JPWO2016072356A1 - 光硬化性組成物、光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法 - Google Patents
光硬化性組成物、光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2016072356A1 JPWO2016072356A1 JP2016557739A JP2016557739A JPWO2016072356A1 JP WO2016072356 A1 JPWO2016072356 A1 JP WO2016072356A1 JP 2016557739 A JP2016557739 A JP 2016557739A JP 2016557739 A JP2016557739 A JP 2016557739A JP WO2016072356 A1 JPWO2016072356 A1 JP WO2016072356A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- meth
- polyrotaxane
- acrylic acid
- acid ester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 71
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 38
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 19
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- -1 acryl group Chemical group 0.000 claims description 40
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 23
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- 238000009863 impact test Methods 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- BVTJGGGYKAMDBN-UHFFFAOYSA-N Dioxetane Chemical compound C1COO1 BVTJGGGYKAMDBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 claims description 5
- ASQQEOXYFGEFKQ-UHFFFAOYSA-N dioxirane Chemical compound C1OO1 ASQQEOXYFGEFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical group NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000005717 substituted cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 41
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 18
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- 229920001450 Alpha-Cyclodextrin Polymers 0.000 description 10
- HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N alpha-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N 0.000 description 10
- 229940043377 alpha-cyclodextrin Drugs 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000012844 infrared spectroscopy analysis Methods 0.000 description 8
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 6
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 3
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HLJYBXJFKDDIBI-UHFFFAOYSA-N O=[PH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical class O=[PH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 HLJYBXJFKDDIBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CQAIBOSCGCTHPV-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxycyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical class C1C=CC=CC1(O)C(=O)C1(O)CC=CC=C1 CQAIBOSCGCTHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940097362 cyclodextrins Drugs 0.000 description 3
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- MKVYSRNJLWTVIK-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O MKVYSRNJLWTVIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012567 medical material Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BVQVLAIMHVDZEL-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-1,2-propanedione Chemical compound CC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 BVQVLAIMHVDZEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OALHHIHQOFIMEF-UHFFFAOYSA-N 3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodo-3h-spiro[2-benzofuran-1,9'-xanthene]-3-one Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 OALHHIHQOFIMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 2
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003220 pyrenes Chemical class 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 2
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000005591 trimellitate group Chemical group 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUPRYTFTHBNSBD-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-tribromophenyl) prop-2-enoate Chemical compound BrC1=CC=C(OC(=O)C=C)C(Br)=C1Br BUPRYTFTHBNSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTLZRWNIJGNTCE-UHFFFAOYSA-N (2-ethoxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1OC(=O)C=C XTLZRWNIJGNTCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003067 (meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 1
- NNNLYDWXTKOQQX-UHFFFAOYSA-N 1,1-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CC)(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C NNNLYDWXTKOQQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCCC(CN=C=O)C1 XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C(=C)C)C3 MZVABYGYVXBZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 1-adamantyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(OC(=O)C=C)C3 PHPRWKJDGHSJMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQMXOIAIYXXXEE-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidin-3-ol Chemical compound C1C(O)CCN1CC1=CC=CC=C1 YQMXOIAIYXXXEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- JMIZWXDKTUGEES-UHFFFAOYSA-N 2,2-di(cyclopenten-1-yloxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1CCCC=1OC(COC(=O)C(=C)C)OC1=CCCC1 JMIZWXDKTUGEES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNBMZFHIYRDKNS-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-1-phenylethanone Chemical compound COC(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 LNBMZFHIYRDKNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIJYFLXQHDOQGW-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4,6-trioxo-3,5-bis(2-prop-2-enoyloxyethyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN1C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C1=O YIJYFLXQHDOQGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN QLIBJPGWWSHWBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNOXQPJKWDCAJW-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)oxirane Chemical compound CC(=C)C(O)=O.C1OC1COCC1CO1 YNOXQPJKWDCAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 2-pentylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CCCCC)=CC=C3C(=O)C2=C1 UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLIXZIAIMAECK-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2,6-dioxomorpholin-4-yl)ethyl]morpholine-2,6-dione Chemical compound C1C(=O)OC(=O)CN1CCN1CC(=O)OC(=O)C1 POLIXZIAIMAECK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;oxirane Chemical compound C1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 WPSWDCBWMRJJED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHBXLZQQVCDGPA-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)sulfonyl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(S(=O)(=O)C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 ZHBXLZQQVCDGPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)acetate Chemical compound C1CC2OC2CC1OC(=O)CC1CC2OC2CC1 NHJIDZUQMHKGRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHCBXVHMHINQOV-UHFFFAOYSA-N C=CC(=O)OCC1CCC(CC1)CO.C=CC(=O)OCC(COC1=CC=CC=C1)O Chemical compound C=CC(=O)OCC1CCC(CC1)CO.C=CC(=O)OCC(COC1=CC=CC=C1)O HHCBXVHMHINQOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CC(N*CCN)=O Chemical compound CC(N*CCN)=O 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000001116 FEMA 4028 Substances 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical compound C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001251 acridines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940027998 antiseptic and disinfectant acridine derivative Drugs 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N beta-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N 0.000 description 1
- 235000011175 beta-cyclodextrine Nutrition 0.000 description 1
- 229960004853 betadex Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- JVASZXZJOJUKDT-UHFFFAOYSA-N bis(1-aminocyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical class C1C=CC=CC1(N)C(=O)C1(N)CC=CC=C1 JVASZXZJOJUKDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKKTUOZKZKCGTB-UHFFFAOYSA-N butyl carbamate Chemical group CCCCOC(N)=O SKKTUOZKZKCGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 1
- KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate Chemical compound C1CC(N=C=O)CCC1CC1CCC(N=C=O)CC1 KORSJDCBLAPZEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- GBASTSRAHRGUAB-UHFFFAOYSA-N ethylenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2=C1C(=O)OC2=O GBASTSRAHRGUAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009408 flooring Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- GDSRMADSINPKSL-HSEONFRVSA-N gamma-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO GDSRMADSINPKSL-HSEONFRVSA-N 0.000 description 1
