JPWO2014141889A1 - 研磨パッド及び研磨方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]研磨面を有する研磨部材を備える研磨パッドであって、研磨部材がダイラタンシー特性を有する材料を含有する研磨パッド。
[2]ダイラタンシー特性を有する材料は、ダイラタンシー特性を有する樹脂、又は、無機粒子と媒液とを含有するダイラタンシー特性を有する無機粒子組成物を含む、[1]記載の研磨パッド。
[3]ダイラタンシー特性を有する樹脂を含むダイラタンシー特性を有する材料は、無機粒子を更に含む、[2]記載の研磨パッド。
[4]ダイラタンシー特性を有する樹脂は、ダイラタンシー特性を有するシリコーン樹脂を含有する、[2]又は[3]に記載の研磨パッド。
[5]研磨部材は、シート状の繊維基材と、その繊維基材に含浸したダイラタンシー特性を有する材料とを含有する、[1]〜[4]のいずれか1つに記載の研磨パッド。
[6]研磨部材は、窪み部を有する基材と、窪み部内に充填されたダイラタンシー特性を有する材料とを含有する、[1]〜[5]のいずれか1つに記載の研磨パッド。
[7][1]〜[6]のいずれか1つに記載の研磨パッドを用いて被研磨物を研磨する工程を有する、研磨方法。
圧縮率(%)=(t1−t2)/t1×100
から算出する。このとき、初荷重は100g/cm2、最終圧力は1120g/cm2とする。100%モジュラスは、基材312に含まれる樹脂と同じものを用いた無発泡の樹脂シートを100%伸ばしたとき、すなわち元の長さの2倍に伸ばしたとき、に掛かる荷重を断面積で割った値である。圧縮率及び100%モジュラスが上記の範囲内であれば、研磨パッドに求められる適度な弾性特性から、被研磨物をより効率良くかつ一層高品位に研磨を行うことができる。
ダイラタント樹脂として、信越化学工業社製のジメチルポリシロキサン樹脂(30%キシレン溶液の25℃での動粘度:21000cS、25℃での屈折率:1.403、25℃での比重:0.97、引火点:315℃以上、150℃で3時間での揮発分:1〜3%)を用意した。次いで、ニーダーを用いて、上記ダイラタント樹脂80質量部と、無機酸化物粒子としてセリア粒子(昭和電工社製、商品名「SHOROX−V2104」)20質量部とを均一に混練して、ダイラタント材(1)を得た。得られたダイラタント材(1)のD係数(30℃、G* 100HZ/G* 1HZ。以下同様。)は、3.9であり、30℃における周波数50Hzでの複素弾性率は2.34×105Paであった。
CMPパッドコンディショナー:ダイヤモンド砥粒、#100Mesh
初期コンディショニング:P=3kPa、N=30rpm、20分間
第二コンディショニング:P=6kPa、N=60rpm、10分間
〔研磨条件〕
研磨装置:武蔵野電子社製卓上型ポリシング装置(商品名「MA−300D」)
研磨スラリ:昭和電工社製、商品名「SHOROX−V2104」、砥粒…セリア粒子(平均粒径0.4μm)、砥粒濃度…5質量%、溶媒…純水
研磨スラリ流量:20mL/分
被研磨物:ASソーダライムガラス、φ2インチ、厚さ1.8mm(旭硝子社製)
定盤回転速度×研磨圧力:4960kPa・rpm/分
ダイラタント材(1)を用いない以外は実施例1と同様にして研磨パッドを作製し、研磨試験を行った。結果は図4及び図5に示すものとなった。
硬質パッド(ニッタハース社製、商品名「MH−N15A」、厚さ:1.1mm、30℃における周波数50Hzでの複素弾性率:2.16×107Pa)を用意し、370φの円形状に切り出した。次いで、その硬質パッドの研磨面に、10mmφの円柱状の窪み部(ディンプル)を、15mmピッチで硬質パッドの全体に縦横に格子状に配列するよう、エンドミルを用いて形成した。窪み部の深さは硬質パッドの厚さの90%(つまり1mm)とした。形成した窪み部に実施例1で調製したダイラタント材(1)を押し込むように埋め込んで充填して、研磨層のみを備える研磨パッドを得た。次に、実施例1と同様にして、研磨パッドを研磨装置の回転定盤に貼り合わせ、コンディショニング処理を30分間行った後、研磨試験を行った。結果を図4に示す。
