)組成物100質量部を使用した以外は、実施例1と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
重量平均分子量(Mw)が1.0×106の超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)40質量部と、Mwが2.8×105の高密度ポリエチレン(HDPE)60質量部からなるポリエチレン(PE)組成物100質量部を使用した以外は、実施例1と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
[実施例3]
ゲル状シートを延伸温度115℃でMDに7倍、TDに7倍となるように同時二軸延伸を行った以外は、実施例2と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
ゲル状シートを延伸温度115℃でMDに7倍、TDに7倍となるように同時二軸延伸を行った以外は、実施例2と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
[実施例4]
重量平均分子量(Mw)が2.8×105の高密度ポリエチレン(HDPE)100質量部からなるポリエチレン(PE)組成物100質量部を使用した以外は、実施例1と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。 得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
重量平均分子量(Mw)が2.8×105の高密度ポリエチレン(HDPE)100質量部からなるポリエチレン(PE)組成物100質量部を使用した以外は、実施例1と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。 得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
[実施例5]
マスターバッチ リケマスターCN−002(理研ビタミン製)に替えて、ソルビトール系結晶造核剤 ゲルオールD(新日本理化製)3質量部を使用した以外は実施例4と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
マスターバッチ リケマスターCN−002(理研ビタミン製)に替えて、ソルビトール系結晶造核剤 ゲルオールD(新日本理化製)3質量部を使用した以外は実施例4と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表1に示した。
[比較例1]
マスターバッチ リケマスターCN−002(理研ビタミン製)を配合しなかった以外は、実施例4と同様にしてポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表2に示した。
マスターバッチ リケマスターCN−002(理研ビタミン製)を配合しなかった以外は、実施例4と同様にしてポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表2に示した。
[比較例2]
マスターバッチ リケマスターCN−002(理研ビタミン製)に替えて、ステアリン酸カルシウム3質量部を使用した以外は実施例4と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表2に示した。
[比較例3]
乾式一軸延伸法により製造されたポリプロピレン製単層微多孔膜を評価し、その特性を表2に示した。
マスターバッチ リケマスターCN−002(理研ビタミン製)に替えて、ステアリン酸カルシウム3質量部を使用した以外は実施例4と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表2に示した。
[比較例3]
乾式一軸延伸法により製造されたポリプロピレン製単層微多孔膜を評価し、その特性を表2に示した。
[比較例4]
重量平均分子量(Mw)が1.0×106の超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)20質量部と、Mwが2.8×105の高密度ポリエチレン(HDPE)80質量部からなるポリエチレン(PE)組成物100質量部を使用した以外は、比較例1と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表2に示した。
重量平均分子量(Mw)が1.0×106の超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)20質量部と、Mwが2.8×105の高密度ポリエチレン(HDPE)80質量部からなるポリエチレン(PE)組成物100質量部を使用した以外は、比較例1と同様にして、ポリオレフィン微多孔膜を得た。得られた微多孔膜の特性を表2に示した。
表1、表2に示す通り、実施例においては比較例に比べて絶縁破壊電圧の値が明らかに高く、ポリオレフィン微多孔膜の耐電圧特性の向上が認められた。また、実施例においては比較例に比べて突刺し強度の値が明らかに高く、ポリオレフィン微多孔膜の機械的強度の向上が認められた。
本発明に係るポリオレフィン微多孔膜は、優れた機械的強度と耐電圧特性を有するので、特に、リチウムイオン二次電池に代表される非水電解液系二次電池のような二次電池に好適に使用することができる。
Claims (10)
- ポリオレフィン樹脂と結晶造核剤を含む組成物からなり、ポリオレフィン樹脂のMFR値が2.0g/10分以下であり、20μm換算の透気抵抗度が100〜500秒/100ccであり、空孔率が20%〜60%であり、平均流量孔径が100nm以下であることを特徴とするポリオレフィン微多孔膜。
- 前記ポリオレフィン樹脂の90質量%以上がポリエチレン樹脂であることを特徴とする請求項1に記載のポリオレフィン微多孔膜。
- 前記平均流量孔径が50nm以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のポリオレフィン微多孔膜。
- 絶縁破壊電圧が163V/μm以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリオレフィン微多孔膜。
- 絶縁破壊電圧が175V/μm以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリオレフィン微多孔膜。
- 123℃等温結晶化時の半結晶化時間t1/2が、2.0分以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の微多孔膜。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のポリオレフィン微多孔膜からなる電池用セパレータ。
- 請求項7に記載のセパレータを用いた二次電池。
- 下記工程を含むことを特徴とする、20μm換算の透気抵抗度が100〜500秒/100ccであり、空孔率が20%〜60%であり、平均流量孔径が100nm以下であることを特徴とするポリオレフィン微多孔膜の製造方法。
(1)ポリオレフィン樹脂、結晶造核剤および成膜用溶剤を溶融混練してポリオレフィン樹脂組成物を調製する工程
(2)前記ポリオレフィン樹脂組成物を押出し、冷却しゲル状シートを形成する工程
(3)前記ゲル状シートを延伸する第1の延伸工程
(4)前記延伸後のゲル状シートから成膜用溶剤を除去する工程
(5)前記成膜用溶剤除去後のシートを乾燥する工程 - 前記ポリオレフィン樹脂のMFR値が2.0g/10分以下であることを特徴とする請求項9に記載のポリオレフィン微多孔膜の製造方法。
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