- 229940080345 gamma-cyclodextrin Drugs 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFHJOMSTWVDDHW-UHFFFAOYSA-N methyl prop-2-enoate;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC#N.COC(=O)C=C JFHJOMSTWVDDHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(2-methylphenoxy)-3-phenylpropyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1C(CCNC)OC1=CC=CC=C1C LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000002988 phenazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002627 poly(phosphazenes) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229940113115 polyethylene glycol 200 Drugs 0.000 description 1
- 229940068918 polyethylene glycol 400 Drugs 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- SSOLNOMRVKKSON-UHFFFAOYSA-N proguanil Chemical compound CC(C)\N=C(/N)N=C(N)NC1=CC=C(Cl)C=C1 SSOLNOMRVKKSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(=O)C=C ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003252 quinoxalines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical group CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003431 steroids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/061—Polyesters; Polycarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F20/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F20/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/52—Amides or imides
- C08F20/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F20/58—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-acryloylmorpholine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/14—Polymers provided for in subclass C08G
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/91—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G63/912—Polymers modified by chemical after-treatment derived from hydroxycarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
- C08G65/332—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G83/00—Macromolecular compounds not provided for in groups C08G2/00 - C08G81/00
- C08G83/007—Polyrotaxanes; Polycatenanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
- C08F222/102—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
本発明は、高強度を有しながら優れた靭性を有する光硬化体、該光硬化体を形成する光硬化性組成物を提供する。本発明は、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーであって、該モノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度が２０℃以上である（メタ）アクリル酸エステルモノマー；Ｂ．環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなるポリロタキサンであって環状分子が（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及びＣ．光重合開始剤；を含有する光硬化性組成物、及び該組成物から形成される光硬化体を提供する。【選択図】なし
Description
本発明は、（メタ）アクリル酸エステルモノマー；環状分子に（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及び光重合開始剤；を含有する光硬化性組成物、該光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法に関する。
アクリル基をラジカル重合性基とする光硬化性材料は、電気電子部材、建材、光学部品、医療用材料など幅広く使用されている。その中で、光硬化性材料を用いて得られる光硬化体に高い強度を求める用途が多数ある。高強度の光硬化体は一般に、単位体積当たりのラジカル重合性基の数を上げることにより得ることができ、そのための手法として、アクリル官能基を複数有する材料、及び／又は剛直な骨格を有する材料を用いることなどが挙げられる。
しかしながら、上記手法により得られる光硬化体は高強度となるが、その一方で靭性が低くなるため、光硬化体が脆くなり、硬化収縮や衝撃によってクラックが発生するか、及び／又は硬化収縮によって光硬化体が所望の形状・寸法とはならない、という問題が生じる。また、これらの問題に伴って、光硬化体を固定又は固着したい基材から該光硬化体が剥離する、という問題が生じる。
しかしながら、上記手法により得られる光硬化体は高強度となるが、その一方で靭性が低くなるため、光硬化体が脆くなり、硬化収縮や衝撃によってクラックが発生するか、及び／又は硬化収縮によって光硬化体が所望の形状・寸法とはならない、という問題が生じる。また、これらの問題に伴って、光硬化体を固定又は固着したい基材から該光硬化体が剥離する、という問題が生じる。
これらの問題を解決するために、光硬化性材料に可塑剤を添加して、得られる高強度の光硬化体の、靭性を高める方策又は柔軟性を付与する方策が知られている。しかしながら、可塑剤を用いると光硬化体の表面に該可塑剤が流出（ブリードアウト）する、という問題が生じ、光硬化体の安定性の低下、例えば光硬化体を医療用材料として用いる場合には生体安全性の低下、の問題となる。
一方、ポリロタキサンは、該ポリロタキサンを構成する環状分子が直鎖状分子上を移動することによりポリロタキサン同士の架橋体、ポリロタキサン以外のポリマーとポリロタキサンとの架橋体などに粘弾性、低い圧縮永久歪みなどの特性が生じる。このため、ポリロタキサンは、種々の応用が期待され、その研究開発が盛んに行われている。
例えば、特許文献１は、ポリロタキサンの環状分子に、ラクトンやカーボネート重合体の側鎖末端に光重合性基を有する光架橋性ポリロタキサン、該ポリロタキサンを有して形成される硬化物などを開示する。また、硬化物は、耐傷性、耐折性、ヒシテリシスロスの低下などの特性を有することを開示する。しかしながら、特許文献１開示の硬化物は、柔軟性を有する硬化体であり、高強度・高硬度の硬化体については開示がない。
そこで、本発明の目的は、高強度を有しながら優れた靭性を有する光硬化体、好ましくは高強度及び高弾性率を有しながら優れた靭性、例えば高い衝撃強度を有する光硬化体を提供することにある。
また、本発明の目的は、上記目的に加えて、上記光硬化体を形成する光硬化性組成物を提供することにある。
さらに、本発明の目的は、上記目的に加えて、又は上記目的以外に、上記光硬化体の製造方法を提供することにある。
また、本発明の目的は、上記目的に加えて、上記光硬化体を形成する光硬化性組成物を提供することにある。
さらに、本発明の目的は、上記目的に加えて、又は上記目的以外に、上記光硬化体の製造方法を提供することにある。
本発明者は、次の発明を見出した。
＜１＞ Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーであって、該モノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度が２０℃以上である（メタ）アクリル酸エステルモノマー；
Ｂ．環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなるポリロタキサンであって前記環状分子が（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及び
Ｃ．光重合開始剤；
を含有する光硬化性組成物。
＜１＞ Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーであって、該モノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度が２０℃以上である（メタ）アクリル酸エステルモノマー；
Ｂ．環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなるポリロタキサンであって前記環状分子が（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及び
Ｃ．光重合開始剤；
を含有する光硬化性組成物。
＜２＞ 上記＜１＞において、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーとＢ．ポリロタキサンとの重量比、Ａ：Ｂが、１００：０．５〜１００：３５、好ましくは１００：１．０〜１００：３０、より好ましくは１００：５．０〜１００：２０であるのがよい。
＜３＞ 上記＜１＞又は＜２＞において、組成物の粘度が、２５℃において、１００，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５００〜６０，０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは７００〜４０，０００ｍＰａ・ｓであるのがよい。
＜３＞ 上記＜１＞又は＜２＞において、組成物の粘度が、２５℃において、１００，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５００〜６０，０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは７００〜４０，０００ｍＰａ・ｓであるのがよい。
＜４＞ 上記＜１＞〜＜３＞のいずれかにおいて、組成物が、金属酸化物、塩化物、炭酸塩、リン酸塩、炭素微粒子及び樹脂微粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種、好ましくは金属酸化物、塩化物及び樹脂微粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種、より好ましくは金属酸化物及び樹脂微粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種をさらに含有するのがよい。
＜５＞ 上記＜１＞〜＜４＞のいずれかにおいて、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーが、Ａ−１．アミン又は水酸基を有する単官能（メタ）アクリル基を有する分子を２分子；と、Ａ−２．ジオキシラン、ジオキセタン、ジイソシアネート又はカルボン酸二無水物を１分子；とから由来するのがよい。
＜５＞ 上記＜１＞〜＜４＞のいずれかにおいて、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーが、Ａ−１．アミン又は水酸基を有する単官能（メタ）アクリル基を有する分子を２分子；と、Ａ−２．ジオキシラン、ジオキセタン、ジイソシアネート又はカルボン酸二無水物を１分子；とから由来するのがよい。
＜６＞ 上記＜１＞〜＜５＞のいずれかにおいて、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーが、
下記式Ｉ〜ＩＩＩ
（式中、Ｒ２１及びＲ２２は各々独立に水素原子又はメチル基を表し；
Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に炭素数２〜１８、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数３〜１８、好ましくは５〜１６、より好ましくは６〜１２のシクロアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数６〜１８、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基、（ポリ）アルキレンオキシ基、（ポリ）エチレンアミン基からなる群から選ばれる１種を表し；
Ｘ１〜Ｘ３は各々独立に炭素数２〜１８、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基（炭素数３以上の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基の場合、直鎖又は分岐鎖上の炭素が酸素に置換されエーテル結合を形成してもよい。また、アルキレン基の一部の水素が水酸基又はカルボキシル基に置換されてもよい）、置換基を有してもよい炭素数３〜１８、好ましくは５〜１６、より好ましくは６〜１２のシクロアルキレン基、及び置換基を有してもよい炭素数６〜１８、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基からなる群から選ばれる１種を表す；
Ｙ１１、Ｙ１２、Ｙ２１、Ｙ２２、Ｙ３１、及びＹ３２は各々独立に−Ｏ−基又は−ＮＨ−基を表す）
のいずれかで表されるモノマーであるのがよい。
下記式Ｉ〜ＩＩＩ
（式中、Ｒ２１及びＲ２２は各々独立に水素原子又はメチル基を表し；
Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に炭素数２〜１８、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数３〜１８、好ましくは５〜１６、より好ましくは６〜１２のシクロアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数６〜１８、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基、（ポリ）アルキレンオキシ基、（ポリ）エチレンアミン基からなる群から選ばれる１種を表し；
Ｘ１〜Ｘ３は各々独立に炭素数２〜１８、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基（炭素数３以上の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基の場合、直鎖又は分岐鎖上の炭素が酸素に置換されエーテル結合を形成してもよい。また、アルキレン基の一部の水素が水酸基又はカルボキシル基に置換されてもよい）、置換基を有してもよい炭素数３〜１８、好ましくは５〜１６、より好ましくは６〜１２のシクロアルキレン基、及び置換基を有してもよい炭素数６〜１８、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基からなる群から選ばれる１種を表す；
Ｙ１１、Ｙ１２、Ｙ２１、Ｙ２２、Ｙ３１、及びＹ３２は各々独立に−Ｏ−基又は−ＮＨ−基を表す）
のいずれかで表されるモノマーであるのがよい。
＜７＞ 上記＜１＞〜＜６＞のいずれかにおいて、Ｂ．ポリロタキサンの（メタ）アクリル基の量は、該Ｂ．ポリロタキサン１ｇ中、０．０１５〜２．０ｍｍｏｌ、好ましくは０．０５０〜１．３０ｍｍｏｌ、より好ましくは０．１５〜１．５０ｍｍｏｌであるのがよい。
＜８＞ 上記＜１＞〜＜７＞のいずれかにおいて、Ｂ．ポリロタキサンの環状分子がラクトンモノマーから形成される開環重合部位を有するのがよい。
＜９＞ 上記＜１＞〜＜８＞のいずれかの光硬化性組成物に由来する硬化体。特に、上記＜１＞〜＜８＞のいずれかの光硬化性組成物に光照射し硬化して形成される硬化体。
＜８＞ 上記＜１＞〜＜７＞のいずれかにおいて、Ｂ．ポリロタキサンの環状分子がラクトンモノマーから形成される開環重合部位を有するのがよい。
＜９＞ 上記＜１＞〜＜８＞のいずれかの光硬化性組成物に由来する硬化体。特に、上記＜１＞〜＜８＞のいずれかの光硬化性組成物に光照射し硬化して形成される硬化体。