窪み部を形成せず、ダイラタント材(1)を用いない以外は実施例2と同様にして研磨パッドを作製し、研磨試験を行った。結果を図4及び図6に示す。
不織布(市販の手芸用フェルト、密度:0.075g/cm3、厚さ:4mm)に代えて、不織布であるフジボウ愛媛社製のフェルト基材(2d×51mmのポリエステル繊維のニードルパンチにより形成したフェルト基材、密度0.10g/cm3、厚さ:2.4mm、30℃における周波数50Hzでの複素弾性率:1.73×106Pa)を用いた以外は実施例1と同様にして、研磨パッドを得た。ダイラタント材の含浸量は、フェルト基材の厚さの90%(つまり2.2mm)とした。なお、研磨パッドの30℃における周波数50Hzでの複素弾性率は8.22×105Paであった。次に、実施例1と同様にして、研磨パッドを研磨装置の回転定盤に貼り合わせ、コンディショニング処理を30分間行った後、研磨試験を行った。結果を図4に示す。なお、この実施例3においては、実施例1、2で行った、結果を図5及び図6に示すような研磨試験は行わなかった(以下、実施例4、5、及び比較例3〜5において同様)。
ダイラタント材(1)を用いない以外は実施例3と同様にして研磨パッドを作製し、研磨試験を行った。結果を図4に示す。
不織布パッド(フジボウ愛媛社製、商品名「FPK7000C」、厚さ:1.3mm、30℃における周波数50Hzでの複素弾性率:1.42×107Pa)を用意し、370φの円形状に切り出した。次いで、その不織布パッドの研磨面に、10mmφの円柱状の窪み部(ディンプル)を、12mmピッチで不織布パッドの全体に縦横に格子状に配列するよう、エンドミルを用いて形成した。窪み部の深さは硬質パッドの厚さの90%(つまり1.2mm)とした。形成した窪み部に実施例1で調製したダイラタント材(1)を押し込むように埋め込んで充填して研磨層のみを備える研磨パッドを得た。次に、実施例1と同様にして、研磨パッドを研磨装置の回転定盤に貼り合わせ、コンディショニング処理を30分間行った後、研磨試験を行った。結果を図4に示す。
窪み部を形成せず、ダイラタント材(1)を用いない以外は実施例4と同様にして研磨パッドを作製し、研磨試験を行った。結果を図4に示す。
ダイラタント樹脂として、株式会社バウンシー製のポリシロキサン樹脂(商品名「スナッチ・クレイ BX−100C」)を用意した。次いで、ニーダーを用いて、上記ダイラタント樹脂80質量部と、無機酸化物粒子としてセリア粒子(昭和電工社製、商品名「SHOROX−V2104」)20質量部とを均一に混練して、ダイラタント材(2)を得た。得られたダイラタント材(2)のD係数は、5.4であり、30℃における周波数50Hzでの複素弾性率は1.28×106Paであった。
Claims (7)
- 研磨面を有する研磨部材を備える研磨パッドであって、前記研磨部材がダイラタンシー特性を有する材料を含有する研磨パッド。
- 前記ダイラタンシー特性を有する材料は、ダイラタンシー特性を有する樹脂、又は、無機粒子と媒液とを含有するダイラタンシー特性を有する無機粒子組成物を含む、請求項1記載の研磨パッド。
- 前記ダイラタンシー特性を有する樹脂を含む前記ダイラタンシー特性を有する材料は、無機粒子を更に含む、請求項2記載の研磨パッド。
- 前記ダイラタンシー特性を有する樹脂は、ダイラタンシー特性を有するシリコーン樹脂を含有する、請求項2又は3に記載の研磨パッド。
- 前記研磨部材は、シート状の繊維基材と、その繊維基材に含浸した前記ダイラタンシー特性を有する材料とを含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の研磨パッド。
- 前記研磨部材は、窪み部を有する基材と、前記窪み部内に充填された前記ダイラタンシー特性を有する材料とを含有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の研磨パッド。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の研磨パッドを用いて被研磨物を研磨する工程を有する、研磨方法。
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