＜１０＞ 上記＜９＞において、硬化体の引張弾性率が１００ＭＰａ以上、好ましく２００〜２，０００ＭＰａ、より好ましくは７００〜１，５００ＭＰａであるのがよい。
＜１１＞ 上記＜９＞又は＜１０＞において、硬化体（Ｍ）と、該硬化体（Ｍ）を構成する組成物より前記Ｂ.ポリロタキサンを除いた成分からなる硬化体（Ｎ）とのアイゾット衝撃試験による衝撃強度比（Ｍの衝撃強度／Ｎの衝撃強度）が１．１０以上、好ましくは１．５０〜５．０、より好ましくは１．８〜３．５であるのがよい。
＜１１＞ 上記＜９＞又は＜１０＞において、硬化体（Ｍ）と、該硬化体（Ｍ）を構成する組成物より前記Ｂ.ポリロタキサンを除いた成分からなる硬化体（Ｎ）とのアイゾット衝撃試験による衝撃強度比（Ｍの衝撃強度／Ｎの衝撃強度）が１．１０以上、好ましくは１．５０〜５．０、より好ましくは１．８〜３．５であるのがよい。
＜１２＞ ｉ）上記＜１＞〜＜８＞のいずれかの光硬化性組成物を調製する工程；
ｉｉ）該組成物を所定形状にする工程；及び
ｉｉｉ）得られた所定形状に光を照射する工程；
を有することにより、硬化体を得る、硬化体の製造方法。
ｉｉ）該組成物を所定形状にする工程；及び
ｉｉｉ）得られた所定形状に光を照射する工程；
を有することにより、硬化体を得る、硬化体の製造方法。
本発明により、高強度を有しながら優れた靭性を有する光硬化体、好ましくは高強度及び高弾性率を有しながら優れた靭性、例えば高い衝撃強度を有する光硬化体を提供することができる。
また、本発明により、上記効果に加えて、上記光硬化体を形成する光硬化性組成物を提供することができる。
さらに、本発明により、上記効果に加えて、又は上記効果以外に、上記光硬化体の製造方法を提供することができる。
また、本発明により、上記効果に加えて、上記光硬化体を形成する光硬化性組成物を提供することができる。
さらに、本発明により、上記効果に加えて、又は上記効果以外に、上記光硬化体の製造方法を提供することができる。
以下、本願に記載する発明を詳細に説明する。
本願は、（メタ）アクリル酸エステルモノマー；環状分子に（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及び光重合開始剤；を含有する光硬化性組成物、該光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法を開示する。以下、説明する。
本願は、（メタ）アクリル酸エステルモノマー；環状分子に（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及び光重合開始剤；を含有する光硬化性組成物、該光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法を開示する。以下、説明する。
＜光硬化性組成物＞
本願は、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー；
Ｂ．環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなるポリロタキサンであって前記環状分子が（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及び
Ｃ．光重合開始剤；
を含有する光硬化性組成物を開示する。
以下、「Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー」、「Ｂ．ポリロタキサン」、「Ｃ．光重合開始剤」の順に説明する。
本願は、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー；
Ｂ．環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなるポリロタキサンであって前記環状分子が（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及び
Ｃ．光重合開始剤；
を含有する光硬化性組成物を開示する。
以下、「Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー」、「Ｂ．ポリロタキサン」、「Ｃ．光重合開始剤」の順に説明する。
＜＜Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー＞＞
本願のＡ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、該モノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度が２０℃以上、好ましくは３０℃以上、より好ましくは４０℃以上である。
ここで、「モノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度」とは、形成される重合体の由来がＡ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーだけであることを意味する。Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、１種のみであっても、２種以上であってもよい。したがって、「重合体」は、１種のみのモノマーのみから形成されるホモポリマーであっても、２種以上のモノマーのみから形成されるコポリマーであってもよい。
本願のＡ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、該モノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度が２０℃以上、好ましくは３０℃以上、より好ましくは４０℃以上である。
ここで、「モノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度」とは、形成される重合体の由来がＡ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーだけであることを意味する。Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、１種のみであっても、２種以上であってもよい。したがって、「重合体」は、１種のみのモノマーのみから形成されるホモポリマーであっても、２種以上のモノマーのみから形成されるコポリマーであってもよい。
Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度は、調製した該重合体のガラス転移温度を直接、測定しても、該重合体がコポリマーの場合、後述のＦＯＸの式から求めてもよい。ガラス転移温度を直接測定する場合には、ＤＳＣ（示差走査熱量測定）または動的粘弾性のｔａｎδピークにより測定することができる。
ここで、ＦＯＸの式とは、下記（式１）及び（式２）により、重合体がコポリマーの場合に、該コポリマーのガラス転移温度を求める手法である。上述したように、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーとして２種以上を用いる場合に、ＦＯＸの式で得られたガラス転移温度が上記の範囲となるように、２種以上の「Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー」を選択するのがよい。
ここで、ＦＯＸの式とは、下記（式１）及び（式２）により、重合体がコポリマーの場合に、該コポリマーのガラス転移温度を求める手法である。上述したように、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーとして２種以上を用いる場合に、ＦＯＸの式で得られたガラス転移温度が上記の範囲となるように、２種以上の「Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー」を選択するのがよい。
（式１）において、Ｔｇはコポリマーのガラス転移温度（Ｋ）を示し、Ｔｇ１、Ｔｇ２、・・・Ｔｇｎは、第１のモノマー、第２のモノマー、・・・、第ｎのモノマーの各ホモポリマーのガラス転移温度（Ｋ）を示す。また、（式１）及び（式２）において、Ｗ１、Ｗ２、・・・Ｗｎは、第１のモノマーの重量分率、第２のモノマーの重量分率、・・・、第ｎのモノマーの重量分率を表す。各ホモポリマーのガラス転移温度は、たとえば、Polymer Handbook Third Edition (Wiley-Interscience 1989)記載の値を用いればよい。
本願において、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーとして、次のものを挙げることができるがこれらに限定されない。なお、後述のモノマーにおいて括弧内の数値は、該モノマーのみから形成されるホモポリマーのガラス転移温度Ｔｇの値である。
即ち、メタクリル酸メチル（１０５℃）、アクリルニトリル（９７℃）、アクリルアミド（１６５℃）、ステアリルメタクリレート（３８℃）、イソホルニルアクリレート（９７℃）、アダマンチルアクリレート（１５３℃）、ジシクロペンテニルアクリレート（１２０℃）、シクロヘキシルメタクリレート（１１０℃）、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート（４０℃）、フェノキシエチルメタクリレート（３６℃）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５５℃）、ｎ−ブチルメタクリレート（２０℃）、ベンジルメタクリレート（５４℃）、グリシジルメタクリレート（４６℃）、トリブロモフェニルアクリレート（９８℃）、アダマンチルメタクリレート（２５０℃）、β-カルボキシルエチルアクリレート（３７℃）などの単官能(メタ)アクリレート；
ジプロピレングリコールジアクリレート（１１０℃）、トリプロピレングリコールジアクリレート（９０℃）、トリエチレングリコールジメタクリレート（６５℃）、ポリエチレングリコール２００ジアクリレート（２３℃）、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート（１０５℃）、1,9-ノナンジオールジアクリレート（６７℃）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（１１７℃）、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物ジアクリレート（７５℃）、ビスフェノールＡ ジグリシジルメタクリレート（６７℃）などの２官能（メタ）アクリレート；及び
トリス（２−アクリルオキシエチル）イソシアヌレート（Ｔｇ＞２５０℃）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｔｇ＞２５０℃）、ジペンタエリスリトールポリアクリレート（Ｔｇ＞２５０℃）、トリメチロプロパントリアクリレート（Ｔｇ＞２５０℃）などの多官能（メタ）アクリレート。
即ち、メタクリル酸メチル（１０５℃）、アクリルニトリル（９７℃）、アクリルアミド（１６５℃）、ステアリルメタクリレート（３８℃）、イソホルニルアクリレート（９７℃）、アダマンチルアクリレート（１５３℃）、ジシクロペンテニルアクリレート（１２０℃）、シクロヘキシルメタクリレート（１１０℃）、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート（４０℃）、フェノキシエチルメタクリレート（３６℃）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（５５℃）、ｎ−ブチルメタクリレート（２０℃）、ベンジルメタクリレート（５４℃）、グリシジルメタクリレート（４６℃）、トリブロモフェニルアクリレート（９８℃）、アダマンチルメタクリレート（２５０℃）、β-カルボキシルエチルアクリレート（３７℃）などの単官能(メタ)アクリレート；
ジプロピレングリコールジアクリレート（１１０℃）、トリプロピレングリコールジアクリレート（９０℃）、トリエチレングリコールジメタクリレート（６５℃）、ポリエチレングリコール２００ジアクリレート（２３℃）、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート（１０５℃）、1,9-ノナンジオールジアクリレート（６７℃）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（１１７℃）、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物ジアクリレート（７５℃）、ビスフェノールＡ ジグリシジルメタクリレート（６７℃）などの２官能（メタ）アクリレート；及び
トリス（２−アクリルオキシエチル）イソシアヌレート（Ｔｇ＞２５０℃）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（Ｔｇ＞２５０℃）、ジペンタエリスリトールポリアクリレート（Ｔｇ＞２５０℃）、トリメチロプロパントリアクリレート（Ｔｇ＞２５０℃）などの多官能（メタ）アクリレート。
また、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーとして、２種以上を用いる場合、上述のように、コポリマーについての、ＦＯＸの式により得られたガラス転移温度が２０℃以上、好ましくは３０℃以上、より好ましくは４０℃以上であるのがよい。
コポリマーのガラス転移温度が上記の値であれば、コポリマーの成分の中で、ガラス転移温度が２０℃以下の（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含んでもよい。ガラス転移温度が２０℃以下の（メタ）アクリル酸エステルモノマーの例として、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、エトキシフェニルアクリレート、ポリエチレングリコール400ジアクリレートなどが挙げられる。より具体的には、２種のモノマーとして、２−エチルヘキシルメタクリレート（−１０℃）（重量分率：０．３）及びトリエチレングリコールジメタクリレート（６５℃）（重量分率：０．７）を用いる場合、コポリマーのガラス転移温度は、上記ＦＯＸの式から３９℃という値となり、上記重量分率での上記２種のモノマーを用いることができる。
コポリマーのガラス転移温度が上記の値であれば、コポリマーの成分の中で、ガラス転移温度が２０℃以下の（メタ）アクリル酸エステルモノマーを含んでもよい。ガラス転移温度が２０℃以下の（メタ）アクリル酸エステルモノマーの例として、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、エトキシフェニルアクリレート、ポリエチレングリコール400ジアクリレートなどが挙げられる。より具体的には、２種のモノマーとして、２−エチルヘキシルメタクリレート（−１０℃）（重量分率：０．３）及びトリエチレングリコールジメタクリレート（６５℃）（重量分率：０．７）を用いる場合、コポリマーのガラス転移温度は、上記ＦＯＸの式から３９℃という値となり、上記重量分率での上記２種のモノマーを用いることができる。
本願のＡ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、後述のＢ．ポリロタキサンとの重量比において、「Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー」が高重量比であるのがよい。具体的には、「Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー」：「Ｂ．ポリロタキサン」が１００：０．５〜１００：３５、好ましくは１００：１．０〜１００：３０、より好ましくは１００：５．０〜１００：２０であるのがよい。
Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、Ａ−１．アミン又は水酸基を有する単官能（メタ）アクリル基を有する分子を２分子；と、Ａ−２．ジオキシラン、ジオキセタン、ジイソシアネート又はカルボン酸二無水物を１分子；とから由来するのがよい。
ここで、Ａ−１．アミン又は水酸基を有する単官能（メタ）アクリル基を有する分子として、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、２-ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート、アミノエチルメタクリレート（塩酸塩）、アクリルアミド、メタクリルアミド、N-n-ブトキシメチルアクリルアミド、N-メトキシメチルアクリルアミドなどを挙げることができるがこれらに限定されない。
また、Ａ−２．ジオキシラン、ジオキセタン、ジイソシアネート又はカルボン酸二無水物として、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、テトラメチルビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、３，４‐エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシラート、1,4-シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラキスフェノールエタンエポキシ、フェノルノボラックエポキシ、ナフタレンノボラックエポキシ、アロンオキセタンＯＸＴ−２２１、ＯＸＴ-１２１（東亜合成製）などのジオキシラン又はジオキセタン；
ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレン２、４−ジイソシアネート、ジイソシアン酸イソホロン、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、1,3-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、(4,4’-メチレンジシクロヘキシル)ジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートなどのジイソシアネート；
エチレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-しクロブタンテトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物、ピロメリット酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビスアンヒドロトリメリテートモノアセテート、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物などのカルボン酸二無水物；などを挙げることができるがこれらに限定されない。
ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレン２、４−ジイソシアネート、ジイソシアン酸イソホロン、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、1,3-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、(4,4’-メチレンジシクロヘキシル)ジイソシアネート、2,2,4-トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートなどのジイソシアネート；
エチレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-しクロブタンテトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物、ピロメリット酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビスアンヒドロトリメリテートモノアセテート、3,3',4,4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物などのカルボン酸二無水物；などを挙げることができるがこれらに限定されない。
Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーは、下記式Ｉ〜ＩＩＩのいずれかで表されるのがよい。
式Ｉ〜ＩＩＩにおいて、
Ｒ２１及びＲ２２は各々独立に水素原子又はメチル基を表し；
Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に炭素数２〜１８、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数３〜１８、好ましくは５〜１６、より好ましくは６〜１２のシクロアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数６〜１８、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基、（ポリ）アルキレンオキシ基、（ポリ）エチレンアミン基からなる群から選ばれる１種を表し；
Ｘ１〜Ｘ３は各々独立に炭素数２〜１８、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基（炭素数３以上の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基の場合、直鎖又は分岐鎖上の炭素が酸素に置換されエーテル結合を形成してもよい。また、アルキレン基の一部の水素が水酸基又はカルボキシル基に置換されてもよい）、置換基を有してもよい炭素数３〜１８、好ましくは５〜１６、より好ましくは６〜１２のシクロアルキレン基、及び置換基を有してもよい炭素数６〜１８、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基からなる群から選ばれる１種を表し；
Ｙ１１、Ｙ１２、Ｙ２１、Ｙ２２、Ｙ３１、及びＹ３２は各々独立に−Ｏ−基又は−ＮＨ−基を表す。
式Ｉ〜ＩＩＩにおいて、
Ｒ２１及びＲ２２は各々独立に水素原子又はメチル基を表し；
Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に炭素数２〜１８、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数３〜１８、好ましくは５〜１６、より好ましくは６〜１２のシクロアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数６〜１８、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基、（ポリ）アルキレンオキシ基、（ポリ）エチレンアミン基からなる群から選ばれる１種を表し；
Ｘ１〜Ｘ３は各々独立に炭素数２〜１８、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基（炭素数３以上の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基の場合、直鎖又は分岐鎖上の炭素が酸素に置換されエーテル結合を形成してもよい。また、アルキレン基の一部の水素が水酸基又はカルボキシル基に置換されてもよい）、置換基を有してもよい炭素数３〜１８、好ましくは５〜１６、より好ましくは６〜１２のシクロアルキレン基、及び置換基を有してもよい炭素数６〜１８、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基からなる群から選ばれる１種を表し；
Ｙ１１、Ｙ１２、Ｙ２１、Ｙ２２、Ｙ３１、及びＹ３２は各々独立に−Ｏ−基又は−ＮＨ−基を表す。
＜＜Ｂ．ポリロタキサン＞＞
Ｂ．ポリロタキサンは、環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなる。
＜＜Ｂ−１．環状分子＞＞
Ｂ．ポリロタキサンの環状分子は、環状であり、開口部を有し、直鎖状分子によって串刺し状に包接されるものであれば、特に限定されない。
環状分子は、光硬化性組成物中のＢ．ポリロタキサン以外の成分、具体的にはＡ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー又はその重合体と結合を生じさせるため、（メタ）アクリル基を有する。
Ｂ．ポリロタキサンは、環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなる。
＜＜Ｂ−１．環状分子＞＞
Ｂ．ポリロタキサンの環状分子は、環状であり、開口部を有し、直鎖状分子によって串刺し状に包接されるものであれば、特に限定されない。
環状分子は、光硬化性組成物中のＢ．ポリロタキサン以外の成分、具体的にはＡ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー又はその重合体と結合を生じさせるため、（メタ）アクリル基を有する。
（メタ）アクリル基として、例えば、（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸クロリド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジルエーテルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトングラフトヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（例：プラクセルF、ダイセル製）などの「（メタ）アクリル基を有する化合物」に由来する基を挙げることができるがこれらに限定されない。
（メタ）アクリル基を有する環状分子は、具体的には、上記「アクリル基を有する化合物」と環状分子上の反応基（水酸基、アミン基、カルボン酸基など）とを反応させることにより、得ることができる。
（メタ）アクリル基を有する環状分子は、具体的には、上記「アクリル基を有する化合物」と環状分子上の反応基（水酸基、アミン基、カルボン酸基など）とを反応させることにより、得ることができる。
（メタ）アクリル基の量は、該Ｂ．ポリロタキサン１ｇ中、０．０１５〜２．０ｍｍｏｌ、好ましくは０．０５０〜１．３０ｍｍｏｌ、より好ましくは１．１５〜１．５０ｍｍｏｌであるのがよい。
Ｂ．ポリロタキサンの環状分子は、ラクトンモノマーから形成される開環重合部位を有するのがよい。該開環重合部位は、（メタ）アクリル基とは別途に、環状分子に設けられても、環状分子と（メタ）アクリル基とのスペーサ部位として設けられてもよい。好ましくは、開環重合部位は、環状分子と（メタ）アクリル基とのスペーサ部位として設けられるのがよい。
環状分子は、上述の基以外に、組成物中の他の成分との相溶性、組成物から架橋体への成形工程などを考慮して、次の疎水性基を有する基を有していてもよい。
例えば、疎水性基を有する基として、アセチル基、ブチルエステル基、ブチルカルバメート基、シクロヘキシルカルバモイル基、ヘキシルエステル基、オクタデシルエステル基、ポリアルキレンカーボネート基、ポリプロピレングリコール基、ポリテトラメチレングリコール基、ポリアクリル酸メチル基、ポリアクリル酸エチルヘキシル基などの疎水性基を有する基を挙げることができるがこれらに限定されない。
例えば、疎水性基を有する基として、アセチル基、ブチルエステル基、ブチルカルバメート基、シクロヘキシルカルバモイル基、ヘキシルエステル基、オクタデシルエステル基、ポリアルキレンカーボネート基、ポリプロピレングリコール基、ポリテトラメチレングリコール基、ポリアクリル酸メチル基、ポリアクリル酸エチルヘキシル基などの疎水性基を有する基を挙げることができるがこれらに限定されない。
環状分子として、例えば、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン及びγ−シクロデキストリンからなる群から選択されるのがよい。
上記（メタ）アクリル基又は疎水性基を有する基は、α−シクロデキストリンなどの−ＯＨ基の一部を置換することにより、有するのがよい。
上記（メタ）アクリル基又は疎水性基を有する基は、α−シクロデキストリンなどの−ＯＨ基の一部を置換することにより、有するのがよい。
＜＜Ｂ−２．直鎖状分子＞＞
Ｂ．ポリロタキサンの直鎖状分子は、用いる環状分子の開口部に串刺し状に包接され得るものであれば、特に限定されない。
例えば、直鎖状分子として、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、セルロース系樹脂（カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等及び／またはこれらの共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびその他オレフィン系単量体との共重合樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル−スチレン共重合樹脂等のポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレートや（メタ）アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合樹脂などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等；及びこれらの誘導体又は変性体、ポリイソブチレン、ポリテトラヒドロフラン、ポリアニリン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ナイロンなどのポリアミド類、ポリイミド類、ポリイソプレン、ポリブタジエンなどのポリジエン類、ポリジメチルシロキサンなどのポリシロキサン類、ポリスルホン類、ポリイミン類、ポリ無水酢酸類、ポリ尿素類、ポリスルフィド類、ポリフォスファゼン類、ポリケトン類、ポリフェニレン類、ポリハロオレフィン類、並びにこれらの誘導体からなる群から選ばれるのがよい。例えばポリエチレングリコール、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリプロピレングリコール、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール及びポリビニルメチルエーテルからなる群から選ばれるのがよい。特にポリエチレングリコールであるのがよい。
Ｂ．ポリロタキサンの直鎖状分子は、用いる環状分子の開口部に串刺し状に包接され得るものであれば、特に限定されない。
例えば、直鎖状分子として、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、セルロース系樹脂（カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等及び／またはこれらの共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびその他オレフィン系単量体との共重合樹脂などのポリオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレンやアクリロニトリル−スチレン共重合樹脂等のポリスチレン系樹脂、ポリメチルメタクリレートや（メタ）アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−メチルアクリレート共重合樹脂などのアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等；及びこれらの誘導体又は変性体、ポリイソブチレン、ポリテトラヒドロフラン、ポリアニリン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ナイロンなどのポリアミド類、ポリイミド類、ポリイソプレン、ポリブタジエンなどのポリジエン類、ポリジメチルシロキサンなどのポリシロキサン類、ポリスルホン類、ポリイミン類、ポリ無水酢酸類、ポリ尿素類、ポリスルフィド類、ポリフォスファゼン類、ポリケトン類、ポリフェニレン類、ポリハロオレフィン類、並びにこれらの誘導体からなる群から選ばれるのがよい。例えばポリエチレングリコール、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリプロピレングリコール、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール及びポリビニルメチルエーテルからなる群から選ばれるのがよい。特にポリエチレングリコールであるのがよい。
直鎖状分子は、その重量平均分子量が１，０００以上、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは６，０００〜５０，０００であるのがよい。
Ｂ．ポリロタキサンにおいて、（環状分子、直鎖状分子）の組合せが、（α−シクロデキストリン由来、ポリエチレングリコール由来）であるのがよい。
Ｂ．ポリロタキサンにおいて、（環状分子、直鎖状分子）の組合せが、（α−シクロデキストリン由来、ポリエチレングリコール由来）であるのがよい。
＜＜Ｂ−３．封鎖基＞＞
Ｂ．ポリロタキサンの封鎖基は、擬ポリロタキサンの両端に配置され、用いる環状分子が脱離しないように作用する基であれば、特に限定されない。
例えば、封鎖基として、ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類、シルセスキオキサン類、ピレン類、置換ベンゼン類（置換基として、アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、スルホニル、カルボキシル、アミノ、フェニルなどを挙げることができるがこれらに限定されない。置換基は１つ又は複数存在してもよい。）、置換されていてもよい多核芳香族類（置換基として、上記と同じものを挙げることができるがこれらに限定されない。置換基は１つ又は複数存在してもよい。）、及びステロイド類からなる群から選ばれるのがよい。なお、ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類、シルセスキオキサン類、及びピレン類からなる群から選ばれるのが好ましく、より好ましくはアダマンタン基類又はシクロデキストリン類であるのがよい。
Ｂ．ポリロタキサンの封鎖基は、擬ポリロタキサンの両端に配置され、用いる環状分子が脱離しないように作用する基であれば、特に限定されない。
例えば、封鎖基として、ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類、シルセスキオキサン類、ピレン類、置換ベンゼン類（置換基として、アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、スルホニル、カルボキシル、アミノ、フェニルなどを挙げることができるがこれらに限定されない。置換基は１つ又は複数存在してもよい。）、置換されていてもよい多核芳香族類（置換基として、上記と同じものを挙げることができるがこれらに限定されない。置換基は１つ又は複数存在してもよい。）、及びステロイド類からなる群から選ばれるのがよい。なお、ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類、シルセスキオキサン類、及びピレン類からなる群から選ばれるのが好ましく、より好ましくはアダマンタン基類又はシクロデキストリン類であるのがよい。
上述したように、Ｂ．ポリロタキサンは、「Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー」との重量比において、該Ｂ．ポリロタキサンの量が低重量比である、即ち「Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマー」：「Ｂ．ポリロタキサン」が１００：０．５〜１００：３５、好ましくは１００：１．０〜１００：３０、より好ましくは１００：５．０〜１００：２０であるのがよい。
＜＜Ｃ．光重合開始剤＞＞
本願において、Ｃ．光重合開始剤は、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーを光照射して硬化させる際に、ラジカル種を発生させ、モノマーのラジカル重合を開始できる特性を有する開始剤であればよく、特に限定されない。
Ｃ．光重合開始剤として、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル化合物；
アセトフェノン、2,2-ジメトキシアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン化合物；
ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタールなどのベンジルケタール化合物；
2-メチルアントラキノン、2-エチルアイルアントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン、2-アミルアントラキノンなどのアントラキノン化合物；
トリフェニルホスフィンなどのホスフィン化合物；
2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキシド（Lucirin（登録商標） TPO）などのベンゾイルホスフィンオキシド化合物；
ビス（2,4,6-トリメチルベンゾイル）-フェニルホスフィンオキシド（Irgacure（登録商標）819）などのビスアシルホスフィンオキシド化合物；
ベンゾフェノン、4,4’-ビス（N,N’-ジメチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物；
チオキサントン、キサントン；
アクリジン派生物；フェナジン派生物；キノキサリン派生物；1-フェニル-1,2-プロパンジオン・2-O-ベンゾイルオキシム；4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル−2−プロピルケトン（Irgacure（登録商標）2959）、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Irgacure（登録商標）184）、2-ヒドロキシイソプロピルフェニルケトン、フェニル1-ヒドロキシイソプロピルケトン、4-イソプロピルフェニル1-ヒドロキシイソプロピルケトンなどの1-アミノフェニルケトン類又は1-ヒドロキシフェニルケトン類；などを挙げることができるがこれらに限定されない。
Ｃ．光重合開始剤は、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキシド（Lucirin（登録商標） TPO）などのベンゾイルホスフィンオキシド化合物；又はビス（2,4,6-トリメチルベンゾイル）-フェニルホスフィンオキシド（Irgacure（登録商標）819）などのビスアシルホスフィンオキシド化合物；1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Irgacure（登録商標）184）などの1-ヒドロキシフェニルケトンであるのが好ましく、より好ましくは2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキシド（Lucirin（登録商標） TPO）などのベンゾイルホスフィンオキシド化合物、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Irgacure（登録商標）184）などの1-ヒドロキシフェニルケトンであるのがよい。
本願において、Ｃ．光重合開始剤は、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーを光照射して硬化させる際に、ラジカル種を発生させ、モノマーのラジカル重合を開始できる特性を有する開始剤であればよく、特に限定されない。
Ｃ．光重合開始剤として、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル化合物；
アセトフェノン、2,2-ジメトキシアセトフェノン、1,1-ジクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン化合物；
ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタールなどのベンジルケタール化合物；
2-メチルアントラキノン、2-エチルアイルアントラキノン、2-t-ブチルアントラキノン、1-クロロアントラキノン、2-アミルアントラキノンなどのアントラキノン化合物；
トリフェニルホスフィンなどのホスフィン化合物；
2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキシド（Lucirin（登録商標） TPO）などのベンゾイルホスフィンオキシド化合物；
ビス（2,4,6-トリメチルベンゾイル）-フェニルホスフィンオキシド（Irgacure（登録商標）819）などのビスアシルホスフィンオキシド化合物；
ベンゾフェノン、4,4’-ビス（N,N’-ジメチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン化合物；
チオキサントン、キサントン；
アクリジン派生物；フェナジン派生物；キノキサリン派生物；1-フェニル-1,2-プロパンジオン・2-O-ベンゾイルオキシム；4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル−2−プロピルケトン（Irgacure（登録商標）2959）、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Irgacure（登録商標）184）、2-ヒドロキシイソプロピルフェニルケトン、フェニル1-ヒドロキシイソプロピルケトン、4-イソプロピルフェニル1-ヒドロキシイソプロピルケトンなどの1-アミノフェニルケトン類又は1-ヒドロキシフェニルケトン類；などを挙げることができるがこれらに限定されない。
Ｃ．光重合開始剤は、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキシド（Lucirin（登録商標） TPO）などのベンゾイルホスフィンオキシド化合物；又はビス（2,4,6-トリメチルベンゾイル）-フェニルホスフィンオキシド（Irgacure（登録商標）819）などのビスアシルホスフィンオキシド化合物；1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Irgacure（登録商標）184）などの1-ヒドロキシフェニルケトンであるのが好ましく、より好ましくは2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキシド（Lucirin（登録商標） TPO）などのベンゾイルホスフィンオキシド化合物、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Irgacure（登録商標）184）などの1-ヒドロキシフェニルケトンであるのがよい。
Ｃ．光重合開始剤の量は、上述のように、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーを光照射して硬化させる際に作用するものであれば、特に限定されないが、上記Ａモノマー１００重量部に対して０．５〜１０重量部、好ましくは１．０〜８．０重量部、より好ましくは３．０〜６．０重量部であるのがよい。
＜＜光硬化性組成物のその他の成分＞＞
本願の光硬化性組成物は、上記Ａ〜Ｃの成分の他に、「その他の成分」を含有してもよい。
その他の成分として、例えば、金属酸化物、塩化物、炭酸塩、リン酸塩、炭素粒子、ポリマー粒子などを挙げることができるがこれらに限定されない。
具体的には、シリカ、アルミナ、鉄粉、ジルコニア、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、石英、酸化チタン、ガラスビーズ、ガラス繊維、タルク、カーボンブラック、炭素繊維、アクリル粒子、エチレン粒子、エチレン−酢酸ビニル旧重合体粒子、スチレン粒子、スチレン−ブタジエン粒子、アクリロニトリル−スチレン粒子、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン粒子、ポリイミド粒子、ポリウレタン粒子、フッ素樹脂粒子などを挙げることができるがこれらに限定されない。
また、本願の光硬化性組成物は、用途に依存して、溶媒を有してもよい。
本願の光硬化性組成物は、上記Ａ〜Ｃの成分の他に、「その他の成分」を含有してもよい。
その他の成分として、例えば、金属酸化物、塩化物、炭酸塩、リン酸塩、炭素粒子、ポリマー粒子などを挙げることができるがこれらに限定されない。
具体的には、シリカ、アルミナ、鉄粉、ジルコニア、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、石英、酸化チタン、ガラスビーズ、ガラス繊維、タルク、カーボンブラック、炭素繊維、アクリル粒子、エチレン粒子、エチレン−酢酸ビニル旧重合体粒子、スチレン粒子、スチレン−ブタジエン粒子、アクリロニトリル−スチレン粒子、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン粒子、ポリイミド粒子、ポリウレタン粒子、フッ素樹脂粒子などを挙げることができるがこれらに限定されない。
また、本願の光硬化性組成物は、用途に依存して、溶媒を有してもよい。
＜＜光硬化性組成物の特性など＞＞
本願の光硬化性組成物は、その粘度が、２５℃において、１００，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５００〜６０，０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは７００〜４０，０００ｍＰａ・ｓであるのがよい。
本願の光硬化性組成物は、その粘度が、２５℃において、１００，０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５００〜６０，０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは７００〜４０，０００ｍＰａ・ｓであるのがよい。
＜該光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法＞
本願は、上述の光硬化性組成物から形成される硬化体を開示する。
該硬化体は、上述の光硬化性組成物に光を照射して硬化させることにより得ることができる。
例えば、硬化体は、次の方法により製造することができる。
ｉ）上述の光硬化性組成物を調製する工程；
ｉｉ）該組成物を所定形状にする工程；及び
ｉｉｉ）得られた所定形状に光を照射する工程；
を有することにより、硬化体を得ることができる。
本願は、上述の光硬化性組成物から形成される硬化体を開示する。
該硬化体は、上述の光硬化性組成物に光を照射して硬化させることにより得ることができる。
例えば、硬化体は、次の方法により製造することができる。
ｉ）上述の光硬化性組成物を調製する工程；
ｉｉ）該組成物を所定形状にする工程；及び
ｉｉｉ）得られた所定形状に光を照射する工程；
を有することにより、硬化体を得ることができる。
＜＜ｉ）工程＞＞
上記ｉ）工程は、上述の光硬化性組成物を参照することにより調製することができる。
具体的には、ｉ）工程は、
ｉ）−ａ） Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーを準備する工程；
ｉ）−ｂ） 上述のＢ．ポリロタキサンを準備する工程；及び
ｉ）−ｃ） Ｃ．光重合開始剤を準備する工程；
を有し、さらにｉ）−ｄ） Ａ〜Ｃ成分からなる光硬化性組成物を準備する工程；を有する。
上記ｉ）工程は、上述の光硬化性組成物を参照することにより調製することができる。
具体的には、ｉ）工程は、
ｉ）−ａ） Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーを準備する工程；
ｉ）−ｂ） 上述のＢ．ポリロタキサンを準備する工程；及び
ｉ）−ｃ） Ｃ．光重合開始剤を準備する工程；
を有し、さらにｉ）−ｄ） Ａ〜Ｃ成分からなる光硬化性組成物を準備する工程；を有する。
ｉ）−ａ）工程は、Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーを市販購入すること、及び上述した事項を参照して新規に調製することにより、行うことができる。
ｉ）−ｂ）工程は、（メタ）アクリル基を有さないポリロタキサンを、従来公知の手法、例えばＷＯ２０１０／０２４４３１号公報記載の手法により、調製する。
その後、得られたポリロタキサンの環状分子の−ＯＨ基を（メタ）アクリル基を有する基に置換することにより得ることができる。なお、−ＯＨ基を（メタ）アクリル基を有する基に置換する際に、まず環状分子の−ＯＨ基をヒドロキシプロピル及び／又はポリカプロラクトン基によって置換し、その後、得られたカプロラクトン基の末端をさらに（メタ）アクリル基に置換することによって、得ることができる。
環状分子の−ＯＨ基を（メタ）アクリル基を有する基に置換する際の諸条件は、用いる環状分子、所望とする（メタ）アクリル基などに依存するが、常温〜１３０℃、常圧であるのがよい。
その後、得られたポリロタキサンの環状分子の−ＯＨ基を（メタ）アクリル基を有する基に置換することにより得ることができる。なお、−ＯＨ基を（メタ）アクリル基を有する基に置換する際に、まず環状分子の−ＯＨ基をヒドロキシプロピル及び／又はポリカプロラクトン基によって置換し、その後、得られたカプロラクトン基の末端をさらに（メタ）アクリル基に置換することによって、得ることができる。
環状分子の−ＯＨ基を（メタ）アクリル基を有する基に置換する際の諸条件は、用いる環状分子、所望とする（メタ）アクリル基などに依存するが、常温〜１３０℃、常圧であるのがよい。
ｉ）−ｃ）工程は、所望のＣ．光重合開始剤を市販購入すること、又は、既存の方法で合成することにより、該光重合開始剤を準備することができる。
ｉ）−ｄ）工程は、Ａ〜Ｃ成分からなる光硬化性組成物を準備する工程であり、上記で得られたＡ〜Ｃ成分及びその他の成分を混合することにより得ることができる。なお、混合の際に、溶媒を用いてもよいが、該溶媒は混合後に除去することが好ましい。
ｉ）−ｄ）工程は、Ａ〜Ｃ成分からなる光硬化性組成物を準備する工程であり、上記で得られたＡ〜Ｃ成分及びその他の成分を混合することにより得ることができる。なお、混合の際に、溶媒を用いてもよいが、該溶媒は混合後に除去することが好ましい。
＜＜ｉｉ）工程＞＞
ｉｉ）工程は、上記ｉ）工程で得られた組成物を所定形状にする工程である。
ｉｉ）工程は、従来公知の手法により行うことができ、例えば種々な形状の型に組成物を注入する方法、一定速度で基板や支持体にバーコーターでシート状を成形する方法、組成物と混和しない特定の媒体に組成物を滴下又は押し出して、球状や繊維状などの所望な形状を作製する方法、光造形装置を用いて液槽光重合という積層技術による３次元成形物の成形方法により行うことができる。
ｉｉ）工程は、上記ｉ）工程で得られた組成物を所定形状にする工程である。
ｉｉ）工程は、従来公知の手法により行うことができ、例えば種々な形状の型に組成物を注入する方法、一定速度で基板や支持体にバーコーターでシート状を成形する方法、組成物と混和しない特定の媒体に組成物を滴下又は押し出して、球状や繊維状などの所望な形状を作製する方法、光造形装置を用いて液槽光重合という積層技術による３次元成形物の成形方法により行うことができる。
＜＜ｉｉｉ）工程＞＞
ｉｉｉ）工程は、上記ｉｉ）工程で得られた所定形状に光を照射する工程である。
ｉｉｉ）工程において、照射する光は、用いる光硬化性組成物、光重合開始剤、光硬化性組成物の厚み、所望の硬化体、光照射装置などに依存するが、例えば光照射波長が３５０〜４５０ｎｍ、特に３６５ｎｍであるのがよく、積算照射光量が１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２の条件などを用いることができる。
照射装置として、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、各種レーザーを挙げることができる。
なお、光造形技術のような成形方法の場合、工程ｉｉ）と工程ｉｉｉ）を交互に行い、連続的に積層しながら行うこともできる。
ｉｉｉ）工程は、上記ｉｉ）工程で得られた所定形状に光を照射する工程である。
ｉｉｉ）工程において、照射する光は、用いる光硬化性組成物、光重合開始剤、光硬化性組成物の厚み、所望の硬化体、光照射装置などに依存するが、例えば光照射波長が３５０〜４５０ｎｍ、特に３６５ｎｍであるのがよく、積算照射光量が１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２の条件などを用いることができる。
照射装置として、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、各種レーザーを挙げることができる。
なお、光造形技術のような成形方法の場合、工程ｉｉ）と工程ｉｉｉ）を交互に行い、連続的に積層しながら行うこともできる。
硬化体の製造方法は、上述のｉ）〜ｉｉｉ）工程以外に、他の工程を含んでもよい。例えば、工程ｉｉｉ）の後にさらに硬化成形物を加熱し、反応を完全に完結させる工程、工程ｉｉ）の後に気泡を除去する工程、熱架橋剤の存在下で工程ｉｉ）の後に加熱し、部分的に熱架橋する工程などを挙げることができるが、これに限定されない。
＜硬化体＞
上述の光硬化性組成物から形成される硬化体、例えば上述の製造方法によって得られた硬化体は、その引張弾性率が１００ＭＰａ以上、好ましくは２００〜２０００ＭＰａ、より好ましくは７００〜１５００ＭＰａであるのがよい。
また、上述の光硬化性組成物から形成される硬化体（Ｍ）は、該硬化体（Ｍ）を構成する組成物より前記Ｂ.ポリロタキサンを除いた成分からなる硬化体（Ｎ）とのアイゾット衝撃試験による衝撃強度比（Ｍの衝撃強度／Ｎの衝撃強度）が１．１０以上、好ましくは１．５０〜５．０、より好ましくは１．８〜３．５であるのがよい。
上述の光硬化性組成物から形成される硬化体、例えば上述の製造方法によって得られた硬化体は、その引張弾性率が１００ＭＰａ以上、好ましくは２００〜２０００ＭＰａ、より好ましくは７００〜１５００ＭＰａであるのがよい。
また、上述の光硬化性組成物から形成される硬化体（Ｍ）は、該硬化体（Ｍ）を構成する組成物より前記Ｂ.ポリロタキサンを除いた成分からなる硬化体（Ｎ）とのアイゾット衝撃試験による衝撃強度比（Ｍの衝撃強度／Ｎの衝撃強度）が１．１０以上、好ましくは１．５０〜５．０、より好ましくは１．８〜３．５であるのがよい。
＜＜引張弾性率、引張り強度、伸び＞＞
本願において、引張弾性率、引張り強度、伸びは、AutoGraph AG-XPlus（島津製作所製）を用いて測定する。
これらは、ＪＩＳ Ｋ ７１６１：１９９４に準ずる引張試験によって測定する。試験片を引張り、引張比例限度内における引張応力とこれに対応するひずみの比を引張弾性率とし、破断した際の応力を引張強度とする。また、伸びは、以下の式に基づく。式中、試験前の長さＬ０の試験片を引張り、破断した際の試験片の長さをＬｔとした。
伸び（％）＝（Ｌｔ−Ｌ０）／Ｌ０×１００。
本願において、引張弾性率、引張り強度、伸びは、AutoGraph AG-XPlus（島津製作所製）を用いて測定する。
これらは、ＪＩＳ Ｋ ７１６１：１９９４に準ずる引張試験によって測定する。試験片を引張り、引張比例限度内における引張応力とこれに対応するひずみの比を引張弾性率とし、破断した際の応力を引張強度とする。また、伸びは、以下の式に基づく。式中、試験前の長さＬ０の試験片を引張り、破断した際の試験片の長さをＬｔとした。
伸び（％）＝（Ｌｔ−Ｌ０）／Ｌ０×１００。
＜＜アイゾット衝撃試験による衝撃強度＞＞
ＪＩＳ Ｋ ７１１０を準じて、デジタル衝撃試験機 DG-UB型（東洋精機製作所製）を用いて測定する。
アイゾット衝撃試験は、衝撃に対する強さ（靭性）を評価する衝撃試験法であり、振り子式の打撃ハンマーを用いて試験片を打撃して該試験片を破壊し、該破壊の際に要したエネルギーを該試験片の幅で割って求めることができる。ここで、破壊に要したエネルギーは、振り子式打撃ハンマーの持ち上げ角度と試験後のハンマーの振り上がり角度から計算することができる。
ＪＩＳ Ｋ ７１１０を準じて、デジタル衝撃試験機 DG-UB型（東洋精機製作所製）を用いて測定する。
アイゾット衝撃試験は、衝撃に対する強さ（靭性）を評価する衝撃試験法であり、振り子式の打撃ハンマーを用いて試験片を打撃して該試験片を破壊し、該破壊の際に要したエネルギーを該試験片の幅で割って求めることができる。ここで、破壊に要したエネルギーは、振り子式打撃ハンマーの持ち上げ角度と試験後のハンマーの振り上がり角度から計算することができる。
＜＜曲げ弾性、曲げ強度＞＞
ＪＩＳ Ｋ ７１７１を準じて、曲げ試験を測定する。
曲げ比例限度内における応力とこれに対応するひずみの比を曲げ弾性率とし、破断した際の応力を曲げ強度とする。
＜＜粘度＞＞
Ｂ型粘度計（DV-E、Brookfield社製）を用いて粘度を測定した。
ＪＩＳ Ｋ ７１７１を準じて、曲げ試験を測定する。
曲げ比例限度内における応力とこれに対応するひずみの比を曲げ弾性率とし、破断した際の応力を曲げ強度とする。
＜＜粘度＞＞
Ｂ型粘度計（DV-E、Brookfield社製）を用いて粘度を測定した。
本願の硬化体は、上記特性、具体的には高強度、並びに高引張弾性率及び／又は高靭性を有するため、電気電子部材、建材、光学部品、医療用材料などの種々の材料として用いることができる。具体的には、本願の硬化体は、電気絶縁材料、粘・接着剤、光学保護膜材料、ハードコート膜、３Ｄプリンター・光造形用材料、微細形状（パターン）成形材料、レジスト材料、電気部品（携帯電話器、家電など）の塗料、自動車の内装材料、印刷インキ用材料、プリント配線基板材料、レンズ用材料、メガネフレーム用材料、放熱・熱伝導材料のバインダー、システムキッチン材料、家具、外装・内装タイル、楽器用材料、床材などに用いることができるが、これらに限定されない。
以下、実施例に基づいて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は本実施例に限定されるものではない。
以下、実施例に基づいて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は本実施例に限定されるものではない。
＜Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーの準備＞
アルキレンジイソシアネートとヒドロキシアルキル基を有するメタクリレートを、アルキレンジイソシアネート：ヒドロキシアルキル基を有するメタクリレートが１：２のモル比で、反応させて得られたベースウレタンジメタクリレートモノマーＤＳ３０００（室温で液状物）を準備した。なお、ベースウレタンジメタクリレートモノマーＤＳ３０００モノマーのみからなる重合体のガラス転移温度は約６５℃であった。
また、トリエチレングリコールジメタクリレート（ＮＫ−３Ｇ、新中村化学工業製）を準備した。なお、ＮＫ−３Ｇのみからなる重合体のガラス転移温度は６５℃であった。
アルキレンジイソシアネートとヒドロキシアルキル基を有するメタクリレートを、アルキレンジイソシアネート：ヒドロキシアルキル基を有するメタクリレートが１：２のモル比で、反応させて得られたベースウレタンジメタクリレートモノマーＤＳ３０００（室温で液状物）を準備した。なお、ベースウレタンジメタクリレートモノマーＤＳ３０００モノマーのみからなる重合体のガラス転移温度は約６５℃であった。
また、トリエチレングリコールジメタクリレート（ＮＫ−３Ｇ、新中村化学工業製）を準備した。なお、ＮＫ−３Ｇのみからなる重合体のガラス転移温度は６５℃であった。
＜Ｂ．ポリロタキサンの調製＞
ＷＯ２００５／０８０４６９又はＷＯ２０１０／０２４４３１に記載された方法により、ポリロタキサンを調製した。
なお、以下で合成したポリロタキサンの１Ｈ−ＮＭＲ分析は、４００ＭＨｚのＪＥＯＬ ＪＮＭ−ＡＬ４００（日本電子株式会社製）で行った。
ポリロタキサンの分子量、分子量分布の測定は、ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ-８２２０ＧＰＣ装置で行った。カラム：ＴＳＫガードカラムＳｕｐｅｒ ＡＷ−ＨとＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ−Ｈ（２本連結）、溶離液：ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）／０．０１Ｍ ＬｉＢｒ、カラムオーブン：５０℃、流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ、試料濃度を約０．２ｗｔ／ｖｏｌ％、注入量：２０μl、前処理：０．２μｍフィルターでろ過、スタンダード分子量：ＰＥＯ、の条件下で測定した。さらに、赤外分光分析（ＩＲ）の測定は、Nicolet4700（サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）で行った。
ＷＯ２００５／０８０４６９又はＷＯ２０１０／０２４４３１に記載された方法により、ポリロタキサンを調製した。
なお、以下で合成したポリロタキサンの１Ｈ−ＮＭＲ分析は、４００ＭＨｚのＪＥＯＬ ＪＮＭ−ＡＬ４００（日本電子株式会社製）で行った。
ポリロタキサンの分子量、分子量分布の測定は、ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ-８２２０ＧＰＣ装置で行った。カラム：ＴＳＫガードカラムＳｕｐｅｒ ＡＷ−ＨとＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ−Ｈ（２本連結）、溶離液：ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）／０．０１Ｍ ＬｉＢｒ、カラムオーブン：５０℃、流速：０．５ｍｌ／ｍｉｎ、試料濃度を約０．２ｗｔ／ｖｏｌ％、注入量：２０μl、前処理：０．２μｍフィルターでろ過、スタンダード分子量：ＰＥＯ、の条件下で測定した。さらに、赤外分光分析（ＩＲ）の測定は、Nicolet4700（サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）で行った。
（合成例１：メタクリル基を有するポリロタキサンＰＲ１の調製）
直鎖状分子としてポリエチレングリコール（重量平均分子量：３５，０００）、封鎖基としてアダマンチル基、環状分子としてヒドロキシプロピル基を有するα−シクロデキストリンを用いて、ＷＯ２００５／０８０４６９又はＷＯ２０１０／０２４４３１号公報記載の手法により、ポリロタキサン（ＨＡＰＲ３５）を調製した。
該ポリロタキサン（ＨＡＰＲ３５）１．０ｇを三口フラスコに入れ、窒素をゆっくり流しながら、ε−カプロラクトン４．５ｇを導入した。１００℃、３０分間メカニカル撹拌機によって均一に撹拌した後、反応温度を１３０℃まで上げ、予め酢酸エチルで薄めた２−エチルヘキサン酸スズ（５０ｗｔ％溶液）０．０１６ｇを添加し、５時間反応させ、反応生成物（ＨＡＰＲ３５のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトン基を導入したものであり、以下、「ＨＡＰＲ３５のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトンを導入したもの」を一般に「ＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬ」と略記する場合がある）５．５ｇを得た。ＩＲを測定した結果、１７３６ｃｍ−１のエステル由来のピークが見られた。引き続き、酢酸エチル２．５ｇを用いて上記ＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬを溶解し、２−メタクリロイルオキシイソシアネート（カレントＭＯＩ、昭和電工製）を０．４６ｇ滴下し、８０℃で、４時間反応させた。ＩＲ測定により、イソシアネート基のピーク（２２７０ｃｍ−１）が消費されたことを確認し、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ１）を得た。ＧＰＣにより、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬの平均重量分子量Ｍｗは７５８，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３であった。２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬ中のメタクリル基の量は０．４９ｍｍｏｌ／ｇであった。
直鎖状分子としてポリエチレングリコール（重量平均分子量：３５，０００）、封鎖基としてアダマンチル基、環状分子としてヒドロキシプロピル基を有するα−シクロデキストリンを用いて、ＷＯ２００５／０８０４６９又はＷＯ２０１０／０２４４３１号公報記載の手法により、ポリロタキサン（ＨＡＰＲ３５）を調製した。
該ポリロタキサン（ＨＡＰＲ３５）１．０ｇを三口フラスコに入れ、窒素をゆっくり流しながら、ε−カプロラクトン４．５ｇを導入した。１００℃、３０分間メカニカル撹拌機によって均一に撹拌した後、反応温度を１３０℃まで上げ、予め酢酸エチルで薄めた２−エチルヘキサン酸スズ（５０ｗｔ％溶液）０．０１６ｇを添加し、５時間反応させ、反応生成物（ＨＡＰＲ３５のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトン基を導入したものであり、以下、「ＨＡＰＲ３５のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトンを導入したもの」を一般に「ＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬ」と略記する場合がある）５．５ｇを得た。ＩＲを測定した結果、１７３６ｃｍ−１のエステル由来のピークが見られた。引き続き、酢酸エチル２．５ｇを用いて上記ＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬを溶解し、２−メタクリロイルオキシイソシアネート（カレントＭＯＩ、昭和電工製）を０．４６ｇ滴下し、８０℃で、４時間反応させた。ＩＲ測定により、イソシアネート基のピーク（２２７０ｃｍ−１）が消費されたことを確認し、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ１）を得た。ＧＰＣにより、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬの平均重量分子量Ｍｗは７５８，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３であった。２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ３５−ｇ−ＰＣＬ中のメタクリル基の量は０．４９ｍｍｏｌ／ｇであった。
（合成例２：メタクリル基を有するポリロタキサンＰＲ２の調製）
合成例１において、直鎖状分子としてポリエチレングリコール（重量平均分子量：３５，０００）の代わりに、ポリエチレングリコール（重量平均分子量：２０，０００）を用いた以外、合成例１と同様の方法により、ポリロタキサン（ＨＡＰＲ２０）、ＨＡＰＲ２０のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトン基を導入したもの（「ＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬ」と略記する）、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ２）を得た。ＧＰＣにより、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬの平均重量分子量Ｍｗは５５８，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３であった。２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬ中のメタクリル基の量は０．４９ｍｍｏｌ／ｇであった。
合成例１において、直鎖状分子としてポリエチレングリコール（重量平均分子量：３５，０００）の代わりに、ポリエチレングリコール（重量平均分子量：２０，０００）を用いた以外、合成例１と同様の方法により、ポリロタキサン（ＨＡＰＲ２０）、ＨＡＰＲ２０のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトン基を導入したもの（「ＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬ」と略記する）、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ２）を得た。ＧＰＣにより、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬの平均重量分子量Ｍｗは５５８，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．３であった。２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬ中のメタクリル基の量は０．４９ｍｍｏｌ／ｇであった。
（合成例３：メタクリル基を有するポリロタキサンＰＲ２−１の調製）
合成例２と同様に２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ２）を得た後、ウレタンメタクリレートオリゴマー１（ＵＭ−１）２３．８ｇを混合し、８０℃で減圧し、酢酸エチルを除去した。得られた無溶媒物をＰＲ２−１とした。
なお、上述のＵＭ−１は、次の方法で作製した。即ち、反応槽にポリカプロラクトントリオール（プラクセル３０８、ダイセル製）１０ｇと、２−メタクリロイルオキシイソシアネート（カレントＭＯＩ、昭和電工製）５．１ｇとを８０℃４時間反応させて、ＩＲ測定により、イソシアネート基のピーク（２２７０ｃｍ−１）が消費されたことを確認したら反応を終了し、得られた溶液をＵＭ−１とした。
合成例２と同様に２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ２０−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ２）を得た後、ウレタンメタクリレートオリゴマー１（ＵＭ−１）２３．８ｇを混合し、８０℃で減圧し、酢酸エチルを除去した。得られた無溶媒物をＰＲ２−１とした。
なお、上述のＵＭ−１は、次の方法で作製した。即ち、反応槽にポリカプロラクトントリオール（プラクセル３０８、ダイセル製）１０ｇと、２−メタクリロイルオキシイソシアネート（カレントＭＯＩ、昭和電工製）５．１ｇとを８０℃４時間反応させて、ＩＲ測定により、イソシアネート基のピーク（２２７０ｃｍ−１）が消費されたことを確認したら反応を終了し、得られた溶液をＵＭ−１とした。
（合成例４：メタクリル基を有するポリロタキサンＰＲ３の調製）
直鎖状分子としてポリエチレングリコール（重量平均分子量：１１，０００）、封鎖基としてアダマンチル基、環状分子としてヒドロキシプロピル基を有するα−シクロデキストリンを用いて、ＷＯ２００５／０８０４６９又はＷＯ２０１０／０２４４３１号公報記載の手法により、ポリロタキサン（ＨＡＰＲ１１）を調製した。
該ポリロタキサン（ＨＡＰＲ１１）１．０ｇを三口フラスコに入れ、窒素をゆっくり流しながら、ε−カプロラクトン３．５ｇを導入した。１００℃、３０分間メカニカル撹拌機によって均一に撹拌した後、反応温度を１３０℃まで上げ、予め酢酸エチルで薄めた２−エチルヘキサン酸スズ（５０ｗｔ％溶液）０．０１６ｇを添加し、５時間反応させ、反応生成物（ＨＡＰＲ１１のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトン基を導入したものであり、以下、「ＨＡＰＲ１１のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトンを導入したもの」を一般に「ＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬ」と略記する場合がある）５．５ｇを得た。ＩＲを測定した結果、１７３６ｃｍ−１のエステル由来のピークが見られた。引き続き、酢酸エチル２．１ｇを用いて上記ＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬを溶解し、２−メタクリロイルオキシイソシアネート（カレントＭＯＩ、昭和電工製）を０．９４ｇ滴下し、８０℃で、４時間反応させた。ＩＲ測定により、イソシアネート基のピーク（２２７０ｃｍ−１）が消費されたことを確認し、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ３）を得た。ＧＰＣにより、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬの平均重量分子量Ｍｗは１９８，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．２であった。２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬ中のメタクリル基の量は１．１１ｍｍｏｌ／ｇであった。
直鎖状分子としてポリエチレングリコール（重量平均分子量：１１，０００）、封鎖基としてアダマンチル基、環状分子としてヒドロキシプロピル基を有するα−シクロデキストリンを用いて、ＷＯ２００５／０８０４６９又はＷＯ２０１０／０２４４３１号公報記載の手法により、ポリロタキサン（ＨＡＰＲ１１）を調製した。
該ポリロタキサン（ＨＡＰＲ１１）１．０ｇを三口フラスコに入れ、窒素をゆっくり流しながら、ε−カプロラクトン３．５ｇを導入した。１００℃、３０分間メカニカル撹拌機によって均一に撹拌した後、反応温度を１３０℃まで上げ、予め酢酸エチルで薄めた２−エチルヘキサン酸スズ（５０ｗｔ％溶液）０．０１６ｇを添加し、５時間反応させ、反応生成物（ＨＡＰＲ１１のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトン基を導入したものであり、以下、「ＨＡＰＲ１１のα−シクロデキストリンにポリカプロラクトンを導入したもの」を一般に「ＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬ」と略記する場合がある）５．５ｇを得た。ＩＲを測定した結果、１７３６ｃｍ−１のエステル由来のピークが見られた。引き続き、酢酸エチル２．１ｇを用いて上記ＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬを溶解し、２−メタクリロイルオキシイソシアネート（カレントＭＯＩ、昭和電工製）を０．９４ｇ滴下し、８０℃で、４時間反応させた。ＩＲ測定により、イソシアネート基のピーク（２２７０ｃｍ−１）が消費されたことを確認し、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ３）を得た。ＧＰＣにより、２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬの平均重量分子量Ｍｗは１９８，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは１．２であった。２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬ中のメタクリル基の量は１．１１ｍｍｏｌ／ｇであった。
（合成例５：メタクリル基を有するポリロタキサンＰＲ３−１の調製）
合成例４と同様に２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ３）を得た後、ウレタンメタクリレートオリゴマー２（ＵＭ−２）１９．８ｇを混合し、８０℃で減圧し、酢酸エチルを除去した。得られた無溶媒物をＰＲ３−１とした。
なお、上述のＵＭ−２は次の方法で作製した。即ち、三官能性イソシアネートＤｕｒａｎａｔｅＴＰＡ−１００（旭化成製）１０ｇを２−ヒドロキシエチルアクリレートのポリカプロラクトン付加体（プラクセルＦＡ２Ｄ、ダイセル製）６．０ｇと８０℃、４時間反応させて、ＩＲ測定により、イソシアネート基のピーク（２２７０ｃｍ−１）が消費されたことを確認したら反応を終了し、得られた溶液をＵＭ−２とした。
合成例４と同様に２−メタクリロイルオキシカルバメート基を有するＨＡＰＲ１１−ｇ−ＰＣＬの７０ｗｔ％酢酸エチル溶液（ＰＲ３）を得た後、ウレタンメタクリレートオリゴマー２（ＵＭ−２）１９．８ｇを混合し、８０℃で減圧し、酢酸エチルを除去した。得られた無溶媒物をＰＲ３−１とした。
なお、上述のＵＭ−２は次の方法で作製した。即ち、三官能性イソシアネートＤｕｒａｎａｔｅＴＰＡ−１００（旭化成製）１０ｇを２−ヒドロキシエチルアクリレートのポリカプロラクトン付加体（プラクセルＦＡ２Ｄ、ダイセル製）６．０ｇと８０℃、４時間反応させて、ＩＲ測定により、イソシアネート基のピーク（２２７０ｃｍ−１）が消費されたことを確認したら反応を終了し、得られた溶液をＵＭ−２とした。
＜Ｃ．光重合開始剤＞
光重合開始剤として、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド（Lucirin（登録商標） TPO、BASF製）を用いた。
＜その他の成分＞
光重合開始剤として、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド（Lucirin（登録商標） TPO、BASF製）を用いた。
＜その他の成分＞
（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしてベースウレタンジメタクリレートモノマーＤＳ３０００、ポリロタキサンとして合成例１で得られたＰＲ２、光重合開始剤として2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド（Lucirin TPO、BASF製）、を、以下の表１に記載する重量比で混合した。得られた混合物を減圧加熱してＰＲ２由来の溶媒を除去して、光硬化性組成物Ｘ−１を得た。得られた光硬化性組成物Ｘ−１の粘度を測定した。
得られた光硬化性組成物Ｘ−１を所定の型に入れ、３６５ｎｍの紫外線を、照射光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２で照射し、硬化させ硬化体ＸＣ−１を得た。
なお、紫外線の照射光量は、所定の型の厚みによって、変化させたが、１０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であった。
なお、紫外線の照射光量は、所定の型の厚みによって、変化させたが、１０００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であった。
硬化体を必要な形状に切断し、切断面を研磨し、引張弾性率、引張強度、伸び、曲げ弾性率、曲げ強度、ショア硬度Ｄ、衝撃強度の各試験測定用サンプルとした。なお、引張弾性率、引張強度、及び衝撃強度は、上述した測定法を用いた。それ以外の試験法については以下に記載する。
得られた硬化体ＸＣ−１は、引張弾性率１７９０ＭＰａ、引張強度４３ＭＰａを有し、所望の高強度さを有していた。また、靭性を示す衝撃強度が２３５Ｊ／ｍであり、所望の靭性を有することがわかった。
得られた硬化体ＸＣ−１は、引張弾性率１７９０ＭＰａ、引張強度４３ＭＰａを有し、所望の高強度さを有していた。また、靭性を示す衝撃強度が２３５Ｊ／ｍであり、所望の靭性を有することがわかった。
＜＜引張弾性率、引張強度、伸び＞＞
引張弾性率、引張り強度、伸びは、上述のとおり、AutoGraph AG-XPlus（島津製作所製）を用いて測定した。具体的には、ＪＩＳ Ｋ ７１６１：１９９４に準ずる引張試験によって測定した。試験片を引張り、引張比例限度内における引張応力とこれに対応するひずみの比を引張弾性率とし、破断した際の応力を引張強度とした。また、伸びは、以下の式に基づいて求めた。式中、試験前の長さＬ０の試験片を引張り、破断した際の試験片の長さをＬｔとした。
伸び（％）＝（Ｌｔ−Ｌ０）／Ｌ０×１００。
引張弾性率、引張り強度、伸びは、上述のとおり、AutoGraph AG-XPlus（島津製作所製）を用いて測定した。具体的には、ＪＩＳ Ｋ ７１６１：１９９４に準ずる引張試験によって測定した。試験片を引張り、引張比例限度内における引張応力とこれに対応するひずみの比を引張弾性率とし、破断した際の応力を引張強度とした。また、伸びは、以下の式に基づいて求めた。式中、試験前の長さＬ０の試験片を引張り、破断した際の試験片の長さをＬｔとした。
伸び（％）＝（Ｌｔ−Ｌ０）／Ｌ０×１００。
＜＜曲げ弾性率、曲げ強度＞＞
曲げ弾性率、曲げ強度は、上述のとおり、ＪＩＳ Ｋ ７１７１を準じて、曲げ試験を行った。即ち、曲げ比例限度内における応力とこれに対応するひずみの比を曲げ弾性率とし、破断した際の応力を曲げ強度とした。
＜＜粘度＞＞
Ｂ型粘度計（DV-E、Brookfield社製）を用いて室温（２５℃）での粘度を測定した。
＜＜ショア硬度Ｄ＞＞
表面硬度計アスカ―Ｄ型（高分子計器株式会社製）を用いてショア硬度Ｄを測定した。
＜＜アイゾット衝撃試験による衝撃強度＞＞
ＪＩＳ Ｋ ７１１０を準じて、デジタル衝撃試験機 DG-UB型（東洋精機製作所製）を用いて測定した。但し、ＪＩＳ Ｋ ７１１０では試験片にノッチと呼ばれる「切り欠き」を付けて行うのに対して、ここではノッチを付けない試験片を使用した。
曲げ弾性率、曲げ強度は、上述のとおり、ＪＩＳ Ｋ ７１７１を準じて、曲げ試験を行った。即ち、曲げ比例限度内における応力とこれに対応するひずみの比を曲げ弾性率とし、破断した際の応力を曲げ強度とした。
＜＜粘度＞＞
Ｂ型粘度計（DV-E、Brookfield社製）を用いて室温（２５℃）での粘度を測定した。
＜＜ショア硬度Ｄ＞＞
表面硬度計アスカ―Ｄ型（高分子計器株式会社製）を用いてショア硬度Ｄを測定した。
＜＜アイゾット衝撃試験による衝撃強度＞＞
ＪＩＳ Ｋ ７１１０を準じて、デジタル衝撃試験機 DG-UB型（東洋精機製作所製）を用いて測定した。但し、ＪＩＳ Ｋ ７１１０では試験片にノッチと呼ばれる「切り欠き」を付けて行うのに対して、ここではノッチを付けない試験片を使用した。
（実施例２〜７）
実施例１の諸成分及びその重量比を表１に記載される成分及び配合量に変えた以外、実施例１と同様に、光硬化性組成物Ｘ−２〜Ｘ−７を得た。
また、該光硬化性組成物Ｘ−２〜Ｘ−７から、実施例１と同様に、それぞれ硬化体ＸＣ−２〜ＸＣ−７を得た。なお、実施例４及び実施例６では、実施例１と同様に、それぞれＰＲ３及びＰＲ１由来の溶媒を除去する工程を設けたが、実施例２、実施例３及び実施例５については、用いるＰＲ２−１及びＰＲ３−１が無溶媒であるため、溶媒を除去する工程を設けなかった。
さらに、得られた硬化体ＸＣ−２〜ＸＣ−７の諸特性を実施例１と同様に測定した。その結果を表１に示す。
表１から、硬化体ＸＣ−２〜ＸＣ−７は、所望の引張弾性率、所望の引張強度及び所望の衝撃強度を有することがわかった。
実施例１の諸成分及びその重量比を表１に記載される成分及び配合量に変えた以外、実施例１と同様に、光硬化性組成物Ｘ−２〜Ｘ−７を得た。
また、該光硬化性組成物Ｘ−２〜Ｘ−７から、実施例１と同様に、それぞれ硬化体ＸＣ−２〜ＸＣ−７を得た。なお、実施例４及び実施例６では、実施例１と同様に、それぞれＰＲ３及びＰＲ１由来の溶媒を除去する工程を設けたが、実施例２、実施例３及び実施例５については、用いるＰＲ２−１及びＰＲ３−１が無溶媒であるため、溶媒を除去する工程を設けなかった。
さらに、得られた硬化体ＸＣ−２〜ＸＣ−７の諸特性を実施例１と同様に測定した。その結果を表１に示す。
表１から、硬化体ＸＣ−２〜ＸＣ−７は、所望の引張弾性率、所望の引張強度及び所望の衝撃強度を有することがわかった。
（比較例１）
実施例１の諸成分からポリロタキサン成分であるＰＲ２を除き、且つ所定の型に入れる前の溶媒を除去する工程を行わなかった以外、実施例１と同様に光硬化性組成物Ｙ−１を得て、該光硬化性組成物Ｙ−１から硬化体ＹＣ−１を得た。また、硬化体ＹＣ−１の諸特性を実施例１と同様に測定した。その結果を表１に示す。
実施例１の諸成分からポリロタキサン成分であるＰＲ２を除き、且つ所定の型に入れる前の溶媒を除去する工程を行わなかった以外、実施例１と同様に光硬化性組成物Ｙ−１を得て、該光硬化性組成物Ｙ−１から硬化体ＹＣ−１を得た。また、硬化体ＹＣ−１の諸特性を実施例１と同様に測定した。その結果を表１に示す。
（比較例２）
比較例２は、実施例６の諸成分からポリロタキサン成分を除いた以外、実施例６と同様に光硬化性組成物Ｙ−２を得て、該光硬化性組成物Ｙ−２から硬化体ＹＣ−２（比較例２）を得た。その結果を表１に示す。
比較例２は、実施例６の諸成分からポリロタキサン成分を除いた以外、実施例６と同様に光硬化性組成物Ｙ−２を得て、該光硬化性組成物Ｙ−２から硬化体ＹＣ−２（比較例２）を得た。その結果を表１に示す。
（比較例３）
（メタ）アクリル酸エステルモノマーを用いない組成物から、架橋体を得た。即ち、ポリロタキサン成分ＰＲ２と光重合開始剤Lucirin TPO（BASF製）とを混合した後、ＰＲ２由来の溶媒を除去して得られる組成物から架橋体を得て、該架橋体の諸特性を実施例１と同様に測定した。その結果を表１に示す。なお、本比較例３の組成物は、溶媒を有していないため、室温では固体であり、粘度を測定することができなかった。
（メタ）アクリル酸エステルモノマーを用いない組成物から、架橋体を得た。即ち、ポリロタキサン成分ＰＲ２と光重合開始剤Lucirin TPO（BASF製）とを混合した後、ＰＲ２由来の溶媒を除去して得られる組成物から架橋体を得て、該架橋体の諸特性を実施例１と同様に測定した。その結果を表１に示す。なお、本比較例３の組成物は、溶媒を有していないため、室温では固体であり、粘度を測定することができなかった。
表１から、ポリロタキサン成分を（メタ）アクリル酸エステルモノマーに添加して得られた硬化体ＸＣ−１〜ＸＣ−５（実施例１〜５）は、ポリロタキサン成分を添加していない硬化体ＹＣ−１（比較例１）と比べて、引張り弾性率、引張り強度、曲げ弾性率、曲げ強度、衝撃強度が上がったことがわかる。なお、伸び率に関しては、同等であるか又は向上していることが分かった。
実施例６と比較例２を比較すると、上記と同様に、実施例６は、比較例２と比べて、引張り弾性率、引張り強度、伸び、曲げ弾性率、曲げ強度、衝撃強度が向上していることが分かった。
実施例６と比較例２を比較すると、上記と同様に、実施例６は、比較例２と比べて、引張り弾性率、引張り強度、伸び、曲げ弾性率、曲げ強度、衝撃強度が向上していることが分かった。
Claims (12)
- Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーであって、該モノマーのみから形成される重合体のガラス転移温度が２０℃以上である（メタ）アクリル酸エステルモノマー；
Ｂ．環状分子の開口部が直鎖状分子によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両端に前記環状分子が脱離しないように封鎖基を配置してなるポリロタキサンであって前記環状分子が（メタ）アクリル基を有するポリロタキサン；及び
Ｃ．光重合開始剤；
を含有する光硬化性組成物。 - 前記Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーと前記Ｂ．ポリロタキサンとの重量比、Ａ：Ｂが、１００：０．５〜１００：３５である請求項１記載の組成物。
- 前記組成物の粘度が、２５℃において、１００，０００ｍＰａ・ｓ以下である請求項１又は２記載の組成物。
- 金属酸化物、塩化物、炭酸塩、リン酸塩、炭素微粒子、及び樹脂微粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種をさらに含有する請求項１〜３のいずれか１項記載の組成物。
- 前記Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーが、Ａ−１．アミン又は水酸基を有する単官能（メタ）アクリル基を有する分子を２分子；と、Ａ−２．ジオキシラン、ジオキセタン、ジイソシアネート又はカルボン酸二無水物を１分子；とから由来する請求項１〜４のいずれか１項記載の組成物。
- 前記Ａ．（メタ）アクリル酸エステルモノマーが、下記式Ｉ〜ＩＩＩ
（式中、Ｒ２１及びＲ２２は各々独立に水素原子又はメチル基を表し；
Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に炭素数２〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数３〜１８のシクロアルキレン基、置換基を有してもよい炭素数６〜１８のアリーレン基、（ポリ）アルキレンオキシ基、（ポリ）エチレンアミン基からなる群から選ばれる１種を表し；
Ｘ１〜Ｘ３は各々独立に炭素数２〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基（炭素数３以上の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基の場合、直鎖又は分岐鎖上の炭素が酸素に置換されエーテル結合を形成してもよい。また、アルキレン基の一部の水素が水酸基又はカルボキシル基に置換されてもよい）、置換基を有してもよい炭素数３〜１８のシクロアルキレン基、及び置換基を有してもよい炭素数６〜１８のアリーレン基からなる群から選ばれる１種を表し；
Ｙ１１、Ｙ１２、Ｙ２１、Ｙ２２、Ｙ３１、及びＹ３２は各々独立に−Ｏ−基又は−ＮＨ−基を表す）
のいずれかで表されるモノマーである請求項１〜５のいずれか１項記載の組成物。
- 前記Ｂ．ポリロタキサンの（メタ）アクリル基の量は、該Ｂ．ポリロタキサン１ｇ中、０．０１５〜２．０ｍｍｏｌである請求項１〜６のいずれか１項記載の組成物。
- 前記Ｂ．ポリロタキサンの環状分子がラクトンモノマーから形成される開環重合部位を有する請求項１〜７のいずれか１項記載の組成物。
- 請求項１〜８のいずれか１項記載の光硬化性組成物に光照射し硬化して形成される硬化体。
- 前記硬化体の引張弾性率が１００ＭＰａ以上である請求項９記載の硬化体。
- 請求項９又は１０記載の硬化体（Ｍ）と、前記硬化体を構成する組成物より前記Ｂ.ポリロタキサンを除いた成分からなる硬化体（Ｎ）とのアイゾット衝撃試験による衝撃強度比（Ｍの衝撃強度／Ｎの衝撃強度）が１．１０以上である請求項９又は１０記載の硬化体。
- ｉ）請求項１〜８のいずれか１項記載の光硬化性組成物を調製する工程；
ｉｉ）前記組成物を所定形状にする工程；及び
ｉｉｉ）得られた所定形状に光を照射する工程；
を有することにより、硬化体を得る、硬化体の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014224104 | 2014-11-04 | ||
| JP2014224104 | 2014-11-04 | ||
| PCT/JP2015/080671 WO2016072356A1 (ja) | 2014-11-04 | 2015-10-30 | 光硬化性組成物、光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2016072356A1 true JPWO2016072356A1 (ja) | 2017-08-10 |
| JP6755803B2 JP6755803B2 (ja) | 2020-09-16 |
Family
ID=55909081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016557739A Active JP6755803B2 (ja) | 2014-11-04 | 2015-10-30 | 光硬化性組成物、光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10266630B2 (ja) |
| EP (1) | EP3216812B1 (ja) |
| JP (1) | JP6755803B2 (ja) |
| KR (1) | KR102387237B1 (ja) |
| CN (1) | CN107075047B (ja) |
| WO (1) | WO2016072356A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101931042B1 (ko) * | 2014-11-04 | 2018-12-19 | 디더블유에스 에스.알.엘. | 스테레오리소그래피 방법 및 조성물 |
| CN107849199B (zh) * | 2015-07-23 | 2019-12-27 | 住友化学株式会社 | 树脂、以及表面保护板或者汽车用材料 |
| WO2018038124A1 (ja) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | 国立大学法人大阪大学 | 重合性官能基で修飾されたポリロタキサン及びその製造方法、並びに高分子材料及びその製造方法 |
| JP7155005B2 (ja) * | 2016-08-30 | 2022-10-18 | ナブテスコ株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JP6941759B2 (ja) * | 2016-09-09 | 2021-09-29 | Ｋｊケミカルズ株式会社 | （メタ）アクリルアミド変性ポリロタキサン |
| EP3572202B1 (en) * | 2017-01-18 | 2021-08-11 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Molded article and method for producing same |
| JP6950984B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2021-10-20 | 国立大学法人大阪大学 | ホスト基含有重合性単量体、高分子材料及びその製造方法、並びに、包接化合物及びその製造方法 |
| KR101976116B1 (ko) * | 2017-07-17 | 2019-05-07 | 주식회사 엘지화학 | 포토폴리머 조성물 |
| JP2019065228A (ja) * | 2017-10-04 | 2019-04-25 | 豊田合成株式会社 | 架橋ポリロタキサンを有する化合物及びアクチュエータ |
| JP7074375B2 (ja) * | 2018-03-01 | 2022-05-24 | 国立大学法人大阪大学 | 高分子材料及びその製造方法 |
| JP7060849B2 (ja) * | 2018-06-27 | 2022-04-27 | 日産化学株式会社 | インプリント用光硬化性組成物 |
| SG11202106695XA (en) | 2018-12-21 | 2021-07-29 | Nissan Chemical Corp | Photocurable composition for imprinting |
| US11919804B2 (en) * | 2019-06-19 | 2024-03-05 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Resin composition, secondary coating material for optical fiber, optical fiber, and method for manufacturing optical fiber |
| US20220371264A1 (en) * | 2019-10-02 | 2022-11-24 | Kuraray Noritake Dental Inc. | Resin composition for stereolithography |
| CN115023457A (zh) * | 2020-01-23 | 2022-09-06 | 株式会社Asm | (聚)轮烷及其制造方法、固化性组合物、固化物、物品、以及组合物 |
| JP2021172775A (ja) * | 2020-04-28 | 2021-11-01 | タカラスタンダード株式会社 | 強化アクリル系人造大理石およびその製造法 |
| EP4257566A4 (en) * | 2020-12-07 | 2024-04-24 | Sumitomo Electric Industries | RESIN COMPOSITION, OPTICAL FIBER AND OPTICAL FIBER PRODUCTION METHOD |
| KR20230164045A (ko) * | 2021-04-02 | 2023-12-01 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 광 조형용 경화성 수지 조성물, 경화물 및 입체 조형물 |
| US20230183470A1 (en) * | 2021-12-14 | 2023-06-15 | Saudi Arabian Oil Company | Epoxy compositions containing polyrotaxane additives having improved impact strength |
| CN114941256A (zh) * | 2022-06-14 | 2022-08-26 | 连云港森永达新材料科技有限公司 | 一种耐高温离型剂和离型纸及其生产方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008291208A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-12-04 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 |
| WO2013176527A1 (ko) * | 2012-05-25 | 2013-11-28 | 주식회사 엘지화학 | 폴리로타세인 화합물, 광경화성 코팅 조성물 및 코팅 필름 |
| WO2013176528A1 (ko) * | 2012-05-25 | 2013-11-28 | 주식회사 엘지화학 | 하드 코팅 필름 |
| WO2013180512A1 (ko) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 조성물 |
| WO2014030845A1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 조성물 |
| WO2014030847A1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | 주식회사 엘지화학 | 적층 하드코팅 필름 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5311530B2 (ja) * | 2006-02-23 | 2013-10-09 | リンテック株式会社 | 粘着シート |
| JP2009120759A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Fujifilm Corp | ポリロタキサン化合物、それを含有する組成物及びゲル状材料の製造方法 |
| JP5329241B2 (ja) * | 2009-01-08 | 2013-10-30 | リンテック株式会社 | 高分子架橋体および高分子架橋体の製造方法 |
| JP2011046917A (ja) | 2010-02-26 | 2011-03-10 | Advanced Softmaterials Inc | 光架橋性ポリロタキサン、該光架橋性ポリロタキサンを有する組成物、及び該組成物由来の架橋体、並びにこれらの製造方法 |
| KR102115062B1 (ko) * | 2013-01-21 | 2020-05-25 | 스미또모 세이까 가부시키가이샤 | 연질 재료용 조성물 및 연질 재료 |
-
2015
- 2015-10-30 US US15/524,236 patent/US10266630B2/en active Active
- 2015-10-30 JP JP2016557739A patent/JP6755803B2/ja active Active
- 2015-10-30 WO PCT/JP2015/080671 patent/WO2016072356A1/ja active Application Filing
- 2015-10-30 KR KR1020177014851A patent/KR102387237B1/ko active IP Right Grant
- 2015-10-30 CN CN201580060078.5A patent/CN107075047B/zh active Active
- 2015-10-30 EP EP15856323.9A patent/EP3216812B1/en active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008291208A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-12-04 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 |
| WO2013176527A1 (ko) * | 2012-05-25 | 2013-11-28 | 주식회사 엘지화학 | 폴리로타세인 화합물, 광경화성 코팅 조성물 및 코팅 필름 |
| WO2013176528A1 (ko) * | 2012-05-25 | 2013-11-28 | 주식회사 엘지화학 | 하드 코팅 필름 |
| WO2013180512A1 (ko) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 조성물 |
| WO2014030845A1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 조성물 |
| WO2014030847A1 (ko) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | 주식회사 엘지화학 | 적층 하드코팅 필름 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102387237B1 (ko) | 2022-04-18 |
| EP3216812B1 (en) | 2022-01-19 |
| JP6755803B2 (ja) | 2020-09-16 |
| WO2016072356A1 (ja) | 2016-05-12 |
| EP3216812A1 (en) | 2017-09-13 |
| EP3216812A4 (en) | 2018-06-27 |
| US10266630B2 (en) | 2019-04-23 |
| US20170335044A1 (en) | 2017-11-23 |
| KR20170081207A (ko) | 2017-07-11 |
| CN107075047A (zh) | 2017-08-18 |
| CN107075047B (zh) | 2020-01-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6755803B2 (ja) | 光硬化性組成物、光硬化性組成物から形成される硬化体、及び該硬化体の製造方法 | |
| JP5833199B2 (ja) | 光架橋性ポリロタキサン、該光架橋性ポリロタキサンを有する組成物、及び該組成物由来の架橋体、並びにこれらの製造方法 | |
| TWI641663B (zh) | 印刷配線板用白色硬化型組成物、使用此之硬化塗膜及印刷配線板 | |
| Liu et al. | High-performance lignin-based water-soluble macromolecular photoinitiator for the fabrication of hybrid hydrogel | |
| Shen et al. | Modified epoxy acrylate resin for photocurable temporary protective coatings | |
| Xiang et al. | Effect of soft chain length and generation number on properties of flexible hyperbranched polyurethane acrylate and its UV-cured film | |
| JP7393367B2 (ja) | 多段ポリマーをベースとする硬化性組成物 | |
| CN104144786B (zh) | 表面保护片、电子机器以及电子机器部件的制造方法 | |
| Liu et al. | Synthesis and characterization of interpenetrating polymer networks (IPNs) based on UV curable resin and blocked isocyanate/polyols | |
| Li et al. | Underwater polyurethane adhesive with enhanced cohesion by postcrosslinking of glycerol monomethacrylate | |
| Bhanushali et al. | Castor oil‐based UV‐curable polyurethane acrylate resins for digital light processing (DLP) 3D printing technology | |
| JP2023506819A (ja) | 積層造形法用のポリエステル含有組成物 | |
| CN105658602A (zh) | 混凝土修补材料 | |
| İnan et al. | Preparation of novel UV-curable methacrylated urethane resins from a modified epoxy resin and isocyanatoethylmethacrylate (IEM) | |
| Meng et al. | Design and Preparation of Tertiary Amine Modified Polyurethane Acrylate Oligomer with Co‐Initiation/Polymerization Bifunctions for Photo‐Curable Inkjet Printing of Textiles | |
| US20240141086A1 (en) | Curable composition comprising light polymerizable liquid and epoxy precursor for coating, 2d object formation and 3d printing | |
| TWI572662B (zh) | 熱可塑性樹脂組成物及其所形成的成型品 | |
| KR20220121240A (ko) | 다단 폴리머를 포함하는 경화성 조성물 | |
| JP2018002765A (ja) | 注形用紫外線硬化樹脂組成物 | |
| JP2011178982A (ja) | 帯電防止性に優れた制電性組成物、それを用いた成型品、塗料、制電性被覆物、粘着剤及びその製造方法 | |
| JP2009091586A (ja) | 活性エネルギー線硬化樹脂シート | |
| JP7199611B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物および三次元光造形物 | |
| JP2017031334A (ja) | 硬化性樹脂組成物 | |
| KR101136928B1 (ko) | 친환경 자외선경화 우레탄코팅제 및 그 제조방법 | |
| JP2018100358A (ja) | ウレタンアクリレート、アクリル樹脂組成物、硬化物、及び硬化シート |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180926 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190806 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190927 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20190930 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200303 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200430 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200804 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200826 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6755803 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |